DE102006015447A1 - Leistungshalbleiterbauelement mit einem Leistungshalbleiterchip und Verfahren zur Herstellung desselben - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Leistungshalbleiterbauelement (1) mit einem Leistungshalbleiterchip (5) und ein Verfahren zur Herstellung derselben. Das Leistungshalbleiterbauelement (1) weist mindestens einen Leistungshalbleiterchip (5) und oberflächenmontierbare Außenkontakte (6, 7, 8) auf. Der Leistungshalbleiterchip (5) hat großflächige Kontaktflächen (9, 10) auf seiner Oberseite (12) und seiner Rückseite (13), die im wesentlichen die gesamte Oberseite (12) bzw. Rückseite (13) bedecken. Die Oberseite (12) weist neben der großflächigen Kontaktfläche (10) zusätzlich eine kleinflächige Kontaktfläche (11) auf, deren flächige Ausdehnung mindestens zehnmal kleiner als die flächige Ausdehnung der großflächigen Kontaktflächen (10) ist. Die kleinflächige Kontaktfläche (11) ist über eine Bonddrahtverbindung (14) mit einem einzelnen Außenkontakt (8) des Leistungshalbleiterbauelements (1) verbunden, während die großflächige Kontaktfläche (10) der Oberseite (12) über ein Bondband (15) mit Außenkontakten (7) in Verbindung steht.
Description
- Die Erfindung betrifft ein Leistungshalbleiterbauelement mit einem Leistungshalbleiterchip und oberflächenmontierbaren Außenkontakten, wobei der Leistungshalbleiterchip großflächige Kontaktflächen auf seiner Oberseite und seiner Rückseite aufweist, die nahezu die gesamte Oberseite bzw. Rückseite bedecken. Außerdem weist die Oberseite neben der großflächigen Kontaktfläche zusätzlich eine kleinflächige Kontaktfläche auf, deren flächige Ausdehnung mindestens zehnmal kleiner als die flächige Ausdehnung der großflächigen Kontaktflächen ist.
- Ein derartiges Leistungshalbleiterbauelement ist aus der Druckschrift
DE 10 2004 041 088 A1 bekannt, wobei die großflächige Kontaktfläche der Oberseite mit einer Flachleiterspange verbunden ist, die in Außenkontakte übergeht. Auch die kleinflächige Kontaktfläche ist mit einer entsprechend kleineren angepassten Flachleiterspange verbunden. Der Nachteil dieser Lösung ist, dass mechanische Belastungen der Außenkontakte über die Flachleiterspangen auf den spröden Kristallkörper des Leistungshalbleiterchips einwirken, und damit die Zuverlässigkeit und Funktionalität des Leistungshalbleiterchips gefährden. Außerdem sind die Fertigung und Formgebung von dreidimensionalen Flachleiterspangen für die Kontaktflächen der Oberseite des Leistungshalbleiterchips kostenintensiv. - Aus der Druckschrift
DE 10 2004 036 905 A1 ist es bekannt, eine starre Flachleiterspange durch eine Vielzahl von flexiblen Bonddrahten zu ersetzen, womit die starre Kopplung zwi schen Außenkontakten und Leistungshalbleiterchips überwunden wird. Jedoch wird eine kostenaufwendige Lösung durch eine andere kostenintensive und zeitaufwendige Lösung ersetzt, zumal die erforderliche Vielzahl von Bonddrahtverbindungen seriell aufzubringen ist. - Aufgabe der Erfindung ist es, die Nachteile im Stand der Technik zu überwinden und ein Leistungshalbleiterbauelement zu schaffen, das preiswert zu fertigen ist und dennoch die Zuverlässigkeit und Funktionalität von Leistungshalbleiterbauelementen verbessert.
- Gelöst wird diese Aufgabe mit dem Gegenstand der unabhängigen Ansprüche. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.
- Erfindungsgemäß wird ein Leistungshalbleiterbauelement mit zumindest einem Leistungshalbleiterchip geschaffen. Der Leistungshalbleiterchip weist großflächige Kontaktflächen auf seiner Oberseite und seiner Rückseite auf, die im wesentlichen die gesamte Oberseite bzw. Rückseite bedecken. Dabei ist die großflächige Kontaktfläche der Rückseite auf einem Außenkontakt des Leistungshalbleiterbauelements elektrisch leitend fixiert. Die Oberseite weist neben der großflächigen Kontaktfläche zusätzlich eine kleinflächige Kontaktfläche auf, deren flächige Ausdehnung mindestens zehnmal kleiner als die flächige Ausdehnung der großflächigen Kontaktflächen ist. Die kleinflächige Kontaktfläche ist über eine Bonddrahtverbindung mit einem einzelnen Außenkontakt des Leistungshalbleiterbauelements verbunden, während die großflächige Kontaktfläche der Oberseite über ein Bondband mit Außenkontakten des Leistungshalbleiterbauelements in Verbindung steht.
- Ein derartiges Leistungshalbleiterbauelement hat den Vorteil, dass die mit den Kontaktflächen auf der Oberseite des Leistungshalbleiterchips zu verbindenden Außenkontakte auf der Unterseite des Leistungshalbleiterbauelements nicht durch eine starre Flachleiterspange verbunden sind, sondern vielmehr durch flexible Bondverbindungen. Insbesondere das Bondband, das die großflächige Kontaktfläche auf der Oberseite des Halbleiterchips mit Kontaktanschlussflächen auf den Außenkontakten verbindet, hat den Vorteil, dass lediglich ein Bordvorgang erforderlich ist, um eine elektrische Verbindung für eine hohe Stromdichte zwischen der großflächigen Kontaktfläche der Oberseite des Leistungshalbleiterchips und entsprechenden Außenkontakten, die von der Unterseite des Leistungshalbleiterbauelements aus kontaktierbar sind, zu realisieren. Dieses macht eine Vielzahl von einzelnen Bonddrahtverbindungen überflüssig.
- Ein weitere Vorteil dieses Leistungshalbleiterbauelements ist es, dass es zu geringeren Kosten herstellbar ist als die schon erwähnten Lösungen im Stand der Technik. Außerdem ist es nicht notwendig, dreidimensionale Flachleiterstrukturen vorzuhalten. Der Zwischenraum zwischen dem Halbleiterchip, der mit seiner Rückseite auf einer zentralen Kontaktanschlussfläche eines zentralen Außenkontaktes des Leistungshalbleiterbauelements angeordnet ist, und den übrigen Außenkontakten, die mit den Kontaktflächen auf der Oberseite des Halbleiterchips elektrisch in Verbindung stehen, wird in vorteilhafter Weise allein durch den Bondvorgang des Bondbandes bzw. des Bonddrahtes realisiert. Dabei wird gleichzeitig eine Höhendifferenz überwunden. Die Außenkontakte können folglich in einer Ebene angeordnet werden und somit aus einer Flachleiterplatte gefertigt werden, was ebenfalls die Kosten gegenüber herkömmlichen Lösungen reduziert.
- In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung weist das Bondband eine Breite auf, die geringer ist als die Breite der großflächigen Kontaktfläche der Oberseite des Leistungshalbleiterchips. Durch die geringere Breite des Bondbandes gegenüber der Breite der großflächigen Kontaktfläche der Oberseite des Leistungshalbleiterchips wird in vorteilhafter Weise erreicht, dass genügend Raum ist, um den Bonddraht, der die kleinflächige Kontaktfläche der Oberseite des Leistungshalbleiterchips mit einem entsprechenden Außenkontakt verbindet, ohne Schwierigkeiten montiert werden kann.
- In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung weist das Bondband eine Aussparung für den Bereich der kleinflächigen Kontaktfläche auf. In dieser Ausführungsform der Erfindung wird ein Bondband mit variabler Breite eingesetzt, um den größtmöglichen Teil der großflächigen Kontaktfläche für das Anbringen des Bondbandes zu nutzen. Dennoch kann aufgrund der vorgesehenen Aussparung in der Breite des Bondbandes eine Bonddrahtverbindung zwischen der kleinflächigen Kontaktfläche auf der Oberseite des Leistungshalbleiterchips und einem entsprechenden Außenkontakt problemlos hergestellt werden.
- In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist es vorgesehen, dass das Bondband auf der großflächigen Kontaktfläche mindestens einen streifenförmigen Fügebereich aufweist, in dem das Bondband mit der großflächigen Kontaktfläche stoffschlüssig verbunden ist. Ein derartiger Fügestreifen entsteht durch einen entsprechend geformten Bondstichel, der groß genug ist, um einen derartigen Streifen im Thermokompressionsbonden mit der großflächigen Kontaktfläche stoffschlüssig zu verbinden. Ein derartiger Fügestreifen und damit auch ein derartiger Bondstichel weisen mindestens die Breite des Bondbandes auf.
- In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung weist das Bondband einen Bondbogen auf, der den Abstand zwischen dem Leistungshalbleiterchip und einem Außenkontakt überbrückt, und somit relativ flexibel die Oberseite des Halbleiterchips in einer Kontaktanschlussfläche auf einem Außenkontakt des Leistungshalbleiterbauelements elektrisch verbindet. Gleichzeitig dienen derartige Bondbögen der besseren Wärmeabfuhr der Verlustleistung eines Leistungshalbleiterbauelements, zumal über einen derartigen Bondbandbogen in der Summe eine größere Wärme abgeführt werden kann als über eine Vielzahl von Bonddrähten.
- In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung weist das Bondband auf der großflächigen Kontaktfläche der Oberseite des Leistungshalbleiterchips mehrere über mindestens einen Bondbogen verbundene Fügestreifen auf. Bei dieser Ausführungsform der Erfindung werden mithilfe des Bondstichels mehrere Streifenbereiche des Bondbandes auf der Kontaktanschlussfläche nebeneinander erzeugt. Diese sind jeweils über entsprechende Bondbandbögen elektrisch und thermisch miteinander verbunden. Dieses hat den Vorteil, dass bei der großflächigen Kontaktfläche auf der Oberseite des Leistungshalbleiterchips die Bondkräfte beim Anbringen des Bondbandes vermindert werden können, da die Auflagefläche pro Fügestreifen und damit die Anpresskraft des Bondstichels vermindert werden kann. Außerdem werden Fügestreifen auf entsprechenden Kontaktanschlussflächen der Außenkontakte vorgesehen, um das Bondband auf den Außenkontakten zu fixieren und eine niederohmige Verbindung zwischen der großflächigen Kontaktfläche der Oberseite des Leistungshalbleiterchips und den Außenkontakten zu schaffen.
- Vorzugsweise weist das Bondband eine streifenförmige Metallfolie, insbesondere aus Aluminium oder eine Aluminiumlegierung, auf. Dabei werden vorzugsweise Legierungselemente wie Silizium oder Kupfer für die Aluminiumfolie vorgesehen, was die Elektromigration des Bondbandmaterials beim Betrieb des Leistungshalbleiterbauelements mindert.
- Um eine intensive und zuverlässige Bondverbindung zwischen dem Bondband und der großflächigen Kontaktanschlussfläche auf der Oberseite des Leistungshalbleiterchips zu schaffen, wird vorzugsweise eine Edelmetallschicht aus Gold auf der großflächigen Kontaktfläche abgeschieden, wenn das Bondband eine Aluminiumlegierung aufweist, zumal diese beiden Metalle eine niedrig schmelzende eutektische Legierung bilden.
- Ein Verfahren zur Herstellung von mehreren Leistungshalbleiterbauelementen weist die nachfolgenden Verfahrensschritte auf. Zunächst werden Leistungshalbleiterchips mit großflächigen Kontaktflächen auf mindestens einer Oberseite zu einer Sourceelektrode und auf einer Rückseite zu einer Drainelektrode sowie mit einer kleinflächigen Kontaktfläche auf der Oberseite zu einer Gateelektrode hergestellt. Dabei weist die kleinflächige Kontaktfläche eine flächige Ausdehnung auf, die mindestens zehnmal kleiner ist als die flächige Ausdehnung der großflächigen Kontaktflächen. Außerdem wird ein Flachleiterrahmen aus Flachleitermaterial mit Leistungshalbleiterbauteilpositionen hergestellt, wobei dieser Flachleiterrahmen durch Strukturieren einer ebenen elektrisch leitenden Metallplatte hergestellt werden kann.
- Wenn der Flachleiterrahmen für mehrere Leistungshalbleiterbauelemente vorliegt und die Leistungshalbleiterchips hergestellt sind, werden die Leistungshalbleiterchips in den Leistungshalbleiterbauteilpositionen unter stoffschlüssigem Verbinden der großflächigen Kontaktfläche der Rückseite der Leistungshalbleiterchips auf einer zentralen Kontaktanschlussfläche eines zentralen oberflächenmontierbaren Außenkontaktes in den Leistungshalbleiterbauteilpositionen des Flachleiterrahmens aufgebracht. Nun können die Verbindungen zwischen der Oberseite des Leistungshalbleiterchips und weiteren Kontaktanschlussflächen auf entsprechenden Außenkontakten hergestellt werden. Dazu wird eine Bonddrahtverbindung zwischen der kleinflächigen Kontaktfläche und einem oberflächenmontierbaren Außenkontakt des Leistungshalbleiterbauelements hergestellt.
- Anschließend wird ein Bondband auf die großflächige Kontaktfläche der Oberseite des Leistungshalbleiterchips unter stoffschlüssigem Verbinden mindestens eines streifenförmigen Fügebereichs des Bondbandes mit der großflächigen Kontaktfläche und unter Ausbilden mindestens eines Bondbandbogens zu einem oberflächenmontierbaren Außenkontakt auf der Unterseite des Leistungshalbleiterbauelements hergestellt. Nachdem die Bondverbindungen fertig gestellt sind, werden der Leistungshalbleiterchip, der Bonddraht und das Bondband sowie die Außenkontakte in den Leistungshalbleiterbauteilpositionen des Flachleiterrahmens in eine Kunststoffgehäusemasse eingebettet. Dabei werden mindestens Außenkontaktflächen der oberflächenmontierbaren Außenkontakte auf der Unterseite des Leistungshalbleiterbauelements frei von Kunststoffgehäusemasse gelassen. Danach erfolgt ein Auftrennen des Flachleiterrahmens in einzelne Leistungshalbleiterbauelemente.
- Dieses Verfahren hat den Vorteil, dass keine speziellen Verbindungselemente wie dreidimensionale Flachleiterspangen, die auch "clips" genannt werden, vorbereitet werden müssen, sondern vielmehr das Verbinden der großflächigen Kontaktflächen auf der Oberseite der Leistungshalbleiterchips in den Leistungshalbleiterbauteilen mit einem kontinuierlich bondbaren Bondband durch ein entsprechend geformtes Bondwerkzeug hergestellt werden kann. Dieses vermindert die Fertigungskosten und erhöht gleichzeitig die Zuverlässigkeit der Leistungshalbleiterbauelemente. Insbesondere verbessert es gegenüber einer Vielzahl von Bonddrahtverbindungen die Abfuhr der Verlustwärme des Leistungshalbleiterchips über das Bondband.
- Zum Herstellen von Leistungshalbleiterchips mit großflächigen Kontaktflächen auf mindestens einer Oberseite zu einer Sourceelektrode und auf einer Rückseite zu einer Drainelektrode sowie mit einer kleinflächigen Kontaktfläche zu einer Gateelektrode wird ein Halbleiterwafer eingesetzt, der eine Vielzahl von Halbleiterchippositionen aufweist, und der anschließend zur Herstellung der einzelnen Leistungshalbleiterchips aus den Halbleiterchippositionen entsprechend zu Leistungshalbleiterchips aufgetrennt werden kann.
- Zum Herstellen eines Flachleiterrahmens aus Flachleitermaterial mit Leistungshalbleiterbauteilpositionen kann eine ebene Platte, die Kupfer oder eine Kupferlegierung aufweist, strukturiert werden, wobei zum Strukturieren vorzugsweise Ätz- und/oder Stanztechniken eingesetzt werden.
- Zum stoffschlüssigen Verbinden der großflächigen Kontaktfläche der Rückseite des Leistungshalbleiterchips auf einer zentralen Kontaktanschlussfläche eines oberflächenmontierbaren zentralen Außenkontaktes in den Leistungshalbleiterbau teilpositionen eines Flachleiterrahmens kann ein Lötverfahren, vorzugsweise ein Diffusionslötverfahren oder ein Weichlotverfahren oder auch ein Verfahren unter Einsatz eines Leitklebstoffs, verwendet werden.
- Das Aufbringen eines Bondbandes auf die großflächige Kontaktfläche der Oberseite des Leistungshalbleiterchips unter stoffschlüssigem Verbinden mindestens eines streifenförmigen Fügebereichs des Bondbandes mit der großflächigen Kontaktfläche und unter Ausbilden mindestens eines Bondbandbogens zu einem oberflächenmontierbaren Außenkontakt der Unterseite des Leistungshalbleiterbauelements kann mittels Thermokompressionsbonden unter Einsatz eines breiten Bondstichels erfolgen, dessen Auflagefläche auf dem Bondband der Breite des Bondbandes entspricht.
- Das Einbetten des Leistungshalbleiterchips, des Bonddrahtes, des Bondbandes sowie teilweise der Außenkontakte in den Leistungshalbleiterbauteilpositionen des Flachleiterrahmens in eine Kunststoffgehäusemasse kann durch ein Spritzgussverfahren oder ein Dispensverfahren realisiert werden.
- In einer weiteren Variante des Verfahrens wird auf der großflächigen Kontaktfläche der Oberseite des Leistungshalbleiterchips das Bondband mehrfach unter Ausbilden von Bondbandbögen gebondet. Dazu kann als Bondband eine bandförmige Aluminiumfolie oder eine Aluminiumlegierungsfolie eingesetzt werden, und zusätzlich kann zur Verbesserung der Bondfähigkeit einer großflächigen Kontaktfläche diese mit einem Edelmetall, vorzugsweise mit Gold, beschichtet werden.
- Die Erfindung wird nun anhand der beigefügten Figuren näher erläutert.
-
1 zeigt eine schematische Draufsicht auf ein Leistungshalbleiterbauteil gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung; -
2 zeigt einen schematischen Querschnitt durch das Leistungshalbleiterbauteil gemäß1 ; -
3 zeigt eine schematische Untersicht auf das Leistungshalbleiterbauteil gemäß1 ; -
4 zeigt eine schematische Draufsicht auf ein Leistungshalbleiterbauteil gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung; -
5 zeigt einen schematischen Querschnitt durch das Leistungshalbleiterbauteil gemäß4 ; -
6 zeigt eine schematische Untersicht auf das Leistungshalbleiterbauteil gemäß4 ; -
7 zeigt eine schematische Draufsicht auf ein Leistungshalbleiterbauteil gemäß einer dritten Ausführungsform der Erfindung; -
8 zeigt einen schematischen Querschnitt durch das Leistungshalbleiterbauteil gemäß7 ; -
9 zeigt eine schematische Untersicht auf das Leistungshalbleiterbauteil gemäß7 ; -
10 zeigt eine schematische Draufsicht auf ein Leistungshalbleiterbauteil gemäß einer vierten Ausführungsform der Erfindung; -
11 zeigt einen schematischen Querschnitt durch das Leistungshalbleiterbauteil gemäß10 ; -
12 zeigt eine schematische Untersicht auf das Leistungshalbleiterbauteil gemäß10 . -
1 zeigt eine schematische Draufsicht auf ein Leistungshalbleiterbauelement1 gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung. Um den Aufbau des Leistungshalbleiterbauelements1 zu verdeutlichen, ist die Kunststoffgehäusemasse weggelassen, und es wird nur die Kontur26 der Kunststoffgehäusemasse22 in dieser Draufsicht auf das Leistungshalbleiterbauelement1 gezeigt. Das Leistungshalbleiterbauelement1 weist drei Lagen auf, die übereinander angeordnet sind. Eine untere Lage bilden ein Außenkontakt6 für einen Drainanschluss D sowie zwei weitere Außenanschlüsse7 für einen Sourceanschluss S und ein Außenkontakt8 für einen Gateanschluss G. - Eine zweite Lage bildet ein Leistungshalbleiterchip
5 , der auf seiner Rückseite13 eine großflächige Kontaktfläche aufweist, wobei die Kontaktfläche nahezu die gesamte Rückseite13 bedeckt. Der Leistungshalbleiterchip5 ist mit seiner rückseitigen Kontaktfläche auf einer zentralen Kontaktanschlussfläche20 eines zentralen Außenkontaktes6 stoffschlüssig und elektrisch leitend fixiert. Auf seiner Oberseite12 weist der Leistungshalbleiterchip5 eine großflächige Kontaktfläche10 auf, die eine Vielzahl von Sourceelektroden des Feldeffektleistungshalbleiterbauelements miteinander verbindet, und eine kleinflächige Kontaktfläche11 , über die sämtliche Gateelektroden des Feldeffektleistungshalbleiterbauelements bzw. des Leistungshalbleiterchips5 angesteuert werden. - Die dritte und oberste Lage bildet ein Bondband
15 , das stoffschlüssig in einem streifenförmigen Fügebereich16 mit der großflächigen Kontaktfläche10 der Sourceelektroden verbunden ist und über Bondbandbögen17 mit Kontaktanschlussflächen18 der Außenkontakte7 elektrisch leitend kontaktiert ist. Zu dieser Verbindungslage, in der sich das Bondband15 befindet, gehört auch eine Bonddrahtverbindung14 , welche die kleinflächige Kontaktfläche11 der Gateelektroden mit einer Kontaktanschlussfläche19 auf dem Außenkontakt8 elektrisch in Verbindung setzt. - Durch das Bondband
15 mit der Breite b, die annähernd die Breite B der großflächigen Kontaktfläche10 auf der Oberseite12 des Leistungshalbleiterchips5 erreicht, wird mehr Fläche zur Wärmeabfuhr über die Außenkontakte7 zur Verfügung gestellt, so dass bei Kurzzeitbelastungen eine schnelle Wärmeabfuhr über das Bondband15 möglich wird. Über das Bondband15 wird darüber hinaus eine homogene Wärmeverteilung erreicht, die bei einer Vielzahl von Bonddrahtverbindungen nicht gewährleistet ist. Außerdem kann von dem Bondband15 erwartet werden, dass eine höhere Strombelastung gegenüber herkömmlichen Leistungshalbleiterbauelementen, die mit Bonddrahtverbindungen für die Sourceelektroden arbeiten, möglich wird, so dass insgesamt dieses Leistungshalbleiterbauelement1 eine höhere thermische Zuverlässigkeit aufweist und aufgrund der großflächigen Bondbandverbindung niedrigere Fertigungskosten als herkömmliche Mehrfachbonddrahtverbindungen und/oder als herkömmliche dreidimensionale Flachleiterspan gen, die sich von der unteren Lage bis zur oberen Lage in herkömmlichen Bauelementen erstrecken, möglich sind. -
2 zeigt einen schematischen Querschnitt durch das Leistungshalbleiterbauelement1 gemäß1 . In dieser ersten Ausführungsform der Erfindung weist das Leistungshalbleiterbauelement1 nur auf seiner Unterseite21 Außenkontaktflächen23 für einen Drainanschluss D und Außenkontaktflächen24 für Sourceanschlüsse S und eine in diesem Schnittbild nicht zu sehende, jedoch dann in3 gezeigte, Außenkontaktfläche25 für einen Gateanschluss G auf. Somit ist dieses Leistungshalbleiterbauelement1 ausschließlich oberflächenmontierbar, da es keine Außenkontaktflächen an den Randseiten besitzt. - In der zweiten Lage, in der der Leistungshalbleiterchip
5 angeordnet ist, wird nun mit dieser Querschnittzeichnung deutlich, dass die großflächige Kontaktfläche9 auf der Rückseite13 des Leistungshalbleiterchips5 mit der zentralen Kontaktanschlussfläche20 des Außenkontaktes6 für den Drainanschluss D stoffschlüssig verbunden ist. Die großflächige Kontaktfläche10 auf der Oberseite12 des Halbleiterchips5 , welche mit einer Vielzahl von Sourceelektroden in Verbindung steht, ist durch einen Fügestreifen16 des Bondbandes15 flächig kontaktiert. Ferner überbrückt das Bondband15 mit den Bondbandbögen17 den Abstand a zu den Außenkontakten7 . Mit einer gestrichelten Linie wird der Verlauf der in dieser Ebene nicht sichtbaren Bonddrahtverbindung14 für den Gateanschluss gezeigt. -
3 zeigt eine schematische Untersicht auf das Leistungshalbleiterbauelement1 gemäß1 . Auf der Unterseite21 des Leistungshalbleiterbauelements1 sind nun in eine Kunststoffgehäusemasse22 mit ihren Randseiten vollständig einge bettete Außenkontakte6 ,7 und8 zu sehen, wobei ein zentraler Kontakt6 für den Drainanschluss D vorgesehen ist und zwei an den Seiten angeordnete Außenkontakte7 Außenkontaktflächen24 aufweisen, die für einen Sourceanschluss S eingesetzt werden können. Schließlich ist ein deutlich kleinerer Außenkontakt8 mit seiner Außenkontaktfläche25 für einen Gateanschluss G vorgesehen. - Die
4 bis6 zeigen Ansichten eines Leistungshalbleiterbauelements2 gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung. Komponenten mit gleichen Funktionen wie in den vorhergehenden Figuren werden mit gleichen Bezugszeichen gekennzeichnet und nicht extra erörtert. -
4 zeigt eine schematische Draufsicht auf ein Leistungshalbleiterbauelement2 gemäß der zweiten Ausführungsform der Erfindung. Der dreilagige Aufbau ist auch bei der zweiten Ausführungsform der Erfindung beibehalten, so dass Außenkontakte6 ,7 und8 wieder in der unteren Lage angeordnet sind, womit der Vorteil verbunden ist, dass eine ebene Metallplatte strukturiert werden kann, um diese Außenkontakte zu realisieren. Die zweite Bauteillage wird wieder durch den Leistungshalbleiterchip5 gebildet und die dritte Lage durch die Verbindungselemente, wobei ein großflächiges Verbindungselement durch das Bondband15 gebildet wird und zu diesen Verbindungselementen der Oberseiten12 des Leistungshalbleiterchips2 auch eine Bonddrahtverbindung14 gehört. - Der Unterschied zu der ersten Ausführungsform der Erfindung besteht darin, dass die untere Lage mit Außenkontakten
6 ,7 und8 aus einem Flachleiterrahmen ausgestanzt ist, und somit auf den Rändern27 ,28 ,29 und30 nicht nur Kunststoffgehäusemasse22 angeordnet ist, sondern auch Außenkontaktflächen31 bis40 der einzelnen Außenkontakte6 ,7 und8 enden. Auf den Randseiten27 und29 des Leistungshalbleiterbauelements2 sind somit Außenkontaktflächen31 bzw.32 des Außenkontaktes6 für einen Drainanschluss D angeordnet. Auf der Randseite28 sind vier Kontaktanschlussflächen33 bis36 für einen Sourceanschluss angeordnet und zusätzlich auf der Randseite30 drei weitere Außenkontaktflächen37 ,38 und39 für den Sourceanschluss bereitgestellt. Außerdem ist auf der Randseite30 eine Außenkontaktfläche40 des Außenkontaktes8 angeordnet. Diese Außenkontaktflächen31 bis40 auf den Randseiten27 bis30 ermöglichen es, das Leistungshalbleiterbauelement2 in einen entsprechenden Stecksockel auf einer übergeordneten Platine einzustecken. -
5 zeigt einen schematischen Querschnitt durch das Leistungshalbleiterbauelement2 gemäß4 , wobei dieser Querschnitt auf den Randseiten28 und30 Außenkontaktflächen34 und38 zeigt, die zu Außenkontakten7 eines Sourceanschlusses gehören. Die Verdrahtung der großflächigen Kontaktfläche10 auf der Oberseite12 des Halbleiterchips5 ist unverändert über einen Fügestreifen16 hergestellt, wobei der Fügestreifen16 von einem Bondband15 gebildet wird, dessen Bondbögen17 den Kontakt zu den Außenkontakten7 für den Sourceanschluss S herstellen. -
6 zeigt eine schematische Untersicht auf das Leistungshalbleiterbauelement2 gemäß4 . Dabei wird deutlich, dass nun die auf der Unterseite21 angeordneten Außenkontaktflächen auch Außenkontaktflächen31 bis40 auf den Randseiten27 bis30 zur Verfügung stellen. - Die
7 bis9 zeigen schematische Ansichten eines Leistungshalbleiterbauelements3 einer dritten Ausführungsform der Erfindung. Komponenten mit gleichen Funktionen wie in den vorhergehenden Figuren werden mit gleichen Bezugszeichen gekennzeichnet und nicht extra erörtert. -
7 zeigt eine schematische Draufsicht auf ein Leistungshalbleiterbauelement3 gemäß der dritten Ausführungsform der Erfindung. Der Unterschied zu der ersten Ausführungsform der Erfindung besteht darin, dass das Bondband zwei Fügestreifen16 aufweist, mit denen es auf der großflächigen Kontaktfläche10 auf der Oberseite12 des Halbleiterchips5 fixiert ist. Diese Ausführungsform der Erfindung hat den Vorteil, dass ein kleinerer Bondstichel verwendet werden kann, und damit die Kompressionsbelastung beim Thermokompressionsbonden des Leistungshalbleiterchips geringer ist. -
8 zeigt einen schematischen Querschnitt durch das Leistungshalbleiterbauelement3 gemäß7 , wobei nun deutlich die drei Bondbandbögen17 zu sehen sind, wobei sich ein mittlerer Bondbandbogen17 zwischen den beiden Fügestreifen16 über der großflächigen Kontaktfläche10 des Leistungshalbleiterchips5 wölbt und die beiden Fügestreifen16 flexibel miteinander verbindet. -
9 zeigt eine schematische Untersicht auf das Leistungshalbleiterbauelement3 gemäß7 , wobei sich diese Untersicht von der Untersicht der ersten Ausführungsform der Erfindung nicht unterscheidet. - Die
10 bis12 zeigen Ansichten eines Leistungshalbleiterbauelements4 gemäß einer vierten Ausführungsform der Erfindung. Komponenten mit gleichen Funktionen wie in den vorhergehenden Figuren werden mit gleichen Bezugszeichen gekennzeichnet und nicht extra erörtert. -
10 zeigt eine schematische Draufsicht auf das Leistungshalbleiterbauelement4 gemäß der vierten Ausführungsform der Erfindung. Diese vierte Ausführungsform der Erfindung entspricht im wesentlichen der zweiten Ausführungsform der Erfindung gemäß den4 bis6 . Der Unterschied besteht auch hier darin, dass das Bondband nicht mit einem Fügestreifen16 auf der großflächigen Kontaktfläche10 auf der Oberseite12 des Leistungshalbleiterchips5 fixiert ist, sondern mit zwei Bondstreifen16 , die über einem mittleren Bondbogen17 elektrisch miteinander verbunden sind. Dieses wird auch in der nachfolgenden Querschnittansicht deutlich. -
11 zeigt einen schematischen Querschnitt durch das Leistungshalbleiterbauelement4 gemäß10 , wobei nun zum Unterschied zu der dritten Ausführungsform der Erfindung dieses Leistungshalbleiterbauelement auch auf den Randseiten27 bis30 Außenkontaktflächen31 bis40 aufweist. In diesem Querschnitt sind davon auf den Randseiten28 und30 lediglich die Außenkontaktflächen34 und38 zu sehen. Deren Anordnung wird jedoch in der nachfolgenden12 im einzelnen gezeigt. -
12 zeigt eine schematische Untersicht auf das Leistungshalbleiterbauelement4 gemäß10 , wobei diese Untersicht der Untersicht in6 der zweiten Ausführungsform der Erfindung entspricht und auf den Randseiten27 bis30 die dort angeordneten Außenkontaktflächen37 bis40 und ihre Anordnung zeigt. -
- 1
- Leistungshalbleiterbauelement (1. Ausführungsform)
- 2
- Leistungshalbleiterbauelement (2. Ausführungsform)
- 3
- Leistungshalbleiterbauelement (3. Ausführungsform)
- 4
- Leistungshalbleiterbauelement (4. Ausführungsform)
- 5
- Leistungshalbleiterchip
- 6
- oberflächenmontierbare Außenkontakte (Drain)
- 7
- oberflächenmontierbare Außenkontakte (Source)
- 8
- oberflächenmontierbare Außenkontakte (Gate)
- 9
- großflächige Kontaktfläche (Drain)
- 10
- großflächige Kontaktfläche (Source)
- 11
- kleinflächige Kontaktfläche (Gate)
- 12
- Oberseite des Leistungshalbleiterchips
- 13
- Rückseite des Leistungshalbleiterchips
- 14
- Bonddrahtverbindung bzw. Bonddraht
- 15
- Bondband
- 16
- streifenförmiger Fügebereich bzw. Fügestreifen
- 17
- Bondbandbogen
- 18
- Kontaktanschlussfläche der Außenkontakte (Source)
- 19
- Kontaktanschlussfläche des Außenkontaktes (Gate)
- 20
- zentrale Kontaktanschlussfläche des Außenkontaktes (Drain)
- 21
- Unterseite des Leistungshalbleiterbauelements
- 22
- Kunststoffgehäusemasse
- 23
- Außenkontaktfläche (Drain)
- 24
- Außenkontaktfläche (Source)
- 25
- Außenkontaktfläche (Gate)
- 26
- Kontur der Kunststoffgehäusemasse
- 27
- Rand des Leistungshalbleiterbauelements
- 28
- Rand des Leistungshalbleiterbauelements
- 29
- Rand des Leistungshalbleiterbauelements
- 30
- Rand des Leistungshalbleiterbauelements
- 31
- Außenkontaktfläche (Drain)
- 32
- Außenkontaktfläche (Drain)
- 33
- Außenkontaktfläche (Source)
- 34
- Außenkontaktfläche (Source)
- 35
- Außenkontaktfläche (Source)
- 36
- Außenkontaktfläche (Source)
- 37
- Außenkontaktfläche (Source)
- 38
- Außenkontaktfläche (Source)
- 39
- Außenkontaktfläche (Source)
- 40
- Außenkontaktfläche (Gate)
- a
- Abstand
- b
- Breite des Bondbandes
- B
- Breite der großflächigen Kontaktfläche
- D
- Drain
- G
- Gate
- S
- Source
Claims (19)
- Leistungshalbleiterbauelement mit zumindest einem Leistungshalbleiterchip (
5 ) und oberflächenmontierbaren Außenkontakten (6 ,7 ,8 ), wobei der Leistungshalbleiterchip (5 ) großflächige Kontaktflächen (9 ,10 ) auf seiner Oberseite (12 ) und seiner Rückseite (13 ) aufweist, die im wesentlichen die gesamte Oberseite (12 ) bzw. Rückseite (13 ) bedecken, und wobei die großflächige Kontaktfläche (9 ) der Rückseite (13 ) auf einem Außenkontakt (6 ) des Leistungshalbleiterbauelements (1 ) elektrisch leitend fixiert ist, und wobei die Oberseite (12 ) neben der großflächigen Kontaktfläche (10 ) zusätzlich eine kleinflächige Kontaktfläche (11 ), deren flächige Ausdehnung mindestens zehnmal kleiner als die flächige Ausdehnung der großflächigen Kontaktflächen (9 ,10 ) ist, aufweist, und wobei die kleinflächige Kontaktfläche (11 ) über eine Bonddrahtverbindung (14 ) mit einem einzelnen Außenkontakt (8 ) des Leistungshalbleiterbauelements (1 ) und die großflächige Kontaktfläche (10 ) der Oberseite (12 ) über ein Bondband (15 ) mit Außenkontakten (7 ) verbunden sind. - Leistungshalbleiterbauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Bondband (
15 ) eine Breite (b) aufweist, die geringer ist als die Breite (B) der großflächigen Kontaktfläche (10 ) der Oberseite (12 ) des Leistungshalbleiterchips (5 ). - Leistungshalbleiterbauelement nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Bondband (
15 ) eine Aussparung für den Bereich der kleinflächigen Kontaktfläche (11 ) aufweist. - Leistungshalbleiterbauelement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Bondband (
15 ) auf der großflächigen Kontaktfläche (10 ) mindestens einen streifenförmigen Fügebereich (16 ) aufweist, in dem das Bondband (15 ) mit der großflächigen Kontaktfläche (10 ) stoffschlüssig verbunden ist, wobei der Fügestreifen (16 ) die Breite (b) des Bondbandes (15 ) aufweist. - Leistungshalbleiterbauelement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Bondband (
15 ) über mindestens einen den Abstand (a) zwischen dem Leistungshalbleiterchip (5 ) und einem Außenkontakt (7 ,8 ) überbrückenden Bondbandbogen (17 ) mit einer Kontaktanschlussfläche (18 ) auf dem Außenkontakt (7 ) des Leistungshalbleiterbauelements (1 ) elektrisch in Verbindung steht. - Leistungshalbleiterbauelement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Bondband (
15 ) auf der großflächigen Kontaktfläche (10 ) der Oberseite (12 ) des Leistungshalbleiterchips (1 ) mehrere über mindestens einen Bondbogen (17 ) verbundene Fügestreifen aufweist. - Leistungshalbleiterbauelement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Bondband (
15 ) mit einem Fügestreifen (16 ) auf einer Kontaktanschlussfläche (18 ) eines Außenkontaktes (7 ) stoffschlüssig und elektrisch verbunden ist. - Leistungshalbleiterbauelement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Bondband (
15 ) eine streifenförmige Metallfolie aufweist. - Leistungshalbleiterbauelement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Bondband (
15 ) Aluminium oder eine Aluminiumlegierung aufweist, vorzugsweise mit den Legierungselementen Silizium und Kupfer. - Leistungshalbleiterbauelement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die großflächige Kontaktfläche (
10 ) der Oberseite (12 ) der Leistungshalbleiterchips (5 ) eine Edelmetallbeschichtung, vorzugsweise aus Gold aufweist. - Verfahren zur Herstellung von mehreren Leistungshalbleiterbauelementen (
1 ), wobei das Verfahren folgende Verfahrensschritte aufweist: – Herstellen von Leistungshalbleiterchips (5 ) mit großflächigen Kontaktflächen (9 ,10 ) auf mindestens einer Oberseite (12 ) zu einer Sourceelektrode (S) und auf einer Rückseite (13 ) zu einer Drainelektrode (D) sowie mit einer kleinflächigen Kontaktfläche (11 ) auf der Oberseite (12 ), deren flächige Ausdehnung mindestens zehnmal kleiner als die flächige Ausdehnung der großflächigen Kontaktflächen (10 ) zu einer Gateelektrode (G) ist; – Herstellen eines Flachleiterrahmens aus Flachleitermaterial mit Leistungshalbleiterbauteilpositionen und; – Aufbringen von Leistungshalbleiterchips (5 ) in den Leistungshalbleiterbauteilpositionen unter stoffschlüssigem Verbinden der großflächigen Kontaktfläche (9 ) der Rückseite (13 ) des Leistungshalbleiterchips (5 ) auf einer zentralen Kontaktanschlussfläche (20 ) eines oberflächenmontierbaren Außenkontaktes (6 ) in den Leistungshalbleiterbauteilpositionen; – Herstellen einer Bonddrahtverbindung (14 ) zwischen der kleinflächigen Kontaktfläche (11 ) und einem oberflächenmontierbaren Außenkontakt (8 ) des Leistungshalbleiterbauelements (1 ); – Aufbringen eines Bondbandes (15 ) auf die großflächige Kontaktfläche (10 ) der Oberseite (12 ) des Leistungshalbleiterchips (5 ) unter stoffschlüssigem Verbinden mindestens eines streifenförmigen Fügebereichs (16 ) des Bondbandes (15 ) mit der großflächigen Kontaktfläche (10 ) und unter Ausbilden mindestens eines Bondbandbogens (17 ) zu einem oberflächenmontierbaren Außenkontakt (7 ) der Unterseite (21 ) des Leistungshalbleiterbauelements (1 ); – Einbetten des Leistungshalbleiterchips (5 ), des Bonddrahtes (14 ), des Bondbandes (15 ) und der Außenkontakte (6 ,7 ,8 ) in den Leistungshalbleiterbauteilpositionen in eine Kunststoffgehäusemasse (22 ), unter Freilassen von Außenkontaktflächen (23 ,24 ,25 ) der oberflächenmontierbaren Außenkontakte (6 ,7 ,8 ) mindestens auf der Unterseite (21 ) des Leistungshalbleiterbauelements (1 ); – Auftrennen des Flachleiterrahmens in einzelne Leistungshalbleiterbauelemente (1 ). - Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass zum Herstellen von Leistungshalbleiterchips (
5 ) mit großflächigen Kontaktflächen (9 ,10 ) auf mindestens einer Oberseite (12 ) zu einer Sourceelektrode (S) und auf einer Rückseite (13 ) zu einer Drainelektrode (D) sowie mit einer kleinflächige Kontaktfläche (11 ) auf der Oberseite (12 ), deren flächige Ausdehnung mindestens zehnmal kleiner als die flächige Ausdehnung der großflächigen Kontaktflächen (9 ,10 ) ist, zu einer Gateelektrode (G) ein Halbleiterwafer mit einer Vielzahl von Halbleiterchippositionen verwendet wird, der anschließend zu einzelnen Leistungshalbleiterchips (1 ) aufgetrennt wird. - Verfahren nach Anspruch 11 oder Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass zum Herstellen eines Flachleiterrahmens aus Flachleitermaterial mit Leistungshalbleiterbauteilpositionen eine kupferhaltige Platte strukturiert wird, wobei Ätz- und/oder Stanztechniken eingesetzt werden.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass zum stoffschlüssigen Verbinden der großflächigen Kontaktfläche (
9 ) der Rückseite (13 ) des Leistungshalbleiterchips (5 ) auf einer zentralen Außenkontaktfläche (20 ) eines oberflächenmontierbaren Außenkontaktes (6 ) in den Leistungshalbleiterbauteilpositionen ein Lötverfahren, vorzugsweise ein Diffusionslötverfahren oder ein Weichlotverfahren oder ein Verfahren unter Einsatz eines Leitklebstoffes verwendet wird. - Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass das Aufbringen eines Bondbandes (
15 ) auf die großflächige Kontaktfläche (10 ) der Oberseite (12 ) des Leistungshalbleiterchips (1 ) unter stoffschlüssigem Verbinden mindestens eines streifenförmigen Fügebereichs (16 ) des Bondbandes (15 ) mit der großflächigen Kontaktfläche (10 ) und unter Ausbilden mindestens eines Bondbandbogens (17 ) zu einem oberflächenmontierbaren Außenkontakt (7 ) der Unterseite (21 ) des Leistungshalbleiterbauelements (1 ) mittels Thermokompressionsbonden unter Einsatz eines breiten Bondstichels erfolgt, dessen Auflagefläche auf dem Bondband (15 ) der Breite (b) des Bondbandes (15 ) entspricht. - Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass zum Einbetten des Leistungshalbleiterchips (
5 ), des Bonddrahtes (14 ), des Bondbandes (15 ) und der Außenkontakte (6 ,7 ,8 ) in den Leistungshalbleiterbauteilpositionen in eine Kunststoffgehäusemasse (22 ) ein Spritzgussverfahren oder ein Dispensverfahren eingesetzt wird. - Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass auf der großflächigen Kontaktfläche (
10 ) der Oberseite (12 ) des Leistungshalleiterchips (1 ) das Bondband (15 ) mehrfach gebondet wird. - Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass als Bondband (
15 ) eine streifenförmige Aluminiumfolie oder eine Aluminiumlegierungsfolie eingesetzt wird. - Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass die großflächige Kontaktfläche (
10 ) auf der Oberseite (12 ) des Leistungshalbleiterchips (5 ) beim Herstellen der Leistungshalbleiterchips (5 ) mit Hilfe eines Halbleiterwafers mit einer goldhaltigen Beschichtung versehen wird.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102006015447A DE102006015447B4 (de) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | Leistungshalbleiterbauelement mit einem Leistungshalbleiterchip und Verfahren zur Herstellung desselben |
US11/694,516 US7745913B2 (en) | 2006-03-31 | 2007-03-30 | Power semiconductor component with a power semiconductor chip and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102006015447A DE102006015447B4 (de) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | Leistungshalbleiterbauelement mit einem Leistungshalbleiterchip und Verfahren zur Herstellung desselben |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102006015447A1 true DE102006015447A1 (de) | 2007-10-11 |
DE102006015447B4 DE102006015447B4 (de) | 2012-08-16 |
Family
ID=38513247
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102006015447A Expired - Fee Related DE102006015447B4 (de) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | Leistungshalbleiterbauelement mit einem Leistungshalbleiterchip und Verfahren zur Herstellung desselben |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7745913B2 (de) |
DE (1) | DE102006015447B4 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7851927B2 (en) | 2006-12-19 | 2010-12-14 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor component comprising a semiconductor chip and semiconductor component carrier with external connection strips |
DE102009021083B4 (de) * | 2008-05-13 | 2014-08-28 | Infineon Technologies Ag | Chipträger und Halbleiter-Bauelement |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7969018B2 (en) * | 2008-07-15 | 2011-06-28 | Infineon Technologies Ag | Stacked semiconductor chips with separate encapsulations |
US8138587B2 (en) * | 2008-09-30 | 2012-03-20 | Infineon Technologies Ag | Device including two mounting surfaces |
US7994615B2 (en) * | 2009-08-28 | 2011-08-09 | International Rectifier Corporation | Direct contact leadless package for high current devices |
JP5473733B2 (ja) * | 2010-04-02 | 2014-04-16 | 株式会社日立製作所 | パワー半導体モジュール |
JP2015176916A (ja) * | 2014-03-13 | 2015-10-05 | 株式会社東芝 | 半導体装置およびモジュール |
US9653387B2 (en) | 2015-07-24 | 2017-05-16 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor component and method of manufacture |
US9905500B2 (en) | 2015-07-24 | 2018-02-27 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor component and method of manufacture |
US10388539B2 (en) | 2015-07-24 | 2019-08-20 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor component and method of manufacture |
US9735095B2 (en) | 2015-07-24 | 2017-08-15 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor component and method of manufacture |
US9818674B2 (en) | 2015-07-24 | 2017-11-14 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor component and method of manufacture |
US9620443B2 (en) | 2015-07-24 | 2017-04-11 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor component and method of manufacture |
US10128174B2 (en) | 2015-07-24 | 2018-11-13 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor component and method of manufacture |
US9780019B2 (en) | 2015-07-24 | 2017-10-03 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor component and method of manufacture |
EP3761359A1 (de) * | 2019-07-03 | 2021-01-06 | Nexperia B.V. | Leitungsrahmenanordnung für ein halbleiterbauelement |
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DE102004041088B4 (de) | 2004-08-24 | 2009-07-02 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauteil in Flachleitertechnik mit einem Halbleiterchip und Verfahren zu seiner Herstellung |
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-
2006
- 2006-03-31 DE DE102006015447A patent/DE102006015447B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-03-30 US US11/694,516 patent/US7745913B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070228556A1 (en) | 2007-10-04 |
US7745913B2 (en) | 2010-06-29 |
DE102006015447B4 (de) | 2012-08-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R079 | Amendment of ipc main class |
Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: H01L0023480000 Ipc: H01L0023488000 Effective date: 20120405 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: , |
|
R020 | Patent grant now final |
Effective date: 20121117 |
|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |