DE102005030661A1 - Nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement und Verfahren zum Betreiben und Herstellen eines nichtflüchtigen Halbleiterspeicherbauelementes - Google Patents

Nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement und Verfahren zum Betreiben und Herstellen eines nichtflüchtigen Halbleiterspeicherbauelementes Download PDF

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Abstract

Es wird ein nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement bereitgestellt, das einen Speicherbereich und einen Schaltungsbereich umfasst, wobei der Speicherbereich mehrere Speicherzellen und eine Menge von Arrayreferenzzellen umfasst, die programmiert werden können, so dass sie eine Schwellenspannung entsprechend einem gelöschten oder einem programmierten Zustand einer Speicherzelle aufweisen. In dem Schaltungsbereich sind zusätzliche Hauptreferenzzellen vorgesehen, die so konfiguriert sind, dass sie ebenfalls eine Schwellenspannung entsprechend einem gelöschten oder programmierten Zustand einer Speicherzelle aufweisen. Die Hauptreferenzzellen werden zum Setzen der Arrayreferenzzellen verwendet, und die Arrayreferenzzellen sind als Referenz zum Lesen oder Schreiben eines Zustands der Speicherzellen vorgesehen. DOLLAR A Ein Verfahren wird außerdem bereitgestellt für das Setzen von Arrayreferenzzellen in einem nichtflüchtigen Halbleiterspeicherbauelement auf eine vorbestimmte Schwellenspannung.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft nichtflüchtige Halbleiterspeicherbauelemente. Sie betrifft insbesondere ein Speicherbauelement mit Referenzzellen, die so aufgebaut sind, dass sie eine Referenz liefern, die dafür ausgelegt ist, immer zu Eigenschaften von Speicherzellen zu passen, selbst nach einer Verschlechterung, die durch eine lange Arbeitszeit oder viele Lese- oder Schreibzyklen verursacht wird. Die Erfindung betrifft außerdem ein Verfahren zum Programmieren von Referenzzellen.
  • Flashspeicher sind in jüngster Zeit immer populärer geworden, insbesondere im Bereich von tragbaren Kommunikationseinrichtungen. Die grundlegende Struktur eines Flashspeichers ist der eines MOSFET ähnlich, einschließlich einer Gateelektrode, einer Drainelektrode und einer Sourceelektrode. Üblicherweise enthält der Flashspeicher als die Gateelektrode des MOSFET eine floatende Gateelektrode und eine Steuergateelektrode. Außerdem gibt es einige Arten von Flashspeichern ohne floatende Gateelektrode, wie etwa einen Nitridfestwertspeicher (NROM). Ein Nitridfestwertspeicher unterscheidet sich von anderen Arten von Flashspeichern, die eine leitende Polysilizium- oder metallische floatende Gateelektrode verwenden, durch die Verwendung eine Oxid-Nitrid-Oxid-Schicht (ONO) als ladungsfangendes Medium. Auf Grund einer stark kompaktierten Natur der Siliziumnitridschicht werden von dem MOS-Transistor in das Siliziumnitrid tunnelnde heiße Elektroden eingefangen, um eine ungleiche Konzentrationsverteilung zu bilden.
  • Im Allgemeinen weist der Flashspeicher die Funktionen Lesen, Programmieren und Löschen auf. Wenn Elektronen in die floatende Gateelektrode der Speicherzelle oder Elektronen in die ONO-Schicht der Speicherzelle injiziert werden, nimmt eine Schwellenspannung, anfänglich mit einer niedrigen Spannung, der Speicherzelle relativ zu und führt zu einem abnehmenden Strom von der Drainelektrode zu der Sourceelektrode. Dies ist der geschriebene oder programmierte Zustand der Speicherzelle. Wenn eine negative Spannung an die Steuergateelektrode angelegt wird, werden in der floatenden Gateelektrode (oder in der ONO-Schicht) gefangene Elektronen aus der floatenden Gateelektrode oder der Nitridschicht entfernt, um die Schwellenspannung der Speicherzelle zu senken. Dies ist der gelöschte Zustand. Ungeachtet des Zustands, in dem sich die Speicherzelle befindet, ist es erforderlich, einen Lesevorgang durchzuführen, währenddessen die in der Speicherzelle gespeicherten Bitinformationen gelesen werden.
  • Zum Lesen von in einer Speicherzelle gespeicherten Informationen wird die Spannung an dem Gateeingang erhöht, bis ein vordefinierter Strom von der Drainelektrode zur Sourceelektrode der Speicherzelle fließt.
  • Die tatsächliche Gatespannung wird dann ausgewertet. Alternativ wird der Strom ausgewertet, während eine vordefinierte Spannung an die Gateelektrode angelegt wird. In beiden Fällen wird das Leitungsfenster der Speicherzelle durch einen Schwellwert zum Definieren des Zustands der Speicherzelle in zwei Gebiete unterteilt.
  • Genauer gesagt sind für das Lesen eines Zustands einer Speicherzelle unter Verwendung eines Referenzstroms zwei Mechanismen üblich. Bei einem ersten Mechanismus wird eine Zelle gelesen, indem an dem Gate- und dem Draineingang vorbestimmte, feste Spannungen angelegt werden. Ihr Drain-/Sourcestrom wird auf einen Speicherzustand abgebildet, indem er mit einem Referenzstrom verglichen wird. Wenn der gelesene Strom höher ist als die Referenz, dann wird bestimmt, daß sich die Zelle in einem Logikzustand befindet (beispielsweise in einem L-Zustand). Wenn andererseits der Strom kleiner ist als der Referenzstrom, wird bestimmt, daß sich die Zelle in dem anderen Logikzustand befindet (beispielsweise einem H-Zustand). Somit speichert eine derartige Zweizustandszelle ein Bit digitaler Informationen.
  • Ein zweiter Mechanismus zum Lesen des Zustands einer Speicherzelle besteht darin, die Gateelektrode der Speicherzelle anstatt mit einer konstanten Spannung mit einer variablen Spannung vorzuspannen. Hier wird der Drain-/Sourcestrom gelesen und mit einem konstanten Strom verglichen. Die Gatespannung, bei der der konstante Referenzstrom von dem gemessenen Strom erreicht wird, zeigt den Zustand der Speicherzelle an. Zum Programmieren und Löschen von Speicherzellen sind ähnliche Operationen erforderlich, so genannte Bestätigungsoperationen. Bestätigungsoperationen treten während des Programmierens oder Löschens von Speicherzellen auf, es handelt sich bei ihnen um Leseoperationen während Schreiboperationen, die eine Notwendigkeit eines Programmier- oder Löschimpulses bewerten, damit diejenigen Daten, die in die Zelle geschrieben werden sollen, ordnungsgemäß geschrieben werden.
  • Um die Speicherkapazität zu erhöhen, werden Flash-EEPROM-Bauelemente (elektrisch löschbare programmierbare Festwertspeicher) mit einer Dichte hergestellt, die mit dem Fortschritt der Halbleitertechnologie immer höher liegt. Ein weiteres Verfahren zum Erhöhen von Speicherkapazität besteht darin, dass jede Speicherzelle mehr als zwei Zustände speichert.
  • Für eine Mehrfachzustands- oder Mehrfachpegel-EEPROM-Speicherzelle wird das Leitungsfenster durch mehr als einen Schwellwert in mehr als zwei Gebiete unterteilt, so dass jede Zelle in der Lage ist, mehr als ein Datenbit zu speichern. Somit nehmen die Informationen, die ein gegebenes EEPROM-Array speichern kann, mit der Anzahl der Zustände zu, die jede Zelle speichern kann. Ein EEPROM oder ein Flash-EEPROM mit Mehrfachzustands- oder Mehrfachpegelspeicherzellen sind im US-Patent Nr. 5,172,338 beschrieben worden.
  • Eine weitere bekannte Möglichkeit zum Erhöhen der Speicherdichte besteht darin, mehr als ein Bit zu speichern, wobei unterschiedliche Mengen elektrischer Ladung auf einer leitenden Schicht nicht unterschieden werden, sondern in verschiedenen Bereichen einer Gateschicht gespeicherte elektrische Ladungen. Eine derartige Speicherzelle ist von den oben erwähnten Nitridfestwertspeichern (NROM) bekannt. Aus US 2002/0118566 ist bekannt, wie in Nitridfestwertspeicherzellen Zwei-Bit-Informationen gleichzeitig gelesen werden. Gemäß dem Drain-Source-Strom des NROM kann eine logische Zwei-Bit-Kombinationsnachricht identifiziert werden. Der beobachtete Strom wird in vier verschiedene Zonen unterteilt, und jede Zone stellt eine spezifische logische Zwei-Bit-Information dar, nämlich L und L, L und H, H und L oder H und H.
  • Das Speichern von zwei Bits an Informationen in verschiedenen Gebieten der Nitridschicht weist den Vorteil auf, dass der Unterschied zwischen den individuellen Zuständen leichter detektiert werden kann als in einer Mehrfachpegelspeicherzelle. Der Zustand des zweiten Bit beeinflusst jedoch den Strom, der durch die Zelle fließt, wenn der Zustand des ersten Bit detektiert wird, und umgekehrt. Dies wird auch als der Zweite-Bit-Effekt bezeichnet. Der beschriebene Effekt ist relevant beim Lesen von Daten, aber auch beim Bestätigen von Daten während Lösch- oder Programmieroperationen, und muss deshalb bei der Auswertung eines detektierten Zellenstroms berücksichtigt werden. Obwohl der Zweite-Bit-Effekt im Vergleich zu dem Effekt gering ist, der durch den Speicherzustand des zu lesenden Bits verursacht wird, kann er an Wichtigkeit zunehmen, wenn die Arbeitsspannung der Speicherzelle niedriger wird. Damit Leistung gespart wird und kleinere Einzelchipstrukturen für eine Halbleiterschaltung verwendet werden können, sinken die Arbeitsspannungen von Speichermodulen immer mehr. Wohingegen bisher 5 V und 3,3 V als Versorgungsspannungen verwendet wurden, verwenden neue Einrichtungen Spannungen von beispielsweise 1,6 V.
  • Zum Lesen dieser Flashspeicherzellen ist es wesentlich, den Leitungsstrom über die Source- und Drainelektrode der Zelle hinweg zu erfassen. Insbesondere zum Lesen von mehr als zwei Zuständen einer Speicherzelle ist es wichtig, einen Referenzstrom zu haben, der den Zustand der Speicherzelle genau wiedergibt. Je mehr Zustände, für deren Speicherung eine Speicherzelle ausgelegt ist, unterschieden werden sollen, desto feiner muss ihr Gebiet durch Schwellwerte unterteilt werden. Dies erfordert höhere Präzision bei Programmier- und Leseoperationen, damit die erforderliche Auflösung erzielt werden kann.
  • Die verwendeten Referenzströme werden oftmals von Referenzzellen erzeugt, die sich in einem bestimmten Zustand befinden. In den meisten der früheren Einbit- oder Einpegel-Speicherarchitekturen wurde die Referenzstruktur zum Bereitstellen entsprechender Referenzströme durch ein Array aus vier oder fünf Flashzellen gebildet, die einem programmierten Zustand, einem gelöschten Zustand, einem überlöschten oder Verarmungszustand und einem Lesezustand entsprechen.
  • Diese Referenzzellen könnten, nachdem sie beispielsweise bei der Wafersortierung auf ein vordefiniertes Niveau programmiert wurden, überhaupt nicht mehr geändert werden.
  • Bei mehreren Anwendungen, beispielsweise zum Archivieren von Daten, ist es wichtig, dass Daten nach einer langen Zeit oder einer großen Anzahl von Schreibzyklen immer noch korrekt gelesen werden können. Außerdem müssen Temperaturschwankungen berücksichtigt werden. Diese Einflüsse beeinflussen die von einer Speicherzelle gelesenen Ströme. Temperaturschwankungen beeinflussen auch die Referenzströme. Bei typischen Einpegel- und Einbitbauelementen definieren die Toleranzen, die eingestellt sind, um die Zustände einer Speicherzelle zu trennen, große Fenster für die verschiedenen Zustände. Die Fenster sind groß genug, um sicherzustellen, dass Daten unter allen Bedingungen korrekt gelesen oder geschrieben werden. Bei Mehrfachpegel- und Mehrbitspeichern sind die Fenster signifikant reduziert worden, und es ist ein Problem geworden, unter allen Umgebungsbedingungen und über die ganze Lebensdauer hinweg eine korrekte Funktionalität sicherzustellen.
  • Die jeweilige Notwendigkeit für genauere Referenzen ist in 17, 18 und 19 dargestellt. Das Diagramm von 17 betrifft eine Zweizustandsspeicherzelle zum Speichern eines Datenbit. Es zeigt die Spannungen und Ströme in einer Speicherzelle gemäß 7. Der Strom ICELL durch die Speicherzelle hängt von der Gate-Source-Spannung ab. Ein niedrigerer Schwellwert 121 definiert den Beginn eines gelöschten Zustands. Unterhalb des gelöschten Zustands befindet sich auch ein als Verarmungszustand bezeichneter überlöschter Zustand. In diesem Zustand, der beim normalen Betrieb der Speicherzelle nicht gestattet ist, fließt ein Strom selbst dann von der Drainelektrode zur Sourceelektrode, wenn keine Spannung an die Gateelektrode angelegt ist. Der gelöschte und der programmierte Zustand sind durch eine Referenzspannung 122 getrennt. Die Toleranzfenster für den gelöschten und den programmierten Zustand sind groß genug, um für alle Bedingungen zu passen.
  • 18 zeigt, dass in einer Mehrfachpegelzelle die Toleranzfenster für alle Zustände reduziert sind. Für jeden der verschiedenen Zustände wird eine Schwellenspannung 121, 123, 124 und 125 definiert. 18, die die möglichen Zustände einer NROM-Zelle zeigt, macht klar, dass die Referenzen 121, 123, 124 und 125 präziser sein müssen als die Referenz 121 und 122 in dem Diagramm von 17.
  • Aus 19 kann man erkennen, dass es bei Mehrfachbitspeicherzellen zu einem zusätzlichen Problem kommt. Wenn das erste Bit der Speicherzelle gelesen wird, muss berücksichtigt werden, dass die Kennlinie von dem zweiten Bit abhängt. Ohne Berücksichtigung des zweiten-Bit-Effekts wird eine logische „1" detektiert, wenn die Gate-Source-Spannung in dem als 126 bezeichneten Bereich liegt. Der Bereich einer logischen „0" wird als 129 bezeichnet. Eine Schwellenspannung wird als 128 bezeichnet. Wenn der zweite-Bit-Effekt berücksichtigt wird, muss eine logische „1" selbst dann detektiert werden, wenn die Gate-Source-Spannung höher ist als der Bereich 126. Der Überschussbereich wird als 127 bezeichnet. Deshalb reduziert die Berücksichtigung des zweite-Bit-Effekts weiterhin das Toleranzfenster für das Detektieren des Zustands der Speicherzelle.
  • Zusammenfassend gibt es mehrere Effekte, die erfordern, dass der Referenzstrom oder die Referenzspannung zum Detektieren des Logikzustands einer Speicherzelle präziser sind. Dies ist nicht nur beim ersten Betreiben des Speicherbauelements erforderlich, sondern auch über die ganze Lebenszeit hinweg, wenn verschlechternde Effekte das Verhalten der Speicherzellen verändern.
  • Außer diesen spezifischen Problemen gibt es eine allgemeine Notwendigkeit für hohe Leistung, hohe Kapazität und hohe Zuverlässigkeit von nichtflüchtigen Speicherbauelementen. Insbesondere gibt es einen Bedarf an kompakten nichtflüchtigen Speicherbauelementen, die ein Speichersystem aufweisen, das Störungseffekte minimiert.
  • Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht deshalb in der Bereitstellung eines nichtflüchtigen Halbleiterspeicherbauelements und eines jeweiligen Verfahrens zum Herstellen und Betreiben eines Speicherbauelements mit einem besseren Referenzverfahren.
  • Die Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement gelöst, das einen Speicherbereich und einen Schaltungsbereich umfasst, wobei der Speicherbereich mehrere in einem Speicherarray angeordnete Speicherzellen und eine Menge von programmierbaren Arrayreferenzzellen, die als Referenzen zum Lesen der Speicherzellen vorgesehen sind, umfasst und wobei der Schaltungsbereich eine Menge von Hauptreferenzzellen umfasst, die als Referenzen zum Feststellen des Zustands von Arrayreferenzzellen oder Speicherzellen vorgesehen sind.
  • Die vorliegende Erfindung schlägt die Bereitstellung einer Menge so genannter Arrayspeicherzellen vor, die in einem Speicherbereich angeordnet sind, und einer zweiten Menge von Referenzzellen, so genannten Hauptreferenzzellen, die sich in einem Schaltungsbereich befinden.
  • Genauer gesagt wird ein nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement vorgeschlagen, das einen Speicher bereich und einen Schaltungsbereich umfasst, wobei der Speicherbereich mehrere in einem Speicherarray angeordnete Speicherzellen und eine Menge programmierbarer Arrayreferenzzellen umfasst, die als Referenzen zum Lesen der Speicherzellen vorgesehen sind. Der Schaltungsbereich umfasst eine Menge von Hauptreferenzzellen, die als Referenzen zum Bestätigen des Zustands von Arrayreferenzzellen oder Speicherzellen vorgesehen sind.
  • Die Hauptreferenzzellen sind vorgesehen zum Setzen der Referenzzellen und zum Bestätigen eines Zustands der Speicherzellen. Die Arrayreferenzzellen sind vorgesehen als Referenz zum Lesen der Speicherzellen. Während die Hauptreferenzzellen vor der Auslieferung und deshalb vor Beginn des regelmäßigen Betriebs des Speicherbauelements auf einen spezifischen Zustand gesetzt werden, werden die Arrayspeicherzellen während ihrer Lebensdauer wiederholt programmiert und gelöscht. Deshalb sind die Arrayspeicherzellen der gleichen Beanspruchung ausgesetzt wie die Speicherzellen, und deshalb verschlechtern sie sich auf die gleiche Weise wie die Speicherzellen. Eine Bewegung der Kennlinien der Speicherzellen beeinflusst nicht Lese- oder Programmierergebnisse, da sich die Arrayreferenzzellenkennlinien auf entsprechende Weise bewegen.
  • Bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung umfasst die Menge von Hauptreferenzzellen eine programmierte Hauptreferenzzelle und eine gelöschte Hauptreferenzzelle. Die Menge von programmierbaren Arrayreferenzzellen umfasst Arrayreferenzzellen, die für die Bereitstellung einer programmierten und einer gelöschten Referenz für das Lesen von Daten verwendet werden.
  • Bei einer zweiten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung umfasst die Menge von Hauptreferenzzellen auch eine programmierte Hauptreferenzzelle und eine gelöschte Hauptreferenzzelle. Die Menge von programmierbaren Arrayreferenzzellen umfasst als die einzige Referenzzelle oder ergänzend zu den anderen Referenzzellen eine Lesereferenzzelle die vorgesehen ist, eine Schwellenspannung zu haben, die die Grenze zwischen einem gelöschten Zustand und einem programmierten Zustand einer Speicherzelle definiert und die zum Lesen von Daten von den Speicherzellen verwendet werden kann. Sie kann unter Verwendung der Hauptreferenzzellen als Referenz auf die spezifische Schwellenspannung gesetzt werden.
  • Bei einer dritten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung umfasst die Menge von Hauptreferenzzellen zusätzlich eine Lesereferenzzelle, die vorgesehen ist, eine Schwellenspannung zu haben, die die Grenze zwischen einem gelöschten Zustand und einem programmierten Zustand einer Speicherzelle zu definieren, die vorgesehen ist als Referenz zum Bestätigen des Zustands der in der Menge von Arrayreferenzzellen enthaltenen Lesereferenzzelle.
  • Gemäß der beanspruchten Erfindung umfasst ein Verfahren zum Betreiben eines Speicherbauelements die folgenden Schritte: Setzen mindestens einer der Arrayreferenzzellen in einen vordefinierten Zustand unter Verwendung mindestens einer der vorprogrammierten Hauptreferenzzellen als Referenz, Lesen des Zustands mindestens einer Speicherzelle unter Verwendung der Arrayreferenzzellen als Referenz und Bestätigen des Zustands mindestens einer Speicherzelle beim Löschen oder Programmieren der Speicherzelle unter Verwendung mindestens einer der Hauptreferenzzellen als Referenz.
  • Bei bevorzugten Ausführungsformen des Verfahrens gemäß der vorliegenden Erfindung werden die Hauptreferenzzellen und die Arrayreferenzzellen wie oben in Verbindung mit den jeweiligen Speicherbauelementen angedeutet verwendet.
  • Ein zusätzlicher Vorteil der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass nicht nur das Arrayverhalten von gespeicherten Informationen im Lauf der Zeit berücksichtigt wird, die so genannte Erhaltung nach wiederholten Lesevorgängen („retention after-cycling"), sondern auch die durch Schreibzyklen verursachte Beanspruchung der Zellen. Außerdem beeinflussen Umgebungsbedingungen wie etwa die Temperatur sowohl die Referenzzellen als auch die Speicherzellen. Andererseits stehen gute Referenzwerte von den Hauptreferenzzellen zur Verfügung. Diese werden nicht von der typischen Beanspruchung beeinflusst, denen Speicher- und Arrayreferenzzellen ausgesetzt sind.
  • Bei einer weiteren verbesserten Ausführungsform der Erfindung wird für jede Wortleitung eine zusätzliche Statuszelle vorgesehen. Bei dieser als „Zeilenschutzreferenz" bezeichneten Statuszelle wird eine Information von einem ersten Logikzustand gespeichert, der anzeigt, ob eine der jeweiligen Wortleitungen assoziierten Speicherzellen programmiert ist. Ansonsten sind alle der Wortleitung assoziierten Speicherzellen gelöscht, was durch den anderen Logikzustand angezeigt wird.
  • Ein weiterer Vorteil der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass das vorgeschlagene Referenzverfahren auf alle Arten flüchtiger Speicherbauelemente angewendet werden kann.
  • Diese und weitere Aufgaben der vorliegenden Erfindung ergeben sich dem Durchschnittsfachmann nach der Lektüre der folgenden ausführlichen Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen, die in den verschiedenen Figuren und Zeichnungen dargestellt ist.
  • 1 ist ein Schemadiagramm einer Flashspeicherschaltung gemäß der vorliegenden Erfindung.
  • 2 ist ein Flussdiagramm eines Verfahrens gemäß der vorliegenden Erfindung.
  • 3 ist ein Flussdiagramm, das ein Verfahren zum Herstellen eines nichtflüchtigen Halbleiterspeichers durch einen Hersteller zeigt.
  • 4 ist ein Flussdiagramm, das ein Verfahren zum Betreiben eines nichtflüchtigen Speicherbauelements mit Hauptreferenzzellen und Arrayreferenzzellen zeigt.
  • 5A zeigt ein Flussdiagramm, das sich auf das Auffrischen einer gelöschten Arrayreferenzzelle bezieht.
  • 5B ist ein Flussdiagramm, das sich auf das Auffrischen einer programmierten Arrayreferenzzelle bezieht.
  • 6 zeigt eine schematische Zeichnung einer Arrayreferenzzelle und einer Speicherzelle.
  • 7 ist eine schematische Zeichnung einer NROM-Speicherzelle.
  • 8A bis 8D zeigen verschiedene Zustände einer Zwei-Bit-NROM-Zelle.
  • 9 zeigt ein Diagramm, das die Verbindung zwischen der Spannung VG und dem Strom ID für verschiedene Zustände der Speicherzelle veranschaulicht.
  • 10A bis 10D zeigen verschiedene Zustände einer Speicherzelle bei Berücksichtigung des Zweiten-Bit-Effekts.
  • 11 ist eine graphische Darstellung, die eine zeitliche Schwankung einer Schwellenspannung VTH jeder Speicherzelle darstellt, die sich aus einer Überlöschungsoperation und einer Soft-Programmierungs- und Bestätigungsoperation, für eine Zelle ausgeführt, ergibt.
  • 12 ist ein Flussdiagramm, das die zyklische Beanspruchung von Referenzzellen betrifft.
  • 13 ist ein Flussdiagramm, das einen Blocklöschbefehl darstellt.
  • 14 ist eine graphische Darstellung, die eine zeitliche Schwankung der Schwellenspannung einer gelöschten Referenzzelle, einer programmierten Referenzzelle und einer Speicherzelle darstellt.
  • 15 ist ein Flussdiagramm, das einen Wortprogrammbefehl betrifft.
  • 16 ist ein Flussdiagramm, das eine alternative Implementierung eines Wortprogrammbefehls betrifft.
  • 17, 18 und 19 sind Diagramme, die die Notwendigkeit von scharfen Referenzspannungen zeigen.
  • Die vorliegende Erfindung und Ausführungsformen werden spezifischer unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben. In den Figuren sind identische oder ähnliche Komponenten mit identischen Zahlen bezeichnet, und ihre Beschreibung wird nicht wiederholt.
  • Nichtflüchtige Halbleiterspeicherbauelemente, die elektrisch wiederbeschrieben und gelöscht werden können, werden wie oben erwähnt als EEPROMs und NROMs bezeichnet.
  • 1 ist ein Blockdiagramm, das eine Konfiguration eines Flashspeicherbauelements zeigt, das NROM-Speicherzellen zum Speichern von Daten verwendet. Das Speicherbauelement 1 umfasst einen Speicherbereich 2 und einen Schaltungsbereich 3. Der Speicherbereich 2 umfasst ein Speicherarray 5 mit mehreren Speicherzellen 4. Die Speicherzellen sind in Spalten und Zeilen angeordnet und stellen deshalb eine Matrix dar. Jede der Speicherzellen 4 kann mit Hilfe eines Spaltendecodierers 8 und eines Zeilendecodierers 9 gewählt werden. Beide Decodierer sind mit einem Adressbus 10 verbunden, der auch mit einer Steuereinheit 11 des Schaltungsbereichs 3 verbunden ist. Die Steuereinheit 11 ist mit einer E/A-Schnittstelle 15 zum Empfangen und Senden von Daten von einer externen Einrichtung verbunden. Beispielsweise greift die Steuereinheit 11 zum Lesen von in dem Speicherbauelement gespeicherten Daten auf das Speicherarray 5 zu, indem es eine Adresse an den Spaltendecodierer 8 und den Zeilendecodierer 9 schickt. Der Spaltendecodierer 8 extrahiert Informationen dahingehend, welche der Bitleitungen des Speicherarrays 5 gewählt werden sollen. Der Zeilendecodierer 9 wählt eine Wortleitung entsprechend der von der Steuereinheit 11 übertragenen Adresse. Daten werden zwischen der Steuereinheit 11 und dem Speicherarray 5 über einen Datenbus 19 übertragen. Zum Lesen und Schreiben von Daten umfasst die Steuereinheit 11 Schreib- und Leseschaltungen 18, um Operationen an dem Speicherarray 5 aus zuführen.
  • Zum Lesen einer Speicherzelle 4 ist es erforderlich, einen durch diese Zelle fließenden Strom mit einem durch eine Referenzzelle fließenden Strom zu vergleichen. Dies geschieht durch Leseverstärker 12 und 13. Der Leseverstärker 12 ist ein Speicherzellenleseverstärker, der an die Bitleitungen der Speicherzelle 4 angeschlossen ist.
  • Gemäß der Erfindung werden Arrayreferenzzellen 6 vorgesehen, die an die gleichen Wortleitungen angeschlossen sind wie die Speicherzellen 4. Bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist eine Menge von mindestens zwei Referenzzellen 6 für jede der Wortleitungen vorgesehen. Während des Betriebs des Speicherbauelements 1 wird eine der Referenzzellen 6 so konfiguriert, dass sie einen Schwellwert entsprechend einem gelöschten Zustand einer Speicherzelle 4 aufweist, und mindestens eine andere Referenzzelle 6 wird so konfiguriert, dass sie eine Schwellenspannung entsprechend einem programmierten Zustand einer Speicherzelle 4 aufweist. Dritte Haupt- und Arrayreferenzzellen können vorgesehen sein und so konfiguriert werden, dass sie eine Schwellenspannung aufweisen, die einem überlöschten Zustand einer Speicherzelle 4 entspricht. Ergänzende Arrayreferenzzellen können hinzugefügt werden, wie etwa eine Statuszelle zum Anzeigen, ob alle Speicherzellen 4 einer spezifizierten Gruppe von Speicherzellen 4 gelöscht sind.
  • Der Speicherzellenleseverstärker 12 ist vorgesehen zum Messen eines Stroms durch die Speicherzellen 4 des Speicherarrays 5. Ein Arrayreferenzleseverstärker 13 ist vorgesehen zum Messen eines Stroms durch die Arrayreferenzzellen 6. Ein Arrayauswertungsmittel 14 ist an den Speicherzellenleseverstärker 12 und an den Arrayreferenzleseverstärker 13 angeschlossen. Durch Vergleichen der von den Leseverstärkern 12 und 13 empfangenen Signale wird ein Ergebnissignal erzeugt, das einen Logikzustand einer gewählten Speicherzelle 4 angibt.
  • Dieser Vorgang zum Lesen des Logikzustands einer Speicherzelle 4 wird immer dann ausgeführt, wenn die gespeicherten Daten beispielsweise von einem Hostsystem angefordert werden, das an die E/A-Schnittstelle 15 angeschlossen ist, oder wenn der Zustand einer Speicherzelle 4 nach einer Lösch- oder einer Programmieroperation bestätigt und deshalb gelesen werden soll.
  • Im Kontext dieser Anmeldung bedeutet "Schreiben" das Setzen des Zustands einer Speicherzelle 4 in einen gelöschten oder einen programmierten Zustand. "Programmieren" bedeutet das Setzen des Zustands auf einen ersten Logikwert und "Löschen" das Setzen des Zustands auf einen zweiten Logikwert.
  • Wie oben erwähnt ist es insbesondere bei stark integrierten Speicherbauelementen erforderlich, einen Referenzwert zu liefern, der sehr präzise ist, um eine scharfe und enge Programmier-/Löschdifferenzierung zu ermöglichen. Dies ist insbesondere dann wichtig, wenn mehr als zwei Zustände detektiert werden sollen, wie dies bei Verwendung von Zwei-Bit-NROM-Zellen der Fall ist.
  • Ein Vorteil der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass die Referenzzellen 6 neben den Speicherzellen 4 angeordnet sind, die gelesen werden sollen. Sie werden auch als normale Speicherzellen behandelt und weisen deshalb zeitlich und während Schreibzyklen das gleiche Verhalten wie Speicherzellen 4 auf und sind den gleichen Temperaturschwankungen ausgesetzt. Außerdem beeinflussen alle anderen Arten von Störungen die Referenzzellen 6 auf die gleiche Weise wie die Speicherzellen 4. Die jeweiligen Referenzzellen 6 sind mit der gleichen Wortleitung wie die zugewiesenen Speicherzellen 4 verbunden. Deshalb aktiviert auch die Wahl einer Speicherzelle 4 durch Aktivieren der Wortleitung die entsprechende Arrayreferenzzelle 6. Dieser Mechanismus stellt sicher, dass der durch eine Speicherzelle 4 fließende und der durch eine Referenzzelle 6 fließende Strom zur gleichen Zeit gemessen werden.
  • Zur Bereitstellung exakter Referenzwerte und gemäß der Erfindung wird vorgeschlagen, eine Menge von Hauptreferenzzellen 7 bereitzustellen, die als Referenz für das Schreiben von Referenzwerten in die Arrayreferenzzellen 6 verwendet werden. Ein Hauptreferenzleseverstärker 16 ist ebenfalls mit dem Arrayauswertungsmittel 14 verbunden. Deshalb können Zellen 4 und 6 des Speicherarrays 5 unter Verwendung der Hauptreferenzen 7 auch gelesen oder bestätigt werden. Im Allgemeinen werden zum Lesen gespeicherter Daten die Arrayreferenzzellen 6 verwendet, da diese Referenzen liefern, die sich auf die gleiche Weise verschlechtern wie die in den Speicherzellen 4 gespeicherten Daten. Dies schützt zusätzlich die Hauptreferenzzellen 7 vor weiterer Beanspruchung, was die Schwellwerte der Referenzzellen 7 verschlechtern könnte. Die Arrayreferenzzellen 6 und die Speicherzellen 4, die dieser Zeile zugewiesen sind, können später über die von den Hauptreferenzzellen 7 bereitgestellten Referenzen aufgefrischt werden. Dadurch werden die betroffenen Zellen 4 und 6 auf optimale Werte gesetzt.
  • Für das Setzen der Arrayreferenzwerte 6 wird der gleiche Mechanismus implementiert wie bereits für das Lesen von Speicherzellen 4 erläutert. Wie oben beschrieben kann ein Strom durch eine Arrayreferenzzelle 6 durch den Arrayreferenzleseverstärker 13 gemessen werden. Ein Strom durch die Hauptreferenzzellen 7 wird von den Haupt referenzleseverstärkern 16 gemessen. Beide Leseverstärker 13 und 16 sind an ein Hauptauswertungsmittel 17 angeschlossen, das die von den Leseverstärkern 13 und 16 gemessenen Werte vergleicht und ein dem Logikzustand einer gemessenen Arrayreferenzzelle 6 entsprechendes Signal ausgibt. Im Gegensatz zu dem Setzen von Speicherzellen 4 unter Verwendung der Arrayreferenzzellen 6 sind die Hauptreferenzzellen 7 und die Arrayreferenzzellen 6 nicht mit der gleichen Wortleitung verbunden. Die Hauptreferenzzellen 7 werden von einem zusätzlichen Steuersignal gesteuert.
  • Sowohl das Arrayauswertungsmittel 14 als auch das Hauptauswertungsmittel 17 sind mit der Steuereinheit 11 verbunden. Zum Setzen einer Arrayreferenzzelle 6 in einen vorgegebenen Zustand wird der tatsächliche Zustand von den Leseverstärkern 13 und 16 und dem Hauptauswertungsmittel 17 detektiert. Der Zustand wird an die Schreibschaltung 18 der Steuereinheit 11 übermittelt, und gegebenenfalls wird eine Schreiboperation ausgeführt. Nach dem Schreiben von Daten in die Arrayreferenzzelle 6 wird eine Leseoperation ausgeführt, um zu bestätigen, ob die Schreiboperation ausreichte, um den erforderlichen Zustand zu erreichen.
  • Bei der Ausführungsform nach 1 werden zwei Leseverstärker 12 und 13 bereitgestellt, um den Zustand einer Speicherzelle 4 oder einer Arrayreferenzzelle 6 auszuwerten. Beide Leseverstärker 12 und 13 sind mit einem Auswertungsmittel 14 zum Erzeugen eines dem detektierten Logikzustand entsprechenden Signals verbunden. Es stehen andere Arten von Leseverstärkern zu Verfügung, die die gemessenen Ströme durch die Speicherzelle 4 bzw. die Arrayreferenzzelle 6 direkt vergleichen und ein entsprechendes Ausgangssignal erzeugen. Die Erfindung kann unabhängig von den verwendeten Leseverstärkern angewendet werden, so dass alle Arten von Leseverstärkern verwendet werden können.
  • 2 ist ein Flussdiagramm, das den Prozess der Herstellung eines nichtflüchtigen Speicherbauelements 1 gemäß der vorliegenden Erfindung beschreibt. Im Schritt 31 wird ein nichtflüchtiges Speicherbauelement 1 bereitgestellt, das mehrere, in einem Speicherarray 5 angeordnete Speicherzellen 4 umfasst, mindestens zwei Arrayreferenzzellen 6, die programmiert werden können, so dass sie eine Schwellenspannung aufweisen, die einem gelöschten Zustand bzw. einem programmierten Zustand entsprechen, mindestens zwei Hauptreferenzzellen 7, die programmiert werden können, um eine Schwellenspannung aufzuweisen, die einem gelöschten Zustand bzw. einem programmierten Zustand entspricht. Ein derartiges Speicherbauelement entspricht dem einen, das in 1 als ein mögliches Beispiel beschrieben wird.
  • Im Schritt 32 wird eine gelöschte Hauptreferenzzelle 7 auf eine Schwellenspannung gesetzt, die einem gelöschten Zustand einer Speicherzelle 4 entspricht. Im Fall einer NROM-Zelle erfolgt dies durch die oben beschriebenen Mechanismen. Genauer gesagt erfolgt dies durch Löschen der jeweiligen Hauptspeicherzelle 7 und danach Bestätigen, ob die Schwellenspannung die von dem Hersteller definierten Anforderungen erfüllt.
  • Im Schritt 33 geschieht das Gleiche für eine andere Hauptreferenzzelle 7, die später als Referenz für das Programmieren oder Lesen von Arrayreferenzzellen 6 oder Speicherzellen 4 verwendet wird.
  • In einem weiteren Schritt 34 wird das Speicherbauelement beispielsweise an einen Kunden verschickt. Das Schreiben von Referenzwerten in die Hauptreferenzzellen 7 kann am besten während der Wafersortierung erfolgen. Es ist aber auch möglich, die Hauptreferenz zellen 7 auf die vordefinierten Schwellenspannungen zu setzen, wenn das nichtflüchtige Halbleiterspeicherbauelement getestet wird, wie in 3 dargestellt.
  • Gemäß dem Diagramm von 3 wird ein Testprogramm nach dem Setzen der Hauptreferenzzellen 7 ausgeführt. Das Testprogramm enthält Lösch- und Programmieroperationen, die für die Hauptreferenzzellen 7 durchgeführt werden.
  • Nach dem Abschließen des Testprogramms werden die Hauptreferenzzellen nicht länger zyklisch beansprucht. Dies bedeutet, dass an den Hauptreferenzzellen 7 keine Schreiboperationen ausgeführt werden. Sie werden nur in Leseoperationen verwendet, dies beschleunigt aber den Verschlechterungsprozess der Hauptreferenzzellen 7 nicht wesentlich. Deshalb liefern die Hauptreferenzzellen 7 während der ganzen Lebenszeit eines nichtflüchtigen Speicherbauelements 1 eine präzise Referenz.
  • Wenn ein nichtflüchtiges Speicherbauelement 1 gemäß der Erfindung betrieben wird, müssen die Arrayreferenzzellen 6 auf entsprechende Schwellwerte gesetzt werden, damit sie als Referenzen für das Programmieren und Lesen von Speicherzellen 4 des Speicherarrays 5 dienen, wie in 4 gezeigt. Im Schritt 31 wird ein nichtflüchtiges Speicherbauelement 1 mit Hauptreferenzzellen 7 versehen, die vor dem Verschicken auf die Referenzwerte gesetzt werden. In den Schritten 41 und 42 werden Arrayreferenzzellen 6 auf einen programmierten bzw. einen gelöschten Zustand für das spätere Lesen oder Programmieren von Speicherzellen 4 des Speicherarrays 5 gesetzt (Schritt 43).
  • Die Arrayreferenzzellen 6 zur Bereitstellung einer Löschreferenz werden auf einen Gelöscht-Schwellwert gesetzt, indem zuerst die Zellen gelöscht werden und danach bestätigt wird, ob die Schwellwerte die für eine gelöschte Zelle definierten Anforderungen erfüllen. Für diesen Schritt wird die gelöschte Hauptreferenzzelle 7 als Referenz verwendet (Schritt 41).
  • Im Schritt 42 erfolgt das Gleiche für andere Arrayreferenzzellen 6, die unter Verwendung der programmierten Hauptreferenzzelle 7 als Referenz auf einen programmierten Zustand gesetzt werden.
  • Nach Durchführung dieser Schritte können im Schritt 43 die Speicherzellen 4 gelesen oder geschrieben werden. Für das Lesen von Speicherzellen 4 kann der tatsächliche Zellenstrom mit mehreren Referenzströmen verglichen werden, um herauszufinden, in welchem Zustand sich eine Speicherzelle 4 befindet. Es ist außerdem möglich, aus dem Strom der gelöschten Arrayreferenzzelle 6 und dem Strom der programmierten Arrayreferenzzelle 6 einen Vergleichsstrom zu erzeugen und den tatsächlichen Zellenstrom mit dem Vergleichsstrom zu vergleichen.
  • Das Verhalten von Speicherzellen 4 und 6 ändert sich im Lauf der Zeit und nach vielen Lesezyklen. Das erste Kriterium bedeutet, dass die Speicherzellen 4 und 6 nach einer langen Zeit Ladung verlieren. Bezeichnet wird dies als „Erhaltung nach dem periodischen Durchlaufen von Lesevorgängen (RAC – Retention after Cycling)". Die Änderung des Verhaltens nach vielen Schreibzyklen wird als die Beanspruchungsdauer bezeichnet. Wie oben beschrieben, ist es ein Vorteil der Erfindung, dass die Arrayreferenzzellen 6, die zum Lesen der Speicherzellen 4 verwendet werden, der gleichen Beanspruchung wie die Speicherzellen 4 selbst unterworfen sind. Um gute Lese- oder Schreibergebnisse zu erzielen, ist es jedoch erforderlich, die Referenzzellen 6 zyklisch zu belasten. Dies geschieht durch Schreiben von Referenzzellen 6 und Lesen von Referenzzellen 6, wie dies auch mit normalen Speicherzellen 4 geschieht. Es ist ein Aspekt der Erfindung, ein Verfahren bereitzustellen, das sicherstellt, dass eine Auffrischung der Referenzzellen 6 auf einer regelmäßigen Basis erfolgt.
  • Gemäß dem in dem in 5A gezeigten Flussdiagramm kann das Auffrischen von gelöschten Arrayreferenzzellen 6 an den Aufruf von vordefinierten Benutzerbefehlen gekoppelt werden. In einem ersten Schritt 51 wird ein Benutzerbefehl erhalten. In einem Speicherbauelement 1 geschieht dies durch eine Steuereinheit, wie in 1 gezeigt. Bei einem weiteren Schritt 52 wird geprüft, ob der erhaltene Befehl einer von vordefinierten speziellen Befehlen ist. Wenn dies der Fall ist, werden die gelöschten Arrayreferenzzellen 6 aufgefrischt, und danach wird der Benutzerbefehl in einem Schritt 54 ausgeführt. Wenn in Schritt 52 detektiert wurde, dass der erhaltene Befehl kein spezieller Benutzerbefehl ist, wird der Befehl in Schritt 54 direkt ausgeführt. Nach den jeweiligen Operationen fährt das Verfahren mit Schritt 51 fort, der darin besteht, auf einen neuen Benutzerbefehl zu warten.
  • 5B ist ein Flussdiagramm, das sich auf eine modifizierte Vorgehensweise zum Auffrischen von programmierten Arrayreferenzzellen bezieht. In Schritt 51 wird ein Benutzerbefehl erhalten. Im Schritt 55 wird getestet, ob die tatsächliche Schwellenspannung der programmierten Referenzzelle 6 bezüglich der Hauptprogrammreferenzspannung niedrig ist. Wenn dies der Fall ist, werden die programmierten Referenzzellen 6 des Arrays zuerst aufgefrischt. Falls nicht, wird der Benutzerbefehl direkt ausgeführt.
  • 6 ist ein Schemadiagramm eines beispielhaften Schaltplans, der eine Hauptarrayreferenzzelle 6 mit zugewiesenem Leseverstärker 13 und auch eine Speicher zelle 4 des Speicherarrays 5 mit einem zugewiesenen Leseverstärker 12 zeigt. Die Arrayreferenzzelle 6 und die Speicherzelle 4 sind der gleichen Wortleitung 61 zugewiesen. Deshalb wird durch die Wahl der Speicherzelle 4 auch die Arrayreferenzzelle 6 gewählt. Unter Verwendung der Wortleitung 61 werden die Gateelektroden der Transistoren 6 und 4 vorgespannt. Für die Wahl der Speicherzellen 6 und 4, die von den gezeigten Transistoren gebildet werden, müssen auch die jeweiligen Bitleitungen 75 und 77 gewählt werden. Dies geschieht durch Decodierer 63, die die Spaltendecodierer sind. Wenn alle Schalttransistoren des Decodierers 63 geschlossen sind, entspricht die Spannung an einem Knoten 67 der Drainelektrode des Transistors der Arrayreferenzzelle 6, und die Spannung am Knoten 69 der an der Drainelektrode des Transistors 4 angelegten Spannung.
  • Nach dem Schließen der Schalttransistoren des Decodierers 63 beginnt ein Strom ICELL-REF vom Knoten 67 über die Drainelektrode und Sourceelektrode des Transistors 6 zum Masseknoten GND zu fließen. Der Strom ICELL-REF hängt von der Leitfähigkeit des Kanals von der Drainelektrode zur Sourceelektrode des Transistors 6 ab. Die Leitfähigkeit hängt von der Ladung ab, die sich auf der Nitridschicht der Speicherzelle 6 befindet, die bei dieser Ausführungsform der Erfindung eine NROM-Zelle ist. Der Strom hängt mit anderen Worten vom Zustand der Speicherzelle 6 ab, wenn die Spannung am Knoten 67 konstant ist. Dazu ist ein Steuerverstärker 62 vorgesehen, der an einem Eingang die Spannung am Knoten 67 erhält. Der Steuerverstärker 62 steuert einen weiteren Transistor 73, der zwischen den Knoten 67 und einen Knoten 68 geschaltet ist. Der Knoten 68 ist auch mit einem Eingang eines Vergleichers 65 und einer Stromquelle 71 verbunden, die auf einen Referenzstrom IREF eingestellt wird. Über den Steuerverstärker 62 wird sichergestellt, dass die Spannung am Knoten 67 unabhängig von dem Zellenstrom ICELL-REF konstant gehalten wird. Andere Ausführungsformen eines Leseverstärkers sind möglich und unterliegen dem durchschnittlichen Geschick einer Person, die mit jeder Art von Speicherbauelementen vertraut ist.
  • Die Spannung am Knoten 68 hängt von dem Strom ICELL-REF und dem Referenzstrom IREF ab. Wenn der Strom ICELL-REF höher ist als der Strom IREF, gibt der Vergleicher 65 ein H-Signal aus, ansonsten gibt er ein L-Signal aus. Jeder der Vergleicher 65 und 66 weist einen zweiten Eingang auf, an dem eine Referenzspannung V_REF angelegt wird. Die Spannung V_REF wird als Vergleichsspannung für die Spannungen an Knoten 68 bzw. 70 verwendet. Sie ist gemäß der Dynamik des Knotens 68 und 70 entsprechend bemessen.
  • Wenn die Speicherzelle 4, die als ein Beispiel für mehrere Speicherzellen 4 gezeigt ist, durch Anlegen einer entsprechenden Gatespannung an die Speicherzelle 4 gelesen wird, steigt der Zellenstrom I CELL auf Grund einer erhöhten Leitfähigkeit der Speicherzelle 4 an. Dies geschieht unter der Vorbedingung, dass die Drain-Source-Spannung, die die Spannung am Knoten 69 ist, konstant gehalten wird. Dies geschieht durch Erfassen der Spannung am Knoten 69 und Steuern der Gatespannung des Transistors 74, um seine Leitfähigkeit zu erhöhen. Da die Stromquelle 72 unverändert bleibt, nimmt die Spannung am Knoten 70 ab. Wenn die an die Speicherzelle 4 angelegte Gatespannung hoch genug ist, wird der Zellenstrom I_CELL größer als ein Schwellwert, die Spannung am Knoten 70 fällt unter die Spannung V_REF ab und der Vergleicher 66 kippt.
  • Die gleiche Vorgehensweise läuft für die Referenzzelle 6 ab, die in 6 mit der gleichen Wortleitung 61 verbunden ist. Unter der Annahme, dass die Gatespannungen der Speicherzelle 4 und der Referenzzelle 6 variiert werden, d.h. linear erhöht werden, kippen sowohl der Referenzzellenvergleicher 65 als auch der Speicherzellenvergleicher 66, aber zu unterschiedlichen Zeiten. Die Information, welcher Vergleicher zuerst kippt, zeigt den Zustand der Speicherzelle 4 an.
  • Die Schaltung der Speicherzelle 4 und des zugewiesenen Leseverstärkers 12 arbeitet auf die gleiche Weise. Aus diesem Teil der Schaltungsanordnung werden Informationen über den Zustand der Speicherzelle 4 erhalten.
  • Die Speicherzellen sind wie oben erwähnt in einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung NROM-Zellen (Nitridfestwertspeicher). Ein prinzipieller Aufbau einer NROM-Zelle ist in 7 gezeigt. Ein prinzipielles Verständnis eines solchen Bauelements ist nützlich für das Verständnis einiger Aspekte der Erfindung, die unten beschrieben sind. In 7 ist ein Querschnitt durch eine herkömmliche Oxid-Nitrid-Oxid-EEPROM-Speicherzelle dargestellt. Die allgemein als 4 bezeichnete Speicherzelle umfasst ein Silizium 81 vom p-Typ, zwei pn-Übergänge zwischen n+-Source- und -Draingebieten 82 und 83 und ein Substrat 81 vom p-Typ, eine zwischen zwei Oxidschichten 87 und 88 geschichtete nichtleitende Nitridschicht 86 und eine polykristalline leitende Schicht 89.
  • Zum Programmieren der Zelle werden Spannungen an die Drainelektrode 83 und an die Gateelektrode 85 angelegt, während die Sourceelektrode 82 mit Masse verbunden ist. Beispielsweise werden 10 V an die Gateelektrode und 9 V an die Drainelektrode angelegt. Diese Spannungen erzeugen ein vertikales und seitliches elektrisches Feld 84 entlang einer Länge des Kanals von der Sourceelektrode 82 zur Drainelektrode 83. Dieses elektrische Feld bewirkt, dass Elektronen von der Sourceelektrode 82 abgezogen werden und sich in Richtung auf die Drainelektrode 83 zu beschleunigen beginnen. Während sie sich entlang der Länge des Kanals bewegen, gewinnen sie Energie. Wenn die ausreichend Energie gewinnen, sind sie in der Lage, über die Potentialbarriere der Oxidschicht 88 in die Siliziumnitridschicht 86 zu springen und gefangen zu werden. Die Wahrscheinlichkeit, dass dies eintritt, ist am höchsten in dem Gebiet der Gateelektrode neben der Drainelektrode 83, definiert durch einen gestrichelten Kreis 90a, weil nämlich die Elektronen die meiste Energie in der Nähe der Drainelektrode 83 gewinnen. Diese beschleunigten Elektronen werden als heiße Elektronen bezeichnet, und nach ihrer Injektion in die Nitridschicht werden sie gefangen und bleiben dort gespeichert. Die gefangenen Elektronen können sich wegen der geringen Leitfähigkeit der Nitridschicht 86 und des schwachen seitlichen elektrischen Felds in dem Nitrid nicht durch die Nitridschicht ausbreiten. Somit bleibt die gefangene Ladung in einem lokalisierten Fanggebiet 90a in dem Nitrid, in der Regel in der Nähe der Drainelektrode 83 gelegen.
  • Analog wird das linke Bit programmiert, indem Programmierspannungen an die Gateelektrode 85 und die Sourceelektrode 82 angelegt werden, die nun als die Drainelektrode für das linke Bit fungiert. Heiße Elektronen werden in die Ladungen fangende Schicht 86 in dem durch den gestrichelten Kreis 90b definierten Gebiet injiziert und dort gefangen. Die Schwellenspannung des Abschnitts des Kanals unter der gefangenen Ladung umfassend das linke Bit nimmt zu, wenn mehr und mehr Elektronen in die Nitridschicht injiziert werden.
  • Eine ausführlichere Beschreibung dessen, wie eine NROM-Zelle arbeitet, findet man in US 6,011,725 . Das Prinzip dessen, wie mehr als ein Bit in eine Ein-Transistor-Zelle programmiert werden kann, ist in US 2002/0118566 beschrieben.
  • Zusammenfassend sind in den 8A bis 8D die verschiedenen möglichen Zustände dargestellt. Es ist möglich, zwischen einem linken Bit und einem rechten Bit zu unterscheiden, wie auch in 7 veranschaulicht, wo der Aufbau der Speicherzelle gezeigt ist. In 8A befinden sich beide Bits der Speicherzelle in einem L-Zustand. In 8B befindet sich das rechte Bit in einem H-Zustand und das linke Bit in einem L-Zustand. In 8C ist eine Situation gezeigt, bei der sich das linke Bit in einem H-Zustand und die rechte Seite sich in einem L-Zustand befindet. Gemäß 8D befinden sich beide Bits in einem H-Zustand.
  • Beim Messen des Stroms durch die Zelle bei einer bestimmten Gatespannung VG und in Abhängigkeit von der tatsächlichen Schwellenspannung können verschiedene Ströme ID gemessen werden, wie in 9 gezeigt. Beispielsweise können bei einer Gatespannung von 2 V vier verschiedene Ströme gemessen werden. Es kann deshalb detektiert werden, zu welchem Zustand der gemessene Strom gehört.
  • Das Programmieren der Nachbarbits beeinflusst auch die Schwellenspannung des anderen Bit, die beispielsweise auf einem niedrigen Pegel gehalten werden sollte.
  • Dieser Effekt erscheint, da das zweite Bit nicht nur die Leseoperationen beeinflusst, sondern auch die Bestätigungsoperationen, die während des Schreibens auftreten, zum Beispiel Löschen oder Programmieren des Arrays. Eine Bestätigungsoperation ist eine Leseoperation, die während Schreiboperationen ausgeführt wird, und eine Notwendigkeit für einen Programmier- oder Löschimpuls bewertet, um die beabsichtigten Daten ordnungsgemäß zu schreiben. Das zweite Bit beeinflusst das Bestätigungsergebnis und deshalb das Programmierverhalten der Zelle. Angesichts dieses Effekts werden die in den 8A bis 8D gezeigten Zustände erweitert, wie in 10A bis 10D gezeigt.
  • Bei einem zukünftigen Szenarium, bei dem mehr als zwei Bits in einer Speicherzelle gespeichert werden, wird die Situation schwieriger, da weitere Zustände gemäß unterschiedlicheren Schwellenspannungen detektiert werden müssen.
  • Um beim Verständnis zusätzlicher Aspekte der Erfindung behilflich zu sein, wird auch erläutert, was ein überlöschter Zustand einer Speicherzelle ist. Unter Bezugnahme auf 11, die Schwellenspannungen von mehreren Referenz- oder Speicherzellen 6 oder 4 zeigt, kann man sehen, dass eine Schwellenspannung einer Speicherzelle einen programmierten Pegel VTH(PROGRAM) und einen gelöschten Pegel VTH(ERASE) umfasst. Für einen programmierten Zustand einer Speicherzelle wird die Schwellenspannung VTH auf einen über dem programmierten Pegel liegenden Pegel gebracht. Für einen gelöschten Zustand wird die Schwellenspannung auf einen geringfügig über dem gelöschten Pegel liegenden Pegel reduziert. Beim Übergang vom programmierten Zustand in den gelöschten Zustand könnte es passieren, dass die Schwellenspannung unter den gelöschten Pegel VTH(EARASE) abfällt. Dieser Zustand wird als ein „überlöschter Zustand" bezeichnet. Ein Grund für das Auftreten des überlöschten Zustands besteht darin, dass mehrere Speicherzellen gemeinsam gelöscht werden, aber das Verhalten dieser Zellen verschieden ist. Während eine Zelle den gelöschten Zustand erreicht, ist eine andere Zelle bereits übergelöscht. Ein weiterer beispielhafter Grund ist eine zu einer Nachbarzelle geleitete Löschoperation, was zu einem Ladungsverlust führt. Eine Softprogrammoperation, auch als Auffrischoperation bezeichnet, für jede Zelle ausgeführt, die sich in dem übergelöschten Zustand befindet, stellt sicher, dass die Schwellenspannung aller Zellen auf den gelöschten Zustand eingestellt wird. Dies ändert nicht den Logikzustand der Zelle 4, doch wird die tatsächliche Schwellenspannung auf einen ordnungsgemäßen Wert gemäß der Schwellenspannung der gelöschten Referenzzelle 6 eingestellt.
  • Mit den 12 bis 15 wird beschrieben, wie sichergestellt werden kann, dass die Arrayreferenzzellen 6 der gleichen Beanspruchung unterworfen sind wie die Speicherzellen 4. Dies kann erreicht werden, wenn nach jeder Lösch- oder Programmdatenoperation auch die Referenzzellen 6 zyklisch beansprucht werden, was bedeutet, dass sie gelöscht oder programmiert werden. In Schritt 51 von 12 wird ein Benutzerbefehl erhalten. Wenn es ein Lesebefehl ist, werden in Schritt 91 Lesedatenoperationen durchgeführt. Wenn es ein Löschbefehl ist, werden die Operationen gemäß Schritt 92 ausgeführt. Nach dem Ausführen der Operationen von Schritt 92 werden mindestens einige der Arrayreferenzzellen im Schritt 94 zyklisch beansprucht. Das Gleiche geschieht, wenn ein Programmbefehl erhalten wird. In diesem Fall werden Operationen gemäß Schritt 93 ausgeführt und danach werden zumindest einige der Referenzzellen im Schritt 94 zyklisch beansprucht. Alternativ kann das zyklische Beanspruchen von Referenzzellen gemäß Schritt 94 gleichzeitig mit dem Löschen oder Programmieren von Speicherzellen 4 durchgeführt werden, wie durch den gestrichelten Pfeil angezeigt. Die Arrayreferenzzellen 6 werden nicht zum Löschen oder Programmieren verwendet. Bestätigungsoperationen, die erforderlich sind, wenn Speicherzellen 4 gelöscht oder programmiert werden, werden unter Verwendung der Hauptreferenzzellen 7 als Referenzen durchgeführt.
  • In 13 wird dargestellt, wie ein Blocklöschbefehl arbeitet. Zunächst werden alle gelöschten Arrayreferenzzellen 6 im Schritt 101 programmiert, eine Schwellenspannung gemäß der gelöschten Hauptreferenzzelle 7 aufzuweisen. In einem folgenden Schritt 102 werden die Speicherzellen 4 unter Verwendung der gelöschten Arrayreferenzzellen 6 als Referenz gelöscht.
  • In einem Schritt 103 werden die gelöschten Arrayreferenzzellen 6 für spätere Leseoperationen vorbereitet. Dann werden auch die programmierten Arrayreferenzzellen 6 im Schritt 104 für spätere Leseoperationen vorbereitet.
  • Bei einer alternativen Implementierung eines Blocklöschbefehls werden die Schritte 103 und 104 nicht anschließend nach dem Löschen der Speicherzellen 4 im Schritt 102 ausgeführt. Die alternative Ausführungsform wird realisiert, wenn eine Statuszelle oder ein Statusbit dazu verwendet wird anzuzeigen, dass alle Speicherzellen einer vordefinierten Gruppe gelöscht sind. Eine derartige Gruppe kann von allen Speicherzellen 4 und Referenzzellen 6 gebildet werden, die mit der gleichen Wortleitung 61 verbunden sind. Wenn ein Blocklöschbefehl gestartet wird, werden alle diese Zellen gelöscht, auch die Referenzzellen 6 und die Statuszelle. Vor dem Lesen von Daten müssen die Referenzzellen 6 auf entsprechende Werte gesetzt sein, d.h. auf einem gelöschten und einem programmierten Zustand, wenn die jeweiligen Zellen vorgesehen sind. Die „gelöschte Arrayreferenzzelle" 6 muss gemäß Schritt 103 auf einen „schlechten" Referenzwert gesetzt sein, und die „programmierte Arrayreferenzzelle" muss gemäß Schritt 104 programmiert werden. Dies kann auch vor dem Programmieren des ersten Bit nach einem Blocklöschbefehl geschehen, wie unten unter Bezugnahme auf 15 und 16 beschrieben.
  • 14 hilft zu erläutern, wie dies im Einzelnen funktioniert. 15 ist ein Zeitdiagramm, das die Schwellenspannungen der gelöschten Arrayreferenzzelle 6, der programmierten Arrayreferenzzelle 6 und einer Speicherzelle 4 zeigt.
  • Zum Zeitpunkt T1 startet Schritt 101 und gelöschte Referenzzellen 6 werden bis zu der Hauptprogrammreferenzschwellenspannung MPV vorprogrammiert. Zum Zeitpunkt T2 werden die gelöschten Arrayreferenzzellen 6 gelöscht, bis sie die Hauptlöschreferenzschwellenspannung MEV erreichen.
  • Zum Zeitpunkt T3 startet Schritt 102. Zuerst werden die Speicherzellen 4 auf eine höhere Schwellenspannung vorprogrammiert, und dann, im Moment T4, werden die Speicherzellen 4 auf die durch die gelöschten Hauptreferenzzellen 7 definierte gelöschte Hauptreferenzschwellenspannung MEV gelöscht.
  • Zum Zeitpunkt T5 startet Schritt 103 mit dem Vorbereiten der gelöschten Arrayreferenzzellen 6 für das Lesen von Daten. Dies bedeutet, dass eine gelöschte Worst-Case-Referenz einschließlich dem zweiten-Bit-Effekt erzeugt wird. Durch diese Operation steigt die Schwellenspannung der gelöschten Arrayreferenzzellen 6 an.
  • Zum Zeitpunkt T6 startet Schritt 104 mit dem Vorbereiten der programmierten Arrayreferenzzellen 6 für das Lesen von Daten. Dies geschieht durch Erhöhen der Schwellenspannung auf eine Hauptprogrammreferenzschwellenspannung MPV. Nach einiger Zeit nimmt die Schwellenspannung ab, und deshalb wird eine Auffrischung benötigt. Die Auffrischung ist erforderlich, weil beispielsweise für andere Zellen durchgeführte Blocklöschoperationen oder Programmoperationen sich auf benachbarte Zellen auswirken, was zu einem Ladungsverlust führt. Außerdem werden die Referenzzellen 6 beeinflusst. Das Auffrischen der programmierten Arrayreferenzzellen 6 stellt sicher, dass der Ladungsverlust kompensiert wird.
  • Wie oben angedeutet, ist das Verfahren, wie es unter Bezugnahme auf die 13 und 14 beschrieben wird, ein Beispiel. Aus Zuverlässigkeitsgründen ist es besser, die Arrayreferenzzellen 6 vorzubereiten, wenn Daten in die Speicherzellen 4 programmiert werden.
  • 15 zeigt ein weiteres Flussdiagramm für einen Wortprogrammbefehl. Vor dem Schreiben von Daten wird das linke Bit der programmierten Arrayreferenzzelle bei Schritt 110 eingelesen. Wie dies gemäß der Konvention bei der vorliegenden Ausführungsform der Erfindung geschieht, wird üblicherweise das rechte Bit der Referenzzellen zum Speichern des Referenzwerts verwendet. Der Zustand des linken Bits gibt die Information an, ob zuvor Bits auf dieser Wortleitung programmiert wurden. Wenn das linke Bit eine logische „1" ist, wie in Schritt 111 geprüft, bedeutet dies, dass auf dieser Wortleitung 61 zuvor kein Bit programmiert wurde. Deshalb sollte in Schritt 112 eine Auffrischoperation des rechten Bit unter Verwendung der programmierten Hauptreferenz 7 ausgeführt werden. Eine Auffrischung, auch als Soft-Programmierung bezeichnet, bedeutet, dass die Schwellenspannung bestätigt wird und gegebenenfalls auf einen neuen Pegel gesetzt wird, während der Logikzustand der Zelle der gleiche bleibt. Dies unterscheidet sich von einer Programmieroperation, die den Logikzustand von gelöscht zu programmiert ändert, oder der Löschoperation, die den Logikzustand einer Zelle von programmiert zu gelöscht ändert.
  • Nach dem Auffrischen des rechten Bit erfolgt in Schritt 113 eine Programmierung des linken Bit. Da das linke Bit nun programmiert ist, ist zu erkennen, dass ein Bit auf dieser Wortleitung 61 geschrieben wurde, wenn das nächste Mal ein Wortprogrammbefehl ausgeführt wird.
  • Nach dem Programmieren des linken Bit in Schritt 114 können Daten in die Speicherzellen 4 gemäß der Benutzerdaten geschrieben werden. Bei einem folgenden Schritt 115 wird eine Auffrischung der zuvor programmierten Bits, die möglicherweise Ladung verloren haben könnten, ausgeführt.
  • 16 zeigt ein weiteres Beispiel des Detektierens, ob ein Bit zuvor auf einer Wortleitung 61 programmiert wurde. Bei dem dargestellten Beispiel wird die oben erwähnte Zeilenschutzreferenz zum Speichern der erforderlichen Information verwendet. Wenn alle mit der Wortleitung 61 verbundenen Speicherzellen 4 gelöscht werden, wird auch die Zeilenschutzreferenzzelle gelöscht. Wenn eine logische „1" von der Zeilenschutzzelle gelesen wird, was in Schritt 120 unter Verwendung der Hauptreferenzzellen 7 als Referenz erfolgt, weiß das Arraybewertungsmittel 14 (Schritt 121), dass vor der Programmierung von Daten die programmierte Arrayreferenzzelle 6 programmiert und bestätigt werden muss, wobei die programmierte Hauptreferenzzelle 7 verwendet wird (Schritt 122). Dadurch wird eine programmierte Arrayreferenz 6 bereitgestellt. Um eine „schlechte" gelöschte Arrayreferenz 6 bereitzustellen, d.h., auch verschlechterte Speicherzellen 4 sollten ordnungsgemäß als zu löschend identifiziert werden, wird in Schritt 123 das Nachbarbit, das das linke Bit der gelöschten Arrayreferenzzelle 6 ist, programmiert.
  • Danach können Daten in Schritt 124 programmiert und bestätigt werden, wobei die gelöschten und programmierten Arrayreferenzzellen 6 verwendet werden. In Schritt 125 wird die Zeilenschutzreferenzzelle programmiert, so dass sie anzeigt, dass mindestens ein Bit auf dieser Wortleitung 61 programmiert worden ist. Wahlweise wird in Schritt 126 ein Trimmen der gelöschten Arrayreferenzzelle 6 zum Ändern der rechten Bitladung der gelöschten Arrayreferenzzelle 6 ausgeführt.
  • Weitere Ausführungsformen der Erfindung unterliegen dem Wissen eines Durchschnittsfachmanns auf dem Gebiet. Sie werden deshalb von der Erfindung wie beansprucht abgedeckt.

Claims (27)

  1. Nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement (1), das Folgendes umfasst: einen Speicherbereich (2) und einen Schaltungsbereich (3), wobei der Speicherbereich Folgendes umfasst: – mehrere in einem Speicherarray (5) angeordnete Speicherzellen (4) und – eine Menge von programmierbaren Arrayreferenzzellen (6), die als Referenzen zum Lesen der Speicherzellen (4) vorgesehen sind, wobei der Schaltungsbereich (3) Folgendes umfasst: – eine Menge von Hauptreferenzzellen (7), die als Referenzen zum Feststellen des Zustands von Arrayreferenzzellen (6) oder Speicherzellen (4) vorgesehen sind.
  2. Nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement (1) nach Anspruch 1, wobei die Menge von Hauptreferenzzellen (7) Folgendes umfasst: – eine erste Hauptreferenzzelle (7), die vorgesehen ist, um eine Schwellenspannung aufzuweisen, die einem programmierten Zustand einer Speicherzelle entspricht, – eine zweite Hauptreferenzzelle (7), die vorgesehen ist, um eine Schwellenspannung aufzuweisen, die einem gelöschten Zustand einer Speicherzelle entspricht, und wobei die Menge von programmierbaren Arrayreferenzzellen (6) Folgendes umfasst: – eine erste Arrayreferenzzelle (6), die vorgesehen ist, um eine aufzuweisen, die einem programmierten Zustand einer Speicherzelle entspricht, – eine zweite Arrayreferenzzelle (6), die vorgesehen ist, um eine Schwellenspannung aufzuweisen, die einem gelöschten Zustand einer Speicherzelle entspricht.
  3. Nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement (1) nach Anspruch 1, wobei die Menge von Hauptreferenzzellen (7) Folgendes umfasst – eine erste Hauptreferenzzelle (7), die vorgesehen ist, um eine Schwellenspannung aufzuweisen, die einem programmierten Zustand einer Speicherzelle entspricht, – eine zweite Hauptreferenzzelle (7), die vorgesehen ist, um eine Schwellenspannung aufzuweisen, die einem gelöschten Zustand einer Speicherzelle entspricht, und wobei die Menge von programmierbaren Arrayreferenzzellen (6) Folgendes umfasst: – eine Lesereferenzzelle (6), die vorgesehen ist, um eine Schwellenspannung aufzuweisen, die die Grenze zwischen einem gelöschten Zustand und einem programmierten Zustand einer Speicherzelle (4) definiert und die zum Lesen von Daten aus den Speicherzellen (4) verwendet werden kann.
  4. Nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement (1) nach Anspruch 3, wobei die Menge von Hauptreferenzzellen (7) zusätzlich Folgendes umfasst: – eine Lesereferenzzelle (7), die vorgesehen ist, um eine Schwellenspannung aufzuweisen, die die Grenze zwischen einem gelöschten Zustand und einem programmierten Zustand einer Speicherzelle (4) definiert und die als eine Referenz zum Feststellen des Zustands der Lesereferenzzelle (6) vorgesehen ist, die in der Menge von Arrayreferenzzellen (6) enthalten ist.
  5. Nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement (1) nach einem der Ansprüche 2, 3 oder 4, wobei die Menge von Hauptreferenzzellen (7) zusätzlich eine Referenzzelle (7) umfasst, die vorgesehen ist, um eine Schwellenspannung aufzuweisen, die einem übergelöschten Zustand einer Speicherzelle (4) entspricht.
  6. Nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement (1) nach einem der Ansprüche 2, 3 oder 4, wobei aus den Speicherzellen (4) mehrere Gruppen ausgebildet werden und für jede Gruppe eine Menge von Arrayreferenzzellen (6) vorgesehen ist.
  7. Nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement (1) nach Anspruch 6, wobei in jeder der Menge von programmierbaren Arrayreferenzzellen (6) eine zusätzliche Statuszelle vorgesehen ist, um über einen vordefinierten Logikzustand anzuzeigen, ob alle Zellen (4) einer vordefinierten Gruppe von Speicherzellen (4) einen gelöschten Zustand aufweisen.
  8. Nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement (1) nach Anspruch 1, wobei die Speicherzellen (4) Mehrbit-Speicherzellen sind.
  9. Nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement (1) nach Anspruch 8, wobei jede Speicherzelle (4) aus einem Transistor mit einer elektrische Ladungen fangenden Schicht (86) konfiguriert ist, die in der Lage ist, zwei binäre Informationsbits (90a, 90b) zu speichern.
  10. Nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement (1) nach Anspruch 9, wobei die elektrische Ladungen fangende Schicht (86) der Transistoren (4) aus einem Nitridmaterial besteht.
  11. Nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement (1) nach Anspruch 8, wobei die Arrayreferenzzellen (6) aus einem Transistor mit einer elektrische Ladungen fangenden Schicht (86) konfiguriert ist, die in der Lage ist, zwei binäre Informationsbits (90a, 90b) zu speichern, wobei eines dieser Bits (90a) den Logikzustand der Referenzzelle (6) definiert.
  12. Nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement (1) nach Anspruch 11, wobei das zweite Bit (90b) des Transistors einer gelöschten Arrayreferenzzelle (6) in einen entgegengesetzten Logikzustand gesetzt wird.
  13. Nichtflüchtiges Halbleiterspeicherbauelement (1) nach Anspruch 1, wobei das Speicherbauelement (1) so eingerichtet ist, – dass es in einem Testmodus betrieben wird, bei dem ein Setzen der Hauptreferenzzellen (7) in einem programmierten oder gelöschten Zustand freigegeben ist, – und ein Setzen der Hauptreferenzzellen (7) in einen programmierten oder gelöschten Zustand nach dem Verlassen des Testmodus blockiert wird.
  14. Verfahren zum Betreiben eines nichtflüchtigen Halbleiterspeicherbauelements (1), wobei das Speicherbauelement (1) Folgendes aufweist: einen Speicherbereich (2) und einen Schaltungsbereich (3), wobei der Speicherbereich (2) Folgendes umfasst: – mehrere in einem Speicherarray (5) angeordnete Speicherzellen (4) und – eine Menge von programmierbaren Arrayreferenzzellen (6), die als Referenzen zum Lesen der Speicherzellen (4) vorgesehen sind, wobei der Schaltungsbereich (3) Folgendes umfasst: – eine Menge von vorprogrammierten Hauptreferenzzellen (7), die als Referenzen zum Feststellen des Zustands von Arrayreferenzzellen (6) oder Speicherzellen (4) vorgesehen sind, wobei das Verfahren die folgenden Schritte umfasst: a) Setzen mindestens einer der Arrayreferenzzellen (6) in einen vordefinierten Zustand unter Verwendung mindestens einer der vorprogrammierten Hauptreferenzzellen (7) als Referenz, b) Lesen des Zustands mindestens einer Speicherzelle (4) unter Verwendung der mindestens einen der Arrayreferenzzellen (6) als Referenz, c) Feststellen des Zustands mindestens einer Speicherzelle (4, 6) beim Löschen oder Programmieren der Speicherzelle (4, 6) unter Verwendung mindestens einer der Hauptreferenzzellen (7) als Referenz.
  15. Verfahren nach Anspruch 14, wobei – eine erste Referenzzelle (7) der Menge von Hauptreferenzzellen (7) vorprogrammiert ist, um eine Schwellenspannung aufzuweisen, die einem programmierten Zustand einer Speicherzelle (4, 6) entspricht, – eine zweite Referenzzelle (7) der Menge von Hauptreferenzzellen (7) vorprogrammiert ist, eine Schwellenspannung aufzuweisen, die einem gelöschten Zustand einer Speicherzelle (4, 6) entspricht, und das Verfahren die folgenden Schritte umfasst: a) Setzen einer ersten der Arrayreferenzzellen (6) in einen gelöschten Zustand unter Verwendung der gelöschten Hauptreferenzzelle (7) als Referenz, b) Setzen einer zweiten der Arrayreferenzzellen (6) in einen programmierten Zustand unter Verwendung der programmierten Hauptreferenzzelle (7) als Referenz, c) Lesen mindestens einer der Speicherzellen (4) unter Verwendung der gelöschten und programmierten Referenzzellen (6, 7) zum Erzeugen eines Vergleichswerts für die Leseoperation.
  16. Verfahren nach Anspruch 15, wobei die Schritte a) und b) von Anspruch 15 ausgeführt werden, wenn Daten in die Speicherzellen (4) geschrieben werden.
  17. Verfahren nach Anspruch 14, wobei – eine erste Referenzzelle (7) der Menge von Hauptreferenzzellen (7) vorprogrammiert ist, um eine Schwellenspannung aufzuweisen, die einem programmierten Zustand einer Speicherzelle (4, 6) entspricht, – eine zweite Referenzzelle (7) der Menge von Hauptreferenzzellen (7) vorprogrammiert ist, eine Schwellenspannung aufzuweisen, die einem gelöschten Zustand einer Speicherzelle (4, 6) entspricht, und – die Menge von Arrayreferenzzellen (6) eine Lesereferenzzelle (6) umfasst, wobei das Verfahren die folgenden Schritte umfasst: – Erzeugen eines Vergleichswerts unter Verwendung der gelöschten und programmierten Hauptreferenzzelle (7), – Setzen der Lesereferenzzelle (6) auf eine Schwellenspannung, die die Grenze zwischen einem gelöschten Zustand und einem programmierten Zustand einer Speicherzelle (4, 6) unter Verwendung des Vergleichswerts definiert, – Lesen mindestens einer der Speicherzellen (4) unter Verwendung der Lesereferenzzelle (6) als Referenz.
  18. Verfahren nach Anspruch 14, wobei – eine erste Referenzzelle (7) der Menge von Hauptreferenzzellen (7) vorprogrammiert ist, um eine Schwellenspannung aufzuweisen, die einem programmierten Zustand einer Speicherzelle (4, 6) entspricht, – eine zweite Referenzzelle (7) der Menge von Hauptreferenzzellen (7) vorprogrammiert ist, eine Schwellenspannung aufzuweisen, die einem gelöschten Zustand einer Speicherzelle (4, 6) entspricht, und – eine dritte Referenzzelle (7) der Menge von Hauptreferenzzellen (7) vorprogrammiert ist, um eine Schwellenspannung aufzuweisen, die die Grenze zwischen einem gelöschten Zustand und einem programmierten Zustand einer Speicherzelle (4, 6) definiert, und – die Menge von Arrayreferenzzellen (6) eine Lesereferenzzelle (6) umfasst, wobei das Verfahren die folgenden Schritte umfasst: – Setzen der Lesereferenzzelle (6) auf einen Lesezustand unter Verwendung der dritten Hauptreferenzzelle (7) als Referenz, – Lesen mindestens einer der Speicherzellen (4) unter Verwendung der Lesereferenzzelle (6) als Referenz.
  19. Verfahren nach Anspruch 14, wobei mit den folgenden Schritten: – Zuweisen vordefinierter Speicherzellen (4) zu einer Gruppe, – Bereitstellen einer Statuszelle für die Gruppe von Speicherzellen (4), – Setzen der Statuszelle in einen vordefinierten Logikzustand, wenn alle der Gruppe zugewiesene Speicherzellen (4) einen gelöschten Zustand aufweisen.
  20. Verfahren nach Anspruch 19, wobei alle Zellen (4) einer Gruppe mit einer gemeinsamen Wortleitung (61) verbunden sind, wobei jede Wortleitung (61) mit einer Statuszelle verbunden ist.
  21. Verfahren nach Anspruch 20, mit den folgenden Schritten: – Lesen der Statuszelle vor dem Schreiben von Daten in die der Wortleitung (61) zugewiesenen Zellen (4), – falls der Lesezustand der Statuszelle der vordefinierte Logikzustand ist, Ausführen einer Neuprogrammierung der programmierten Arrayreferenz (6) unter Verwendung der programmierten Hauptreferenzzelle (7).
  22. Verfahren nach Anspruch 14, wobei Schritt a) während der Lebensdauer des Speicherbauelements (1) wiederholt wird.
  23. Verfahren nach Anspruch 14, wobei Schritt a) ausgeführt wird, wenn ein vordefinierter Benutzerbefehl, vorgesehen für Aktionen unabhängig von dem Setzen von Arrayreferenzzellen (6), gestartet wird.
  24. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 bis 23, wobei Schritt a) von Anspruch 15 die folgenden Schritte umfasst: – Setzen der ersten Arrayreferenzzelle (6) in einen programmierten Zustand und dann, – Setzen der ersten Arrayreferenzzelle (6) in einen gelöschten Zustand.
  25. Verfahren zum Herstellen eines nichtflüchtigen Halbleiterspeicherbauelements (1), umfassend: Bereitstellen – mehrerer in einem Speicherarray (5) angeordneter Speicherzellen (4), – einer Menge von mindestens zwei programmierbaren Arrayreferenzzellen (6), – einer Menge von mindestens zwei programmierbaren Hauptreferenzzellen (7), Setzen mindestens einer der Hauptreferenzzellen (7), so dass sie eine Schwellenspannung aufweist, die einem gelöschten Zustand entspricht, und Setzen mindestens einer anderen Hauptreferenzzelle (7), so dass sie eine Schwellenspannung aufweist, die einem programmierten Zustand entspricht.
  26. Verfahren nach Anspruch 25, wobei die Schritte hinsichtlich des Setzens der Hauptreferenzzellen (7), so dass sie vordefinierte Schwellenspannungen aufweisen, während der Wafersortierung ausgeführt werden.
  27. Verfahren nach Anspruch 25 oder 26, wobei die Schritte hinsichtlich des Setzens von Hauptreferenzzellen (7), so dass sie vordefinierte Schwellenspannungen aufweisen, beim Testen des nichtflüchtigen Halbleiterspeicherbauelements (1) ausgeführt werden.
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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7443753B2 (en) * 2006-11-21 2008-10-28 Macronix International Co., Ltd. Memory structure, programming method and reading method therefor, and memory control circuit thereof
US7852669B2 (en) * 2007-03-16 2010-12-14 Spansion Llc Division-based sensing and partitioning of electronic memory
US7643337B2 (en) * 2007-07-17 2010-01-05 Macronix International Co., Ltd. Multi-bit flash memory and reading method thereof
US7663926B2 (en) 2007-07-27 2010-02-16 Micron Technology, Inc. Cell deterioration warning apparatus and method
US7688634B2 (en) * 2007-08-06 2010-03-30 Qimonda Ag Method of operating an integrated circuit having at least one memory cell
US7969788B2 (en) * 2007-08-21 2011-06-28 Micron Technology, Inc. Charge loss compensation methods and apparatus
JP5057517B2 (ja) * 2007-12-06 2012-10-24 スパンション エルエルシー 半導体装置及びその制御方法
DE102008014123B4 (de) * 2008-03-13 2015-09-03 Austriamicrosystems Ag Speicher mit Sense-Amplifier und Referenzstromerzeugung
US7808819B2 (en) * 2008-04-29 2010-10-05 Sandisk Il Ltd. Method for adaptive setting of state voltage levels in non-volatile memory
US7808836B2 (en) * 2008-04-29 2010-10-05 Sandisk Il Ltd. Non-volatile memory with adaptive setting of state voltage levels
US7821839B2 (en) * 2008-06-27 2010-10-26 Sandisk Il Ltd. Gain control for read operations in flash memory
US8004890B2 (en) * 2009-05-08 2011-08-23 Macronix International Co., Ltd. Operation method of non-volatile memory
US8406072B2 (en) * 2010-08-23 2013-03-26 Qualcomm Incorporated System and method of reference cell testing
US9003255B2 (en) 2011-07-01 2015-04-07 Stmicroelectronics International N.V. Automatic test-pattern generation for memory-shadow-logic testing
CN103456362A (zh) * 2013-08-29 2013-12-18 上海宏力半导体制造有限公司 参考单元的擦除方法
FR3012654A1 (fr) 2013-10-25 2015-05-01 St Microelectronics Rousset Procede d'ecriture et de lecture d'une memoire morte electriquement programmable et effacable multi-niveaux et dispositif de memoire correspondant
CN114664355B (zh) * 2022-03-16 2022-11-25 珠海博雅科技股份有限公司 非易失性存储器的参考电流产生模块和参考电流设置方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5172338A (en) * 1989-04-13 1992-12-15 Sundisk Corporation Multi-state EEprom read and write circuits and techniques
US6011725A (en) * 1997-08-01 2000-01-04 Saifun Semiconductors, Ltd. Two bit non-volatile electrically erasable and programmable semiconductor memory cell utilizing asymmetrical charge trapping
US6055187A (en) * 1996-04-30 2000-04-25 Stmicroelectronics S.R.L. Sensing circuitry for reading and verifying the contents of electrically programmable/erasable non-volatile memory cells
US20020118566A1 (en) * 2001-02-28 2002-08-29 Fuh-Cheng Jong Method of reading two-bit memories of NROM cell

Family Cites Families (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US483285A (en) * 1892-09-27 auilleaume
BE480485A (de) * 1945-09-07
US2804494A (en) * 1953-04-08 1957-08-27 Charles F Fenton High frequency transmission cable
DE3405852A1 (de) * 1984-02-15 1985-08-22 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Mehradrige flexible elektrische leitung
US4755629A (en) * 1985-09-27 1988-07-05 At&T Technologies Local area network cable
US4807962A (en) * 1986-03-06 1989-02-28 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Optical fiber cable having fluted strength member core
FR2669143B1 (fr) * 1990-11-14 1995-02-10 Filotex Sa Cable electrique a vitesse de propagation elevee.
US5177809A (en) * 1990-12-19 1993-01-05 Siemens Aktiengesellschaft Optical cable having a plurality of light waveguides
US5132488A (en) * 1991-02-21 1992-07-21 Northern Telecom Limited Electrical telecommunications cable
US5298680A (en) * 1992-08-07 1994-03-29 Kenny Robert D Dual twisted pairs over single jacket
CA2078928A1 (en) * 1992-09-23 1994-03-24 Michael G. Rawlyk Optical fiber units and optical cables
FR2709860B1 (fr) * 1993-09-09 1995-10-20 Filotex Sa Câble de transmission haute fréquence.
US5508958A (en) * 1994-09-29 1996-04-16 Intel Corporation Method and apparatus for sensing the state of floating gate memory cells by applying a variable gate voltage
US5574250A (en) * 1995-02-03 1996-11-12 W. L. Gore & Associates, Inc. Multiple differential pair cable
US6353554B1 (en) * 1995-02-27 2002-03-05 Btg International Inc. Memory apparatus including programmable non-volatile multi-bit memory cell, and apparatus and method for demarcating memory states of the cell
US5742002A (en) * 1995-07-20 1998-04-21 Andrew Corporation Air-dielectric coaxial cable with hollow spacer element
FR2738947B1 (fr) * 1995-09-15 1997-10-17 Filotex Sa Cable multipaires, blinde par paire et aise a raccorder
US5789711A (en) * 1996-04-09 1998-08-04 Belden Wire & Cable Company High-performance data cable
US6222130B1 (en) * 1996-04-09 2001-04-24 Belden Wire & Cable Company High performance data cable
US5902962A (en) * 1997-04-15 1999-05-11 Gazdzinski; Robert F. Cable and method of monitoring cable aging
US6684030B1 (en) * 1997-07-29 2004-01-27 Khamsin Technologies, Llc Super-ring architecture and method to support high bandwidth digital “last mile” telecommunications systems for unlimited video addressability in hub/star local loop architectures
US6091025A (en) * 1997-07-29 2000-07-18 Khamsin Technologies, Llc Electrically optimized hybird "last mile" telecommunications cable system
US5969295A (en) * 1998-01-09 1999-10-19 Commscope, Inc. Of North Carolina Twisted pair communications cable
US6150612A (en) * 1998-04-17 2000-11-21 Prestolite Wire Corporation High performance data cable
KR100285065B1 (ko) * 1998-06-12 2001-03-15 윤종용 불 휘발성 반도체 메모리 장치
KR100281798B1 (ko) * 1998-10-30 2001-03-02 윤종용 플래시 메모리 장치
US6248954B1 (en) * 1999-02-25 2001-06-19 Cable Design Technologies, Inc. Multi-pair data cable with configurable core filling and pair separation
US6812408B2 (en) * 1999-02-25 2004-11-02 Cable Design Technologies, Inc. Multi-pair data cable with configurable core filling and pair separation
EP1198800A4 (de) * 1999-05-28 2006-06-07 Krone Digital Communications I Vielpaariges kabel mit niedriger verschiebung und herstellungverfahren
US6153826A (en) * 1999-05-28 2000-11-28 Prestolite Wire Corporation Optimizing lan cable performance
US6506976B1 (en) * 1999-09-14 2003-01-14 Avaya Technology Corp. Electrical cable apparatus and method for making
US6297454B1 (en) * 1999-12-02 2001-10-02 Belden Wire & Cable Company Cable separator spline
JP2001184881A (ja) * 1999-12-28 2001-07-06 Toshiba Corp 不揮発性半導体メモリの読み出し回路
GB2373092B (en) * 2000-01-19 2004-03-10 Belden Wire & Cable Co A cable channel filler with imbedded shield and cable containing the same
US6259627B1 (en) * 2000-01-27 2001-07-10 Multi Level Memory Technology Read and write operations using constant row line voltage and variable column line load
US6800811B1 (en) * 2000-06-09 2004-10-05 Commscope Properties, Llc Communications cables with isolators
US6625057B2 (en) * 2000-11-17 2003-09-23 Kabushiki Kaisha Toshiba Magnetoresistive memory device
JP2002184190A (ja) * 2000-12-11 2002-06-28 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置
KR100386296B1 (ko) * 2000-12-30 2003-06-02 주식회사 하이닉스반도체 멀티레벨을 가지는 플래쉬 메모리를 프로그램/리드하기위한 회로 및 그 방법
ITRM20010001A1 (it) * 2001-01-03 2002-07-03 Micron Technology Inc Circuiteria di rilevazione per memorie flash a bassa tensione.
US6449190B1 (en) * 2001-01-17 2002-09-10 Advanced Micro Devices, Inc. Adaptive reference cells for a memory device
US6639152B2 (en) * 2001-08-25 2003-10-28 Cable Components Group, Llc High performance support-separator for communications cable
US7177197B2 (en) * 2001-09-17 2007-02-13 Sandisk Corporation Latched programming of memory and method
US6624359B2 (en) * 2001-12-14 2003-09-23 Neptco Incorporated Multifolded composite tape for use in cable manufacture and methods for making same
US6421275B1 (en) * 2002-01-22 2002-07-16 Macronix International Co. Ltd. Method for adjusting a reference current of a flash nitride read only memory (NROM) and device thereof
US6818832B2 (en) * 2002-02-26 2004-11-16 Commscope Solutions Properties, Llc Network cable with elliptical crossweb fin structure
JP3796457B2 (ja) * 2002-02-28 2006-07-12 富士通株式会社 不揮発性半導体記憶装置
US6690602B1 (en) * 2002-04-08 2004-02-10 Advanced Micro Devices, Inc. Algorithm dynamic reference programming
US6799256B2 (en) * 2002-04-12 2004-09-28 Advanced Micro Devices, Inc. System and method for multi-bit flash reads using dual dynamic references
JP2004039075A (ja) * 2002-07-02 2004-02-05 Sharp Corp 不揮発性半導体メモリ装置
US6813189B2 (en) * 2002-07-16 2004-11-02 Fujitsu Limited System for using a dynamic reference in a double-bit cell memory
US6983428B2 (en) * 2002-09-24 2006-01-03 Sandisk Corporation Highly compact non-volatile memory and method thereof
JP2004145910A (ja) * 2002-10-21 2004-05-20 Renesas Technology Corp 不揮発性半導体記憶装置
JP4113423B2 (ja) * 2002-12-04 2008-07-09 シャープ株式会社 半導体記憶装置及びリファレンスセルの補正方法
JP2005222625A (ja) * 2004-02-06 2005-08-18 Sharp Corp 不揮発性半導体記憶装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5172338A (en) * 1989-04-13 1992-12-15 Sundisk Corporation Multi-state EEprom read and write circuits and techniques
US5172338B1 (en) * 1989-04-13 1997-07-08 Sandisk Corp Multi-state eeprom read and write circuits and techniques
US6055187A (en) * 1996-04-30 2000-04-25 Stmicroelectronics S.R.L. Sensing circuitry for reading and verifying the contents of electrically programmable/erasable non-volatile memory cells
US6011725A (en) * 1997-08-01 2000-01-04 Saifun Semiconductors, Ltd. Two bit non-volatile electrically erasable and programmable semiconductor memory cell utilizing asymmetrical charge trapping
US20020118566A1 (en) * 2001-02-28 2002-08-29 Fuh-Cheng Jong Method of reading two-bit memories of NROM cell

Also Published As

Publication number Publication date
CN1892907A (zh) 2007-01-10
TWI313007B (en) 2009-08-01
DE102005030661B4 (de) 2007-01-25
TW200701237A (en) 2007-01-01
US20060274581A1 (en) 2006-12-07
US7259993B2 (en) 2007-08-21

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