DE10200475A1 - Nichtflüchtiges Speicherelement und Anzeigematrizen daraus - Google Patents
Nichtflüchtiges Speicherelement und Anzeigematrizen darausInfo
- Publication number
- DE10200475A1 DE10200475A1 DE10200475A DE10200475A DE10200475A1 DE 10200475 A1 DE10200475 A1 DE 10200475A1 DE 10200475 A DE10200475 A DE 10200475A DE 10200475 A DE10200475 A DE 10200475A DE 10200475 A1 DE10200475 A1 DE 10200475A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- display
- memory element
- volatile memory
- organic semiconductor
- matrix
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 230000015654 memory Effects 0.000 title claims abstract description 45
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 23
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 24
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 18
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- -1 Polyxylylen Polymers 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 3
- SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N pentacene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=C21 SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical group FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- JXRWDHUZHAWOLC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxamide Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(N)=O)C(C(=O)N)=CC=C21 JXRWDHUZHAWOLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/22—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using ferroelectric elements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having a potential-jump barrier or a surface barrier
- H10K10/40—Organic transistors
- H10K10/46—Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
- H10K10/462—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
- H10K10/464—Lateral top-gate IGFETs comprising only a single gate
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having a potential-jump barrier or a surface barrier
- H10K10/40—Organic transistors
- H10K10/46—Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
- H10K10/462—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
- H10K10/468—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs] characterised by the gate dielectrics
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K19/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic element specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, covered by group H10K10/00
- H10K19/10—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic element specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, covered by group H10K10/00 comprising field-effect transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/125—Active-matrix OLED [AMOLED] displays including organic TFTs [OTFT]
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/301—Details of OLEDs
- H10K2102/311—Flexible OLED
Abstract
Die Erfindung betrifft ein nichtflüchtiges elektronisches Speicherelement auf der Basis eines ferroelektrischen Speichers, dessen elektrisch eingeschriebene Information überschreibbar ist und nach dem Ausschalten einer Versorgungsspannung erhalten bleibt, sowie Anzeigeelemente daraus. DOLLAR A Die Aufgabe der Erfindung, ein nichtflüchtiges Speicherelement zu entwickeln und dessen Anwendung in Anzeigen anzugeben, mit dem die Nachteile des Standes der Technik vermieden werden und welches bei geringem Gewicht, hoher Flexibilität und einfacher Herstellung eine mehrfache Programmierung gewährleistet, wird dadurch gelöst, dass ein organischer Halbleiter (2) die Grundlage einer flexiblen Speicherschaltung bildet.
Description
- Die Erfindung beschreibt ein elektronisches nichtflüchtiges Speicherelement und dessen Anwendung in Anzeigematrizen. Das Element kann auf starre und flexible Substrate aufgebracht werden.
- Die in dem Speicherelement gespeicherte Information kann durch entsprechende Spannungspulse verändert werden und bleibt auch nach Abschalten der Versorgungsspannung erhalten.
- Elektronische Speicherelemente auf der Basis von Siliziumtechnologie und allgemeiner auf der Basis anorganischer Halbleitertechnologie sind Stand der Technik und bilden nach dem Prozessor den wichtigsten funktionalen Teil jedes Computersystems.
- Als wichtigste Speicherarten sind dabei flüchtige Speichersysteme, z. B. RAM (Random Access Memory) von nichtflüchtigen Speichern wie ROM (read only Memory), PROM (programmable read only memory, EPROM (erasable programmable read only memory) und EEPROM (electrically erasable programmable read only memory) zu unterscheiden.
- Der nichtflüchtige Speicheranteil übernimmt dabei die Funktion, wesentliche Informationen zum Systemstart, zur Systemkonfiguration und zur Identifikation zu speichern.
- In neuerer Zeit wurde das Konzept des ferroelektrischen Speichers (FRAM, ferroelectric random access memory) zur Marktreife entwickelt. Es entspricht von der Funktionalität der eines EEPROM, erlaubt aber kürzere Schreibzeiten. Dabei wurden anorganische ferroelektrische Materialien mit Silizium-Halbleitertechnologie kombiniert.
- Bekannt sind auch organische Halbleiter, die die Herstellung einfacher elektronischer Schaltungen auf der Basis flexibler Substrate erlauben. So können elektronische Identifikationschips auf Polymerbasis über ein Hochfrequenzfeld angesprochen werden und dann einen vorprogrammierten Identifikationscode zurücksenden.
- Allen Anwendungen von organischen Halbleitern ist gemeinsam, dass Informationen bezüglich einer Codierung/Identität auf der flexiblen Schaltung zwischengespeichert werden müssen. Ein nichtflüchtiger, programmierbarer Speicher ist ein wesentliches Element einer solchen Anordnung, um u. a. ein geringes Gewicht der Schaltung dadurch zu ermöglichen, dass nicht ständig eine Batterie benötigt wird, um eine Betriebsspannung aufrechtzuerhalten.
- Es sind auf dieser Basis Radiofrequenz-Transponder bekannt geworden [C. J. Drury et al. Applied Physics Letters Vol 73 (1998), p. 198 ff).
- Die Rolle des nichtflüchtigen Speichers übernimmt dabei ein Array von mechanisch programmierbaren Kontaktflächen, die mit einer Nadel durchstochen werden und damit leitend gemacht werden können.
- Es wird hier eine sehr einfache, jedoch kaum der Massenproduktion zugängliche Methode der Programmierung beschrieben. Zudem kann dem Transponder nach einmaliger Programmierung kein neuer Code mehr zugewiesen werden.
- In der oben beschriebene Terminologie handelt es sich um einen ROM.
- Wiederbeschreibbare Speicherelemente auf der Basis ferroelektrischer Materialien sind unter anderem in der WO 98/14989 und in der US 4 860 254 beschrieben. Die darin beschriebenen Kondensatorelemente mit ferroelektrischem Dielektrikum stellen passive Bauelemente dar, deren Polarisationszustand unter Änderung der gespeicherten Information abgefragt werden kann.
- Aktive Speicherelemente auf der Basis von Siliziumtechnologie sind unter anderem in der US 5 471 417 (Verwendung anorganischer Ferroelektrika) und in Yamauchi at al. Journal of Applied Physics, Vol 4 (1986), p.90 ff. (Polymere Ferroelektrika) beschrieben.
- Aufgabe der Erfindung ist es, ein nichtflüchtiges aktives Speicherelement zu entwickeln und dessen Anwendung in Anzeigen anzugeben, mit dem die Nachteile des Standes der Technik vermieden werden und welches bei geringem Gewicht, hoher Flexibilität und einfacher Herstellung eine mehrfache Programmierung gewährleistet.
- Die Aufgabe wird mit einem Speicherelement mit den Merkmalen des Anspruchs 1 und mit Anzeigen mit den Merkmalen nach den Ansprüchen 8 und 10 gelöst.
- Das nichtflüchtige elektronische Speicherelement auf der Basis eines ferroelektrischen Speichers, dessen elektrisch eingeschriebene Information überschreibbar ist und nach dem Ausschalten einer Versorgungsspannung erhalten bleibt, ist nach der Erfindung dadurch gekennzeichnet, dass ein organischer Halbleiter die Grundlage einer flexiblen Speicherschaltung bildet.
- Eine vorteilhafte Ausführungsform der Erfindung sieht vor, dass auf ein Substrat mit vorstrukturierten Fingerkontakten für Source und Drain der organische Halbleiter aufgebracht ist, auf dem das ferroelektrische Dielektrikum angeordnet ist, welches mit einer Gate-Elektrode versehen ist.
- Die Kombination organischer Halbleiter mit organischen Ferroelektrika gewährleistet Vorteile wie Flexibilität, geringes Gewicht und einfache Herstellung.
- Vorteilhaft ist ein aktives Bauelement nach der Erfindung, da es entsprechend der gespeicherten Information und unter Beibehaltung dieser gespeicherten Information ein Ausgangssignal liefert, das sich direkt zum Ansteuern einer Auswerteschaltung, eines Schalters oder eines Anzeigeelementes eignet. Dies ist möglich, wenn das ferroelektrische Dielektrikum als Gate-Isolator eines Feldeffekttransistors fungiert.
- Eine elektrisch adressierbare Anzeigematrix mit Speichereigenschaften und Anzeigeelementen ist nach der Erfindung dadurch gekennzeichnet, dass die Matrix aus nichtflüchtigen Speicherelementen auf der Basis eines organischen Halbleiters gebildet ist, wobei die Speicherelemente mit Anzeigepixeln zu Zeilen und Spalten zusammengeschaltet sind.
- Eine optisch beschreibbare Anzeigematrix mit Speichereigenschaften und Anzeigeelementen ist nach der Erfindung dadurch gekennzeichnet, dass die Matrix aus nichtflüchtigen Speicherelementen auf der Basis eines organischen Halbleiters gebildet ist, wobei das Anzeigeelement sowohl als Lichtsensor als auch als Anzeige geschaltet ist.
- Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen beschrieben.
- Die Erfindung wird nachfolgend in Ausführungsbeispielen von Speicherelementen und Anzeigen anhand einer Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:
- Fig. 1 die schematische Darstellung des Aufbaus eines nichtflüchtigen Speicherelements nach der Erfindung und dessen Ersatzschaltbild,
- Fig. 2 die schematische Darstellung einer Variante des Speicherelements nach Fig. 1,
- Fig. 3 die schematische Darstellung eines Beispiels einer 3 × 3 elektrisch adressierbaren Anzeigematrix (links) und ein einzelnes Speicherelement daraus mit organischer Leuchtdiode OLED (rechts) und
- Fig. 4 die schematische Darstellung eines Beispiels einer 3 × 3 optisch beschreibbaren Anzeigematrix.
- Das erfindungsgemäße Konzept basiert auf dem Funktionsprinzip eines ferroelektrischen Speichers (FRAM).
- Dabei wird ein ferroelektrisches Material durch ein angelegtes elektrisches Feld polarisiert. Die Polarisation bleibt auch nach Abschalten des Feldes bestehen. Sie kann durch ein entsprechendes Feld in umgekehrte Richtung gedreht werden.
- Entsprechend der Darstellung in der Fig. 1 besteht ein Speicherelement nach der Erfindung aus einem Substrat 1 und einem Feldeffekttransistor, bestehend aus einem Gate 6, einem Dielektrikum 5 und einer Source 4, einem Drain 3 und einem organischen Halbleiter 2. Das Dielektrikum 5 des Feldeffekttransistors ist der ferroelektrische Gate- Isolator 5 (Gate-Dielektrikum), der Feldeffekttransistor weist einen Source-Drain-Kanal auf, dessen Leitfähigkeit durch die Ladungsträgerkonzentration im Kanal und damit mittelbar durch das herrschende elektrische Potential an der Grenzfläche zwischen dem Gate-Isolator 5 und dem organischen Halbleiter 2 gesteuert wird. Dieses Potential wiederum setzt sich aus der eingestellten Spannung am Gate 6 und einer eventuellen Polarisationsspannung des Dielektrikums zusammen. Der Polarisationszustand des ferroelektrischen Dielektrikums 5 kann durch eine Spannung zwischen Gate 6 und Source 4 oder Drain 3 verändert werden, wenn diese eine bestimmte Höhe übersteigt.
- Möglich ist auch die Programmierung über einen zusätzlichen Rückkontakt 8, wie in der Fig. 2 gezeigt ist. In letzterem Fall wird die Programmierspannung zwischen Gate 6 und dem Rückkontakt 8 angelegt.
- Das Ersatzschaltbild auf der rechten Seite der Fig. 1 zeigt die elektronische Funktion des Bauelementes nach der Erfindung.
- Der Arbeitspunkt des Transistors lässt sich über die Programmierung verändern und permanent speichern.
- Gegenstand der Erfindung sind weiterhin die Anwendung des Speicherelements nach den Fig. 1, 2 in Anzeigematrizen.
- Dabei werden zwei Haupttypen von Anzeigematrizen unterschieden:
- a) Eine elektrisch addressierbare Matrix mit Speichereigenschaften, die mit geeigneten Anzeigeelementen gekoppelt ist (Fig. 3)
- b) Eine Anzeigematrix, in der das Anzeigeelement gleichzeitig als hichtsensor fungiert. Die Bildinformation kann optisch eingelesen werden und ist dann permanent gespeichert. Durch geeignetes Ansteuern der Speicherelemente kann die Information als Bild wieder angezeigt werden (Fig. 4).
- Im folgenden werden Ausführungsbeispiele des Speicherelementes nach der Erfindung und deren Anwendung in Anzeigen beschrieben.
- Die organischen Schichten des Speicherelementes nach den Fig. 1, 2 werden durch die üblichen Verfahren zur Dünnschichtabscheidung hergestellt. Dazu zählen insbesondere Vakuumverdampfung, plasma-assistierte Schichtabscheidung, Aufschleudern, Tintenstrahldrucken, Siebdruck sowie verwandte Beschichtungsprozesse. Zusätzlich können anorganische Hilfsschichten durch Vakuumverdampfung, Sputtern und plasma-assistierte Schichtabscheidung aufgebracht werden.
- Die Struktur des Speicherelementes gemäß Fig. 1 kann durch folgende Arbeitsschritte realisiert werden:
- - Das Substrat 1 weist vorstrukturierte Fingerkontakte für Source 4 und Drain 3 auf. Diese wurden durch Aufbringen einer durch Photolithographie strukturierten Lackmaske und anschließendes Ätzen der Metallschicht hergestellt. Als Kontaktmaterialien kommen insbesondere Gold, Platin, Palladium und Indium-Zinnoxid in Frage. Das Aufbringen eines strukturierten Films eines leitfähigen Polymers, wie z. B. Polyethylendioxythiophen, mittels Tintenstrahldrucken ist ebenfalls möglich.
- - Aufschleudern einer Lösung des organischen Halbleiters 2 oder Aufdampfen im Hochvakuum. Als aufschleuderbare Halbleiter kommen insbesondere Polythiophene und Pentacen-Precursormaterialien in Frage. Pentacen und niedermolekulare Oligothiophene sowie Derivate von Perylenimid und Napthalindicarbonsäurediimid können im Hochvakuum aufgedampft werden.
- - Optional Aufdampfen einer dünnen Schicht eines Hilfsisolators im Hochvakuum. Hier kommen insbesondere Siliziummonoxid sowie Polyxylylen in Frage.
- - Aufschleudern einer Lösung des ferroelektrischen Dielektrikums 5. Als Material kommen hier insbesondere Polyvinylidenfluorid sowie Copolymere von Vinylidenfluorid und Trifluorethylen zur Anwendung.
- - Optional Aufdampfen einer weiteren dünnen Schicht eines Hilfsisolators im Hochvakuum.
- - Aufdampfen der Gate-Elektrode 6. Hier kommen Metalle wie Aluminium, Neodym, Silber, Gold, Nickel, Palladium und Kupfer zur Anwendung. Das Aufbringen eines Films eines leitfähigen Polymers wie z. B. Polyethylendioxythiophen mittels Aufschleudern oder Tintenstrahldrucken ist ebenfalls möglich.
- Die Matrix besteht aus Speicherelementen nach den Fig. 1 und 2, die, wie vorstehend beschrieben, aufgebaut sind. Durch Zusammenschalten der Speicherelemente mit den Anzeigepixeln, wie in der Fig. 3 gezeigt, kann eine elektrisch adressierbare Anzeigematrix mit Speichereigenschaften realisiert werden. Der Anzeigepixel basiert bevorzugt auf einer organischen Leuchtdiode. Andere mögliche Anzeigetechnologien umfassen Flüssigkristallanzeigen sowie Elektrochrome und elektrophoretische Anzeigemechanismen.
- Die Steueranschlüsse Data/Vop sowie Select/VDD (Fig. 3) sind im Sinne einer Matrix verbunden, d. h. Data/Vop sind zu Spalten und Select/VDD zu Zeilen verbunden. Die angegebenen Spannungspegel beziehen sich auf Bauelemente, die mittels lochleitender organischer Halbleiter aufgebaut wurden.
- Für die Programmierung eines Pixels ist eine ausreichende Spannungsdifferenz zwischen Select/Vdd und Data/Vop nötig, wenn die Kathodenspannung Ucath auf Massepotential gehalten wird. Wird zum Beispiel nur an eine Datenleitung eine positive Spannung angelegt und an nur eine Select-Leitung eine negative Spannung, so tritt nur an einem einzelnen Speicherelement der Matrix eine Spannungsdifferenz auf, die zur Programmierung ausreicht. Durch Adressieren der entsprechenden Daten- und Select-Leitungen kann somit die Matrix beschrieben werden. Die Bildinformation ist nun permanent gespeichert.
- Zum Anzeigen des geschriebenen Bildes werden alle Anschlüsse Select/Vdd auf Massepotential gelegt. Alle Anschlüsse Data/Vop werden auf ein geeignetes negatives Potential gelegt, um zu gewährleisten, dass die entsprechenden Transistoren entsprechend ihre Programmierung entweder öffnen bzw. sperren. Die Kathodenspannung Ucath wird auf ein geeignetes negatives Potential gelegt. Das gespeicherte Bild wird als Muster von aktiven/naktiven Pixeln dargestellt.
- Die Anzeigematrix ist ähnlich der elektrisch adressierbaren Matrix nach Fig. 3 aufgebaut, wie in der Fig. 4 gezeigt ist. In diesem Fall ist jedoch keine Gruppierung der Anschlüsse zu bestimmten Zeilen/Spalten mehr nötig. Alle Anschlüsse Vop (Fig. 4) sind miteinander verbunden, ebenso alle Select-Anschlüsse. Das Anzeigeelement wirkt sowohl als Lichtsensor als auch als Anzeige. Es ist bevorzugt eine organische Leuchtdiode. Wird diese in Rückwärtsrichtung betrieben, so fungiert sie als Photodiode. Dies wird im Schreibzyklus genutzt.
- Die beschriebenen Spannungen sind wiederum für die Verwendung eines lochleitenden Halbleiters beschrieben. Die Anschlüsse Vop sowie Select werden auf negatives Potential gelegt, der Anschluss Ucath wird auf Massepotential gehalten. Die Spannung des Drain-Anschlusses jedes Speichertransistors wird nun durch einen eventuellen Photostrom durch die Leuchtdiode bestimmt. Fällt Licht geeigneter Wellenlänge auf die Leuchtdiode, so steigt die Spannung an Drain und führt bei ausreichender Helligkeit zur Programmierung des Transistors.
- Zum Löschen der Programmierung muss ein entsprechendes entgegengesetztes Potential über Gate und Drain angelegt werden. Dazu werden Ucath und Select auf Massepotential gelegt sowie Vop auf positives Potential. Die Einwirkung von Licht ist hier nicht nötig.
- Im Lesezyklus werden alle Anschlüsse Select auf positives Potential gelegt, alle Anschlüsse Vop auf leicht negatives Potential sowie Ucath auf Massepotential. Entsprechend ihrer Programmierung werden die Transistoren entweder leitend oder sperren. Die Leuchtdioden arbeiten in Vorwärtsrichtung und emittieren Licht, wenn der Transistor geöffnet ist. Das gespeicherte Abbild wird als leuchtendes Bild gezeigt. Bezugszeichenliste 1 Substrat
2 Organischer Halbleiter
3 Drain
4 Source
5 Ferroelektrisches Dielektrikum
6 Gate
7 Isolator
8 Rückkontakt
Claims (11)
1. Nichtflüchtiges elektronisches Speicherelement auf der
Basis eines ferroelektrischen Speichers, dessen
elektrisch eingeschriebene Information überschreibbar
ist und nach dem Ausschalten einer Versorgungsspannung
erhalten bleibt,
dadurch gekennzeichnet, dass
ein organischer Halbleiter (2) die Grundlage einer
flexiblen Speicherschaltung bildet.
2. Nichtflüchtiges Speicherelement nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Funktion eines Feldeffekttransistors integriert
ist.
3. Nichtflüchtiges Speicherelement nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, dass
der Gate-Isolator des Feldeffekttransistors aus einem
ferroelektrischen Dielektrikum gebildet ist.
4. Nichtflüchtiges Speicherelement nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, dass
das ferroelektrische Dielektrikum aus einem organischen
Material wie ein Polymer gebildet ist.
5. Nichtflüchtiges Speicherelement nach den Ansprüchen 1
bis 4,
dadurch gekennzeichnet, dass
auf ein Substrat (1) mit vorstrukturierten
Fingerkontakten für Source (4) und Drain (3) der
organische Halbleiter (2) aufgebracht ist, auf dem das
ferroelektrische Dielektrikum (5) angeordnet ist,
welches mit einer Gate-Elektrode (6) versehen ist.
6. Nichtflüchtiges Speicherelement nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, dass
auf den organischen Halbleiter (2) eine dünne Schicht
eines Hilfsisolators und auf das ferroelektrische
Dielektrikum (5) eine weitere dünne Schicht eines
weiteren Hilfsisolators aufgebracht ist.
7. Nichtflüchtiges Speicherelement nach den Ansprüchen 1
bis 6,
dadurch gekennzeichnet, dass
zwischen dem Substrat (1) und dem organischen
Halbleiter (2)/Source (4)/Drain (3) ein zusätzlicher
Rückkontakt (8) und ein zusätzlicher Isolator (7)
eingebracht sind.
8. Elektrisch adressierbare Anzeigematrix mit
Speichereigenschaften und Anzeigeelementen,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Matrix aus nichtflüchtigen Speicherelementen auf
der Basis eines organischen Halbleiters gebildet ist,
wobei die Speicherelemente mit Anzeigepixeln zu Zeilen
und Spalten zusammengeschaltet sind.
9. Elektrisch adressierbare Anzeigematrix nach Anspruch 8,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Anzeigepixel aus organischen Leuchtdioden gebildet
sind.
10. Optisch beschreibbare Anzeigematrix mit
Speichereigenschaften und Anzeigeelementen,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Matrix aus nichtflüchtigen Speicherelementen auf
der Basis eines organischen Halbleiters gebildet ist,
wobei das Anzeigeelement sowohl als Lichtsensor als
auch als Anzeige geschaltet ist.
11. Optisch beschreibbare Anzeigematrix nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Anzeigeelemente aus organischen Leuchtdioden
gebildet sind.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10200475A DE10200475A1 (de) | 2002-01-09 | 2002-01-09 | Nichtflüchtiges Speicherelement und Anzeigematrizen daraus |
KR10-2002-0046084A KR100483593B1 (ko) | 2002-01-09 | 2002-08-05 | 비휘발성 메모리 소자와 그 행렬 디스플레이 패널 |
DE10300746A DE10300746B4 (de) | 2002-01-09 | 2003-01-07 | Nichtflüchtiges Speicherelement und Anzeigematrizen sowie deren Anwendung |
US10/338,828 US6872969B2 (en) | 2002-01-09 | 2003-01-09 | Non-volatile memory device and matrix display panel using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10200475A DE10200475A1 (de) | 2002-01-09 | 2002-01-09 | Nichtflüchtiges Speicherelement und Anzeigematrizen daraus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10200475A1 true DE10200475A1 (de) | 2003-07-24 |
Family
ID=7711701
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10200475A Withdrawn DE10200475A1 (de) | 2002-01-09 | 2002-01-09 | Nichtflüchtiges Speicherelement und Anzeigematrizen daraus |
DE10300746A Expired - Lifetime DE10300746B4 (de) | 2002-01-09 | 2003-01-07 | Nichtflüchtiges Speicherelement und Anzeigematrizen sowie deren Anwendung |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10300746A Expired - Lifetime DE10300746B4 (de) | 2002-01-09 | 2003-01-07 | Nichtflüchtiges Speicherelement und Anzeigematrizen sowie deren Anwendung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6872969B2 (de) |
KR (1) | KR100483593B1 (de) |
DE (2) | DE10200475A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10212962B4 (de) * | 2002-03-22 | 2007-11-29 | Qimonda Ag | Halbleiterspeicherzelle mit Zugriffstransistor auf der Grundlage eines organischen Halbleitermaterials und Halbleiterspeichereinrichtung |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005015653A1 (en) * | 2003-08-07 | 2005-02-17 | The University Of Sheffield | Field effect transistor |
GB2404785A (en) * | 2003-08-07 | 2005-02-09 | Univ Sheffield | Field effect transistor with organic ferroelectric gate insulator |
JP2007523469A (ja) * | 2003-12-22 | 2007-08-16 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 有機両極性半導体を使用する不揮発性強誘電体薄膜デバイス及びそのようなデバイスを処理するための方法 |
DE10361713B4 (de) * | 2003-12-30 | 2008-02-07 | Qimonda Ag | Verwendung von Charge-Transfer-Komplexen aus einem Elektronendonor und einem Elektronenakzeptor als Basis für resistive Speicher und Speicherzelle enthaltend diese Komplexe |
WO2005091377A1 (ja) * | 2004-03-24 | 2005-09-29 | Japan Science And Technology Agency | 有機薄膜を有する基板及びそれを用いたトランジスタ並びにそれらの製造方法 |
NO321555B1 (no) * | 2004-03-26 | 2006-05-29 | Thin Film Electronics Asa | Organisk elektronisk innretning og fremgangsmate til fremstilling av en slik innretning |
DE102005017533A1 (de) | 2004-12-29 | 2006-07-13 | Hynix Semiconductor Inc., Ichon | Nichtflüchtige ferroelektrische Speichervorrichtung |
KR100682211B1 (ko) * | 2004-12-29 | 2007-02-12 | 주식회사 하이닉스반도체 | 불휘발성 강유전체 메모리 장치 |
KR100682212B1 (ko) * | 2004-12-29 | 2007-02-12 | 주식회사 하이닉스반도체 | 불휘발성 강유전체 메모리 장치 |
US7868320B2 (en) * | 2005-05-31 | 2011-01-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
KR100851538B1 (ko) * | 2006-12-29 | 2008-08-12 | 주식회사 이페로 | 전계효과 트랜지스터와 강유전체 메모리 장치 및 그제조방법 |
US20080174519A1 (en) * | 2007-01-23 | 2008-07-24 | Chan-Long Shieh | Reconfigurable color signage using bistable light valve |
US7941919B2 (en) * | 2007-01-29 | 2011-05-17 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Method of assembling an electronic textile |
US7820497B2 (en) * | 2007-01-29 | 2010-10-26 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Electronic textiles with electronic devices on ribbons |
DE102007019260B4 (de) * | 2007-04-17 | 2020-01-16 | Novaled Gmbh | Nichtflüchtiges organisches Speicherelement |
TWI382381B (zh) * | 2008-03-06 | 2013-01-11 | Pervasive Display Co Ltd | 非揮發型顯示裝置 |
CN102870245B (zh) * | 2010-05-07 | 2015-07-29 | 独立行政法人科学技术振兴机构 | 功能设备的制造方法、场效应晶体管和薄膜晶体管 |
GB201310295D0 (en) * | 2013-06-10 | 2013-07-24 | Univ Sheffield | Transistor |
US10395588B2 (en) * | 2016-03-31 | 2019-08-27 | Intel Corporation | Micro LED display pixel architecture |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5206525A (en) * | 1989-12-27 | 1993-04-27 | Nippon Petrochemicals Co., Ltd. | Electric element capable of controlling the electric conductivity of π-conjugated macromolecular materials |
DE3922423C2 (de) * | 1988-07-08 | 1995-01-05 | Olympus Optical Co | Ferroelektrischer Speicher |
EP1103916A1 (de) * | 1999-11-24 | 2001-05-30 | Infineon Technologies AG | Chipkarte |
DE10045192A1 (de) * | 2000-09-13 | 2002-04-04 | Siemens Ag | Organischer Datenspeicher, RFID-Tag mit organischem Datenspeicher, Verwendung eines organischen Datenspeichers |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3602887A1 (de) * | 1986-01-31 | 1987-08-06 | Bayer Ag | Nichtfluechtiger elektronischer speicher |
ATE120579T1 (de) * | 1991-01-09 | 1995-04-15 | Siemens Ag | Speicherzellenanordnung und verfahren zu deren betrieb. |
US6326640B1 (en) * | 1996-01-29 | 2001-12-04 | Motorola, Inc. | Organic thin film transistor with enhanced carrier mobility |
DE19640239A1 (de) * | 1996-09-30 | 1998-04-02 | Siemens Ag | Speicherzelle mit Polymerkondensator |
US5860254A (en) * | 1996-11-12 | 1999-01-19 | Poly-Tec Products, Inc. | Lift insert assembly and fabrication assembly method |
US5981970A (en) * | 1997-03-25 | 1999-11-09 | International Business Machines Corporation | Thin-film field-effect transistor with organic semiconductor requiring low operating voltages |
NO972803D0 (no) * | 1997-06-17 | 1997-06-17 | Opticom As | Elektrisk adresserbar logisk innretning, fremgangsmåte til elektrisk adressering av samme og anvendelse av innretning og fremgangsmåte |
NO973993L (no) * | 1997-09-01 | 1999-03-02 | Opticom As | Leseminne og leseminneinnretninger |
US6067244A (en) * | 1997-10-14 | 2000-05-23 | Yale University | Ferroelectric dynamic random access memory |
US6532165B1 (en) * | 1999-05-31 | 2003-03-11 | Sony Corporation | Nonvolatile semiconductor memory and driving method thereof |
US6621098B1 (en) * | 1999-11-29 | 2003-09-16 | The Penn State Research Foundation | Thin-film transistor and methods of manufacturing and incorporating a semiconducting organic material |
KR100681924B1 (ko) * | 2000-02-24 | 2007-02-15 | 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 픽셀 용량의 개선된 충전 기능을 갖는 유기 led디스플레이 |
JP4415467B2 (ja) * | 2000-09-06 | 2010-02-17 | 株式会社日立製作所 | 画像表示装置 |
KR100731034B1 (ko) * | 2000-12-27 | 2007-06-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정 디스플레이 패널 |
DE10156470B4 (de) * | 2001-11-16 | 2006-06-08 | Infineon Technologies Ag | RF-ID-Etikett mit einer Halbleiteranordnung mit Transistoren auf Basis organischer Halbleiter und nichtflüchtiger Schreib-Lese-Speicherzellen |
-
2002
- 2002-01-09 DE DE10200475A patent/DE10200475A1/de not_active Withdrawn
- 2002-08-05 KR KR10-2002-0046084A patent/KR100483593B1/ko active IP Right Grant
-
2003
- 2003-01-07 DE DE10300746A patent/DE10300746B4/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-01-09 US US10/338,828 patent/US6872969B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3922423C2 (de) * | 1988-07-08 | 1995-01-05 | Olympus Optical Co | Ferroelektrischer Speicher |
US5206525A (en) * | 1989-12-27 | 1993-04-27 | Nippon Petrochemicals Co., Ltd. | Electric element capable of controlling the electric conductivity of π-conjugated macromolecular materials |
EP1103916A1 (de) * | 1999-11-24 | 2001-05-30 | Infineon Technologies AG | Chipkarte |
DE10045192A1 (de) * | 2000-09-13 | 2002-04-04 | Siemens Ag | Organischer Datenspeicher, RFID-Tag mit organischem Datenspeicher, Verwendung eines organischen Datenspeichers |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
A. Dodabalapur et al.: Organic Smart Pixels" in Applied Physics Letters", 73(13. July 1998),2 pp. 142-144 * |
H.E. Katz et al: "Organic field-effect transistorswith polarizable gate insulators" in "Journal of Applied Physics", 91(1. Febr.2002) pp. 1572-1576 (nachveröffentlicht) * |
JP 61-105792 A (abstr.) * |
Noriyoshi Yamauchi: "A Metal-Insulator-Semiconduc-tor (MSI) Device Using a Ferroelectric Polymer Thin Film in the gate Insulator" in "Japanese Journal of Applied Physics", 25(April 1986)4, pp. 590-594 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10212962B4 (de) * | 2002-03-22 | 2007-11-29 | Qimonda Ag | Halbleiterspeicherzelle mit Zugriffstransistor auf der Grundlage eines organischen Halbleitermaterials und Halbleiterspeichereinrichtung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20030127676A1 (en) | 2003-07-10 |
US6872969B2 (en) | 2005-03-29 |
DE10300746B4 (de) | 2008-02-07 |
KR20030060741A (ko) | 2003-07-16 |
KR100483593B1 (ko) | 2005-04-15 |
DE10300746A1 (de) | 2003-10-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE10200475A1 (de) | Nichtflüchtiges Speicherelement und Anzeigematrizen daraus | |
DE102013111943B4 (de) | Flexible organische Elektrolumineszenz-Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung derselben | |
EP1060522B1 (de) | Anzeigevorrichtungen | |
EP1555701A2 (de) | Bildelement für eine Aktiv-Matrix-Anzeige | |
DE10140991A1 (de) | Organische Leuchtbiode, Herstellungsverfahren dazu und Anwendungen | |
DE10133686C2 (de) | Organisches, elektrolumineszierendes Display und dessen Herstellung | |
DE10349034A1 (de) | Elektrolumineszenzbauelemente und Kathoden | |
DE10133684A1 (de) | Organisches, farbiges, elektrolumineszierendes Display und dessen Herstellung | |
DE69932783T2 (de) | TFT Matrix Paneel | |
DE102018213062B3 (de) | Integrierter elektronischer Schaltkreis mit einem ersten Transistor und einem ferroelektrischen Kondensator und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE602004006441T2 (de) | Nichtflüchtiger ferroelektrischer dünnfilm-baustein mit einem organischen ambipolaren halbleiter und verfahren zum verarbeiten eines solchen bausteins | |
WO2005106987A1 (de) | Schichtanordnung für eine organische lichtemittierende diode | |
DE10212962B4 (de) | Halbleiterspeicherzelle mit Zugriffstransistor auf der Grundlage eines organischen Halbleitermaterials und Halbleiterspeichereinrichtung | |
DE60306656T2 (de) | Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung mit pixeln mit nmos-transistoren | |
DE102005009511B3 (de) | Halbleiterspeichervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterspeichervorrichtung | |
DE60036188T2 (de) | Organische elektrolumineszierende anzeigevorrichtung | |
EP1588375B1 (de) | Organisches speicherbauelement | |
DE102011004195A1 (de) | Dünnfilm-Transistoraufbau, Verfahren zu dessen Herstellung, und elektronische Einrichtung | |
WO2005017859A1 (ja) | 表示装置及びその駆動方法 | |
WO2006063952A1 (de) | Elektronisches bauelement mit pixeln auf organischer basis | |
DE10133685B4 (de) | Organisches, elektrolumineszierendes Display und dessen Herstellung | |
US5768175A (en) | Ferroelectric memory with fault recovery circuits | |
US20070052349A1 (en) | Electroluminescent device | |
DE102008039473A1 (de) | Mehrschichtiges Folienelement | |
US20060118780A1 (en) | Organo-resistive memory unit |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8143 | Lapsed due to claiming internal priority | ||
8165 | Publication of following application cancelled |