DE102004047331B3 - Integrierter Halbleiterspeicher - Google Patents

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Abstract

Ein integrierter Halbleiterspeicher (100) umfasst einen steuerbaren Spannungsgenerator (30) zum Vorladen von Bitleitungen (BL) eines Speicherzellenfeldes (10) auf eine Vorladespannung (VEQ). Beim Auslesen eines ersten und zweiten Speicherzustands von Speicherzellen (SZ), die an die Bitleitungen angeschlossen sind, kommt es auf den Bitleitungen zu einem ersten und zweiten Signalhub (DELTAUH, DELTAUL), wodurch die Bitleitungen auf ein erstes und ein zweites Spannungspotenzial (V1, V2) aufgeladen werden. Zum Vorladen der Bitleitungen auf die Vorladespannung (VEQ) wird von dem steuerbaren Spannungsgenerator (30) ein erster Ausgleichsstrom (I1) und ein zweiter Ausgleichsstrom (I2) auf die Bitleitungen eingespeist, deren Stromstärke jeweils von einer Detektorschaltung (60) gemessen wird. Von einer Steuerschaltung (20) wird die Vorladespannung (VEQ) so lange verändert, bis der erste und zweite Ausgleichsstrom (I1, I2) gleich groß sind. Die Vorladespannung liegt dann zentriert zu dem ersten und zweiten Spannungspotenzial (V1, V2).

Description

  • Die Erfindung betrifft einen integrierten Halbleiterspeicher mit einer veränderbaren Vorladespannung.
  • Integrierte Halbleiterspeicher, beispielsweise DRAM (dynamic random access memory)-Halbleiterspeicher weisen Spannungsgeneratoren zur Erzeugung interner Spannungen auf. Solche Spannungsgeneratoren haben die Aufgabe, aus extern angelegten Spannungen stabilisierte Spannungen zu erzeugen. Die stabilisierten Spannungen werden Schaltungskomponenten des integrierten Halbleiterspeichers zur Verfügung gestellt, so dass ein einwandfreier Betrieb des Halbleiterspeichers sichergestellt ist.
  • 4 zeigt einen integrierten Halbleiterspeicher 100 mit einem Speicherzellenfeld 10, in dem Speicherzellen SZ entlang von Wortleitungen WL und Bitleitungen BL angeordnet sind. Die Bitleitungen BL sind jeweils mit einem primären Leseverstärker SA verbunden. Die an die Bitleitungen jeweilig angeschlossenen primären Leseverstärker SA sind wiederum mit einem sekundären Leseverstärker SSA verbunden. Der sekundäre Leseverstärker SSA ist mit einem Datenanschluss DQ des integrierten Halbleiterspeichers verbunden. Des Weiteren umfasst der integrierte Halbleiterspeicher eine Steuerschaltung 20, die Schreib- und Lesezugriffe auf die Speicherzellen des Speicherzellenfeldes 10 steuert. Zur Auswahl einer Speicherzelle SZ wird an einen Adressanschluss A40 ein Adresssignal AS angelegt, das einem Adressregister 40 zugeführt wird. Die Adresse einer ausgewählten Speicherzelle wird in dem Adress register 40 zwischengespeichert und zur Aktivierung der entsprechenden Speicherzelle der Steuerschaltung 20 zugeführt.
  • Zur Erzeugung von internen Spannungen weist der integrierte Halbleiterspeicher Spannungsgeneratoren auf, von denen beispielhaft ein Spannungsgenerator 30 zur Erzeugung einer Vorladespannung VEQ dargestellt ist. Der Spannungsgenerator 30 umfasst einen Versorgungsanschluss V30 zum Anlegen einer Versorgungsspannung VDD und einen Bezugsanschluss B30 zum Anlegen einer Bezugsspannung VSS. Die Versorgungsspannung VDD und die Bezugsspannung VSS werden dem Spannungsgenerator 30 von einem externen Versorgungsanschluss V100 des integrierten Halbleiterspeichers zum Anlegen der Versorgungsspannung VDD und von einem externen Bezugsspannungsanschluss B100 zum Anlegen der Bezugsspannung VSS zugeführt.
  • 5 zeigt den Spannungsgenerator 30 sowie einen Ausschnitt aus dem Speicherzellenfeld 10 in vergrößerter Darstellung. Aus Gründen der besseren Übersicht ist innerhalb des Speicherzellenfeldes 10 lediglich ein Leseverstärker SA dargestellt, der an ein Bitleitungspaar aus den Bitleitungen BL und /BL angeschlossen ist. An die Bitleitung BL ist eine DRAM-Speicherzelle SZ angeschlossen, die einen Auswahltransistor AT und einen Speicherkondensator SC umfasst. Zwischen den Bitleitungen BL und /BL ist eine Vorladeschaltung EC zum Vorladen der beiden Bitleitungen auf das Vorladepotenzial VEQ angeordnet, das von dem Spannungsgenerator 30 erzeugt wird. Die Vorladeschaltung EC umfasst drei Schalttransistoren Tr1, Tr2 und Tr3. Der Transistor Tr1 dient dazu, die Bitleitung BL mit ihrer komplementären Bitleitung /BL kurzzuschließen. Über den Transistor Tr2 und Tr3 lassen sich die Bitleitung BL und ihre komplementäre Bitleitung /BL auf die Vorladespannung VEQ aufladen.
  • 6 zeigt die Spannungsverläufe auf der Bitleitung BL und der komplementären Bitleitung /BL bei einem Lesezugriff auf die Speicherzelle SZ. Vor dem Zeitpunkt T1 sind die Bitleitungen BL und /BL auf die Vorladespannung VEQ aufgeladen. Dazu steuert die Steuerschaltung 20 die Steueranschlüsse der Transistoren Tr1, Tr2 und Tr3 der Vorladeschaltung EC mit einem hohen Spannungspotenzial VP an. Die Transistoren Tr1, Tr2 und Tr3 sind als n-Kanal Feldeffekttransistoren ausgebildet und werden durch den hohen Pegel der Steuerspannung VP leitend gesteuert. Über den Transistor Tr1 werden die beiden Bitleitungen BL und /BL leitend miteinander verbunden und über die Transistoren Tr2 und Tr3 jeweils auf die Vorladespannung VEQ aufgeladen. Wenn vorausgesetzt wird, dass die Bitleitungskapazität CBL der Bitleitung BL und die Bitleitungskapazität C/BL der Bitleitung /BL gleich sind, findet zwischen den beiden Bitleitungen des Bitleitungspaares ein Ladungsausgleich statt, bis beide Bitleitungen die Vorladespannung VEQ angenommen haben.
  • Zum Zeitpunkt T1 wird ein Adresssignal AS an den Adressanschluss A40 des Adressregisters 40 und ein Aktivierungssignal ACT an einen Steueranschluss S20a der Steuerschaltung 20 angelegt. Die Steuerschaltung 20 deaktiviert infolge dessen die Vorladeschaltung EC, indem sie die Schalttransistoren Tr1, Tr2 und Tr3 sperrt. Die durch das Adresssignal AS ausgewählte Speicherzelle SZ wird hingegen aktiviert, indem die mit einem Steueranschluss des Auswahltransistors AT der ausgewählten Speicherzelle SZ verbundene Wortleitung WL mit einem hohen Spannungspotenzial VPP angesteuert wird, durch das der Auswahltransistor AT leitend gesteuert wird. Der Speicherkondensator SC ist dadurch mit der an die ausgewählte Speicherzelle SZ angeschlossenen Bitleitung BL leitend verbunden.
  • In 6 ist der Fall dargestellt, dass in der Speicherzelle SZ ein erster Speicherzustand, beispielsweise ein High-Pegel abgespeichert war. Der Speicherkondensator SC ist dazu auf eine Spannung aufgeladen, die oberhalb der Vorladespannung VEQ liegt. Durch die leitende Verbindung des Speicherkondensators mit der Bitleitung BL entsteht auf dieser ein Signalhub ΔUH, der eine Potenzialanhebung auf das Spannungspotenzial V1 bewirkt, das oberhalb der Vorladespannung VEQ liegt. Nach Ablauf einer Signalentwicklungszeit verstärkt der primäre Leseverstärker SA zum Zeitpunkt T2 die Spannungspegel auf der Bitleitung BL und der komplementären Bitleitung /BL. Das Bitleitungspaar wird „gespreizt", indem die Bitleitung BL auf das hohe Spannungspotenzial VBH und die Bitleitung /BL wird auf das niedrige Spannungspotenzial VBL des gespreizten Bitleitungspaares aufgeladen wird. Zum Zeitpunkt T3 wird an den Steueranschluss S20a der Steuerschaltung 20 ein Lesekommando RD angelegt. Dadurch wird der hohe Spannungspegel VBH, der dem in der Speicherzelle SZ abgespeicherten High-Pegel entspricht, durch den sekundären Leseverstärker SSA nochmals verstärkt und an den Datenanschluss DQ ausgegeben. Zum Zeitpunkt T4 wird der Steueranschluss S20a der Steuerschaltung 20 mit einem Vorladekommando PRE angesteuert. Die Steuerschaltung 20 steuert daraufhin den Auswahltransistor AT durch Anlegen eines negativen Spannungspotenzials VNW auf der Wortleitung WL wieder in den sperrenden Zustand. Gleichzeitig werden die Schalttransistoren Tr1, Tr2 und Tr3 durch das Steuersignal VP wieder leitend gesteuert, so dass zwischen den Bitleitungen BL und /BL ein Ladungsausgleich auf die Vorladespannung VEQ stattfindet.
  • Wenn in der Speicherzelle SZ ein Low-Zustand abgespeichert war, kommt es nach dem leitend Steuern des Auswahltransistors der Speicherzelle zu einer Potenzialabsenkung auf der Bitlei tung BL. Wie beim Auslesen des High-Zustands verstärkt der Leseverstärker SA auch hier den Spannungsunterschied zwischen der Spannungsabsenkung auf der Bitleitung BL und der Vorladespannung VEQ auf der komplementären Bitleitung /BL.
  • Beim Auslesen beider Speicherzustände der Speicherzelle SZ tritt also zwischen der Bitleitung BL und der komplementären Bitleitung /BL ein Spannungsunterschied, der Signalhub, auf, der von dem Leseverstärker SA detektiert werden muss. Um ein gesichertes Auslesen des Zelleninhalts zu gewährleisten, sollte die Signalanhebung beim Auslesen eines High-Zustands und die Signalabsenkung beim Auslesen eines Low-Zustands gleich sein. Wenn hingegen der Signalhub nach Ansteuerung der Steuerschaltung 20 mit dem Aktivierungssignal ACT für das Auslesen des High-Zustands oder für das Auslesen des Low-Zustands zu gering ausfällt, so kann dieser Spannungsunterschied von dem Leseverstärker SA nicht mehr sicher detektiert werden. Ein fehlerhaftes Auslesen des Speicherzustandes der ausgewählten Speicherzelle ist die Folge. Der Signalhub sollte daher beim Auslesen des High-Zustands und beim Auslesen des Low-Zustands in Bezug auf die Vorladespannung gleich und ausreichend groß sein.
  • Bisher wurde die Vorladespannung VEQ durch den Mittelwert des hohen Spannungspotenzials VBH und des niedrigen Spannungspotenzials VBL der gespreizten Bitleitungen bestimmt. Da das niedrige Spannungspotenzial VBL im allgemeinen mit dem Massepotenzial übereinstimmt wurde als Pegel der Vorladespannung VEQ der halbierte Pegel des hohen Spannungspotenzials VBH gewählt.
  • Trotzdem zeigt sich oftmals, dass sich der Signalhub ΔUH, der sich beim Auslesen eines High-Speicherzustands einstellt, von dem Signalhub ΔUL, der sich beim Auslesen des Low-Speicherzustands einstellt, unterscheidet. 7 zeigt dazu entsprechende Spannungsdiagramme. In 7 ist das Spannungspotenzial V1, das sich auf der Bitleitung BL beim Auslesen des High-Pegels einstellt, beispielsweise geringer ausgefallen als das Spannungspotenzial V2, das sich auf der Bitleitung BL beim Auslesen des Low-Zustands einstellt. Der unterschiedliche Signalhub kommt beispielsweise dadurch zustande, dass der Auswahltransistor beim Auslesen eines hohen Spannungspegels, der dem High-Speicherzustand entspricht, nicht ausreichend leitend gesteuert werden kann. In Folge dessen fällt der Signalhub ΔUH auf der Bitleitung zu gering aus, um von dem Leseverstärker SA noch sicher detektiert zu werden. Ebenfalls kann es vorkommen, dass der Signalhub ΔUL beim Auslesen des Low-Speicherzustands zu gering ausfällt. Die Ursache hierfür ist vorwiegend ein Unterschwellstrom, der trotz gesperrt gesteuertem Auswahltransistor in die Speicherzelle SZ hineinfließt. Der Speicherkondensator SC lädt sich dadurch innerhalb der Vorladephase allmählich auf den Pegel der Vorladespannung VEQ auf.
  • Die Druckschrift US 6,438,049 B1 beschreibt eine Testschaltung, mit der sich bei einem integrierten Halbleiterspeicher eine Vorladespannung variieren lässt. Die Testschaltung umfasst eine Vorladeschaltung, die aus einem Pull-Up-Transistor gebildet wird, der an einen kreuzgekoppelten NMOS-Leseverstärker angeschlossen ist. Vor dem Auslesen einer Speicherzelle werden zueinander komplementäre Bitleitungen auf eine erste Vorladespannung aufgeladen. Danach wird ein Datum aus einer Speicherzelle ausgelesen und der Speicherzustand in der Speicherzelle aufgefrischt. Mit Hilfe der Vorladeschaltung werden die komplementären Bitleitungspaare anschließend auf eine zweite Vorladespannung aufgeladen, die höher als die erste Vorladespannung ist. Danach wird der aufgefrischte Speicherzustand der zuvor ausgelesenen Speicherzelle erneut ausgelesen. Nach jedem Lesezugriff wird die Vorladespannung der komplementären Bitleitungspaare so lange erhöht, bis die Speicherzelle nicht mehr korrekt ausgelesen werden kann. Mit Hilfe der beschriebenen Testschaltung lassen sich in einem Testbetrieb eines integrierten Halbleiterspeichers Ausfallgrenzen von Speicherzellen testen.
  • Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen integrierten Halbleiterspeicher anzugeben, bei dem die Vorladespannung veränderbar ist, so dass die Signalhübe, die sich auf einer Bitleitung beim Auslesen eines Speicherzustands einer Speicherzelle, die an die entsprechende Bitleitung angeschlossen ist, einstellen, in Bezug auf die veränderte Vorladespannung ausreichend groß und annähernd gleich ausfallen. Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren anzugeben, mit dem sich die Vorladespannung in einer Weise verändern lässt, so dass die Signalhübe, die sich auf einer Bitleitung beim Auslesen eines Speicherzustands einer Speicherzelle, die an die entsprechende Bitleitung ange schlossen ist, einstellen, in Bezug auf die veränderte Vorladespannung ausreichend groß und annähernd gleich ausfallen.
  • Die Aufgabe betreffend den integrierten Halbleiterspeicher wird gelöst durch einen integrierten Halbleiterspeicher mit einer Speicherzelle, die an eine Bitleitung angeschlossen ist, und bei dem die Bitleitung zum Aufladen auf eine Vorladespannung mit einem Anschluss zum Anlegen der Vorladespannung verbindbar ist. Der integrierte Halbleiterspeicher umfasst des Weiteren eine Steuerschaltung zur Erzeugung eines Steuersignals und einen steuerbaren Spannungsgenerator mit einem Eingangsanschluss zum Anlegen des von der Steuerschaltung erzeugten Steuersignals und mit einem Ausgangsanschluss zur Erzeugung der Vorladespannung. Der steuerbare Spannungsgenerator ist derart ausgebildet, dass er in Abhängigkeit von dem Steuersignal ausgangsseitig die Vorladespannung erzeugt. Der integrierte Halbleiterspeicher enthält weiter eine Detektorschaltung zur Messung eines Ausgleichsstroms zwischen dem Ausgangsanschluss des steuerbaren Spannungsgenerators und dem Anschluss zum Anlegen der Vorladespannung. Der von der Detektorschaltung gemessene Ausgleichsstrom ist der Steuerschaltung zuführbar. Die Steuerschaltung ist derart ausgebildet, dass sie in Abhängigkeit von der Größe des gemessenen Ausgleichsstroms das Steuersignal zur Ansteuerung des steuerbaren Spannungsgenerators erzeugt.
  • In einer Weiterbildung des integrierten Halbleiterspeichers umfasst der steuerbare Spannungsgenerator einen weiteren Eingangsanschluss zum Anlegen eines Istwertes der Vorladespannung. Der Anschluss zum Anlegen der Vorladespannung ist mit dem weiteren Eingangsanschluss des steuerbaren Spannungsgenerators verbunden. Dem steuerbaren Spannungsgenerator ist über das Steuersignal ein Sollwert der Vorladespannung zuführbar.
  • Der steuerbare Spannungsgenerator ist derart ausgebildet, dass er in Abhängigkeit von dem Istwert und dem Sollwert der Vorladespannung an seinem Ausgangsanschluss den Ausgleichsstrom erzeugt.
  • In einer weiteren Ausführungsform umfasst die Steuerschaltung ein erstes Speicherregister und ein zweites Speicherregister. In dem ersten und zweiten Speicherregister ist jeweils die Größe des von der Detektorschaltung gemessenen Ausgleichsstroms abspeicherbar.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist in der Speicherzelle ein erster und ein zweiter Speicherzustand abspeicherbar. Die Bitleitung nimmt beim Auslesen des ersten Speicherzustands der Speicherzelle ein erstes Spannungspotenzial und beim Auslesen des zweiten Speicherzustands der Speicherzelle ein zweites Spannungspotenzial an. Der steuerbare Spannungsgenerator ist derart ausgebildet, dass er zum Vorladen der Bitleitung von dem ersten Spannungspotenzial auf die Vorladespannung einen ersten Ausgleichsstrom erzeugt und zum Vorladen der Bitleitung von dem zweiten Spannungspotenzial auf die Vorladespannung einen zweiten Ausgleichsstrom erzeugt. Die Steuerschaltung ist derart ausgebildet, dass sie die Größe des von der Detektorschaltung gemessenen ersten Ausgleichsstroms in dem ersten Speicherregister und die Größe des von der Detektorschaltung gemessenen zweiten Ausgleichsstroms in dem zweiten Speicherregister abspeichert.
  • In einer anderen Ausführungsvariante weist die Steuerschaltung des integrierten Halbleiterspeichers eine Vergleicherschaltung auf. Die Größe des in dem ersten Speicherregister gespeicherten ersten Ausgleichsstroms und die Größe des in dem zweiten Speicherregister gespeicherten zweiten Aus gleichsstroms sind der Vergleicherschaltung zuführbar. Die Vergleicherschaltung ist derart ausgebildet, dass sie die Größe des ersten Ausgleichsstroms und die Größe des zweiten Ausgleichsstroms auswertet und in Abhängigkeit von der Größe des ersten und zweiten Ausgleichsstroms einen Pegel des Steuersignals erzeugt.
  • In einer weiteren Ausgestaltungsform des integrierten Halbleiterspeichers liegt das erste Spannungspotenzial oberhalb eines Pegels der Vorladespannung und das zweite Spannungspotenzial unterhalb des Pegels der Vorladespannung. Die Vergleicherschaltung ist derart ausgebildet, dass sie den Pegel des Steuersignals verändert, so dass der steuerbare Spannungsgenerator den Pegel der Vorladespannung anhebt, wenn der erste Ausgleichsstrom größer ist als der zweite Ausgleichsstrom und dass sie den Pegel des Steuersignals verändert, so dass der steuerbare Spannungsgenerator den Pegel der Vorladespannung absenkt, wenn der zweite Ausgleichsstrom größer ist als der erste Ausgleichsstrom.
  • Weitere Ausführungsformen betreffend den integrierten Halbleiterspeicher sind den Unteransprüchen zu entnehmen.
  • Ein Verfahren zum Testen eines integrierten Halbleiterspeichers sieht einen integrierten Halbleiterspeicher mit einer Speicherzelle zur Speicherung eines ersten oder eines zweiten Speicherzustands, die zum Ein- und Auslesen ihres Speicherzustands mit einer Bitleitung verbindbar ist, und einen steuerbaren Spannungsgenerator vor, der zum Vorladen der Bitleitung auf einen Sollwert einer Vorladespannung einen Ausgleichsstrom erzeugt. In einem ersten Verfahrensschritt wird der erste Speicherzustand in der Speicherzelle gespeichert. Anschließend wird die Bitleitung auf den Sollwert der Vorlade spannung vorgeladen. Nachfolgend wird die Speicherzelle mit der Bitleitung verbunden. Auf der Bitleitung wird daraufhin ein erstes Spannungspotenzials erzeugt. Danach wird zum Vorladen der Bitleitung auf den Sollwert der Vorladespannung ein erster Ausgleichsstrom durch den steuerbaren Spannungsgenerator erzeugt. Die Größe des ersten Ausgleichsstroms wird anschließend gemessen. In einem nachfolgenden Testschritt wird der zweite Speicherzustand in der Speicherzelle gespeichert. Die Bitleitung wird daraufhin auf den Sollwert der Vorladespannung vorgeladen. Nachfolgend wird die Speicherzelle mit der Bitleitung verbunden. Infolge dessen wird auf der Bitleitung ein zweites Spannungspotenzials erzeugt. Zum Vorladen der Bitleitung auf den Sollwert der Vorladespannung wird ein zweiter Ausgleichsstrom durch den steuerbaren Spannungsgenerator erzeugt. Die Größe des zweiten Ausgleichsstroms wird anschließend gemessen. Danach wird der Sollwert der Vorladespannung in Abhängigkeit von der Größe des ersten und zweiten Ausgleichsstroms verändert.
  • Gemäß einem weiteren Merkmal des Verfahrens zum Testen des integrierten Halbleiterspeichers wird der integrierte Halbleiterspeicher vorgesehen, wobei das erste Spannungspotenzial oberhalb des Sollwertes der Vorladespannung und das zweite Spannungspotenzial unterhalb des Sollwertes der Vorladespannung liegt. Der Sollwert der Vorladespannung wird durch Anheben des Sollwertes verändert, wenn der erste Ausgleichsstrom größer ist als der zweite Ausgleichsstrom. Des Weiteren wird der Sollwert der Vorladespannung durch Absenken des Sollwertes verändert, wenn der zweite Ausgleichsstrom größer ist als der erste Ausgleichsstrom.
  • Die Erfindung wird im Folgenden anhand von Figuren, die Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung zeigen, näher erläutert. Es zeigen:
  • 1 einen integrierten Halbleiterspeicher mit einer Veränderung der Vorladespannung gemäß der Erfindung,
  • 2 Spannungsverläufe auf einem Bitleitungspaar bei einer Veränderung der Vorladespannung gemäß der Erfindung,
  • 3 Spannungspotenziale auf einem Bitleitungspaar mit einer veränderten Vorladespannung gemäß der Erfindung,
  • 4 einen integrierten Halbleiterspeicher mit Erzeugung einer Vorladespannung gemäß dem Stand der Technik,
  • 5 einen Spannungsgenerator zur Erzeugung einer Vorladespannung mit einem Speicherzellenfeld gemäß dem Stand der Technik,
  • 6 Spannungspotenziale auf einem Bitleitungspaar beim Auslesen eines Speicherzustands einer Speicherzelle,
  • 7 Spannungspotenziale auf einem Bitleitungspaar beim Auslesen unterschiedlicher Speicherzustände gemäß dem Stand der Technik.
  • 1 zeigt einen integrierten Halbleiterspeicher 100 mit einer Schaltung zum Verändern einer Vorladespannung VEQ. Der erfindungsgemäße integrierte Halbleiterspeicher umfasst ein Speicherzellenfeld 10, das mit einem Eingangsanschluss E10 zum Anlegen der Vorladespannung VEQ und mit einem Datenanschluss DQ zum Ein- und Auslesen von Daten verbunden ist. Der integrierte Halbleiterspeicher weist darüber hinaus eine Steuerschaltung 20 mit einem Steueranschluss S20a zum Anlegen von Steuersignalen auf. Die Steuerschaltung 20 umfasst ein erstes Speicherregister 21 und ein zweites Speicherregister 22. Die in den Speicherregistern 21 und 22 abspeicherbaren Werte werden einer Vergleicherschaltung 23 zugeführt. Die Vergleicherschaltung 23 erzeugt ausgangsseitig ein Steuersignal S1, das sie einem Eingangsanschluss E30a eines steuerbaren Spannungsgenerators 30 zuführt. Der steuerbare Spannungsgenerator 30 weist einen Versorgungsanschluss V30 zum Anlegen einer Versorgungsspannung VDD und einen Bezugsspannungsanschluss B30 zum Anlegen einer Bezugsspannung VSS auf. Dem steuerbaren Spannungsgenerator 30 werden die Versorgungsspannung VDD von einem externen Versorgungsanschluss V100 des integrierten Halbleiterspeichers zum Anlegen der Versorgungsspannung VDD und die Bezugsspannung VSS von einem externen Bezugsspannungsanschluss B100 zum Anlegen der Bezugsspannung VSS zugeführt. Der steuerbare Spannungsgenerator 30 erzeugt an einem Ausgangsanschluss A30 die Vorladespannung VEQ. Der Ausgangsanschluss A30 ist mit einem steuerbaren Schalter 50 verbunden. Der steuerbare Schalter 50 wird von einem Steuersignal S2 von der Steuerschaltung 20 angesteuert. Je nach Ansteuerung mit dem Steuersignal S2 lässt sich der steuerbare Schalter 50 in eine erste Schalterstellung 1 oder eine zweite Schalterstellung 2 schalten. In der ersten Schalterstellung 1 ist der Ausgangsanschluss A30 des steuerbaren Spannungsgenerators 30 direkt mit dem Eingangsanschluss E10 zum Anlegen der Vorladespannung VEQ verbunden. In der Schalterstellung 2 ist der Ausgangsanschluss A30 des steuerbaren Spannungsgenerators 30 über eine Detektorschaltung 60 zur Messung von Ausgleichsströmen I1 und I2 mit dem Eingangsanschluss E10 zum Anlegen der Vorladespannung VEQ verbunden. Die Ausgleichsströme werden von dem steuerbaren Spannungsgenerator zum Vor laden von Bitleitungen des Speicherzellenfeldes 10 auf die Vorladespannung VEQ erzeugt und über den Anschluss E10 zum Anlegen der Vorladespannung auf die Bitleitungen des Speicherzellenfeldes 10 eingespeist. Die Detektorschaltung 60 weist einen Ausgangsanschluss A60 zur Erzeugung eines Messsignals MS auf. Über den Zustand des Messsignals MS lässt sich jeweils ein Wert der von der Detektorschaltung 60 gemessenen Ausgleichsströme I1 und I2 der Steuerschaltung 20 zuführen.
  • Im Folgenden wird die Funktionsweise der Schaltungskomponenten zum Verändern der Vorladespannung VEQ beschrieben, so dass der Signalhub beim Auslesen eines High-Speicherzustands und der Signalhub beim Auslesen eines Low-Speicherzustands auf der Bitleitung in Bezug auf den Pegel der Vorladespannung VEQ ausreichend groß und annähernd gleich ausfallen. Zu Beginn des Testverfahrens wird der integrierte Halbleiterspeicher durch Anlegen eines Testmodussignals TM an den Steueranschluss S20a der Steuerschaltung 20 in einen Testbetriebszustand geschaltet. Im Testbetriebszustand steuert die Steuerschaltung 20 den steuerbaren Schalter 50 mit dem Steuersignal S2 in der Weise an, dass der steuerbare Schalter in der Schalterstellung 2 geschaltet ist. Der Ausgangsanschluss A30 des steuerbaren Spannungsgenerators 30 ist somit über die Detektorschaltung 60 mit dem Eingangsanschluss E10 zum Anlegen der Vorladespannung VEQ verbunden.
  • Um festzustellen, wie groß der Signalhub ΔUH ausfällt, der sich beim Auslesen eines High-Speicherzustands auf der Bitleitung BL einstellt, wird in Speicherzellen, die entlang einer Wortleitung des Speicherzellenfeldes angeordnet sind, mit dem High-Pegel ein erster Speicherzustand abgespeichert. Die Bitleitungen des Speicherzellenfeldes werden anschließend von dem steuerbaren Spannungsgenerator 30 auf die Vorladespannung VEQ vorgeladen. Der Pegel der Vorladespannung ergibt sich dabei je nach Zustand des Steuersignals S1. In der Vorladephase sind die Auswahltransistoren der Speicherzellen des Speicherzellenfeldes gesperrt. Die Schalttransistoren Tr1, Tr2 und Tr3 der Vorladeschaltung EC sind durch Ansteuerung ihrer Steueranschlüsse mit dem Steuersignal VP leitend gesteuert. Bei diesem erstmaligen Vorladen der Bitleitungen liegt der von der Steuerschaltung 20 vorgegebene Sollwert der Vorladespannung vorzugsweise in der Mitte des hohen Spannungspotenzials VBH und des niedrigen Spannungspotenzials VBL der gespreizten Bitleitungen liegt. Wenn das niedrige Spannungspotenzial VBL der gespreizten Bitleitungen dem Massepotenzial entspricht, so werden die Bitleitungen auf die Vorladespannung VEQ = VBH/2 aufgeladen. Danach wird die Vorladeschaltung EC durch Ansteuerung mit dem Steuersignal VN wieder deaktiviert, indem die Schalttransistoren Tr1, Tr2 und Tr3 gesperrt werden.
  • Die mit der Wortleitung verbundenen Speicherzellen werden anschließend zum Auslesen ihres Speicherzustandes mit den jeweiligen Bitleitungen verbunden, in dem die zugehörigen Auswahltransistoren leitend gesteuert werden. 2 zeigt im ersten Diagramm die Potenzialzustände auf einem Bitleitungspaar, dessen Bitleitung BL an eine Speicherzelle angeschlossen ist, die den High-Speicherzustand aufweist. Zum Zeitpunkt T1 wird der Auswahltransistor der Speicherzelle leitend gesteuert, so dass sich auf der Bitleitung durch den Signalhub ΔUH das Spannungspotenzial V1 einstellt. Die komplementäre Bitleitung /BL ist von dem Vorladevorgang vor dem Zeitpunkt T1 noch auf die Vorladespannung VEQ aufgeladen.
  • Im Gegensatz zum Normalbetriebszustand erfolgt zum Zeitpunkt T2 jedoch nicht die Spreizung der Bitleitungen BL und /BL auf das hohe Spannungspotenzial VBH beziehungsweise das niedrige Spannungspotenzial VBL, wie in 6 dargestellt. Statt dessen erfolgt ein erneutes Vorladen der Bitleitungen auf die Vorladespannung VEQ. Beim Kurzschließen der Bitleitung BL und der komplementären Bitleitung /BL zum Zeitpunkt T2 über den Schalttransistor Tr1 wird sich ein Mittenpotenzial einstellen, das oberhalb der Vorladespannung VEQ liegt. Von dem steuerbaren Spannungsgenerator 30 fließt daher ein Ausgleichsstrom I1 auf das Bitleitungspaar, bis der Spannungspegel auf beiden Bitleitungen wieder den Pegel der von dem steuerbaren Spannungsgenerator 30 vorgegebenen Pegels der Vorladespannung VEQ erreicht hat. Die Größe beziehungsweise die Stromstärke des Ausgleichsstroms I1 entspricht der im ersten Diagramm der 2 schraffiert dargestellten Fläche. Die Detektorschaltung 60 misst den ersten Ausgleichsstrom I1 und führt die Größe des gemessenen Ausgleichsstroms durch das Messsignal MS der Steuerschaltung 20 zu. In der Steuerschaltung 20 wird die Größe des Ausgleichsstroms I1 in dem Speicherregister 21 abgespeichert.
  • Um festzustellen, wie der Signalhub ΔUL auf den Bitleitungen des Speicherzellfeldes ausfällt, der sich beim Auslesen des Low-Speicherzustands einstellt, werden die Speicherzellen entlang einer der Wortleitungen nachfolgend mit dem zweiten Speicherzustand, dem Low-Pegel, beschrieben. Das zweite Diagramm der 2 zeigt die Spannungspegel auf einem Bitleitungspaar, dessen Bitleitung BL an einer Speicherzelle angeschlossen ist, in der der Low-Speicherzustand abgespeichert ist. Nach dem Vorladen der Bitleitungen BL und /BL vor dem Zeitpunkt T1 auf die Vorladespannung VEQ = VBH/2 wird zum Zeitpunkt T1 die Speicherzelle, die an die Bitleitung BL an geschlossen ist, aktiviert, indem der zugehörige Auswahltransistor leitend gesteuert wird. Die Transistoren Tr1, Tr2 und Tr3 der Vorladeschaltung EC werden von der Steuerschaltung 20 gesperrt. Auf der Bitleitung BL stellt sich, wie im zweiten Diagramm der 2 gezeigt, durch den Signalhub ΔUL das Spannungspotenzial V2 ein, das unterhalb des Pegels der Vorladespannung VEQ liegt.
  • Zum Zeitpunkt T2 werden die Auswahltransistoren der an die Wortleitung angeschlossenen Speicherzellen wieder gesperrt und die Vorladeschaltung EC aktiviert. Durch das Kurzschließen der Bitleitung BL und ihrer komplementären Bitleitung /BL kommt es auf jedem Bitleitungspaar zu einer kurzfristigen Anhebung des Spannungspotenzials auf der Bitleitung BL und einer kurzfristigen Absenkung des Spannungspotenzials auf der komplementären Bitleitung /BL. Um die Bitleitungen auf die von dem steuerbaren Spannungsgenerator 30 vorgegebene Vorladespannung VEQ aufzuladen, wird von dem steuerbaren Spannungsgenerator 30 ein Ausgleichsstrom I2 auf das dargestellte Bitleitungspaar eingespeist. Die Stromstärke dieses Ausgleichsstroms, die der schraffiert dargestellten Fläche im zweiten Diagramm der 2 entspricht, wird ebenfalls von der Detektorschaltung 60 gemessen und über das Messsignal MS der Steuerschaltung 20 zugeführt. In der Steuerschaltung 20 wird die Größe des Ausgleichsstroms I2 in dem Speicherregister 22 abgespeichert.
  • Die Vergleicherschaltung 23 vergleicht nachfolgend die Stromstärke des in dem Speicherregister 21 gespeicherten Ausgleichsstroms I1 mit der Stromstärke des in dem Speicherregister 22 gespeicherten Ausgleichsstroms I2. Wenn die Stromstärken beider Ströme gleich ausgefallen sind, entspricht der von der Steuerschaltung 20 vorgegebene Sollwert der Vorlade spannung einen Pegel der zentriert zwischen dem Spannungspotenzial V1 und dem Spannungspotenzial V2 liegt. Wenn hingegen, wie in 2 dargestellt ist, der Ausgleichsstrom I1 größer ausgefallen ist als der Ausgleichsstrom I2, so ist der von der Steuerschaltung 20 vorgegebene Sollwert der Vorladespannung zu niedrig. Der Sollwert muss daher angehoben werden, damit der Pegel der Vorladespannung zentriert zu den Spannungspotenzialen V1 und V2 liegt. Die Vergleicherschaltung 23 wird daher dem steuerbaren Spannungsgenerator 30 durch Verändern des Zustandes des Steuersignals S1 einen höheren Sollwert der Vorladespannung vorgeben. Anschließend wird das beschriebene Verfahren mit der höheren Vorladespannung wiederholt.
  • Wenn hingegen, wie dies in 7 erläutert wurde, der Signalhub ΔUH beim Auslesen des High-Speicherzustands niedriger ausgefallen ist als der Spannungshub ΔUL beim Auslesen des Low-Speicherzustands, also der Ausgleichsstroms I1 kleiner ausgefallen ist als der Ausgleichsstrom I2, so wird die Vergleicherschaltung 23 den steuerbaren Spannungsgenerator 30 mit einem veränderten Pegel des Steuersignals S1 ansteuern, so dass der steuerbare Spannungsgenerator 30 einen niedrigeren Pegel der Vorladespannung erzeugt. Anschließend wird das Verfahren mit der niedrigeren Vorladespannung VEQ wiederholt.
  • Die Vorladespannung VEQ wird von der Vergleicherschaltung 23 so lange angepasst, bis die Stromstärke des Ausgleichsstroms I1 mit der Stromstärke des Ausgleichsstroms I2 übereinstimmt. 3 zeigt die zu dem Beispiel der 7 veränderte Vorladespannung, so dass der Signalhub ΔUH dem Signalhub ΔUL entspricht. Die veränderte Vorladespannung liegt unterhalb der ursprünglichen vorgegebenen Vorladespannung der 7.
  • Damit die Ausgleichsströme nicht von lokalen Leckmechanismen der Bitleitungen verfälscht werden, werden vorzugsweise parallel gleichzeitig mehrere Ausgleichsströme von mehreren Bitleitungspaaren überlagert und daraus ein Sollwert der Vorladespannung ermittelt, der zentriert zu dem Spannungspotenzial V1 des Signalhubs ΔUH und dem Spannungspotenzial V2 des Signalhubs ΔUL liegt.
  • Der ermittelte Sollwert der Vorladespannung wird von der Steuerschaltung 20 in einer Speichereinheit 70 abgespeichert und beim Aktivieren des integrierten Halbleiterspeichers von der Steuerschaltung 20 abgefragt und dem steuerbaren Spannungsgenerator 30 zum Vorladen der Bitleitungen des Speicherzellenfeldes 10 entsprechend vorgegeben. Dies ist insbesondere dann vorteilhaft, wenn sich der integrierte Halbleiterspeicher noch im Testzustand befindet. Ein endgültiger Pegel der Vorladespannung braucht in dieser Phase noch nicht festgelegt zu werden.
  • In einer anderen Ausführungsform wird der ermittelte Sollwert dem Datenanschluss DQ zugeführt. Dazu steuert die Steuerschaltung 20 einen steuerbaren Schalter 80 mit einem Steuersignal S3 an, wenn die Vergleicherschaltung 23 gleiche Ausgleichsströme I1 und I2 detektiert hat. Durch die Ansteuerung mit dem Steuersignal S3 wird der steuerbare Schalter 80 geschlossen und somit der Ausgangsanschluss A30 des steuerbaren Spannungsgenerators 30 mit dem Datenanschluss DQ verbunden. Der von dem steuerbaren Spannungsgenerator erzeugte Pegel der Vorladespannung, der in diesem Fall dem zentrierten Pegel zwischen dem Spannungspotenzial V1 und dem Spannungspotenzial V2 entspricht, kann am Datenanschluss DQ des integrierten Halbleiterspeichers beispielsweise von einem Tester abgegriffen werden.
  • Die Steuerschaltung 20 kann einen weiteren Steueranschluss S20b aufweisen. An diesen Steueranschluss lässt sich der Sollwert VEQS der Vorladespannung von extern, beispielsweise von dem Tester, in der Testphase des integrierten Halbleiterspeichers vorgeben.
  • Am Ende des Fertigungsprozesses des integrierten Halbleiterspeichers wird die zentrierte Vorladespannung am Datenanschluss DQ von einer Fertigungseinheit ausgelesen und in der Speichereinheit 70 irreversibel gespeichert. Die Speichereinheit 70 enthält dazu Fuseelemente 71, die von der Fertigungseinheit durch Bestrahlung mit einem Laserpuls entsprechend programmiert werden. Der durch den Fuse-Prozess eingespeicherte Sollwert VEQS der Vorladespannung wird beim Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers von der Steuerschaltung 20 abgefragt und dem steuerbaren Spannungsgenerator 30 als Sollwert durch den entsprechenden Pegel des Steuersignals S1 vorgegeben.
  • 10
    Speicherzellenfeld
    20
    Steuerschaltung
    21, 22
    Speicherregister
    23
    Vergleicherschaltung
    30
    steuerbarer Spannungsgenerator
    40
    Adressregister
    50
    erster steuerbarer Schalter
    60
    Detektorschaltung
    70
    Speichereinheit
    71
    Fuseelement
    80
    zweiter steuerbarer Schalter
    A
    Ausgangsanschluss
    ACT
    Aktivierungssignal
    AS
    Adresssignal
    AT
    Auswahltransistor
    B
    Bezugsspannungsanschluss
    BL
    Bitleitung
    CBL
    Kapazität der Bitleitung
    DQ
    Datenanschluss
    E
    Eingangsanschluss
    EC
    Vorladeschaltung
    I
    Ausgleichsstrom
    MS
    Messsignal
    PRE
    Vorladesignal
    RD
    Schreibsignal
    S
    Steuersignal
    SA
    primärer Leseverstärker
    SC
    Speicherkondensator
    SSA
    sekundärer Leseverstärker
    SZ
    Speicherzelle
    TM
    Testmodussignal
    Tr
    Schalttransistoren
    ΔU
    Signalhub
    V
    Versorgungsspannungsanschluss
    V1, V2
    Spannungspotenzial in Folge des Signalhubs
    VBH, VBL
    Spannungspotenzial der gespreizten Bitleitungen
    VDD
    Versorgungspotenzial
    VEQ
    Vorladespannung
    VEQS
    Sollwert der Vorladespannung
    VN, VP
    Steuersignale der Vorladeschaltung
    VPP, VNW
    Steuersignale der Wortleitung
    VSS
    Bezugsspannungspotenzial
    WL
    Wortleitung

Claims (13)

  1. Integrierter Halbleiterspeicher – mit einer Speicherzelle (SZ), die an eine Bitleitung (BL) angeschlossen ist, – bei dem die Bitleitung (BL) zum Aufladen auf eine Vorladespannung (VEQ) mit einem Anschluss (E10) zum Anlegen der Vorladespannung (VEQ) verbindbar ist, – mit einer Steuerschaltung (20) zur Erzeugung eines Steuersignals (S1), – mit einem steuerbaren Spannungsgenerator (30) mit einem Eingangsanschluss (E30a) zum Anlegen des von der Steuerschaltung (20) erzeugten Steuersignals (S1) und mit einem Ausgangsanschluss (A30) zur Erzeugung der Vorladespannung (VEQ), – bei dem der steuerbare Spannungsgenerator (30) derart ausgebildet ist, dass er in Abhängigkeit von dem Steuersignal (S1) ausgangsseitig (A30) die Vorladespannung (VEQ) erzeugt, – mit einer Detektorschaltung (60) zur Messung eines Ausgleichsstroms (I) zwischen dem Ausgangsanschluss (A30) des steuerbaren Spannungsgenerators (20) und dem Anschluss (E10) zum Anlegen der Vorladespannung (VEQ), – bei dem der von der Detektorschaltung (60) gemessene Ausgleichsstrom (I) der Steuerschaltung (20) zuführbar ist, – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie in Abhängigkeit von der Größe des gemessenen Ausgleichsstroms (I) das Steuersignal (S1) zur Ansteuerung des steuerbaren Spannungsgenerators (30) erzeugt.
  2. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 1, – bei dem der steuerbare Spannungsgenerator (30) einen weiteren Eingangsanschluss (E30b) zum Anlegen eines Istwertes der Vorladespannung (VEQ) umfasst, – bei dem der Anschluss (E10) zum Anlegen der Vorladespannung (VEQ) mit dem weiteren Eingangsanschluss (E30b) des steuerbaren Spannungsgenerators (30) verbunden ist, – bei dem dem steuerbaren Spannungsgenerator (30) über das Steuersignal (S1) ein Sollwert der Vorladespannung zuführbar ist, – bei dem der steuerbare Spannungsgenerator (30) derart ausgebildet ist, dass er in Abhängigkeit von dem Istwert und dem Sollwert der Vorladespannung (VEQ) an seinem Ausgangsanschluss (A30) den Ausgleichsstrom (I) erzeugt.
  3. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 oder 2 – mit einem ersten steuerbaren Schalter (50), der in eine erste Schalterstellung (1) und in eine zweite Schalterstellung (2) schaltbar ist, – bei dem der Ausgangsanschluss (A30) des steuerbaren Spannungsgenerators (30) in der ersten Schalterstellung (1) des ersten steuerbaren Schalters unter Überbrückung der Detektorschaltung (60) mit dem Anschluss (E10) zum Anlegen der Vorladespannung (VEQ) verbunden ist, – bei dem der Ausgangsanschluss (A30) des steuerbaren Spannungsgenerators (30) in der zweiten Schalterstellung (2) des ersten steuerbaren Schalters über die Detektorschaltung (60) mit dem Anschluss (E10) zum Anlegen der Vorladespannung (VEQ) verbunden ist.
  4. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 3, – bei dem der integrierte Halbleiterspeicher in einem Normalbetriebszustand und in einem Testbetriebszustand betreibbar ist, – bei dem der erste steuerbare Schalter (50) von der Steuerschaltung (20) in die erste Schalterstellung (1) oder die zweite Schalterstellung (2) steuerbar ist, – bei dem die Steuerschaltung (20) an einem Steueranschluss (S20a) von einem Testmodussignal (TM) ansteuerbar ist, – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie in dem Normalbetriebszustand des integrierten Halbleiterspeichers den ersten steuerbaren Schalter (50) in die erste Schalterstellung (1) steuert, – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie bei einer Ansteuerung mit dem Testmodussignal (TM) den integrierten Halbleiterspeicher in dem Testbetriebszustand betreibt und im Testbetriebszustand den ersten steuerbaren Schalter (50) in die zweite Schalterstellung (2) steuert.
  5. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 4, – bei dem die Steuerschaltung (20) ein erstes Speicherregister (21) und ein zweites Speicherregister (22) umfasst, – bei dem in dem ersten und zweiten Speicherregister (21, 22) jeweils die Größe des von der Detektorschaltung (60) gemessenen Ausgleichsstroms (I) abspeicherbar ist.
  6. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 5, – bei dem in der Speicherzelle (SZ) ein erster und ein zweiter Speicherzustand abspeicherbar ist, – bei dem die Bitleitung (BL) beim Auslesen des ersten Speicherzustands der Speicherzelle ein erstes Spannungspotenzial (V1) und beim Auslesen des zweiten Speicherzustands der Speicherzelle ein zweites Spannungspotenzial (V2) annimmt, – bei dem der steuerbare Spannungsgenerator (30) derart ausgebildet ist, dass er zum Vorladen der Bitleitung (BL) von dem ersten Spannungspotenzial (V1) auf die Vorladespannung (VEQ) einen ersten Ausgleichsstrom (I1) erzeugt und zum Vorladen der Bitleitung (BL) von dem zweiten Spannungspotenzial (V2) auf die Vorladespannung (VEQ) einen zweiten Ausgleichsstrom (I2) erzeugt, – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie die Größe des von der Detektorschaltung (60) gemessenen ersten Ausgleichsstroms (I1) in dem ersten Speicherregister (21) und die Größe des von der Detektorschaltung (60) gemessenen zweiten Ausgleichsstroms (I2) in dem zweiten Speicherregister (22) abspeichert.
  7. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 6, – bei dem die Steuerschaltung (20) eine Vergleicherschaltung (23) aufweist, – bei dem die Größe des in dem ersten Speicherregister (21) gespeicherten ersten Ausgleichsstroms (I1) und die Größe des in dem zweiten Speicherregister (22) gespeicherten zweiten Ausgleichsstroms (I2) der Vergleicherschaltung (23) zuführbar sind, – bei dem die Vergleicherschaltung (23) derart ausgebildet ist, dass sie die Größe des ersten Ausgleichsstroms (I1) und die Größe des zweiten Ausgleichsstroms (I2) auswertet und in Abhängigkeit von der Größe des ersten und zweiten Ausgleichsstroms einen Pegel des Steuersignals (S1) erzeugt.
  8. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 7, – bei dem das erste Spannungspotenzial (V1) oberhalb eines Pegels der Vorladespannung (VEQ) und das zweite Spannungspotenzial (V2) unterhalb des Pegels der Vorladespannung (VEQ) liegt, – bei dem die Vergleicherschaltung (23) derart ausgebildet ist, dass sie den Pegel des Steuersignal (S1) verändert, so dass der steuerbare Spannungsgenerator (30) den Pegel der Vorladespannung anhebt, wenn der erste Ausgleichsstrom (I1) größer ist als der zweite Ausgleichsstrom (I2) und dass sie den Pegel des Steuersignal (S1) verändert, so dass der steuerbare Spannungsgenerator (30) den Pegel der Vorladespannung absenkt, wenn der zweite Ausgleichsstrom (I2) größer ist als der erste Ausgleichsstrom (I1).
  9. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 8 – mit einer Speichereinheit (70) zur Speicherung des Sollwertes (VEQS) der Vorladespannung, – bei dem der Sollwert (VEQS) der Vorladespannung der Steuerschaltung (20) zuführbar ist, – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie im Normalbetriebszustand den steuerbaren Spannungsgenerator (30) mit dem Pegel des Steuersignals ansteuert, so dass der von dem steuerbaren Spannungsgenerator (30) ausgangsseitig (A30) erzeugte Pegel der Vorladespannung (VEQ) den Sollwert (VEQS) der Vorladespannung annimmt.
  10. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 9, bei dem die Speichereinheit (70) Fuseelemente (71) umfasst.
  11. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 6 bis 10 – mit einem Ausgangsanschluss (DQ), – mit einem zweiten steuerbaren Schalter (80), – bei dem der Ausgangsanschluss (A30) des steuerbaren Spannungsgenerators (30) über den zweiten steuerbaren Schalter (80) mit dem Ausgangsanschluss (DQ) des integrierten Halbleiterspeichers verbindbar ist, – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie den zweiten steuerbaren Schalter (80) leitend steuert, wenn der erste Ausgleichsstrom (I1) mit dem zweiten Ausgleichsstrom (I2) übereinstimmt.
  12. Verfahren zum Testen eines integrierten Halbleiterspeichers, umfassend die folgenden Schritte: – Vorsehen eines integrierten Halbleiterspeichers mit einer Speicherzelle (SZ) zur Speicherung eines ersten oder eines zweiten Speicherzustands, die zum Ein- und Auslesen des ersten oder zweiten Speicherzustands mit einer Bitleitung (BL) verbindbar ist, und mit einem steuerbaren Spannungsgenerator (30), der zum Vorladen der Bitleitung (BL) auf einen Sollwert (VEQS) einer Vorladespannung (VEQ) einen Ausgleichsstrom (I1, I2) erzeugt, – Speichern des ersten Speicherzustands in der Speicherzelle (SZ), – nachfolgend Vorladen der Bitleitung (BL) auf den Sollwert (VEQS) der Vorladespannung (VEQ), – nachfolgend Verbinden der Speicherzelle (SZ) mit der Bitleitung (BL) und Erzeugen eines ersten Spannungspotenzials (V1) auf der Bitleitung (BL), – nachfolgend Erzeugen eines ersten Ausgleichsstroms (I1) durch den steuerbaren Spannungsgenerator (30) zum Vorla den der Bitleitung (BL) auf den Sollwert (VEQS) der Vorladespannung, – nachfolgend Messen der Größe des ersten Ausgleichsstroms (I1), – nachfolgend Speichern des zweiten Speicherzustands in der Speicherzelle (SZ), – nachfolgend Vorladen der Bitleitung (BL) auf den Sollwert (VEQS) der Vorladespannung, – nachfolgend Verbinden der Speicherzelle (SZ) mit der Bitleitung (BL) und Erzeugen eines zweiten Spannungspotenzials (V2) auf der Bitleitung (BL), – nachfolgend Erzeugen eines zweiten Ausgleichsstroms (I2) durch den steuerbaren Spannungsgenerator (30) zum Vorladen der Bitleitung (BL) auf den Sollwert (VEQS) der Vorladespannung (VEQ), – nachfolgend Messen der Größe des zweiten Ausgleichsstroms, – nachfolgend Verändern des Sollwertes (VEQS) der Vorladespannung in Abhängigkeit von der Größe des ersten und zweiten Ausgleichsstroms (I1, I2).
  13. Verfahren zum Testen des integrierten Halbleiterspeichers nach Anspruch 12, umfassend die folgenden Schritte: – Vorsehen des integrierten Halbleiterspeichers, bei dem das erste Spannungspotenzial (V1) oberhalb des Sollwertes (VEQS) der Vorladespannung und das zweite Spannungspotenzial (V2) unterhalb des Sollwertes (VEQS) der Vorladespannung liegt, – Verändern des Sollwertes (VEQS) der Vorladespannung durch Anheben des Sollwertes, wenn der erste Ausgleichsstrom (I1) größer ist als der zweite Ausgleichsstrom (I2), – Verändern des Sollwertes (VEQS) der Vorladespannung (VEQ) durch Absenken des Sollwertes, wenn der zweite Aus gleichsstrom (I2) größer ist als der erste Ausgleichsstrom (I1).
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