DE10147132A1 - Herstellungssystem für Halbleiterbauteile sowie Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung - Google Patents

Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Halbleiterbauteil-Herstellungssystem (400) zur Herstellung eines Halbleiterbauteils auf einer Scheibe (44), enthaltend eine erste Belichtungsvorrichtung (300), die eine Scheibe (44) unter Verwendung einer Lichtquelle belichtet, während sie die Scheibe (44) über einen festgelegten Abstand hinweg bewegt; und eine zweite Belichtungsvorrichtung (100) zur Belichtung der Scheibe (44) durch Ausstrahlen mehrerer Elektronenstrahlen auf die Scheibe (44), wobei die mehreren Elektronenstrahlen einen Abstand aufweisen, der im wesentlichen einem N-fachen oder einem 1/N-fachen des festgelegten Abstands entspricht, wobei N eine natürliche Zahl ist.

Description

Hintergrund der Erfindung 1. Bereich der Erfindung

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Herstel­ lungssystem für Halbleiterbauteile sowie auf eine Elek­ tronenstrahl-Belichtungsvorrichtung. Insbesondere be­ trifft die vorliegende Erfindung ein Herstellungssystem für Halbleiterbauteile, das zur Herstellung eines Halb­ leiterbauteils eine Belichtung einer Scheibe unter Ein­ satz mehrerer Elektronenstrahlen durchführt, die durch einen bevorzugten Abstand voneinander getrennt sind.

2. Beschreibung des Standes der Technik

Eine herkömmliche Elektronenstrahl-Belichtungsvorrich­ tung, die einen Belichtungsprozeß unter Einsatz mehre­ rer Elektronenstrahlen durchführt, strahlt die durch einen konstanten Abstand voneinander getrennten Elek­ tronenstrahlen auf eine Scheibe aus und erzeugt so auf der Scheibe ein Belichtungsmuster. Die herkömmliche Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung speichert alle Belichtungsmusterdaten des auf der Scheibe herzustel­ lenden Chips und liefert auf den gespeicherten Belich­ tungsmusterdaten basierende individuelle Belichtungsmu­ sterdaten zum Steuersystem, das jeden der mehreren Elektronenstrahlen steuert. Bei den individuellen Be­ lichtungsmusterdaten handelt es sich um Belichtungsmu­ sterdaten, die die Bereiche betreffen, an denen die Be­ lichtung durch die mehreren Elektronenstrahlen jeweils erfolgen soll. Das Steuersystem führt durch Steuerung der einzelnen Strahlen auf der Grundlage der individu­ ellen Belichtungsmusterdaten an der Scheibe einen Be­ lichtungsprozeß durch.

Die herkömmliche Elektronenstrahl-Belichtungsvorrich­ tung umfaßt zudem eine Speichereinheit, die individu­ elle Belichtungsmusterdaten speichert, welche für jeden der mehreren Elektronenstrahlen aus allen Belichtungs­ musterdaten extrahiert werden. Für die Speichereinheit wird beispielsweise ein Höchstgeschwindigkeits-Halblei­ terspeicher benötigt.

Das Integrationsniveau von Elementen, beispielsweise von Transistoren, in elektronischen Bauteilen hat sich in letzter Zeit erhöht. Dementsprechend wird mittler­ weile für ein elektronisches Bauteil auch eine große Menge an Belichtungsmusterdaten für die Belichtung ei­ ner Scheibe benötigt. Dies führt insofern zu einem Pro­ blem, als die Kosten für eine herkömmliche Elektronen­ strahl-Belichtungsvorrichtung sehr hoch werden, weil für eine herkömmliche Elektronenstrahl-Belichtungsvor­ richtung zur Speicherung der individuellen Belichtungs­ musterdaten eine Speichereinheit mit großer Kapazität, beispielsweise ein Halbleiterspeicher mit äußerst hoher Geschwindigkeit, benötigt wird.

Zudem muß bei einer herkömmlichen Elektronenstrahl-Be­ lichtungsvorrichtung ein Chip selbst dann durch mehrere Elektronenstrahlen belichtet werden, wenn die Breite des auf der Scheibe herzustellenden Chips kleiner ist als der Abstand, d. h. der Zwischenraum zwischen den mehreren Elektronenstrahlen. Dies führt insofern zu ei­ nem Problem, als hier an der Grenze zwischen dem Be­ reich, in dem eine Chip durch einen Elektronenstrahl belichtet wird, und einem Bereich, in dem ein diesem Elektronenstrahl benachbarter, anderer Elektronenstrahl denselben Chip belichtet, eine ungenaue Überdeckung des Belichtungsmusters erfolgt. Handelt es sich beim Be­ lichtungsmuster um ein Schaltungsmuster des elektroni­ schen Bauteils, so führt dies zu einer erheblichen Er­ höhung des Schaltwiderstands bzw. Verringerung der Zu­ verlässigkeit der Schaltungen an der Stelle, an der die ungenaue Überdeckung auftritt.

Überblick über die Erfindung

Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zu­ grunde, ein Herstellungssystem für Halbleiterbauteile sowie eine Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung zu beschreiben, bei denen die erwähnten Probleme des Stan­ des der Technik vermieden werden. Diese Aufgabe wird durch in den unabhängigen Ansprüchen erwähnte Kombina­ tionen gelöst. Den abhängigen Ansprüche lassen sich weitere vorteilhafte und als Beispiele dienende erfin­ dungsgemäße Kombinationen entnehmen.

Gemäß dem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung ent­ hält ein Halbleiterbauteil-Herstellungssystem zur Her­ stellung eines Halbleiterbauteils auf einer Scheibe die folgenden Bestandteile: eine erste Belichtungsvorrich­ tung zur Belichtung der Scheibe unter Einsatz einer Lichtquelle, während die Scheibe über einen festgeleg­ ten Abstand hinweg bewegt wird; und eine zweite Belich­ tungsvorrichtung zur Belichtung der Scheibe durch Be­ strahlen einer Scheibe mit mehreren Elektronenstrahlen, wobei die mehreren Elektronenstrahlen einen Abstand aufweisen, der im wesentlichen einem N-fachen bzw. ei­ nem 1/N-fachen des festgelegten Abstands entspricht, wobei N eine natürliche Zahl ist.

Die zweite Belichtungsvorrichtung kann mehrere Mehrach­ sen-Elektronenlinsen umfassen, die jeden der mehreren Elektronenstrahlen individuell konvergieren; wobei jede der Mehrachsen-Elektronenlinsen mehrere Linsenöffnungs­ abschnitte enthalten kann, die von den mehreren Elek­ tronenstrahlen passiert werden; und wobei die Linsen­ öffnungsabschnitte durch einen Abstand voneinander ge­ trennt sein können, der im wesentlichen einem N-fachen oder einem 1/N-fachen des festgelegten Scheibenbewe­ gungsabstands bei der ersten Belichtungsvorrichtung entspricht.

Jede der Mehrachsen-Elektronenlinsen kann mehrere Blindöffnungsabschnitte enthalten, die von den Elektro­ nenstrahlen nicht passiert werden und in einem um die mehreren Linsenöffnungsabschnitte herum verlaufenden Umfangsbereich angeordnet sind. Jede Mehrachsen-Elek­ tronenlinse kann dabei eine die Linsenöffnungsab­ schnitte aufweisende Linseneinheit umfassen; wobei die Linsenöffnungsabschnitte so angeordnet sein können, daß sie gleichmäßig über die gesamte Linseneinheit verteilt sind. Jede Mehrachsen-Elektronenlinse kann aber auch eine die Linsenöffnungsabschnitte aufweisende Linsen­ einheit umfassen, in der die Linsenöffnungsabschnitte so angeordnet sind, daß sie eine bandartige Form bil­ den. Die Linsenöffnungsabschnitte im Mittelbereich der Linseneinheit können im übrigen einen kleineren Durch­ messer aufweisen als die Linsenöffnungsabschnitte in einem äußeren Bereich der Linseneinheit.

Die Linseneinheit kann ein erstes magnetisches, leitfä­ higes Linsenteilelement und ein zweites magnetisches, leitfähiges Linsenteilelement enthalten, die im wesent­ lichen parallel zueinander angeordnet sind, wobei zwi­ schen beiden ein Zwischenraum vorhanden ist; und wobei die Linseneinheit zusätzlich ein nicht magnetisches, leitfähiges Element im Raum zwischen dem ersten magne­ tischen, leitfähigen Linsenteilelement und dem zweiten magnetischen, leitfähigen Linsenteilelement aufweisen kann.

Jede der Mehrachsen-Elektronenlinsen kann eine die Lin­ senöffnungsabschnitte aufweisende Linseneinheit sowie eine rund um die Linseneinheit herum angeordnete und zur Erzeugung von Magnetfeldern dienende Spuleneinheit enthalten; wobei die Spuleneinheit ein durch ein magne­ tisches, leitfähiges Element gebildetes magnetisches, leitfähiges Spulenteilelement sowie eine Spule zur Er­ zeugung der Magnetfelder umfassen kann; und wobei die Linseneinheit mehrere magnetische, leitfähige Linsen­ teilelemente aufweisen kann, bei denen es sich um mag­ netische, leitfähige Elemente handelt; wobei das Mate­ rial, aus dem das magnetische, leitfähige Spulenteil­ element besteht eine andere magnetische Permeabilität aufweisen kann als das Material, aus dem die magneti­ schen, leitfähigen Linsenteilelemente bestehen.

Die zweite Belichtungsvorrichtung kann mehrere Ablenk­ elemente umfassen, die jeden der mehreren Elektronen­ strahlen individuell ablenken; wobei die Ablenkelemente voneinander durch einen Abstand getrennt sein können, der im wesentlichen einem N-fachen oder einem 1/N-fa­ chen des festgelegten Abstands entspricht.

Eine Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung gemäß dem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung, die zur Be­ lichtung einer Scheibe in Kombination mit einer Belich­ tung durch einen optischen Stepper dient und bei der mehrere Elektronenstrahlen zum Einsatz kommen, enthält eine Belichtungseinheit zur Belichtung der Scheibe durch Bestrahlung der Scheibe mit mehreren Elektronen­ strahlen, wobei die mehreren Elektronenstrahlen einen Abstand aufweisen, der im wesentlichen einem N-fachen oder einem 1/N-fachen eines festgelegten Scheibenbewe­ gungsabstands beim optischen Stepper entspricht, wobei N eine natürliche Zahl ist.

Die Belichtungseinheit kann mehrere Mehrachsen-Elektro­ nenlinsen umfassen, die jeden der mehreren Elektronen­ strahlen individuell konvergieren; wobei jede Mehrach­ sen-Elektronenlinse mehrere Linsenöffnungsabschnitte aufweisen kann, die von den mehreren Elektronenstrahlen passiert werden; und wobei die Linsenöffnungsabschnitte durch einen Abstand voneinander getrennt sein können, der im wesentlichen einem N-fachen oder einem 1/N-fa­ chen des festgelegten Abstands entspricht.

Jede Mehrachsen-Elektronenlinse kann mehrere Blindöff­ nungsabschnitte enthalten, die von den Elektronenstrah­ len nicht passiert werden und die rund um einen die mehreren Linsenöffnungsabschnitte umgebenden Umfangsbe­ reich angeordnet sind. Jede Mehrachsen-Elektronenlinse kann eine Linseneinheit aufweisen, die mehrere Linsen­ öffnungsabschnitte umfaßt; wobei die Linsenöffnungsab­ schnitte im wesentlichen gleichförmig über die gesamte Linseneinheit verteilt angeordnet sein können.

Jede Mehrachsen-Elektronenlinse kann aber auch eine die Linsenöffnungsabschnitte enthaltende Linseneinheit um­ fassen, in der die Linsenöffnungsabschnitte so angeord­ net sein können, daß sie eine bandartige Form bilden. Die Linsenöffnungsabschnitte in einem Mittelbereich der Linseneinheit können im übrigen einen kleineren Durch­ messer aufweisen als diejenigen an einem äußeren Be­ reich der Linseneinheit.

Die Linseneinheit kann ein erstes magnetisches, leitfä­ higes Linsenteilelement und ein zweites magnetisches, leitfähiges Linsenteilelement enthalten, welche im we­ sentlichen parallel und mit Abstand zueinander angeord­ net sind; wobei die Linseneinheit zusätzlich in dem Zwischenraum zwischen dem ersten magnetischen, leitfä­ higen Linsenteilelement und dem zweiten magnetischen, leitfähigen Linsenteilelement ein nicht magnetisches, leitfähiges Element aufweisen kann.

Jede Mehrachsen-Elektronenlinse kann eine die Linsen­ öffnungsabschnitte enthaltende Linseneinheit und eine rund um die Linseneinheit angeordnete und zur Erzeugung von Magnetfeldern dienende Spuleneinheit umfassen; wo­ bei die Spuleneinheit ein durch ein magnetisches, leit­ fähiges Element gebildetes magnetisches, leitfähiges Spulenteilelement sowie eine Spule zur Erzeugung der Magnetfelder enthalten kann; und wobei die Linsenein­ heit mehrere durch magnetische, leitfähige Elemente ge­ bildete magnetische, leitfähige Linsenteilelemente um­ fassen kann; und wobei das zur Herstellung des magneti­ schen, leitfähigen Spulenteilelements verwendete Mate­ rial eine andere magnetische Permeabilität aufweisen kann als das zur Herstellung der magnetischen, leitfä­ higen Linsenteilelemente verwendete Material.

Die Belichtungseinheit kann mehrere Ablenkelemente um­ fassen, die jeden der mehreren Elektronenstrahlen indi­ viduell ablenken, wobei die Ablenkelemente durch einen Abstand voneinander getrennt sind, der im wesentlichen einem N-fachen oder einem 1/N-fachen des festgelegten Abstands entspricht.

Gemäß dem dritten Aspekt der vorliegenden Erfindung um­ faßt ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbau­ teils auf einer Scheibe die folgenden Verfahrens­ schritte: Belichten der Scheibe unter Verwendung einer Lichtquelle, während die Scheibe mit einem festgeleg­ ten Abstand bewegt wird; und Belichten der Scheibe durch Bestrahlen der Scheibe mit mehreren Elektronen­ strahlen, wobei diese mehreren Elektronenstrahlen einen Abstand aufweisen, der im wesentlichen einem N-fachen oder einem 1/N-fachen des festgelegten Abstands ent­ spricht, wobei N eine natürliche Zahl ist.

Im obigen Überblick über die Erfindung sind nicht not­ wendigerweise alle benötigten Merkmale der Erfindung beschrieben. Die vorliegende Erfindung kann im übrigen auch durch eine Teilkombination der beschriebenen Merk­ male verwirklicht werden. Die erwähnten sowie weitere Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden durch die folgende Beschreibung der Ausführungsbei­ spiele unter Bezugnahme auf die beigefügte Zeichnung näher verdeutlicht.

Kurzbeschreibung der Zeichnung

Fig. 1A bis 1C zeigen ein Halbleiterbauteil-Herstel­ lungssystem 400 gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.

Fig. 2 zeigt den Aufbau einer Elektronenstrahl-Belich­ tungsvorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.

Fig. 3A und 3B zeigen eine Aufsicht auf die in der in Fig. 2 gezeigten Elektronenstrahl-Belichtungsvorrich­ tung 100 vorgesehenen Mehrachsen-Elektronenlinsen 16, 24, 34, 36 und 62.

Fig. 4A bis 4C zeigen Querschnittsansichten der in Fig. 3A gezeigten ersten Mehrachsen-Elektronenlinse 16.

Detaillierte Beschreibung der Erfindung

Im folgenden wird die Erfindung anhand bevorzugter Aus­ führungsbeispiele näher beschrieben, die allerdings die Reichweite der vorliegenden Erfindung nicht einschrän­ ken sollen, sondern hier nur als Beispiel dienen. Die unter Bezugnahme auf die Ausführungsbeispiele beschrie­ benen Merkmale und Merkmalskombinationen sind nicht je­ weils alle für die Erfindung grundlegend wesentlich.

Fig. 1A zeigt ein Halbleiterbauteil-Herstellungssystem 400 gemäß einem Auführungsbeispiel der vorliegenden Er­ findung. Das Halbleiterbauteil-Herstellungssystem 400 umfaßt einen Stepper 300 und eine Elektronenstrahl-Be­ lichtungsvorrichtung 100. Beim Stepper 300 handelt es sich um eine erste Belichtungsvorrichtung, die an der Scheibe 44 einen ersten Belichtungsprozeß unter Einsatz einer Lichtquelle durchführt, während die (in Fig. 1B dargestellte) Scheibe 44, auf der das Halbleiterbauteil vorgesehen werden soll, über einen festgelegten, auf dem Rasterabstand des Halbleiterbauteils basierenden Abstand hinweg bewegt wird.

Als Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung 100 dient eine zweite Belichtungsvorrichtung, die an der Scheibe einen Belichtungsprozeß durchführt, indem sie die Scheibe mit mehreren Elektronenstrahlen bestrahlt. Die Elektronenstrahlen werden dabei so auf die Scheibe aus­ gestrahlt, daß die Elektronenstrahlen jeweils voneinan­ der durch einen Abstand getrennt (d. h. zueinander beab­ standet) sind, der im wesentlichen ein N-faches oder ein 1/N-faches des einen Scheibenbewegungsabstand beim Stepper 300 angebenden festgelegten Abstands beträgt, wobei N eine natürliche Zahl ist. Beim festgelegten Ab­ stand kann es sich um einen Abstand handeln, der im we­ sentlichen das M-fache oder das 1/M-fache des Rasterab­ stands beim auf der Scheibe auszubildenden elektroni­ schen Bauteil beträgt, wobei M eine natürliche Zahl ist.

Der Stepper 300 enthält eine Lichtquelle, eine Linse, und einen Scheibentisch 500. Die Lichtquelle strahlt Licht einer bestimmten Wellenlänge auf die Scheibe 44 aus. Die Linse stellt den Fokus des Lichtes zur Scheibe 44 ein. Die zu belichtende Scheibe 44 wird auf dem Scheibentisch 500 gehaltert. Der Scheibentisch 500 be­ wegt die auf dem Scheibentisch 500 gehalterte Scheibe 44 über einen festgelegten Abstand hinweg. Die Licht­ quelle kann aus einer Laserlicht oder ultraviolettes Licht erzeugenden Lichtquelle bestehen. Beim Stepper 300 kann es sich um einen "i-line"- oder "g-line"-Step­ per oder um einen Stepper handeln, der einen Excimer- Laser verwendet.

Die Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung 100 umfaßt ein Mittel zur Erzeugung mehrerer Elektronenstrahlen, eine Mehrachsen-Elektronenlinse und eine Ablenkeinheit. Die Mehrachsen-Elektronenlinse führt eine individuelle Konvergierung der mehreren Elektronenstrahlen durch. Die Ablenkeinheit lenkt die mehreren Elektronenstrahlen individuell ab.

Der Stepper 300 belichtet ein gewünschtes Muster, wäh­ rend er die mit Fotolack versehene Scheibe über einen bestimmten Abstand hinweg bewegt. Wenn der Stepper 300 den Belichtungsprozeß durchgeführt hat, wird die Scheibe vom Stepper 300 weg transportiert. Sodann wird an der Scheibe 44 ein bestimmter Prozeß, beispielsweise ein Ätzen oder eine Ionenimplantation, durchgeführt. Nach Durchführung dieses bestimmten Prozesses an der Scheibe 44 wird auf die Scheibe 44 ein Elektronen­ strahl-Fotolack aufgebracht. Sodann wird die Scheibe 44 zur Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung 100 trans­ portiert. Die Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung 100 belichtet auf der Scheibe 44 ein gewünschtes Muster, indem sie mehrere Elektronenstrahlen ausstrahlt, die jeweils durch einen Abstand voneinander getrennt sind, der im wesentlichen einem N-fachen oder einem 1/N-fachen des Abstands entspricht, über den Hinweg die Scheibe 44 beim Stepper 300 gemäß der Darstellung in Fig. 1B bewegt wird, wobei N eine natürliche Zahl ist.

Fig. 2 zeigt den Aufbau einer Elektronenstrahl-Belich­ tungsvorrichtung 100 gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Die Elektronenstrahl-Be­ lichtungsvorrichtung 100 umfaßt eine Belichtungseinheit 150 und ein Steuersystem 140. Die Belichtungseinheit 150 führt mit Hilfe eines Elektronenstrahls einen be­ stimmten Belichtungsprozeß auf einer Scheibe 44 durch. Das Steuersystem 140 steuert die Operation jedes zur Belichtungseinheit 150 gehörenden Bauteils.

Die Belichtungseinheit 150 umfaßt in einem Gehäuse 8 eine Elektronenstrahl-Formeinheit 110, eine Ausstrahl- Umschalteinheit 112 und eine Elektronenoptik. Die Elek­ tronenstrahl-Formeinheit 110 erzeugt mehrere Elektro­ nenstrahlen und verleiht dem Querschnitt der Elektro­ nenstrahlen eine wunschgemäße Form. Die Ausstrahl-Um­ schalteinheit 112 nimmt individuelle Schaltvorgänge für jeden der mehreren Elektronenstrahlen vor und bestimmt so, ob die Scheibe 44 durch einen Elektronenstrahl be­ strahlt wird oder nicht. Die Elektronenoptik umfaßt ein Scheibenprojektionssystem 114, das die Ausrichtung und Größe des auf die Scheibe 44 zu übertragenden Bildes des Musters einstellt. Zudem umfaßt die Belichtungsein­ heit 150 einen Scheibentisch 46 und ein Tischsystem, das eine Scheibentisch-Antriebseinheit 48 enthält. Die Scheibe 44, auf der das Muster belichtet werden soll, wird auf dem Scheibentisch 46 gehaltert. Die Scheiben­ tisch-Antriebseinheit 48 bewegt den Scheibentisch 46 in der in Fig. 1C gezeigten Weise.

Die Elektronenstrahl-Formeinheit 110 weist Elektronen­ kanonen 10, ein erstes Formelement 14, ein zweites Form­ element 22, eine erste Mehrachsen-Elektronenlinse 16, eine erste Formablenkeinheit 18 und eine zweite Formab­ lenkeinheit 20 auf. Die Elektronenkanonen 10 erzeugen mehrere Elektronenstrahlen. Das erste Formelement 14 und das zweite Formelement 22 umfassen jeweils mehrere Öffnungsbereiche, die den Querschnitt eines die Öff­ nungsbereiche passierenden Elektronenstrahls formen. Die erste Mehrachsen-Elektronenlinse 16 führt zur Ein­ stellung des Fokus der Elektronenstrahlen jeweils eine individuelle Konvergierung jedes der mehreren Elektro­ nenstrahlen durch. Die erste Formablenkeinheit 18 und die zweite Formablenkeinheit 20 lenken die mehreren Elektronenstrahlen, die das Formelement 14 passiert ha­ ben, individuell ab.

Die erste Mehrachsen-Elektronenlinse 16 umfaßt Linsen­ öffnungsabschnitte, die von mehreren Elektronenstrahlen passiert werden. Die Linsenöffnungsabschnitte konver­ gieren jeden der Elektronenstrahlen individuell. Die Linsenöffnungsabschnitte sind vorzugsweise in der er­ sten Mehrachsen-Elektronenlinse 16 derart vorgesehen, daß der Abstand zwischen den Linsenöffnungsabschnitten jeweils im wesentlichen ein N-faches oder ein 1/N-fa­ ches des Abstands beträgt, über den hinweg die Scheibe beim Stepper 300 bewegt wird. Zudem entspricht der Ab­ stand zwischen den einzelnen Elektronenkanonen 10, der Abstand zwischen den einzelnen Öffnungsbereichen im er­ sten Formelement 14 und der Abstand zwischen den ein­ zelnen Öffnungsbereichen im zweiten Formelement 22 vor­ zugsweise im wesentlichen jeweils einem N-fachen oder einem 1/N-fachen des Scheibenbewegungsabstandes beim Stepper 300.

Die Ausstrahl-Umschalteinheit 112 umfaßt eine zweite Mehrachsen-Elektronenlinse 24, eine Austastelektroden­ anordnung 26 und ein Elektronenstrahl-Abschirmelement 28. Die zweite Mehrachsen-Elektronenlinse 24 konver­ giert mehrere Elektronenstrahlen individuell und stellt den Fokus der Elektronenstrahlen ein. Die Schaltvor­ gänge der Austastelektrodenanordnung 26 bestimmen für jeden der Elektronenstrahlen individuell, ob die Scheibe 44 mit den Elektronenstrahlen belichtet wird oder nicht, indem sie für jeden der mehreren Elektro­ nenstrahlen eine individuelle Ablenkung vornehmen. Das Elektronenstrahl-Abschirmelement 28 umfaßt mehrere Öff­ nungsbereiche, die von den Elektronenstrahlen passiert werden. Das Elektronenstrahl-Abschirmelement 28 dient zur Abschirmung der von der Austastelektrodenanordnung 26 abgelenkten Elektronenstrahlen.

Die zweite Mehrachsen-Elektronenlinse 24 umfaßt Linsen­ öffnungsabschnitte, die von mehreren Elektronenstrahlen passiert werden. Die Linsenöffnungsabschnitte führen für jeden der Elektronenstrahlen eine individuelle Kon­ vergierung durch. Die Linsenöffnungsabschnitte sind vorzugsweise in der zweiten Mehrachsen-Elektronenlinse 24 derart angeordnet, daß der Abstand zwischen den je­ weiligen Linsenöffnungsabschnitten im wesentlichen ein N-faches oder ein 1/N-faches des Scheibenbewegungsab­ stands beim Stepper 300 beträgt. Zudem entspricht der Abstand zwischen den mehreren, von den Elektronenstrah­ len passierten Öffnungsabschnitten in der Austastelek­ trodenanordnung 26 ebenfalls jeweils vorzugsweise einem N-fachen oder einem 1/N-fachen des Scheibenbewegungsab­ stands beim Stepper 300. Bei einem anderen Beispiel kann die Austastelektrodenanordnung 26 durch eine Austastaperturanordnung gebildet werden.

Das Scheibenprojektionssystem 114 enthält eine dritte Mehrachsen-Elektronenlinse 34, eine vierte Mehrachsen- Elektronenlinse 36, eine Ablenkeinheit 60 und eine fünfte Mehrachsen-Elektronenlinse 62. Die dritte Mehrachsen-Elektronenlinse 34 konvergiert mehrere Elek­ tronenstrahlen individuell, um den Strahlungsdurchmes­ ser der Elektronenstrahlen zu verringern. Die vierte Mehrachsen-Elektronenlinse 36 führt eine individuelle Konvergierung der mehreren Elektronenstrahlen durch, um den Fokus der Elektronenstrahlen einzustellen. Die Ab­ lenkeinheit 60 lenkt jeden der mehreren Elektronen­ strahlen individuell auf die gewünschte Position auf der Scheibe 44 hin ab. Die fünfte Mehrachsen-Elektro­ nenlinse 62 fungiert als Objektlinse für die Scheibe 44 und führt dabei eine individuelle Konvergierung jedes der mehreren Elektronenstrahlen durch.

Die dritte Mehrachsen-Elektronenlinse 34 und die vierte Mehrachsen-Elektronenlinse 36 umfassen Linsenöffnungs­ abschnitte, die von den mehreren Elektronenstrahlen passiert werden. Die Linsenöffnungsabschnitte konver­ gieren jeden der Elektronenstrahlen individuell. Vor­ zugsweise sind die Linsenöffnungsabschnitte in der dritten Mehrachsen-Elektronenlinse 34 und der vierten Mehrachsen-Elektronenlinse 36 derart vorgesehen, daß der Abstand zwischen den einzelnen Linsenöffnungsab­ schnitten im wesentlichen einem N-fachen oder einem 1/N-fachen des Abstandes entspricht, über den hinweg die Scheibe beim Stepper 300 bewegt wird. Zudem ent­ spricht der jeweilige Abstand zwischen den mehreren, zur individuellen Ablenkung der mehreren Elektronen­ strahlen dienenden Ablenkelemente in der Ablenkeinheit 60 vorzugsweise ebenfalls im wesentlichen einem N-fa­ chen oder einem 1/N-fachen des Scheibenbewegungsab­ stands beim Stepper 300.

Das Steuersystem 140 enthält eine Gesamtsteuereinheit 130 und ein Einzelsteuersystem 120. Das Einzelsteuersy­ stem 120 umfaßt eine Elektronenstrahl-Steuereinheit 80, eine Mehrachsenelektronenlinsen-Steuereinheit 82, eine Formablenksteuereinheit 84, eine Austastelektrodenan­ ordnungs-Steuereinheit 86, eine Ablenksteuereinheit 92 und eine Scheibentisch-Steuereinheit 96. Die Gesamt­ steuereinheit 130 dient zur Vereinheitlichung und Steuerung der einzelnen zum Einzelsteuersystem 120 ge­ hörenden Steuereinheiten. Als Gesamtsteuereinheit 130 kann beispielsweise ein Arbeitsplatz dienen. Die Elek­ tronenstrahl-Steuereinheit 80 steuert die Elektronenka­ nonen 10. Die Mehrachsenelektronenlinsen-Steuereinheit 82 steuert den der ersten Mehrachsen-Elektronenlinse 16, der zweiten Mehrachsen-Elektronenlinse 24, der dritten Mehrachsen-Elektronenlinse 34, der vierten Mehrachsen-Elektronenlinse 36 und der fünften Mehrach­ sen-Elektronenlinse 62 zugeführten elektrischen Strom.

Die Formablenksteuereinheit 84 steuert die erste Form­ ablenkeinheit 18 und die zweite Formablenksteuereinheit 20. Die Austastelektrodenanordnungs-Steuereinheit 86 steuert die an die Ablenkelektrode der Austastelektro­ denanordnung 26 angelegte Spannung. Die Ablenk­ steuereinheit 92 steuert die Spannung, die an die in mehreren Ablenkelementen der Ablenkeinheit 60 vorgese­ hene Ablenkelektrode angelegt wird. Die Scheibentisch- Steuereinheit 96 steuert die Scheibentisch-Antriebsein­ heit 48 und bewegt den Scheibentisch 46 an die festge­ legte Position.

Im folgenden wird die Operation der Elektronenstrahl- Belichtungsvorrichtung 100 gemäß dem vorliegenden Aus­ führungsbeispiel erläutert. Zuerst erzeugen die Elek­ tronenkanonen 10 mehrere Elektronenstrahlen. Die durch die Elektronenkanonen 10 erzeugten Elektronenstrahlen werden auf das erste Formelement 14 so ausgestrahlt, daß eine Formung des Querschnitts der Elektronenstrah­ len erfolgt.

Die erste Mehrachsen-Elektronenlinse 16 konvergiert die mehreren rechteckig geformten Elektronenstrahlen indi­ viduell. Zudem stellt die erste Mehrachsen-Elektronen­ linse 16 den Fokus der einzelnen Elektronenstrahlen in­ dividuell auf das zweite Formelement 22 hin ein. Das erste Formablenkelement 18 und das zweite Formablenk­ element 20 lenken die Elektronenstrahlen so ab, daß der Querschnitt der Elektronenstrahlen gemäß Befehlen vom Steuersystem 140 geformt wird, welches durch ein im Zu­ sammenhang mit Fig. 2 bereits erläutertes Steuermittel gebildet wird.

Die erste Formablenkeinheit 18 lenkt jeden der mehre­ ren, rechteckig geformten Elektronenstrahlen individu­ ell auf die gewünschte Position des zweiten Formele­ ments 22 hin ab. Das zweite Ablenkelement 20 lenkt sei­ nerseits jeden der mehreren durch das erste Formablenk­ element 18 abgelenkten Elektronenstrahlen individuell im wesentlichen in einer zum zweiten Formelement 22 senkrecht verlaufenden Richtung ab. Das zweite Formele­ ment 22, das mehrere rechteckig geformte Öffnungsberei­ che umfaßt, formt die mehreren, einen rechteckigen Querschnitt aufweisenden und auf jeden der Öffnungsbe­ reiche hin ausgestrahlten Elektronenstrahlen zu den Elektronenstrahlen mit wunschgemäß rechteckigem Quer­ schnitt um, mit denen die Scheibe 44 bestrahlt werden soll.

Die zweite Mehrachsen-Elektronenlinse 24 konvergiert mehrere Elektronenstrahlen individuell und stellt den Fokus jedes der Elektronenstrahlen individuell auf die Austastelektrodenanordnung 26 hin ein. Die Elektronen­ strahlen, deren Fokus durch die zweite Mehrachsen-Elek­ tronenlinse 24 eingestellt wurde, passieren mehrere in der Austastelektrodenanordnung 26 vorgesehene Apertu­ ren.

Die Austastelektrodenanordnungs-Steuereinheit 86 steu­ ert, ob eine Spannung an die jeweils nahe einer jeden Apertur in der Austastelektrodenanordnung 26 angeord­ nete Ablenkelektrode angelegt werden soll oder nicht. Durch die Schaltvorgänge der Austastelektrodenanordnung 26 wird mittels der an die Ablenkelektrode angelegten Spannung bestimmt, ob die Elektronenstrahlen auf die Scheibe 44 ausgestrahlt werden oder nicht.

Die Elektronenstrahldurchmesser der Elektronenstrahlen, die von der Austastelektrodenanordnung 26 nicht abge­ lenkt werden, werden durch die dritte Mehrachsen-Elek­ tronenlinse 34 reduziert und die Elektronenstrahlen passieren die im Elektronenstrahl-Abschirmelement 28 ausgebildeten Öffnungsbereiche. Die vierte Mehrachsen- Elektronenlinse 36 konvergiert die mehreren Elektronen­ strahlen individuell und stellt den Fokus jedes der Elektronenstrahlen individuell auf die Ablenkeinheit 60 hin ein. Die Elektronenstrahlen, deren jeweiliger Fokus eingestellt wurde, gelangen in die in der Ablenkeinheit 60 vorhandenen Ablenkelemente.

Die Ablenksteuereinheit 92 steuert die mehreren in der Ablenkeinheit 60 vorgesehenen Ablenkelemente individu­ ell. Die Ablenkeinheit 60 lenkt jeden der mehreren, in die mehreren Ablenkelemente gelangten Elektronenstrah­ len individuell zur gewünschten Belichtungsposition auf der Scheibe 44 hin ab. Der jeweilige Fokus der mehreren Elektronenstrahlen, die die Ablenkeinheit 60 passieren, wird durch die fünfte Mehrachsen-Elektronenlinse 62 auf die Scheibe 44 hin eingestellt und die Scheibe 44 wird mit den Elektronenstrahlen bestrahlt.

Während des Belichtungsprozesses bewegt die Scheiben­ tisch-Steuereinheit 96 den Scheibentisch 46 in eine gleichbleibende Richtung. Die Austastelektrodenanord­ nungs-Steuereinheit 86 stellt die Aperturen, die von den Elektronenstrahlen passiert werden, auf der Grund­ lage der Belichtungsmusterdaten ein und steuert die Spannung für jede der Aperturen. Es ist möglich, das gewünschte Schaltmuster auf der Scheibe 44 zu belich­ ten, indem die von den Elektronenstrahlen zu passieren­ den Aperturen entsprechend der Bewegung der Scheibe 44 in geeigneter Weise gewechselt und die Elektronenstrah­ len außerdem durch die Ablenkeinheit 60 abgelenkt wer­ den.

Die Fig. 3A und 3B zeigen eine Aufsicht auf die in der Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung 100 gemäß Fig. 2 vorgesehenen Mehrachsen-Elektronenlinsen 16, 24, 34, 36 und 62. Jede Mehrachsen-Elektronenlinse 16, 24, 34, 36 und 62 kann dabei im wesentlichen ähnlich strukturiert sein. Die folgende Erläuterung bezieht sich auf die er­ ste Mehrachsen-Elektronenlinse 16.

Die erste Mehrachsen-Elektronenlinse 16 weist eine Lin­ seneinheit 202 und eine Spuleneinheit 200 auf. Die Lin­ seneinheit 202 wird von mehreren Elektronenstrahlen passiert. Die Spuleneinheit 200 ist rings um die Lin­ seneinheit 202 herum vorgesehen und erzeugt ein Magnet­ feld. Die Linseneinheit 202 weist mehrere Linsenöff­ nungsabschnitte 204 auf, die von den Elektronenstrahlen passiert werden. Die Linsenöffnungsabschnitte 204 sind auf der Linseneinheit 202 dabei so angeordnet, daß zwi­ schen den Mittelpunkten der einzelnen Linsenöffnungsab­ schnitte 204 jeweils ein bestimmter Abstand vorhanden ist.

Wie sich Fig. 1B entnehmen läßt, handelt es sich beim festgelegten Abstand vorzugsweise um einen Abstand, der im wesentlichen einem N-fachen oder einem 1/N-fachen des Abstands entspricht, über den Hinweg die Scheibe 44 beim Stepper 300 bewegt wird. Zudem sind die Linsenöff­ nungsabschnitte 204 vorzugsweise in der Linseneinheit 202 so angeordnet, daß die Positionen der Linsenöff­ nungsabschnitte 204 den Positionen der in der Austastelektrodenanordnung 26 enthaltenen Aperturen so­ wie den Positionen der in der Ablenkeinheit 60 vorgese­ henen Ablenkelemente entsprechen.

Zudem kann die erste Mehrachsen-Elektronenlinse 16 meh­ rere Blindöffnungsabschnitte 220 aufweisen, die von den Elektronenstrahlen nicht passiert werden und um den Um­ fang der von den Elektronenstrahlen passierten Linsen­ öffnungsabschnitte 204 herum ausgebildet sind, um das durch die mehreren Linsenöffnungsabschnitte 204 ge­ formte Magnetfeld zu vereinheitlichen, d. h. die Blind­ öffnungsabschnitte 220 können im in Fig. 3A durch ge­ strichelte Linien angedeuteten Umfangsbereich des Lin­ senbereichs 206 ausgebildet sein. Die mehreren Linsen­ öffnungsabschnitte 204 sind im Linsenbereich 206 vorge­ sehen. Wie sich Fig. 3A entnehmen läßt, ist hierbei in der Linseneinheit 202 eine Lage von Blindöffnungsab­ schnitten ausgeformt. Allerdings können auch mehrere Lagen von Blindöffnungsabschnitten 220 in der Linsen­ einheit 202 vorgesehen sein.

Zudem können die mehreren Linsenöffnungsabschnitte 204 jeweils einen unterschiedlichen Durchmesser aufweisen. So können beispielsweise die Linsenöffnungsabschnitte 204 im Mittelbereich der Linseneinheit 202 kleine und die Linsenöffnungsabschnitte 204 im äußeren Bereich der Linsenöffnung 202 große Durchmesser aufweisen. Zudem können sich die Durchmesser der Öffnungen der jeweili­ gen Linsenöffnungsabschnitte 204 von der Mitte der Lin­ seneinheit 202 zur Außenseite der Linseneinheit 202 hin graduell vergrößern.

Das Vorhandensein von Blindöffnungsabschnitten 220 bzw. Linsenöffnungsabschnitten 204 mit unterschiedlichem Durchmesser in der Linseneinheit 202 ermöglicht eine Vereinheitlichung der in den mehreren Linsenöffnungsab­ schnitten 204 erzeugten Magnetfelder.

Wie sich Fig. 3A entnehmen läßt, sind die Linsenöff­ nungsabschnitte 204 vorzugsweise gleichmäßig über die gesamte Linseneinheit 202 derart verteilt bzw. angeord­ net, daß die gesamte Scheibe 44 mit den Elektronen­ strahlen gleichmäßig bestrahlt werden kann. Zudem kön­ nen die Linsenöffnungsabschnitte 204 in der Linsenein­ heit 202 auch derart vorgesehen werden, daß sie eine bandartige Form bilden, wie dies in Fig. 3B gezeigt ist. In jedem Fall werden die Linsenöffnungsabschnitte 204 vorzugsweise an der Linseneinheit 202 so vorgesehen, daß der Abstand zwischen den Linsenöffnungsabschnitten 204 im wesentlichen einem N-fachen oder einem 1/N-fa­ chen des Scheibenbewegungsabstands beim Stepper 300 entspricht.

Die Fig. 4A bis 4C zeigen Querschnittsansichten der er­ sten Mehrachsen-Elektronenlinse 16. Wie sich Fig. 4A entnehmen läßt, weist die Spuleneinheit 200 ein durch ein magnetisches, leitfähiges Element gebildetes magne­ tisches, leitfähiges Spulenteilelement 212 sowie eine Spule 214 auf, die Magnetfelder erzeugt. Zudem umfaßt die Linseneinheit 202 mehrere durch magnetische, leit­ fähige Elemente gebildete magnetische, leitfähige Lin­ senteilelemente 210 sowie mehrere Linsenöffnungsab­ schnitte 204. Die magnetischen, leitfähigen Linsenteil­ elemente 210 umfassen ein erstes magnetisches, leitfä­ higes Linsenteilelement 210a und ein zweites magneti­ sches, leitfähiges Linsenteilelement 210b.

Das erste magnetische, leitfähige Linsenteilelement 210a und das zweite magnetische, leitfähige Linsenteil­ element 210b sind im wesentlichen parallel zueinander angeordnet. Zwischen dem ersten magnetischen, leitfähi­ gen Linsenteilelement 210a und dem zweiten magneti­ schen, leitfähigen Linsenteilelement 210b ist dabei ein gewisser Zwischenraum vorhanden. Ein erstes magneti­ sches, leitfähiges Linsenteilelement 210a und ein zwei­ tes magnetisches, leitfähiges Linsenteilelement 210b erzeugen in den Linsenöffnungsabschnitten 204 Magnet­ felder. Die Elektronenstrahlen, die in die Linsenöff­ nungsabschnitte 204 gelangen, werden individuell durch den Einfluß der zwischen den mehreren magnetischen, leitfähigen Linsenteilelementen 210 erzeugten Magnet­ felder konvergiert.

Wie sich Fig. 4B entnehmen läßt, weist die Linseneinheit 202 vorzugsweise ein nicht magnetisches, leitfähiges Element 208 auf, das zwischen den mehreren magneti­ schen, leitfähigen Elementen 210a und 210b im Bereich der magnetischen, leitfähigen Linsenteilelemente 210 vorgesehen ist, wobei allerdings der Bereich ausgenom­ men ist, in dem sich die Linsenöffnungsabschnitte 204 befinden. Das nicht magnetische, leitfähige Element 208 kann dabei so vorgesehen werden, daß es den Zwischen­ raum zwischen den mehreren magnetischen, leitfähigen Elementen 210a und 210b im Bereich der magnetischen, leitfähigen Linsenteilelemente 210 ausfüllt, wobei der Bereich ausgenommen ist, in dem die Linsenöffnungsab­ schnitte 204 vorgesehen sind. Das nicht magnetische, leitfähige Element 208 kann aber auch so vorgesehen werden, daß es nur einen Teil des Zwischenraums zwi­ schen den ersten magnetischen, leitfähigen Linsenteil­ elementen 210a und den zweiten magnetischen, leitfähi­ gen Linsenteilelementen 210b im Bereich der Linsenein­ heit 202 ausfüllt, wobei ebenfalls der Bereich ausge­ nommen ist, in dem die Linsenöffnungsabschnitte 204 vorgesehen sind.

Das erste magnetische, leitfähige Linsenteilelement 210a und das zweite magnetische, leitfähige Linsenteil­ element 210b sind vorzugsweise im wesentlichen parallel zueinander angeordnet, während das nicht magnetische, leitfähige Element 208 so vorgesehen ist, daß es den zwischen dem ersten magnetischen, leitfähigen Linsen­ teilelement 210a und dem zweiten magnetischen, leitfä­ higen Linsenteilelement 210b vorhandenen Zwischenraum ausfüllt. Das nicht magnetische, leitfähige Element 208 wird hierzu so angeordnet, daß es auf der einen Seite am ersten magnetischen, leitfähigen Linsenteilelement 210a und auf der anderen Seite am zweiten magnetischen, leitfähigen Linsenteilelement 210b anliegt. Das nicht magnetische, leitfähige Element 208 dient als Abschir­ mung gegen die Coulomb-Kraft, die zwischen mehreren be­ nachbarten, die Linsenöffnungsabschnitte 204 passieren­ den Elektronenstrahlen wirkt. Zudem dient das nicht mag­ netische, leitfähige Element 208 als Abstandhalter zwischen dem ersten magnetischen, leitfähigen Linsen­ teilelement 210a und dem zweiten magnetischen, leitfä­ higen Linsenteilelement 210b bei der Herstellung der Linseneinheit 202.

Wie sich Fig. 4C entnehmen läßt, können die magneti­ schen, leitfähigen Spulenteilelemente 212 und die ma­ gnetischen, leitfähigen Linsenteilelemente 210 durch magnetische, leitfähige Elemente unterschiedlicher mag­ netischer Permeabilität gebildet werden. Vorzugsweise ist die magnetische Permeabilität des Materials, aus dem die magnetischen, leitfähigen Spulenteilelemente 212 bestehen, höher als die magnetische Permeabilität des Materials, aus dem die magnetischen, leitfähigen Linsenteilelemente 210 gebildet sind. So wird zum Bei­ spiel das magnetische, leitfähige Spulenteilelement 212 aus reinem Eisen und das magnetische, leitfähige Lin­ senteilelement 210 aus einer permeablen Legierung her­ gestellt. Durch die Herstellung der magnetischen, leit­ fähigen Spulenteilelemente 212 und der magnetischen, leitfähigen Linsenteilelemente 210 aus Materialien mit unterschiedlicher magnetischer Permeabilität wird die Stärke des in den mehreren Linsenöffnungsabschnitten 204 ausgebildeten Magnetfelds im wesentlichen ver­ gleichmäßigt.

Das Halbleiterbauteil-Herstellungssystem 400 gemäß der vorliegenden Erfindung strahlt die Elektronenstrahlen derart auf die Scheibe aus, daß der Abstand zwischen den einzelnen Elektronenstrahlen im wesentlichen einem N-fachen oder einem 1/N-fachen des Scheibenbewegungsab­ stands beim Stepper 300 entspricht. Somit kann das Halbleiterbauteil-Herstellungssystem 400 die Scheibe derart mit den Elektronenstrahlen bestrahlen, daß die einzelnen Elektronenstrahlen durch einen Abstand von­ einander getrennt sind, der im wesentlichen einem M-fa­ chen oder einem 1/M-fachen des Rasterabstands des auf der Scheibe herzustellenden Chips entspricht. Die Be­ lichtungsmusterdaten, die in der Elektronenstrahlvor­ richtung 100 gespeichert werden müssen, lassen sich hierdurch erheblich reduzieren, weil das auf der Scheibe durch die Elektronenstrahlen zu belichtende Mu­ ster und die Zeitsteuerung bei der Ausstrahlung der Elektronenstrahlen für jeden Elektronenstrahl gleich oder ähnlich ausfallen können.

Die Kapazität der Speichereinheit zur Speicherung der Belichtungsmusterdaten läßt sich hierdurch erheblich reduzieren, wodurch sich eine extrem kostengünstige Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung vorsehen läßt. Zudem kann die bei der Belichtung eines Chips durch mehrere Elektronenstrahlen auftretende ungenaue Über­ deckung der Belichtungsposition durch die Möglichkeit, einen auf der Scheibe vorzusehenden Chip durch nur einen Elektronenstrahl zu belichten, erheblich redu­ ziert oder sogar vermieden werden. Außerdem ist es mög­ lich, individuelle Belichtungsmusterdaten für ein auf der Scheibe durch eine Vielzahl von Elektronenstrahlen zu belichtendes Belichtungsmuster zu vereinheitlichen.

Wie sich aus der obigen Beschreibung ergibt, ist es ge­ mäß dem vorliegenden Ausführungsbeispiel möglich, die Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung und das Halb­ leiterbauteil-Herstellungssystem zu einem niedrigen Preis derart herzustellen, daß eine sehr präzise Be­ lichtungspositionierung erzielt wird.

Die vorliegende Erfindung wurde zwar anhand beispiel­ hafter Ausführungsbeispiele beschrieben; es ist jedoch klar, daß ein Fachmann hierbei viele Modifikationen und Substitutionen vornehmen kann, ohne vom Grundgedanken der vorliegenden Erfindung abzuweichen bzw. deren al­ lein durch die beigefügten Ansprüche festgelegte Reich­ weite zu überschreiten.

Claims (19)

1. Halbleiterbauteil-Herstellungssystem (400) zur Her­ stellung eines Halbleiterbauteils auf einer Scheibe (44), wobei das System die folgenden Bestandteile enthält: eine erste Belichtungsvorrichtung (300), die die Scheibe (44) unter Verwendung einer Licht­ quelle belichtet, während sie die Scheibe (44) über einen festgelegten Abstand hinweg bewegt; und eine zweite Belichtungsvorrichtung (100) zur Belichtung der Scheibe (44) durch Ausstrahlen mehrerer Elektro­ nenstrahlen auf die Scheibe (44),
wobei das Halbleiterbauteil-Herstellungssystem da­ durch gekennzeichnet ist, daß die mehreren Elektro­ nenstrahlen einen Abstand aufweisen, der im wesent­ lichen einem N-fachen oder einem 1/N-fachen des festgelegten Abstands entspricht, wobei N eine na­ türliche Zahl ist.

2. Halbleiterbauteil-Herstellungssystem (400) nach An­ spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Be­ lichtungsvorrichtung (100) mehrere Mehrachsen-Elek­ tronenlinsen (16, 24, 34, 36 und 62) umfaßt, welche eine individuelle Konvergierung jedes der mehreren Elektronenstrahlen durchführen; wobei jede Mehrach­ sen-Elektronenlinse (16, 24, 34, 36 und 62) mehrere Linsenöffnungsabschnitte (204) aufweist, die von den Elektronenstrahlen passiert werden; und wobei die Linsenöffnungsabschnitte (204) durch einen Abstand voneinander getrennt sind, der im wesentlichen einem N-fachen oder einem 1/N-fachen des festgelegten Ab­ stands entspricht, über den hinweg die Scheibe (44) bei der ersten Belichtungsvorrichtung (300) bewegt wird.

3. Halbleiterbauteil-Herstellungssystem (400) nach An­ spruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß jede Mehrach­ sen-Elektronenlinse (16, 24, 34, 36 und 62) mehrere Blindöffnungsabschnitte (220) aufweist, die von den Elektronenstrahlen nicht passiert werden und in ei­ nem Umfangsbereich um die mehreren Linsenöffnungsab­ schnitte (204) herum angeordnet sind.

4. Halbleiterbauteil-Herstellungssystem (400) nach An­ spruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß jede der Mehrachsen-Elektronenlinsen (16, 24, 34, 36 und 62) eine Linseneinheit (202) aufweist, die die Linsen­ öffnungsabschnitte (204) enthält; wobei die Linsen­ öffnungsabschnitte (204) so angeordnet sind, daß sie gleichmäßig über die gesamte Linseneinheit (202) verteilt sind.

5. Halbleiterbauteil-Herstellungssystem (400) nach An­ spruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß jede der Mehrachsen-Elektronenlinsen (16, 24, 34, 36 und 62) eine Linseneinheit (202) umfaßt, die die Linsenöff­ nungsabschnitte (204) enthält; wobei die Linsenöff­ nungsabschnitte (204) in der Linseneinheit (202) so angeordnet sind, daß sie eine bandartige Form bil­ den.

6. Halbleiterbauteil-Herstellungssystem (400) nach An­ spruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Linsenöffnungsabschnitte (204) im Mittelbereich der Linseneinheit (202) einen kleineren Durchmesser auf­ weisen als die Linsenöffnungsabschnitte (204) an ei­ nem äußeren Bereich der Linseneinheit (202).

7. Halbleiterbauteil-Herstellungssystem (400) nach An­ spruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Linseneinheit (202) ein erstes magnetisches, leitfä­ higes Linsenteilelement (210a) und ein zweites mag­ netisches, leitfähiges Linsenteilelement (210b) um­ faßt, die im wesentlichen parallel zueinander ange­ ordnet sind und zwischen sich einen Zwischenraum aufweisen; wobei die Linseneinheit (202) zusätzlich ein nicht magnetisches, leitfähiges Element (208) umfaßt, das in dem Zwischenraum zwischen dem ersten magnetischen, leitfähigen Linsenteilelement (210a) und dem zweiten magnetischen, leitfähigen Linsentei­ lelement (210b) angeordnet ist.

8. Halbleiterbauteil-Herstellungssystem (400) nach An­ spruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß jede der Mehrachsen-Elektronenlinsen (16, 24, 34, 36 und 62) eine die Linsenöffnungsabschnitte (204) umfassende Linseneinheit (202) sowie eine Spuleneinheit (200) aufweist, die rund um die Linseneinheit (202) herum angeordnet ist und zur Erzeugung von Magnetfeldern dient; wobei die Spuleneinheit (200) ein durch ein magnetisches, leitfähiges Element gebildetes magne­ tisches, leitfähiges Spulenteilelement (212) sowie eine Spule (214) zur Erzeugung der Magnetfelder ent­ hält; und wobei die Linseneinheit (202) mehrere durch magnetische, leitfähige Elemente gebildete mag­ netische, leitfähige Linsenteilelemente (210) ent­ hält; und wobei ein für die Herstellung des magneti­ schen, leitfähigen Spulenteilelements (212) verwen­ detes Material eine andere magnetische Permeabilität als ein zur Herstellung der magnetischen, leitfähi­ gen Linsenteilelemente (210) verwendetes Material aufweist.

9. Halbleiterbauteil-Herstellungssystem (400) nach An­ spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Be­ lichtungsvorrichtung (100) mehrere Ablenkelemente umfaßt, die jeden der mehreren Elektronenstrahlen individuell ablenken; wobei die Ablenkelemente durch einem Abstand voneinander getrennt sind, der im we­ sentlichen einem N-fachen oder einem 1/N-fachen des festgelegten Abstands entspricht.

10. Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung (100), die in Kombination mit einem optischen Stepper (300) eine Scheibe (44) unter Verwendung einer Vielzahl von Elektronenstrahlen belichtet, eine Belichtungs­ einheit (150) zur Belichtung der Scheibe (44) durch Ausstrahlen der mehreren Elektronenstrahlen auf die Scheibe (44) enthält und
dadurch gekennzeichnet ist, daß die mehreren Elek­ tronenstrahlen einen Abstand aufweisen, der im we­ sentlichen einem N-fachen oder einem 1/N-fachen ei­ nes für die Bewegung der Scheibe (44) beim optischen Stepper (300) festgelegten Abstands entspricht, wo­ bei N eine natürliche Zahl ist.

11. Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung (100) nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Belich­ tungseinheit (150) mehrere Mehrachsen-Elektronenlin­ sen (16, 24, 34, 36 und 62) enthält, die eine indi­ viduelle Konvergierung jedes der mehreren Elektro­ nenstrahlen durchführen; wobei jede Mehrachsen-Elek­ tronenlinse (16, 24, 34, 36 und 62) mehrere Linsen­ öffnungsabschnitte (204) aufweist, die von den meh­ reren Elektronenstrahlen passiert werden; und wobei die Linsenöffnungsabschnitte (204) durch einen Ab­ stand voneinander getrennt sind, der im wesentlichen einem N-fachen oder einem 1/N-fachen des festgeleg­ ten Abstands entspricht.

12. Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung (100) nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß jede der Mehrachsen-Elektronenlinsen (16, 24, 34, 36 und 62) mehrere Blindöffnungsabschnitte (220) umfaßt, die von den Elektronenstrahlen nicht passiert werden und in einem Umfangsbereich um die mehreren Linsenöff­ nungsabschnitte (204) herum angeordnet sind.

13. Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung (100) nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß jede der Mehrachsen-Elektronenlinsen (16, 24, 34, 36 und 62) eine Linseneinheit (202) aufweist, die mehrere Lin­ senöffnungsabschnitte (204) umfaßt; wobei die Lin­ senöffnungsabschnitte (204) so angeordnet sind, daß sie im wesentlichen gleichmäßig über die gesamte Linseneinheit (202) verteilt sind.

14. Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung (100) nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß jede der Mehrachsen-Elektronenlinsen (16, 24, 34, 36 und 62) eine Linseneinheit (202) aufweist, die die Linsen­ öffnungsabschnitte (204) umfaßt; wobei die Linsen­ öffnungsabschnitte (204) in der Linseneinheit (202) so angeordnet sind, daß sie eine bandartige Form bilden.

15. Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung (100) nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Linsenöffnungsabschnitte (204) in einem Mittelbe­ reich der Linseneinheit (202) einen kleineren Durch­ messer aufweisen als die Linsenöffnungsabschnitte (204) an einem äußeren Bereich der Linseneinheit (202).

16. Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung (100) nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Linseneinheit (202) ein erstes magnetisches, leitfä­ higes Linsenteilelement (210a) und ein zweites mag­ netisches, leitfähiges Linsenteilelement (210b) um­ faßt, die im wesentlichen parallel zueinander so an­ geordnet sind, daß zwischen ihnen ein Zwischenraum verbleibt; wobei die Linseneinheit (202) zusätzlich ein im Zwischenraum zwischen dem ersten magneti­ schen, leitfähigen Linsenteilelement (210a) und dem zweiten magnetischen, leitfähigen Linsenteilelement (210b) angeordnetes nicht magnetisches, leitfähiges Element (208) umfaßt.

17. Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung (100) nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß jede der Mehrachsen-Elektronenlinsen (16, 24, 34, 36 und 62) eine die Linsenöffnungsabschnitte (204) enthaltende Linseneinheit (202) sowie eine Spuleneinheit (200) umfaßt, die rund um die Linseneinheit (202) herum angeordnet ist und zur Erzeugung von Magnetfeldern dient; wobei die Spuleneinheit (200) ein durch ein magnetisches, leitfähiges Element gebildetes magne­ tisches, leitfähiges Spulenteilelement (212) sowie eine Spule (214) zur Erzeugung der Magnetfelder um­ faßt; und wobei die Linseneinheit (202) mehrere durch magnetische, leitfähige Elemente gebildete mag­ netische, leitfähige Linsenteilelemente (210) ent­ hält; und wobei für die Herstellung des magneti­ schen, leitfähigen Spulenteilelements (212) ein Ma­ terial mit einer anderen magnetischen Permeabilität verwendet wird als für die Herstellung der magneti­ schen, leitfähigen Linsenteilelemente (210).

18. Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung (100) nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Belich­ tungseinheit (150) mehrere Ablenkelemente umfaßt, die jeden der mehreren Elektronenstrahlen individu­ ell ablenken; wobei die Ablenkelemente durch einen Abstand voneinander getrennt sind, der im wesentli­ chen einem N-fachen oder einem 1/N-fachen des fest­ gelegten Abstands entspricht.

19. Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauteils auf einer Scheibe (44), enthaltend die folgenden Verfahrensschritte: Belichten der Scheibe (44) unter Verwendung einer Lichtquelle, während die Scheibe (44) über einen vorbestimmten Abstand hinweg bewegt wird; sowie Belichten der Scheibe (44) durch Aus­ strahlen mehrerer Elektronenstrahlen auf die Scheibe (44),
wobei das Verfahren dadurch gekennzeichnet ist, daß die mehreren Elektronenstrahlen einen Abstand auf­ weisen, der im wesentlichen einem N-fachen oder ei­ nem 1/N-fachen des festgelegten Abstands entspricht, wobei N eine natürliche Zahl ist.