DE1012901B - Verfahren zum Erzeugen von Siliciumdioxyd - Google Patents

Verfahren zum Erzeugen von Siliciumdioxyd

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DE1012901B
DE1012901B DEB41161A DEB0041161A DE1012901B DE 1012901 B DE1012901 B DE 1012901B DE B41161 A DEB41161 A DE B41161A DE B0041161 A DEB0041161 A DE B0041161A DE 1012901 B DE1012901 B DE 1012901B
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DE
Germany
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oxygen
reaction
fluidized bed
silicon dioxide
inert substance
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Application number
DEB41161A
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Inventor
Arthur Wallace Evans
William Hughes
Bernard Harris
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British Titan Ltd
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British Titan Ltd
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/181Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process
    • C01B33/183Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process by oxidation or hydrolysis in the vapour phase of silicon compounds such as halides, trichlorosilane, monosilane
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12Surface area
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/90Other properties not specified above

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  • Inorganic Chemistry (AREA)
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Description

  • Verfahren zum Erzeugen von Siliciumdioxyd Das Verfahren bezieht sich auf die Erzeugung von . ZD Sil,iciu-i-nidioxyd durch 0,-,ydatio-n von Siliciumtettrachlorid in der Damp,fphase.
  • In geeigneter Weise dargesteilltes, feinverteiltes Siliciumdioxyd gewinnt in steigendem Maße als Füllstoff und Verstärkungsmttel für natürliche und synthetische Gunitnisorten und für synthetische und na-türliche Plastikstoffe und auch als Verdiekungsmittel und als Suspendiermittel bei #,erschieden.en flüssigen Gemischen und Suspensionen und als Mittel für andere Zwecke an Bedeutung.
  • Verfahren zur Hersüllung feinverteilter Oxyde, #einschließlich Siliciumdioxyd sind bekannt, bei denen das entsprechende verdzinpfte Halogen-id, insbesondere Idas Chlorid, durch. verschiedene Verbrennungsverfahren, I>gi denen eine Oxydation oder Hydro-lyse bei erhöhter Temperatur stattfindet, in das Oxyd übergefÜhrt wird.
  • Diese Verfahren erfordern, obwohl sie sich im einzelnen beträchtlich unterscheiden, alle die Ve-,rwendung eines Brenners oder einer Düsenvorrichtung, um die an der Reaktion teil-lehmenden Gase und Dämpfe in den Reaktionsraum einzuführen. Die Anlage, wird häufig weiter durch die Notwendigkeit kompliziert, die Reaktionstemperatur aufrechtzuerhaften. und in einigen Fällen durch die. gleichzeitige Verbrennung von Wasserstoff, Kohlenwasserstoffen oder anderen verdampften Brennstoffen, die für die Hydrolysereaktion erforderliche Feuchtigkeit zur Verfügung zu stellen. Bei diesem Verfahren ist es selten möglich, den Atisstoß der Anlage durch Vergrößerung der DüGen oder der Brenner zu erhöhen, da dies gewöhnlich zu einer Verringerung der Qualität des P roduktes führt. Infolgedessen ist es für eine Erzeugung im großen Maßstah notwendig-,eine große Anzahl gleichartiger Düsen oder Brenner zu verwenden.
  • Es ist ein Ziel der Erfindung, ein äußerst wirksames Verfahren zur L#rzeugung von Siliciurndioxyd bereitzustellen, bei dern man die Reaktionsternperatur leicht steuern kann und das leichter für eine Großerzeugung eingerichtet werden kann.
  • Der Grundgedanke des Verfah " rens nach der Erfindung, durch das dieses Ziel erreicht wird, besteht dairin, daß man die Oxydiation von verdampftem Sil-ic,i,umt,e-trachlo-rid in einer Wirbelschicht von feinverteiltem, festern inertem Material durchführt.
  • Im einzelnen ist du Verfahren nach der Erfindung zur Erzeugung von Siliciumdioxyd durch Reaktien von Siliciumtetrachlorid mit Sauerstoff oder sa.nerstoffhaltigen Gasen - in der Darapfpha;so dadurch gekennzeichnet, daß . man die Reaiktionsteilnehmer in eine Schicht einiiihrt, die aus einer heißen Masse eines teilchenförmigen, festen inerten Stoffes n-iit eineir mittleren TeilcheingrÖße von etwa 40 bis 1000 [t besteht und die durch den einen oder den anderen Reaktionsteilnehmer in einem aufgewirbelten turbulenten Zustand gehalten wird.
  • Das Material, aus dem die ##Tirbelschicht besteht, ist vorzugsweise von, der Art, daß, wenn man es in einem Luftstrom von 1000' 100 Stunden mit der fünffachen minimalen Wirbelgeschwindigkeit aufwirbeilt, die in Suspension mit dem austretenden Luf tstrom fortgetragene Menge an Staub, und Feinstoffen 51/9, vorzugsweise 1% oder weniger des ursprünglich in der Bettung vorliegenden Materials nicht überschreitet.
  • Der vorzugsweise verwendete Stoff besteht aus feist-en Teilchen mit greßer Gesaintoberfläche aber geringer Größe, so. daß man sie im wesentlichen in aufgewirbeltern Zustand halten kann. Für die Stoffauswahl sind. verschieden& erforderliche Eigenscha.ften zu beachten, unter anderem die Beständigkeit unter den Arbeitsbedingungen, eine verhältnismäßig hohe Schüttdichte, wie sie im allgemeinen mit der Bildung maissiver Steine bei sandaxtigen Stoffen verbunden ist und zusätzlich zu der schon erwähnten Teilchengröße eine wesentliche Härte.
  • Stoffe, die sich a.1-s geeignet erwiesen haben, sind: Siliciuradio:kyd,' Aluminiumoxyd, Zirkon und Rutil. vorzu-s-weise von mineralischem Ursprung, die, wenn ZD nötig, mit Chlor bei hoher Temperatur behand-elt worden sind, um jede unerwünschte Vorunreinigung, die möglicherweise während der Oxydationsreaktion angegriffen würde und dadurch das Produkt verunreinigen würde, zu beseitigen. Die oben-erwähnte Auswahl ist nicht ausschließlich, da jeder artdere Stoff mit den schon erwähnten Eigenschaften zufriedenstellend ist.
  • Die Temperatur der- Wirbalsch-icht liegt vorzugs# -,voise im Btreich zwischen. 500 und 1200'. Obwohl die Reaktion von SiLiriul-ntetrachlorild mit Sauerstoff exotherm ist, kann mögLicherwetse die Reaktionswärme nicht genügen, um die erforderliche Reaktionstemperatur aufrechtzuerhalten, wenn man das Verfa,hren in kleinem Maßstab durchführt. In dieseni Fall kann man die erforderliche Reaktionstemperatur in verschieden-er Weise erzielen und aufrechterhalten. beispielsweise durch getrenntes Vo#rerhitzen der Reaktionsgejse oder durchAußenheizung des RGaktors oder durch Erhitzen der Schicht aus Stoffteilchen durch indirekten Wärmeaustausch mit einer Wärmeschlange i.n der Wirbalschicht oder durch andere Innanheizvorrichtungen oder durch Einlassen heißer inerter Gase in die Wirbelschicht oder durch Einführen -eines brennbaren Gases in die Wirbelschicht, das mit überschüssigem Sauarstoff verbrennt und die erforderliche Reaktionswärme liefert. Man kann die Reaktionsgase, bevor- sie in den Reaktor eingeführt wer-den, vermischen, in welchem Fall man die vorvermischten Reaktionsteilnehmer, bevor man sie in den Reaktor einführt, auf etwa 500' vorerhitzen kann. Dies ist jedoch nicht eine vorzugsweise angewendete Verfahrensart, da die Kanäle, durch welche die Gase, in die Wirbelschicht eintreten, an der Stelle, wo sie, mit der Wirbelschicht in Berührung kommen, normaterweiiise ihre Temperatur annehmen und deshalb eine Wahrscheinlichkeit einer vorzeitigen Reaktion, innerhalb der Zufuhrleitungen besteht, wodurch sie verstopft werden.
  • Bei der Durchf ührung des Verfahrens nach der Erfindung ist es jedoch normalerweise nicht notwendig, eines dieser verschiedenen Mittel zum Aufrechterhulten. der erforderlichen Temperatur in der- Wirbelschiebt anzuwenden, und dies ist einer der Vorteile der Erfindung gegenüber bekannten Verfahren. Die Teilchenschicht wirkt als Wärrnespeicher, und es ist möglich, die kalten Reaktionsteilnehmer in die Wirbalschicht einzuführen, wo sie, auf Reaktionstemperatur gebracht werden und wo die Reaktionswärme die Temperatur der Wirbelschicht aufrechterhält.
  • Bei der Erzeugung im großen Maßstab. kann man feststellen-, daß die durch die Reaktion geilieferte Wärrne größer ist als die, welche an die umgebende Atmosphäre abgegeben wird, so daß -es sich als notwendig erweist, die Wirbelschicht zu kühlen. Dies kann man nach jedem üblichen Verfahren durchführen, beispielsweise durch Kühlschlangen innerha1b der Wirbalschicht, Umwälzen des Materials der Wirbelschicht durch eine äußere Kühlvorrichtung, durch Einführen eines Verdünnungsgases mit den Reaktionsteilnehmern oder durch Zufuhr ein-es kühlen inerten Gaseis oder einer inerten, verdampfbaren Flüssigkeit in die Wirbeilschicht.
  • Das Molar-verhä.Itnis von Sauerstoff zu Siliciumtetrachlortid. liegt vorzugswalse im Berei#ch von 1 : 1 bis 2: 1. Man kann Sauerstoff in einem höheren Verhältnis verwenden, jedoch erzielt man normalerwoise eine vollständige Reaktion des Siliciiumtetrach..jorids in diesem bevorzugten Bereich. Das S.ilici#uintetrachlorid verdampft man. vor der Zufuhr in die Schicht in üblicher Weise. Die Zufuhrgeschwindigkeit des Siliciumtetrachloriddarnpfes und das Sauerstoffes ist in erster Linie eine Funktion der Größe,der Anlage, doch gibt es außerdem sowohl eine obere aI.s eine untere Grenze für eine erfolgreiche Durchführung. Die Obere Grenze ergibt sich aus der Notwendigkeit einer hinreichenden Verweilzeit der Reak,tionskomponenten in der Wirbelschicht. Wenn demnach die Reaktion in der Wirbelschicht nicht zu Ende gefülirt wird, bildet sich an den Wand.ungen des Raaktions,raumias oberhalb der Schicht eine Ablagerung. Die untere Grenze ergibt sich aus der NotAendigkeit, das Produkt aus dem System abzuziehen.
  • Die Verweilzeit der Reaktionstailnehmer innerhalb deir Wirbelschicht bei Icorrstanter Zufuhrgeschwindigkeit je Flächeneinheit wird durch die Tiefe der Schicht bestimmt. Die Queschnittsfläche der Schicht ist deshalb prol)oriiona,1 zudem geforderten. Ausstoß.
  • Bei dem Verfahren führtman mindestens einen der Reaktionsteilnehmer, vorzursweise die Luft oder den Sauerstoff, durch den unttren Teil des Reaktionsgefäßes, der- eiine säul,enf&mige Wirbelschicht au#; eineni, wie oben definierteuMateria,1 enthält, so daß die Gasgeschwindigkeit inierhalb des Reaktors so groß ist, daß die Schicht ir aufgewirbelteni Zustand erhalten wird. Den anderen #,leaktionsteilnehmer kann man auch getrennt durch den unteren Teil des Reaktors einfÜhren, oder tran kann ihn auf andere Waise, z. B. durch Einbla;en in Gasfonn in die Schicht an efiner Stelle, die in kurzem Abstand über dem Reaktorboden liegt, eirführen, vorzugsweise so, daß diaser Reaktionsteilnehner in allgemeiner Richtung nach unten gegen die ai.fsteigende Luft oder den Sauerstoff eingeführt wird.
  • Dais S#i,1,iciumtetrachlori,#d md der Sauerstoff reagieren innerhalb der Wirbe.-1solicht unter Bildung von Siliciumdioxyd und Chlor. Das Siliciumdioxyd Liegt als Aerogel vor und wird ms der Schicht durch die bei der Reaktion entstehen&n Abgase getr-agen und wird von dies-en Gasen bein Durchleiten durch Absitzkaminern, 7,yl<Iona;bsch-eic-er und andere ähnliche mechanische Vorrichtungen abgetrennt. Da. die gas- förmigen Reaktionsprodukte größtenteils aus Chlor bestehen, das bei hohen Temperaturen korrodierend wirkt, kühlt man die Reaktiorisprodukte vorzugsweise vor ihrem Eintritt in das Hauptsammelsystem. Dies kann man durchführen, indem man die Gase durch einen von außen gekühlten und aus einem chlorbeständigen Stoff gebauten Kanal von großem Durchmesser leitet oder durch Zugabe eines kühlen, inerten Gases, vorzugsweise jedoch durch Umwälzen der kühlen Endgase oder durch Zugabe einer verdampfbaren Flüssigkeit, beispielsweise flüssigem Chlor.
  • Wenn man Sauerstoff bei dar Reaktion in stÖchiometrischem Verhältnis verwendet, besteht das gasfö#rmig-o Endprodukt nahazu ausschließlich aus Chlor. In diesem Fall kann man nach Abtrennen des suspendierten Siliciumdioxyds das Chlor direkt zur Erzeugung von frischem Siliciuintetrachlorid oder fül andere Zwecke verwenden. Es kann sich jedoch ah zweckmäßig erweisen, das Chlor aus den in der Reak, tion entstehenden Gasen nach bekannten Verfahre, abzuscheiden, beispielsweise durch Kühlen oder durcl Absorption in Flüssigkeit. Wenn man Luft als exy dierendes Gas verwendet, ist das entstehende Chloin beträchtlichem Maß mit Stickstoff verdünnt, un( man kann das Gasgemisch zurn Wiedergewinnen de Chlors vor dem Ausblasen -in die Atmosphäre in jede bekannten Weise behandeln. Das enstandene und gesammelte S#iliciurndi.Gxyd besteht aus ziemlich groben Flocken. Dieses Produkt zeigt beim Schütteln mit Wasser infoIge, der Anwesenheit von Säure und/oder der Verunreinigung mit Chl#or aus der Reaktion einen pH-Wert zwischen 1 und 2. Den p11-Wert einer solchen Suspension kann man durch verschiedene Maßnahmen, z. B. durch Waschen mit Wasser, auf 4 bis 7 bringen. Das vorzugsweise verwendete Verfahren hierfür, bei dem der anfängliche Charakter des Stoffes bewahrt wird, besteht darin, daß man das Produkt entweder mit heißer, wasserdampfhaltiger Luft oder mit überhitztem Dampf jeweils bei einer Temperatur über 250', vorzugsweise bei 3001 und darüber aufwirbelt.
  • Das Verfahren nach der Erfindung kann auch mit Wasserdampf an Stelle von Luft oder Sauerstoff durchgeführt werden, aber dies bietet keine. Vorteile und hat den großen Nachteil, daß das entstandene Gas Chlorwasserstoff ist, der, obwohl man ihn leicht abscheiden kann, an sich einen Chlorverlust für das System als Ganzes darstellt.
  • Im folgenden wird an Hand der Zeichnungen eine Durchführungsart des Verfahrens beschrieben.
  • Fig. 1 zeigt im Längsschnitt die allgemeine Art und Konstruktion der verwendeten Anlage, und Fig. 2 ist ein vergrößerter Längsschnitt des Teiles von Fig. 1, in welchem die Reaktionsteilnehmer in die Anlage eingeführt werden.
  • Der Reaktor in der Zeichnung besteht aus einem senkrechten Siliciumdioxydrohr 11 etwa mit beispielsweise einem inneren Durchmesser von 5 cm und einer Gesamtlänge von 91 cm.
  • Das Rohr 11 ist innerhalb eines elektrischen Ofens 12 angebracht, der die unteren zwei Drittel der Rohrlängeerhitzt.
  • Die Reaktionsteilnehmer, d. h. Sauerstoff- oder Luft einerseits und verdampftes Siliciumtetrarihlorid andererseits, führt man in den unteren Teil des Rohres 11 mitteils einer Vorrichtung ein, die im folgenden unter besonderer Bezugnahme in Fig. 2 beschrieben ist.
  • Das Reaktorrohrll fällt man mit Siliciumdioxydsand mit einer mittleren Teilchengröße von, 140 R, so daß die statische. Tiefe der Sandschicht 13 in dem Rohr etwa 18 oder 20 cm beträgt.
  • Der Oberteil des Rohres 11 ist an, ein Verbindungsstück 20 angeschlossen, das am oberen Ende ver-, schlossen ist und eine Abzweigung 21 aufweist, die mit einem Rohr 22 verbunden ist, das nach unten, zu dem Sammelgefäß 23 führt. Das Rohr 22 Ist mit einer Abzweigung 24 versehen, die zum Abziehen des gaisförm:igen Produktes dient, und einem Pf roplen 25 aus Glas.wolle in der Abzweigung 24, um zu verhindern, daß Festsubstanz nach außen tritt. Wie in Fig. 2 zu sehen ist, ist der Boden des Reaktorrohres 11 mit einer porösen kerainischen Scheibe 14 versehen, durch deren Mitte ein Steatitrohr 15 führt, etwas über dem Boden des Reaktorrohres 11 hinausragt und oben mit einer Kappe 16 versehen ist, an deren sich nach unten erstreckendem Schürzenteil eine. poröse keramische Scheibe 17 sich befindet. Ein oder mehrere Löcher 30 sind an dem oberen Teil des Rohres 15 vorgesehen, um eine Verbindung zwischen dem Innern des Rohreis 15 und dem Raum 31 in der Kappe, 16 über der porösen Scheibe 17 zu bilden.
  • Unterhalb des Reaktorrohres 11 ist ein Block 18 angebracht, mit einem Hohlraum. 32 unter der porösen Scheibe 14. Ein Kanal 19 ist in dem Boden des Blocks vorgesehen, um eine Verbindung zu demRaum 32 zu bilden. Durch den Block, 18 und die Scheibe 14 ragt ein Thermoelement 33 zum Messen der Temperatur der Sandschicht.
  • Im Betrieb wird das Reaktorrohr 11 durch den elektrischen Ofen 12 so erhitzt, daß die Temperatur der Schicht von Siliciumdioxydsand 13, gemessen mit dein Thermoelement 33, im Innern 980' beträgt. Der Siliciumtetrachloriddampf wird mit einer Geschwindigkeit von 10 cm3 flüssiges Siliciumtetrachlotid je Minute in das Rohr 15 eingeführt, aus dem es durch das Loch oder die Löcher 30 in den Raum 31 und dann durch die poröse Scheibe 17 in allgemeiner Richtung nach unten in die Wirbelschicht 13 gelangt. Luft oder Sauerstoff wird. durch das Rohr 19, den Raum 32 und die poröse Scheibe 14 in einer solchen Menge in die Schicht eingeführt, daß das Mola-rverhältnis von Sauerstoff zu Siliciumtetrachlorid 2: 1 beträgt. Die Luft oder der Sauerstoff, die in die Schicht eintreten, verursachen eine Turhulenz und bringen, sie in einen aufgewirbelten Zustand. Dadurch bildet sich eine Wirbelschicht von etwa 28 bis 30 cm Höhe.
  • Die Luft oder der Sauerstoff und der Siliciumtet#ra,-chloriddainpf reagieren in der Wirhelschicht aus Siliciumdioxydsand miteinander unter Bildung feiner Siliciumdioxydteilchen, die aus dem Reaktarrohr in Form eines Aerogels durch die durch diet Seitenleitung 21 das Verbindungsstückes 20 und von dort in das Rohr 22 strömenden Gase befördert werden, Das Ausflocken der Teilchen findet beim Verlassen. der Wirbelschicht statt, und das Material, das sich in dem Rohr 22 von den gasförmigen Produkten abtrennt und in das Sammelgefäß 23 fällt, besteht aus ziemlich groben Sili#ci#umdioxydflo#cleen.
  • Diese Sili-cium,dioxydflocken wurden weiter mit Dampf bei 300' behandelt, und das sich ergebende Produkt wurde mit einem feinverteilten handelsüblichen Siliciumdioxyd wie folgt verglichen:
    Si 02-Produkt Handelsübliches
    nach der 1 Siliciumdioxyd
    PH-Wert .................................. 4,1 4,4
    Oberfläche (B. E. T.-Verfahren) ........... 290 cm2ig 191 cm2/g
    In Silikongummi eingearbeitet [Zugfestig-
    und 15 Minuten bei 129' und keit .... 46,9 kg/CM2 37,1 kg/CM2
    1 Stunde bei 149' gehärtet Härte .... 26 26
    Zugfestig-
    Dasselbe nach 4 Tagen Altern keit .... 28,7 kg/Crn2 27,3 kg/CM2
    bei 249'
    Härte .... 27 27
    Bei Einarbeiten in Naturgummi härtete, das den erfindungsgemäß hergestellten Füllstoff enthaltende Muster langsamer als das den handelsüblichen Füllstoff enthaltende Muster, wahrscheinlich wegen seiner größeren Oberfläche. Im Endrosultat waren die, Eigenschaften jedoch im wesentlichen die, gleichen.
  • Mit beträchtlich niedrigeren Sauerstoffanteil-en, beispielsweise einem Molarverhältnis von Sauerstoff zu Silicium von 1,25: 1, kann man gute Ergebnisse erzielen.

Claims (2)

  1. PATENTANSPROCHE: 1. Verfahren zum Erzeugen von Siliciumdiöxyd durch Reaktion von Siliciumtetrachlorid mit Sauerstoff oder einem sauerstoffhaltigen Gas in der Dampfphase, dadurch gekennzeichnet, daß man die Reaktion in einer WirbeIschicht aus feiinverteiltem, festem inertem Stoff vornimmt.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Wirbe-Ischicht aus einer Masse von heißem, teilchenförmigem, festem inertem Stoff mit einer mittleren Teilchengröße- von etwa 40 bis 1000 u besteht und durch einen oder den anderen Reaktionsteilnehmer in einem aufgewirbelten oder turbulenten Zustand gehalten wird. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekeirm,zeichnet, d'aß der f Esten inerte Stoff S.iliciumdioxyd, Alumi-niumoxyd, Zirkon oder Rutil ist. 4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß man die Wirbelschicht bei einer Temperatur von 500 bis 1200' hält. 5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältlüs von Sauerstoff zu Siliciumtetrachlorid im Bereich von 1 -. 1 bis 2. 1 Iiegt. 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß man den Sauerstoff oder das sauerstoffhaltige Gas in den Boden einer säulenförrnigen Schicht des feinverteilten, festen inerten Stoffes mit einer solchen Geschwindigkeit: einführt, daß die Schicht aufgewirbelt wird. 7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß man das Siliciumtetrachlorid an einer Stelle! über dem. Boden der Wirbelschicht einführt. 8. Vor-fahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß man das bei der Reaktion entstandene Siliciunidioxyd nach dem Abtrennen von den bei der Reaktion entstehenden Gasen, von denen es mitgerissen wird, mit Wasser behandelt. 9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß man die Behandlung mit Wasserdampf boi einer Temperatur von nicht unter 250' durchführt.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1124472B (de) * 1958-03-04 1962-03-01 British Titan Products Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Siliciumdioxyd
DE1215666B (de) * 1961-03-15 1966-05-05 British Titan Products Verfahren zur Herstellung von feinverteiltem Siliciumdioxyd

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1124472B (de) * 1958-03-04 1962-03-01 British Titan Products Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Siliciumdioxyd
DE1215666B (de) * 1961-03-15 1966-05-05 British Titan Products Verfahren zur Herstellung von feinverteiltem Siliciumdioxyd

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