DE10119909B4 - Inspektionsmikroskop für den sichtbaren und ultravioletten Spektralbereich und Reflexionsminderungsschicht für den sichtbaren und ultravioletten Spektralbereich - Google Patents

Inspektionsmikroskop für den sichtbaren und ultravioletten Spektralbereich und Reflexionsminderungsschicht für den sichtbaren und ultravioletten Spektralbereich Download PDF

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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7019905B2 (en) * 2003-12-30 2006-03-28 3M Innovative Properties Company Multilayer reflector with suppression of high order reflections
DE102004025646A1 (de) * 2004-05-24 2005-12-22 Jenoptik Laser, Optik, Systeme Gmbh Hochreflektierender dielektrischer Spiegel und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102004034845B4 (de) 2004-07-19 2006-05-18 Leica Microsystems Cms Gmbh Umschaltbares Mikroskop
MX2012010842A (es) * 2010-03-22 2013-04-03 Luxxotica Us Holdings Corp Deposicion auxliada por haz ionico de recubrimientos para lentes oftalmicas.
JP5603714B2 (ja) * 2010-09-02 2014-10-08 オリンパス株式会社 反射防止膜、レンズ、光学系、対物レンズ、及び光学機器
CA3020967A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-18 Sensory Analytics Method and system for real-time in-process measurement of coating thickness
US9733465B2 (en) * 2015-02-12 2017-08-15 The Penn State Research Foundation Waveguides for enhanced total internal reflection fluorescence microscopy

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4960310A (en) * 1989-08-04 1990-10-02 Optical Corporation Of America Broad band nonreflective neutral density filter
DE19831392A1 (de) * 1998-07-14 2000-02-03 Leica Microsystems Zweibereichs-Reflexionsminderung für den sichtbaren Spektralbereich und einer Wellenlänge von: (248 +/- 15)NM
DE19931954A1 (de) * 1999-07-10 2001-01-11 Leica Microsystems Beleuchtungseinrichtung für ein DUV-Mikroskop

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3936136A (en) * 1970-12-29 1976-02-03 Nippon Kogaku K.K. Multilayer anti-reflection film for ultraviolet rays
JP3324780B2 (ja) * 1991-05-16 2002-09-17 オリンパス光学工業株式会社 紫外線顕微鏡
DE4219817A1 (de) * 1992-06-17 1993-12-23 Merck Patent Gmbh Aufdampfmaterial zur Herstellung mittelbrechender optischer Schichten
JP3224316B2 (ja) * 1993-09-07 2001-10-29 キヤノン株式会社 二波長反射防止膜
US5661596A (en) * 1994-02-03 1997-08-26 Canon Kabushiki Kaisha Antireflection film and exposure apparatus using the same
FR2750216B1 (fr) * 1996-06-21 1998-07-24 Commissariat Energie Atomique Empilement multicouche de materiaux fluorures, utilisable en optique et son procede de fabrication
US5911858A (en) * 1997-02-18 1999-06-15 Sandia Corporation Method for high-precision multi-layered thin film deposition for deep and extreme ultraviolet mirrors
US5937920A (en) * 1997-08-04 1999-08-17 Link Research & Development, Inc. Product dispensing system
US5960840A (en) * 1998-04-27 1999-10-05 Link Research And Development, Inc. Controlled product dispensing system
JP2000227504A (ja) 1999-02-05 2000-08-15 Minolta Co Ltd 反射防止膜
US6196522B1 (en) * 1999-04-02 2001-03-06 Ecolab, Inc. Geometric lockout coupler
JP2001074904A (ja) * 1999-09-02 2001-03-23 Canon Inc 二波長反射防止膜
JP4524877B2 (ja) * 2000-07-17 2010-08-18 コニカミノルタホールディングス株式会社 眼鏡用レンズ
JP2003279702A (ja) * 2002-03-19 2003-10-02 Olympus Optical Co Ltd ２波長反射防止膜および該２波長反射防止膜を施した対物レンズ

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4960310A (en) * 1989-08-04 1990-10-02 Optical Corporation Of America Broad band nonreflective neutral density filter
DE19831392A1 (de) * 1998-07-14 2000-02-03 Leica Microsystems Zweibereichs-Reflexionsminderung für den sichtbaren Spektralbereich und einer Wellenlänge von: (248 +/- 15)NM
DE19931954A1 (de) * 1999-07-10 2001-01-11 Leica Microsystems Beleuchtungseinrichtung für ein DUV-Mikroskop

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