DE10109016A1

DE10109016A1 - Dünnfilmmagnetkopf

Info

Publication number: DE10109016A1
Application number: DE10109016A
Authority: DE
Inventors: Ikuya Tagawa; Tomoko Kutsuzawa; Hideo Niwa; Yukinori Ikegawa; Yoshinori Ohtsuka; Hiroshi Maeda; Takashi Sekikawa; Hiroki Fujimoto
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 2000-10-19
Filing date: 2001-02-23
Publication date: 2002-05-08
Also published as: US20020048116A1; KR100627094B1; US6614620B2; KR20020033016A; JP2002123909A

Abstract

Ein Dünnfilmmagnetkopf enthält einen oberen Magnetpol, der eine konstante Dicke in einem Bereich beibehält, der durch die sogenannte Spalttiefe bestimmt ist. Ein dünnerer Filmabschnitt ist in dem oberen Magnetpol in einem Bereich hinter dem Bereich definiert, der durch die Spalttiefe bestimmt ist. Der dünnere Filmabschnitt hat eine reduzierte Dicke, die kleiner als die konstante Dicke ist. Der obere Magnetpol nimmt in der Kernbreite in seitlicher Richtung ab dem hinteren Ende von der Zone zu, die durch die sogenannte Halshöhe bestimmt ist. Die Halshöhe, die kleiner als die Spalttiefe ist, dient dazu, eine Reduzierung der Dicke des oberen Magnetpols vorzunehmen, nachdem der obere Magnetpol in seitlicher Richtung breiter wird. Eine magnetische Sättigung kann in dem dünneren Filmabschnitt in dem oberen Magnetpol zuverlässig verhindert werden. Das vordere Ende des oberen Magnetpols kann einen größeren Betrag eines Magnetflusses empfangen. Es ist möglich, ein Magnetfeld zur Aufzeichnung in dem Dünnfilmmagnetkopf zuverlässig zu verstärken.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG Gebiet der Erfindung

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Dünnfilm magnetkopf, der im allgemeinen zum Beispiel in einem Lauf werk eines magnetischen Aufzeichnungsmediums oder in einer Speichervorrichtung wie etwa einem Magnetplattenlaufwerk und einem Magnetbandlaufwerk eingesetzt wird.

Beschreibung der verwandten Technik

In einem Dünnfilmmagnetkopf ist eine nichtmagnetische Spaltschicht zwischen einer oberen und einer unteren Magnet polschicht angeordnet. Die nichtmagnetische Spaltschicht ist so konstruiert, um sich zu der zentralen Position eines gewirbelten leitfähigen Spulenmusters von dem vorderen Ende eines Kopfgleiters aus zu erstrecken, das an einer Oberflä che, die dem Medium gegenüberliegt, oder an einer unteren Oberfläche exponiert ist. Herkömmlicherweise ist bekannt, daß die nichtmagnetische Spaltschicht ihre Dicke in einem Bereich, der im allgemeinen als Spalttiefe bezeichnet wird, konstant beibehält. Eine Reduzierung der Spalttiefe soll zu einer Verstärkung eines Magnetfeldes führen, das aus der Oberfläche, die dem Medium gegenüberliegt, austritt, nämlich eines Magnetfeldes zur Aufzeichnung. In der japanischen offengelegten Patenanmeldung Nr. 11-149621 ist zum Beispiel offenbart, daß eine Isolierschicht genutzt werden kann, um das hintere Ende einer Zone zu definieren, die durch die Spalttiefe bestimmt ist. Die Isolierschicht ist in diesem Fall so konstruiert, um ab der Oberfläche der unteren Ma gnetpolschicht an einer Position, die von der Oberfläche, die dem Medium gegenüberliegt, zurückgesetzt ist, anzu schwellen.

Von einem Dünnfilmmagnetkopf ist bekannt, daß er ein Polspitzenstück enthält, das mit einer oberen Magnetpol schicht verbunden ist. Im allgemeinen wird das Polspitzen stück einer Abflachungspolierbehandlung vor der Bildung des gewirbelten Dünnfilmspulenmusters unterzogen. Wenn das Polspitzenstück auf diese Weise abgeflacht wird, wird ein dünnerer Filmabschnitt in dem Polspitzenstück direkt auf der zuvor erwähnten Isolierschicht erzeugt, die von der Oberflä che der unteren Magnetpolschicht aus anschwillt. Ein Magnet fluß tritt in das vordere Ende des Polspitzenstückes ein, nachdem er durch den dünneren Filmabschnitt hindurchgetreten ist. Der Magnetfluß, der somit das vordere Ende des Polspit zenstückes erreicht, kann aus der Oberfläche, die dem Medium gegenüberliegt, austreten, um ein Magnetfeld zur Aufzeich nung zu bilden.

Es ist entdeckt worden, daß eine Reduzierung der Spalt tiefe des obigen Typs des Polspitzenstückes zu einer Redu zierung des Magnetfeldes zur Aufzeichnung führt. Im besonde ren tendiert das Polspitzenstück, das aus einer dünneren Schicht hergestellt ist, dazu, eine beträchtliche Reduzie rung des Magnetfeldes zur Aufzeichnung zu erleiden, falls die Spalttiefe auf die obige Art reduziert wird. Anderer seits ist es möglich, falls das Polspitzenstück dünner wird, das Polspitzenstück mit einer höheren dimensionalen Genauig keit zu bilden oder zu formen. Genauer gesagt, die Kern breite des Polspitzenstückes kann auf relativ vereinfachte Weise reduziert werden.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG

Daher ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Dünnfilmmagnetkopf vorzusehen, der ein größeres Ma gnetfeld zur Aufzeichnung auch dann aufbauen kann, wenn die obere Oberfläche des oberen Magnetpols einer Abflachungs behandlung unterzogen wird.

Gemäß einem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Dünnfilmmagnetkopf vorgesehen, der umfaßt: einen unteren Magnetpol, der sich von einem vorderen Ende, das an einer Oberfläche, die dem Medium gegenüberliegt, exponiert ist, nach hinten erstreckt und eine flache obere Oberfläche definiert; eine nichtmagnetische Hilfsschicht, die so kon struiert ist, um ausgehend von der flachen oberen Oberfläche des unteren Magnetpols an einer Position, die von der Ober fläche zurückgesetzt ist, die dem Medium gegenüberliegt, anzuschwellen; eine nichtmagnetische Spaltschicht, die sich über der flachen oberen Oberfläche des unteren Magnetpols in einer konstanten Dicke wenigstens in einem Bereich zwischen der Oberfläche, die dem Medium gegenüberliegt, und der nichtmagnetischen Hilfsschicht erstreckt; und einen oberen Magnetpol, der sich über der nichtmagnetischen Spaltschicht in einer vorbestimmten Dicke wenigstens in einem Bereich erstreckt, der als Spalttiefe definiert ist, welcher obere Magnetpol einen dünneren Filmabschnitt mit reduzierter Dicke, die kleiner als die vorbestimmte Dicke ist, auf der nichtmagnetischen Hilfsschicht definiert, bei dem eine Halshöhe des oberen Magnetpols kleiner als die Spalttiefe ist.

Die Kernbreite des oberen Magnetpols beginnt, an der Position, die durch die Halshöhe bestimmt ist, in seitlicher Richtung größer oder breiter zu werden. Die Halshöhe, die kleiner als die Spalttiefe ist, dient dazu, eine Reduzierung der Dicke des oberen Magnetpols in einem Bereich von der Position, die durch die Halshöhe bestimmt ist, nach hinten vorzunehmen. Der obere Magnetpol braucht an dem dünneren Filmabschnitt eine kleinere magnetische Sättigung als in dem Fall zu erleiden, wenn die Halshöhe größer als die Spalt tiefe festgelegt wird. Ein ausreichender Betrag eines Ma gnetflusses kann durch den dünneren Filmabschnitt in das vordere Ende des oberen Magnetpols eintreten. Es ist mög lich, in dem Dünnfilmmagnetkopf ein Magnetfeld zuverlässig zu verstärken, das aus der Oberfläche austritt, die dem Medium gegenüberliegt, nämlich ein Magnetfeld zur Aufzeich nung.

Wenn eine flache obere Oberfläche auf dem oberen Ma gnetpol definiert ist, führt die obenerwähnte nichtmagne tische Hilfsschicht unvermeidlich zu dem dünneren Filmab schnitt in dem oberen Magnetpol. Eine magnetische Sättigung tendiert dazu, in dem dünneren Filmabschnitt in dem oberen Magnetpol aufzutreten. Falls die Halshöhe auf obige Weise kleiner oder kürzer als die Spalttiefe festgelegt wird, kann eine magnetische Sättigung in dem dünneren Filmabschnitt weitestgehend unterdrückt werden.

In diesem Fall ist es vorzuziehen, die Differenz zwi schen der Spalttiefe und der Halshöhe auf einen Bereich innerhalb von 1,0 µm festzulegen. Falls die Differenz zwi schen der Spalttiefe und der Halshöhe 1,0 µm überschreitet, tendiert ein Magnetfluß dazu, in dem oberen Magnetpol über einer Zone, die durch die Spalttiefe definiert ist, zu dispergieren. Somit wird es schwierig, ein Magnetfeld zuver lässig zu verstärken, das in dem Dünnfilmmagnetkopf aus der dem Medium gegenüberliegenden Oberfläche austritt, nämlich ein Magnetfeld zur Aufzeichnung.

Gemäß einem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Dünnfilmmagnetkopf vorgesehen, der umfaßt: eine untere Magnetpolschicht, die sich von einem vorderen Ende, das an einer Oberfläche, die dem Medium gegenüberliegt, exponiert ist, nach hinten erstreckt und eine flache obere Oberfläche definiert; eine nichtmagnetische Hilfsschicht, die so konstruiert ist, um ausgehend von der flachen oberen Oberfläche der unteren Magnetpolschicht an einer Position, die von der Oberfläche zurückgesetzt ist, die dem Medium gegenüberliegt, anzuschwellen; eine nichtmagnetische Spalt schicht, die sich über der flachen oberen Oberfläche der unteren Magnetpolschicht in einer konstanten Dicke wenig stens in einem Bereich zwischen der Oberfläche, die dem Medium gegenüberliegt, und der nichtmagnetischen Hilfs schicht erstreckt; ein oberes Magnetpolspitzenstück, das sich über der nichtmagnetischen Spaltschicht in einer vorbe stimmten Dicke wenigstens in einem Bereich erstreckt, der als Spalttiefe definiert ist, welches obere Magnetpolspit zenstück einen dünneren Filmabschnitt mit reduzierter Dicke, die kleiner als die vorbestimmte Dicke ist, auf der nicht magnetischen Hilfsschicht definiert; und eine obere Magnet polschicht, die sich ausgehend von einer zentralen Position eines Spulenmusters erstreckt und auf dem oberen Magnetpol spitzenstück mit einem Vorderende ankommt, bei dem eine Halshöhe des oberen Magnetpolspitzenstückes kleiner als die Spalttiefe ist.

Das obere Magnetpolspitzenstück kann in dem Dünnfilm magnetkopf auf einer flachen Oberfläche vor der Bildung eines leitfähigen gewirbelten Spulenmusters gebildet werden. Die Kernbreite des oberen Magnetpolspitzenstückes kann genügend reduziert werden, um eine schmalere Aufzeichnungs spur über einem magnetischen Aufzeichnungsmedium zu definie ren. Da zusätzlich die Halshöhe kleiner oder kürzer als die Spalttiefe festgelegt wird, braucht das obere Magnetpolspit zenstück eine kleinere magnetische Sättigung in dem dünneren Filmabschnitt als in dem Fall zu erleiden, wenn die Halshöhe größer als die Spalttiefe festgelegt wird. Ein ausreichender Betrag eines Magnetflusses kann in das vordere Ende des oberen Magnetpolspitzenstückes durch den dünneren Filmab schnitt eintreten. Es ist möglich, in dem Dünnfilmmagnetkopf ein Magnetfeld zuverlässig zu verstärken, das aus der dem Medium gegenüberliegenden Oberfläche austritt, nämlich ein Magnetfeld zur Aufzeichnung.

Eine flache obere Oberfläche kann auf obige Weise auf dem oberen Magnetpolspitzenstück definiert werden. In diesem Fall sollte die Differenz zwischen der Spalttiefe und der Halshöhe, wie oben beschrieben, kleiner als 1,0 µm sein.

Die obere Magnetpolschicht kann an einer Position enden, die von der dem Medium gegenüberliegenden Oberfläche um eine Distanz zurückgesetzt ist, die größer als die Halshöhe in dem Dünnfilmmagnetkopf ist. Auch wenn die obere Magnetpolschicht auf diese Weise beendet wird, bevor sie die dem Medium gegenüberliegende Oberfläche erreicht, kann eine magnetische Sättigung in dem dünneren Filmabschnitt des oberen Magnetpolspitzenstückes unterdrückt werden, wie oben beschrieben. Ferner kann die Distanz kleiner als die Spalt tiefe festgelegt werden. Wenn die obere Magnetpolschicht auf diese Weise eine Position vor dem hinteren Ende einer Zone erreichen kann, die durch die Spalttiefe definiert ist, kann das obere Magnetpolspitzenstück einen größeren Betrag eines Magnetflusses von der oberen Magnetpolschicht empfangen.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

Die obigen und andere Ziele, Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung gehen aus der folgenden Beschreibung der bevorzugten Ausführungsform in Verbindung mit den bei liegenden Zeichnungen deutlicher hervor, in denen:

Fig. 1 eine Draufsicht ist, die die Struktur eines Festplattenlaufwerkes [hard disk drive] (HDD) schematisch zeigt;

Fig. 2 eine vergrößerte perspektivische Ansicht eines fliegenden Kopfgleiters gemäß einem spezifischen Beispiel ist;

Fig. 3 eine vergrößerte Draufsicht ist, die die Struk tur eines Magnetkerns in einem Dünnfilmmagnetkopf gemäß der vorliegenden Erfindung schematisch zeigt;

Fig. 4 eine Schnittansicht längs der Linie 4-4 in Fig. 4 ist;

Fig. 5 eine vergrößerte perspektivische Ansicht einer oberen Magnetpolspitzenschicht ist;

Fig. 6A eine Teilschnittansicht der oberen Magnetpol spitzenschicht gemäß der vorliegenden Ausführungsform ist, zum schematischen Zeigen der Position der magnetischen Sättigung in dem Fall, wenn die obere Magnetpolspitzen schicht eine relativ große Dicke hat;

Fig. 6B eine Teilschnittansicht der oberen Magnetpol spitzenschicht in einem herkömmlichen Dünnfilmmagnetkopf ist, zum schematischen Zeigen der Position der magnetischen Sättigung in dem Fall, wenn die obere Magnetpolspitzen schicht eine relativ große Dicke hat;

Fig. 7A eine Teilschnittansicht der oberen Magnetpol spitzenschicht gemäß der vorliegenden Ausführungsform ist, zum schematischen Zeigen der Position der magnetischen Sättigung in dem Fall, wenn die obere Magnetpolspitzen schicht eine reduzierte Dicke hat;

Fig. 7B eine Teilschnittansicht der oberen Magnetpol spitzenschicht in einem herkömmlichen Dünnfilmmagnetkopf ist, zum schematischen Zeigen der Position der magnetischen Sättigung in dem Fall, wenn die obere Magnetpolspitzen schicht eine reduzierte Dicke hat;

Fig. 8 ein Graph ist, der den Einfluß der Beziehung zwischen der Halshöhe NH(= 1,0 µm) und der Spalttiefe GD auf das Magnetfeld des Dünnfilmmagnetkopfes zeigt;

Fig. 9 ein Graph ist, der den Einfluß der Beziehung zwischen der Halshöhe NH(= 1,5 µm) und der Spalttiefe GD auf das Magnetfeld des Dünnfilmmagnetkopfes zeigt;

Fig. 10 eine Teilschnittansicht ist, die den Prozeß zum Herstellen des Dünnfilmmagnetkopfes zeigt;

Fig. 11 eine Teilschnittansicht ist, die den Prozeß zum Herstellen des Dünnfilmmagnetkopfes zeigt; und

Fig. 12 eine vergrößerte perspektivische Ansicht ist, die Fig. 5 entspricht, zum schematischen Zeigen des unteren Polspitzenstückes, das zu der unteren Magnetpolschicht hinzugefügt ist.

BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORM

Fig. 1 zeigt schematisch die Innenstruktur eines Fest plattenlaufwerkes (HDD) 11 als Beispiel für ein Aufzeich nungsmedienlaufwerk oder eine Speichervorrichtung. Das HDD 11 enthält ein kastenförmiges Primärgehäuse 12, das einen Innenraum zum Beispiel eines flachen Parallelepipeds defi niert. Wenigstens eine magnetische Aufzeichnungsplatte 13 ist in dem Innenraum innerhalb des Primärgehäuses 12 unter gebracht. Die magnetische Aufzeichnungsplatte 13 ist auf einen Antriebsschaft eines Spindelmotors 14 montiert. Der Spindelmotor 14 kann die magnetische Aufzeichnungsplatte 13 zur Rotation mit einer höheren Umdrehungsgeschwindigkeit wie zum Beispiel 7200 U/min oder 10000 U/min antreiben. Eine Abdeckung, die nicht gezeigt ist, ist mit dem Primärgehäuse 12 gekoppelt, um den geschlossenen Innenraum zwischen dem Primärgehäuse 12 und sich selbst zu definieren.

Ein Wagen 16 ist auch in dem Innenraum des Primärgehäu ses 12 zur Schwingbewegung um einen vertikalen Stützschaft 15 untergebracht. Der Wagen 16 enthält einen starren Schwingarm 17, der sich von dem vertikalen Stützschaft 15 aus in horizontaler Richtung erstreckt, und eine elastische Kopfaufhängung 18, die an dem spitzen Ende des Schwingarmes 17 angebracht ist, um sich von dem Schwingarm 17 aus nach vorn zu erstrecken. Es ist bekannt, daß ein fliegender Kopfgleiter 19 herkömmlicherweise an der Kopfaufhängung 18 durch eine Kardanfeder, die nicht gezeigt ist, auslegerartig angebracht ist. Die Kopfaufhängung 18 dient dazu, den flie genden Kopfgleiter 19 hin zu der Oberfläche der magnetischen Aufzeichnungsplatte 13 zu drängen. Wenn die magnetische Aufzeichnungsplatte 13 rotiert, kann der fliegende Kopfglei ter 19 einen Luftstrom empfangen, der längs der rotierenden magnetischen Aufzeichnungsplatte 13 erzeugt wird. Der Luft strom dient dazu, einen Auftrieb des fliegenden Kopfgleiters 19 zu bewirken. Der fliegende Kopfgleiter 19 kann somit über der Oberfläche der magnetischen Aufzeichnungsplatte 13 während der Rotation der magnetischen Aufzeichnungsplatte 13 mit einer höheren Stabilität weiterfliegen, die durch das Gleichgewicht zwischen dem Auftrieb und der Drängkraft der Kopfaufhängung 18 hergestellt wird.

Wenn der Wagen 16 angetrieben wird, um während des Flu ges des fliegenden Kopfgleiters 19 um den Stützschaft 15 zu schwingen, kann der fliegende Kopfgleiter 19 die Aufzeich nungsspuren, die auf der magnetischen Aufzeichnungsplatte 13 definiert sind, in radialer Richtung der magnetischen Auf zeichnungsplatte 13 überqueren. Diese Radialbewegung dient dazu, den fliegenden Kopfgleiter 19 direkt über einer Zielaufzeichnungsspur auf der magnetischen Aufzeichnungs platte 13 zu positionieren. In diesem Fall kann zum Beispiel ein elektromagnetischer Betätiger 21 wie etwa ein Schwing spulenmotor [voice coil motor] (VCM) eingesetzt werden, um die Schwingbewegung des Wagens 16 zu realisieren. Es ist bekannt, daß herkömmlicherweise in dem Fall, wenn zwei oder mehr magnetische Aufzeichnungsplatten 13 innerhalb des Innenraumes des Primärgehäuses 12 inkorporiert sind, ein Paar der elastischen Kopfaufhängungen 18 an einen einzelnen gemeinsamen Schwingarm 17 zwischen den benachbarten magneti schen Aufzeichnungsplatten 13 montiert ist.

Fig. 2 zeigt ein spezifisches Beispiel des fliegenden Kopfgleiters 19. Der fliegende Kopfgleiter 19 dieses Typs enthält einen Gleiterkörper 22 aus Al₂O₃-TiC in der Form eines flachen Parallelepipeds und eine den Kopf enthaltende Schicht 24, die mit dem hinteren oder stromabwärtigen Ende des Gleiterkörper 22 gekoppelt ist. Die den Kopf enthaltende Schicht 24 kann aus Al₂O₃ sein. Ein elektromagnetischer Lese/Schreib-Transducer 23 ist in der den Kopf enthaltenden Schicht 24 eingebettet. Eine dem Medium gegenüberliegende Oberfläche oder untere Oberfläche 25 ist kontinuierlich über dem Gleiterkörper 22 und der den Kopf enthaltenden Schicht 24 definiert, um der Oberfläche der magnetischen Aufzeich nungsplatte 13 mit einem Abstand zugewandt zu sein. Die untere Oberfläche 25 ist so konstruiert, um den Luftstrom 26 zu empfangen, der längs der Oberfläche der rotierenden magnetischen Aufzeichnungsplatte 13 erzeugt wird.

Ein Paar von Schienen 27 ist gebildet, um sich ausge hend von dem vorderen oder stromaufwärtigen Ende hin zu dem hinteren Ende über die untere Oberfläche 25 zu erstrecken. Die individuelle Schiene 27 ist so konstruiert, um eine Luftlageroberfläche 28 auf ihrer oberen Oberfläche zu defi nieren. Im besonderen erzeugt der Luftstrom 26 den oben erwähnten Auftrieb an den jeweiligen Luftlageroberflächen 28. Der elektromagnetische Lese/Schreib-Transducer 23, der in der den Kopf enthaltenden Schicht 24 eingebettet ist, ist an der Luftlageroberfläche 28 exponiert, wie es später eingehend beschrieben ist. Der fliegende Kopfgleiter 19 kann außer der oben beschriebenen Form eine beliebige Gestalt oder Form haben.

Der elektromagnetische Lese/Schreib-Transducer 23 ent hält, wie in Fig. 3 eingehend gezeigt, ein induktives Schreibelement oder einen Dünnfilmmagnetkopf 32 gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Der Dünnfilm magnetkopf 32 ist so konstruiert, um ein Magnetfeld zu nutzen, das in einem leitfähigen gewirbelten Spulenmuster 31 induziert wird, um magnetische Binärdaten in der magneti schen Aufzeichnungsplatte 13 aufzuzeichnen. Wenn ein Magnet feld in dem gewirbelten Spulenmuster 31 als Reaktion auf die Zufuhr eines elektrischen Stromes induziert wird, kann ein Magnetfluß durch einen Magnetkern 33 zirkulieren, der in das gewirbelte Spulenmuster 31 an seiner zentralen Position eindringt. Das gewirbelte Spulenmuster 31 kann aus einem leitfähigen Metallmaterial wie zum Beispiel Cu sein.

Unter Bezugnahme auch auf Fig. 4 enthält der Magnetkern 33 eine untere Magnetpolschicht 34, die sich über einer Ebene ab dem vorderen Ende, das an der unteren Oberfläche 25 exponiert ist, nach hinten erstreckt. Eine flache obere Oberfläche 34a ist auf der unteren Magnetpolschicht 34 definiert. Das hintere Ende der unteren Magnetpolschicht 34 kann wenigstens die zentrale Position des gewirbelten Spu lenmusters 31 erreichen. Die untere Magnetpolschicht 34 kann zum Beispiel aus NiFe sein.

Eine obere Magnetpolspitzenschicht 35 liegt der flachen oberen Oberfläche 34a der unteren Magnetpolschicht 34 gegen über. Die obere Magnetpolspitzenschicht 35 kann ihr vorderes Ende an der unteren Oberfläche 25 exponieren. Aus Fig. 3 geht hervor, daß die obere Magnetpolspitzenschicht 35 ein Polspitzenstück 35a mit einer konstanten Kernbreite CW enthält, das sich in der Längsrichtung erstreckt, und eine Primärpolschicht 35b, die mit dem hinteren Ende des Polspit zenstückes 35a verbunden ist. Die Primärpolschicht 35b kann in ihrer Kernbreite in rückwärtiger Richtung allmählich zunehmen. Das Polspitzenstück 35a und die Primärpolschicht 35b sind integral miteinander gebildet, wie es später einge hend beschrieben ist. Die Halshöhe NH der oberen Magnetpol spitzenschicht 35 kann als Distanz zwischen der unteren Oberfläche 25 und der Position definiert sein, wo die Kern breite der oberen Magnetpolspitzenschicht 35 beginnt, in seitlicher Richtung breiter zu werden. Genauer gesagt, die Länge des Polspitzenstückes 35a entspricht der Halshöhe NH. Die obere Magnetpolspitzenschicht 35 kann zum Beispiel aus NiFe sein.

Eine obere Magnetpolschicht 36 ist so konstruiert, um sich von der zentralen Position des gewirbelten Spulenmu sters 31 aus nach vorn hin zu der unteren Oberfläche 25 zu erstrecken. Die obere Magnetpolschicht 36 kommt auf der oberen Magnetpolspitzenschicht 35 mit dem Vorderende an. Das Vorderende der oberen Magnetpolschicht 36 endet an einer Position, die von der unteren Oberfläche 25 zurückgesetzt ist, bevor sie die untere Oberfläche 25 erreicht. Die obere Magnetpolschicht 36 kann zum Beispiel aus NiFe sein.

Ein Streifen aus einer nichtmagnetischen Hilfsschicht 37 ist gebildet, um sich in seitlicher Richtung, die die Richtung der Kernbreite definiert, auf der flachen oberen Oberfläche 34a der unteren Magnetpolschicht 34 an einer Position zu erstrecken, die von der unteren Oberfläche 25 zurückgesetzt ist. Die nichtmagnetische Hilfsschicht 37 ist so konstruiert, um das vordere Ende zu definieren, das sich parallel zu der unteren Oberfläche 25 erstreckt. Das vordere Ende der nichtmagnetischen Hilfsschicht 37, das von der unteren Oberfläche 25 durch einen Abstand getrennt ist, wird als Spalttiefe GD bezeichnet. Aus Fig. 4 geht hervor, daß die nichtmagnetische Hilfsschicht 37 von der flachen oberen Oberfläche 34a der unteren Magnetpolschicht 34 aus anschwel len kann. Die nichtmagnetische Hilfsschicht 37 kann zum Beispiel aus SiO₂ sein.

Eine nichtmagnetische Spaltschicht 38 ist gebildet, wie in Fig. 4 gezeigt, um sich über der flachen oberen Oberflä che 34a der unteren Magnetpolschicht 34 zu erstrecken. Die nichtmagnetische Spaltschicht 38 bedeckt die nichtmagneti sche Hilfsschicht 37 auf der flachen oberen Oberfläche 34a der unteren Magnetpolschicht 34. Die nichtmagnetische Spalt schicht 38 ist zwischen der unteren Magnetpolschicht 34 und der oberen Magnetpolspitzenschicht 35 an dem vorderen Ende des Magnetkerns 33 angeordnet, das an der unteren Oberfläche 25 exponiert ist. Hier kann die nichtmagnetische Spalt schicht 38 eine konstante Dicke nicht nur in einer Zone zwischen der unteren Oberfläche 25 und der nichtmagnetischen Hilfsschicht 37 beibehalten, sondern auch in einer Zone über der Oberfläche der nichtmagnetischen Hilfsschicht 37 sowie in einer Zone von der nichtmagnetischen Hilfsschicht 37 aus nach hinten.

Das obenerwähnte gewirbelte Spulenmuster 31 ist in einer Isolierschicht 39 eingebettet, die ab der Oberfläche der nichtmagnetischen Spaltschicht 38 anschwillt. Die Iso lierschicht 39 ist zwischen den unteren und oberen Magnet polschichten 34, 36 angeordnet. Die obere Magnetpolschicht 36 ist mit der unteren Magnetpolschicht 34 an der zentralen Position des gewirbelten Spulenmusters 31 magnetisch verbun den.

Der Dünnfilmmagnetkopf 32 ist auf einer Al₂O₃- (Aluminiumoxid)-Schicht 42 angeordnet, die zum Lesen von magnetischen Informationsdaten ein magnetoresistives (MR) Element 41 enthält. Die Aluminiumoxidschicht 42 ist zwischen der unteren Magnetpolschicht 34 des Dünnfilmmagnetkopfes 32 und einer unteren Schirmschicht 43 angeordnet, die aus FeN oder NiFe sein kann. Genauer gesagt, die untere Magnetpol schicht 34 kann für das magnetoresistive Element 41 als obere Schirmschicht fungieren. Die untere Magnetpolschicht 34 muß sich daher über einen breiteren Bereich in seitlicher Richtung an dem vorderen Ende des Dünnfilmmagnetkopfes 32 erstrecken, verglichen mit der oberen Magnetpolspitzen schicht 35 oder dem Polspitzenstück 35a, um eine zuverläs sige Schirmfunktion zu erreichen, wie es zum Beispiel in Fig. 3 gezeigt ist. Das magnetoresistive Element 41 kann durch ein Element mit gigantischem magnetoresistiven Effekt (GMR-Element), ein magnetoresistives Tunnelübergangselement (TMR-Element) oder dergleichen verkörpert sein. Alternativ kann der Dünnfilmmagnetkopf 32 allein ohne das magnetoresi stive Element 41 eingesetzt werden.

Als nächstes folgt eine eingehende Beschreibung der Form der obenerwähnten oberen Magnetpolspitzenschicht 35. In Fig. 5 ist gezeigt, daß eine flache obere Oberfläche 45 auf der oberen Magnetpolspitzenschicht 35 definiert ist. Die flache obere Oberfläche 45 der oberen Magnetpolspitzen schicht 35 kann sich parallel zum Beispiel zu der flachen oberen Oberfläche 34a der unteren Magnetpolschicht 34 er strecken. Die obere Magnetpolspitzenschicht 35 behält eine konstante erste Dicke SL zwischen der flachen oberen Ober fläche 45 und der nichtmagnetischen Spaltschicht 38 in einem Bereich bei, der durch die Spalttiefe GD zwischen der unte ren Oberfläche 25 und der nichtmagnetischen Hilfsschicht 37 bestimmt ist. Andererseits kann ein dünnerer Filmabschnitt 46 in der oberen Magnetpolspitzenschicht 35 in einem Bereich über der nichtmagnetischen Hilfsschicht 37 zwischen der nichtmagnetischen Hilfsschicht 37 und der flachen oberen Oberfläche 45 definiert sein. Der dünnere Filmabschnitt 46 hat eine reduzierte zweite Dicke PL, die kleiner als die erste Dicke SL ist.

Aus Fig. 5 geht hervor, daß die Halshöhe NH in der obe ren Magnetpolspitzenschicht 35 kürzer als die Spalttiefe GD ist. Unter Bezugnahme auch auf Fig. 3 kann das Vorderende der oberen Magnetpolschicht 36 die Position vor dem hinteren Ende der Spalttiefe GD und hinter dem hinteren Ende der Halshöhe NH erreichen. Genauer gesagt, das Vorderende der oberen Magnetpolschicht 36 ist von der unteren Oberfläche 25 durch einen Abstand getrennt, der kleiner als die Spalttiefe GD und größer als die Halshöhe NH ist.

Wenn ein elektrischer Strom dem gewirbelten Spulen muster 31 in dem Dünnfilmmagnetkopf 32 zugeführt wird, wird ein Magnetfeld in dem gewirbelten Spulenmuster 31 an dessen zentraler Position induziert. Ein Magnetfluß kann daher durch die oberen und unteren Magnetpolschichten 36, 34 zirkulieren. Der Magnetfluß, der die obere Magnetpolschicht 36 durchfließt, ist auf die obere Magnetpolspitzenschicht 35 gerichtet. Die nichtmagnetische Spaltschicht 38 dient dazu, daß der Magnetfluß aus der oberen Magnetpolspitzenschicht 35, nämlich aus dem Polspitzenstück 35a aus der unteren Oberfläche 25 austritt. Der austretende Magnetfluß bildet das Magnetfeld zur Aufzeichnung an der unteren Oberfläche 25. Das Magnetfeld magnetisiert die magnetische Aufzeich nungsplatte 13, die der unteren Oberfläche 25 in einem Abstand gegenüberliegt. Eine Aufzeichnungsspur mit der Breite, die der Kernbreite cw des Polspitzenstückes 35a entspricht, kann über der Oberfläche der magnetischen Auf zeichnungsplatte 13 definiert sein. Das Polspitzenstück 35a mit einer kleineren Größe trägt zu der Bildung einer schma leren Aufzeichnungsspur bei. Da im besonderen die obere Magnetpolschicht 36 an einer Position endet, die von der unteren Oberfläche 25 in dem obenerwähnten Dünnfilmmagnet kopf 32 zurückgesetzt ist, ist es möglich, das Austreten eines unerwünschten Magnetfeldes aus der unteren Oberfläche 25 von dem Vorderende der oberen Magnetpolschicht 36 zuver lässig zu verhindern. Ein größeres unerwünschtes Magnetfeld kann zu der Aufzeichnung von umgekehrten Binärdaten, einem irrtümlichen Löschen von aufgezeichneten Daten und derglei chen führen.

Nun wird angenommen, daß die obere Magnetpolspitzen schicht 35 eine ausreichende Dicke SL, PL hat, und im beson deren eine ausreichende zweite Dicke PL, wie es zum Beispiel in Fig. 6A gezeigt ist. In diesem Fall wird eine magnetische Sättigung 47 an der Grenzfläche oder Grenze zwischen der Primärpolschicht 35b und dem Polspitzenstück 35a induziert, da die Halshöhe NH kleiner oder kürzer als die Spalttiefe GD ist. Ein höherer Gradient der magnetischen Intensität kann in der oberen Magnetpolspitzenschicht 35 gebildet werden. Ein relativ größeres Magnetfeld zur Aufzeichnung kann somit an dem Polspitzenstück 35a erhalten werden. Wenn anderseits die Halshöhe NH größer als die Spalttiefe GD ist, wie es zum Beispiel in Fig. 6B gezeigt ist, wird eine magnetische Sättigung 48 in der oberen Magnetpolspitzenschicht 35 in dem vorderen Bereich induziert, der durch die Spalttiefe GD bestimmt ist. Der Gradient der magnetischen Intensität tendiert dazu, sich zu verschlechtern, so daß nur ein klei neres Magnetfeld zur Aufzeichnung erhalten werden kann.

Als nächstes wird angenommen, daß die Dicke SL, PL und im besonderen die zweite Dicke PL in der oberen Magnetpol spitzenschicht 35 reduziert wird, wie es zum Beispiel in Fig. 7A gezeigt ist. Auch in diesem Fall dient die Halshöhe NH, die kleiner als die Spalttiefe GD ist, dazu, eine magne tische Sättigung 49 an der Grenzfläche oder Grenze zwischen der Primärpolschicht 35b und dem Polspitzenstück 35a zu bilden. Die erste Dicke SL kann an der Grenzfläche zwischen der Primärpolschicht 35b und dem Polspitzenstück 35a zuver lässig hergestellt werden. Ein Querschnitt mit einem ausrei chenden Bereich kann an der Grenzfläche definiert werden, so daß ein ausreichender Betrag des Magnetflusses in das Pol spitzenstück 35a eintreten kann. Wenn andererseits die Halshöhe NH größer als die Spalttiefe GD ist, wie es zum Beispiel in Fig. 7B gezeigt ist, kann die obere Magnetpol spitzenschicht 35 an der Grenzfläche zwischen der Primärpol schicht 35b und dem Polspitzenstück 35a nur die zweite Dicke PL haben, die kleiner als die erste Dicke SL ist. Die Grenz fläche kann nur einen Querschnitt mit einem kleineren Be reich haben. Dies tendiert dazu, die magnetische Sättigung 50 in der oberen Magnetpolspitzenschicht 35 zu begünstigen, so daß nur ein kleinerer Betrag des Magnetflusses in das Polspitzenstück 35a eintreten kann.

Wenn die Halshöhe NH auf obige Weise kleiner als die Spalttiefe GD festgelegt wird, kann zusätzlich die obere Magnetpolspitzenschicht 35 der unteren Magnetpolschicht 34 über einen breiteren Bereich hinweg gegenüberliegen, vergli chen mit dem Fall, wo nur das Polspitzenstück 35a der unte ren Magnetpolschicht 34 gegenüberliegt. Diese Anordnung dient dazu, den Magnetowiderstand zwischen der oberen Ma gnetpolspitzenschicht 35 und der unteren Magnetpolschicht 34 zu reduzieren. Ein erhöhter Betrag des Magnetflusses kann in das Polspitzenstück 35a eintreten. Ein Magnetfeld zur Auf zeichnung kann weiter verstärkt werden. Der Dünnfilmmagnet kopf 32 kann magnetische Informationsdaten effektiv in die magnetische Aufzeichnungsplatte 13 schreiben. Selbst wenn die magnetische Permeabilität µ in dem Magnetkern 33 redu ziert wird, ist es dennoch möglich, als Reaktion auf die Reduzierung des Magnetowiderstandes ein größeres Magnetfeld zur Aufzeichnung aufzubauen. Eine Reduzierung der magneti schen Permeabilität µ kann möglicherweise zum Beispiel als Reaktion auf die Erzeugung eines Wirbelstromes während einer Hochfrequenzaufzeichnung hervorgerufen werden.

Die jetzigen Erfinder haben die magnetische Charakteri stik des Dünnfilmmagnetkopfes 32 demonstriert. Bei der Demonstration nutzten die Erfinder eine handelsübliche Computersimulationssoftware zum Analysieren eines dreidimen sionalen Magnetfeldes. Eine magnetomotorische Kraft wurde für die Computerberechnung auf 0,5 A festgelegt. Die Inten sität des Magnetfeldes wurde an einer Ebene gemessen, die von der unteren Oberfläche 25 durch einen Abstand von 35 nm getrennt war. Beim Messen behielten die Erfinder die kon stante Halshöhe NH(= 1,0 µm oder 1,5 µm) bei, während die Spalttiefe GD ab dem Niveau von 0,5 µm allmählich vergrößert wurde. Und ferner wurde die magnetische Permeabilität auf drei verschiedene Niveaus wie etwa µ = 1000, µ = 200 und µ = 100 gesetzt. Die erste Dicke SL der oberen Magnetpolspitzen schicht 35 wurde auf 1,5 µm festgelegt. Die Kernbreite CW des Polspitzenstückes 35a wurde auf 0,5 µm festgelegt. Das Vorderende der oberen Magnetpolschicht 36 war von der unte ren Oberfläche 25 1,5 µm entfernt.

Ein Magnetfeld kann als Reaktion auf eine Vergrößerung der Spalttiefe GD ungeachtet des Niveaus der magnetischen Permeabilität µ verstärkt werden, wie in Fig. 8 und 9 ge zeigt. Besonders wenn die Spalttiefe GD größer als die Halshöhe NH festgelegt wird, weist das Magnetfeld die maxi male Intensität auf. Es sei erwähnt, daß dann, wenn die Differenz zwischen der Spalttiefe GD und der Halshöhe NH 1,0 µm überschreitet, das Magnetfeld kleiner wird. Es ist daher vorzuziehen, in dem Dünnfilmmagnetkopf 32 die Differenz zwischen der Spalttiefe GD und der Halshöhe NH auf einen Bereich innerhalb von 1,0 µm festzulegen.

Als nächstes folgt eine kurze Beschreibung eines Ver fahrens zum Herstellen des Dünnfilmmagnetkopfes 32. Die untere Schirmschicht 43, das magnetoresistive Element 41 und die Aluminiumoxidschicht 42, die das magnetoresistive Ele ment 41 enthält, auf der unteren Schirmschicht 43 werden zuerst auf herkömmliche Weise auf der Oberfläche eines Wafers gebildet, der ein Al₂O₃-TiC-Substrat und eine Al₂O₃- (Aluminiumoxid)-Laminierung umfaßt, die das Al₂O₃-TiC- Substrat bedeckt. Eine Primärsektion 52 und eine Randsektion 53 werden in dem Wafer definiert, wie in Fig. 10 gezeigt. Die Primärsektion 52 wird schließlich als Gleiterkörper 22 ausgeschnitten. Die Randsektion 53 unterliegt während der Bildung der unteren Oberfläche 25 des ausgeschnittenen Gleiterkörpers 22 einem Abrieb. Die Grenzfläche oder Grenze 54 zwischen den Primär- und Randsektionen 52, 53 kann in Abhängigkeit von dem Betrag des Abriebs versetzt werden, wie es später eingehend beschrieben wird.

Es ist bekannt, daß herkömmlicherweise dann die untere Magnetpolschicht 34 auf der Aluminiumoxidschicht 42 gebildet wird, um sich über den Primär- und Randsektionen 52, 53 zu erstrecken. Der Streifen der nichtmagnetischen Hilfsschicht 37 wird dann auf der flachen oberen Oberfläche 34a der unteren Magnetpolschicht 34 gebildet. Die nichtmagnetische Hilfsschicht 37 kann auf der Basis der Position des magneto resistiven Elementes 41 mit höherer Genauigkeit positioniert werden. Ein vorbestimmter Abstand DD kann zwischen dem hinteren Ende des magnetoresistiven Elementes 41 und dem vorderen Ende der nichtmagnetischen Hilfsschicht 37 festge legt sein, um die nichtmagnetische Hilfsschicht 37 mit höherer Genauigkeit zu positionieren. Die nichtmagnetische Hilfsschicht 37 kann aus einer Isolierschicht wie etwa einer SiO₂-Schicht geformt werden, die sich über der Oberfläche des Wafers ausbreitet. Zum Beispiel kann ein Ionenätzprozeß eingesetzt werden, um die nichtmagnetische Hilfsschicht 37 zu bilden. In diesem Fall kann ein Fotoresistfilm gebildet werden, um sich über der Isolierschicht zu erstrecken, um die nichtmagnetische Hilfsschicht 37 auf herkömmliche Weise zu mustern.

Die nichtmagnetische Spaltschicht 38 wird danach gleichförmig gebildet, um die Oberfläche des Wafers zu bedecken, wie es herkömmlicherweise bekannt ist. In Fig. 11 ist beispielsweise gezeigt, daß die obere Magnetpolspitzen schicht 35 gebildet wird, um sich über der Oberfläche der nichtmagnetischen Spaltschicht 38 zu erstrecken. Zum Bei spiel kann eine galvanische Abscheidung wie etwa ein Elek troplattieren oder dergleichen eingesetzt werden, um die obere Magnetpolspitzenschicht 35 zu bilden. Ein Fotoresist film kann auf der Oberfläche der nichtmagnetischen Spalt schicht 38 gebildet werden, um einen Leerraum entsprechend der Form der oberen Magnetpolspitzenschicht 35 zu mustern. Wenn der Fotoresistfilm gebildet wird, kann der Leerraum, der genutzt wird, um die obere Magnetpolspitzenschicht 35 zu bilden, mit einer höheren Genauigkeit bezüglich der Position des magnetoresistiven Elementes 41 positioniert werden. Nach dem Entfernen des Fotoresistfilms wird eine untere Isolier schicht 39a auf dem Wafer gebildet. Danach wird die Oberflä che der Isolierschicht 39a einem Abflachungspolierprozeß unterzogen, bei dem die flache obere Oberfläche 45 auf der oberen Magnetpolspitzenschicht 35 definiert werden kann.

Nach dem Abflachungspolierprozeß wird dann das gewir belte Spulenmuster 31 auf der unteren Isolierschicht 39a gebildet. Wenn eine obere Isolierschicht, die nicht gezeigt ist, gebildet wird, um die Oberfläche der unteren Isolier schicht 39a zu bedecken, kann das gewirbelte Spulenmuster 31 erhalten werden, das in der Isolierschicht 39 eingebettet ist. Danach wird die obere Magnetpolschicht 36 gebildet, um sich über der Oberfläche der Isolierschicht ab der zentralen Position des gewirbelten Spulenmusters 31 nach vorn zu erstrecken. Das Vorderende der oberen Magnetpolschicht 36 kommt auf der flachen oberen Oberfläche 45 der oberen Ma gnetpolspitzenschicht 35 an. Zum Beispiel kann eine galvani sche Abscheidung wie etwa ein Elektroplattieren oder der gleichen eingesetzt werden, um die obere Magnetpolschicht 36 zu bilden. Die obere Magnetpolschicht 36 wird anschließend mit einer Aluminiumoxiddeckschicht bedeckt, die nicht gezeigt ist. Auf diese Weise sind der Dünnfilmmagnetkopf 32 und das magnetoresistive Element 41 zwischen der Aluminiumoxiddeckschicht und der Aluminiumoxidlaminierung, die zuvor über der Oberfläche des Wafers gebildet wurde, angeordnet. Eine Kombination aus der Aluminium oxiddeckschicht und der Laminierung bildet die den Kopf enthaltende Schicht 24.

Der individuelle fliegende Kopfgleiter 19 wird aus dem Wafer ausgeschnitten. Herkömmlicherweise ist bekannt, daß die Randsektion 53 von dem ausgeschnittenen fliegenden Kopfgleiter 19 beim Formen der unteren Oberfläche 29 abge schabt wird. Die Menge des Abriebs, um die Randsektion 53 abzutragen, kann durch Detektieren des Widerstandes des magnetoresistiven Elementes 41 fein festgelegt werden. Da die nichtmagnetische Hilfsschicht 37 und die obere Magnet polspitzenschicht 35 auf obenerwähnte Weise mit einer höhe ren Genauigkeit bezüglich der Position des magnetoresistiven Elementes 41 positioniert werden, kann die obere Magnetpol spitzenschicht 35 mit Zuverlässigkeit die Halshöhe NH mit vorbestimmter Abmessung und die Spalttiefe GD mit vorbe stimmter Abmessung haben.

In Fig. 12 ist zum Beispiel gezeigt, daß ein unteres Polspitzenstück 56 gebildet werden kann, um ausgehend von der flachen oberen Oberfläche 34a der unteren Magnetpol schicht 34 an einer Position, die dem Polspitzenstück 35a der oberen Magnetpolspitzenschicht 35 in dem Dünnfilmmagnet kopf 32 gegenüberliegt, anzuschwellen.

Claims

1. Dünnfilmmagnetkopf mit:
einem unteren Magnetpol, der sich von einem vorderen Ende, das an einer Oberfläche, die dem Medium gegenüber liegt, exponiert ist, nach hinten erstreckt und eine flache obere Oberfläche definiert;
einer nichtmagnetischen Hilfsschicht, die so konstru iert ist, um ausgehend von der flachen oberen Oberfläche des unteren Magnetpols an einer Position, die von der Oberfläche zurückgesetzt ist, die dem Medium gegenüberliegt, anzu schwellen;
einer nichtmagnetischen Spaltschicht, die sich über der flachen oberen Oberfläche des unteren Magnetpols in einer konstanten Dicke wenigstens in einem Bereich zwischen der Oberfläche, die dem Medium gegenüberliegt, und der nicht magnetischen Hilfsschicht erstreckt; und
einem oberen Magnetpol, der sich über der nichtmagneti schen Spaltschicht in einer vorbestimmten Dicke wenigstens in einem Bereich erstreckt, der als Spalttiefe definiert ist, welcher obere Magnetpol einen dünneren Filmabschnitt mit reduzierter Dicke, die kleiner als die vorbestimmte Dicke ist, auf der nichtmagnetischen Hilfsschicht definiert, bei dem
eine Halshöhe des oberen Magnetpols kleiner als die Spalttiefe ist.

2. Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 1, bei dem eine Differenz zwischen der Spalttiefe und der Halshöhe kleiner als 1,0 µm ist.

3. Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 1 oder 2, bei dem eine flache obere Oberfläche auf dem oberen Magnetpol defi niert ist.

4. Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 3, bei dem eine Differenz zwischen der Spalttiefe und der Halshöhe kleiner als 1,0 µm ist.

5. Dünnfilmmagnetkopf mit:
einer unteren Magnetpolschicht, die sich von einem vor deren Ende, das an einer Oberfläche, die dem Medium gegen überliegt, exponiert ist, nach hinten erstreckt und eine flache obere Oberfläche definiert;
einer nichtmagnetischen Hilfsschicht, die so konstru iert ist, um ausgehend von der flachen oberen Oberfläche der unteren Magnetpolschicht an einer Position, die von der Oberfläche zurückgesetzt ist, die dem Medium gegenüberliegt, anzuschwellen;
einer nichtmagnetischen Spaltschicht, die sich über der flachen oberen Oberfläche der unteren Magnetpolschicht in einer konstanten Dicke wenigstens in einem Bereich zwischen der Oberfläche, die dem Medium gegenüberliegt, und der nichtmagnetischen Hilfsschicht erstreckt;
einem oberen Magnetpolspitzenstück, das sich über der nichtmagnetischen Spaltschicht in einer vorbestimmten Dicke wenigstens in einem Bereich erstreckt, der als Spalttiefe definiert ist, welches obere Magnetpolspitzenstück einen dünneren Filmabschnitt mit reduzierter Dicke, die kleiner als die vorbestimmte Dicke ist, auf der nichtmagnetischen Hilfsschicht definiert; und
einer oberen Magnetpolschicht, die sich ausgehend von einer zentralen Position eines Spulenmusters erstreckt und auf dem oberen Magnetpolspitzenstück mit einem Vorderende ankommt, bei dem
eine Halshöhe des oberen Magnetpolspitzenstückes klei ner als die Spalttiefe ist.

6. Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 5, bei dem eine Differenz zwischen der Spalttiefe und der Halshöhe kleiner als 1,0 µm ist.

7. Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 5 oder 6, bei dem eine flache obere Oberfläche auf dem oberen Magnetpolspit zenstück definiert ist.

8. Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 7, bei dem eine Differenz zwischen der Spalttiefe und der Halshöhe kleiner als 1,0 µm ist.

9. Dünnfilmmagnetkopf nach irgendeinem der Ansprüche 5 bis 8, bei dem das Vorderende der oberen Magnetpolschicht an einer Position endet, die von der dem Medium gegenüber liegenden Oberfläche mit einer Distanz zurückgesetzt ist, die größer als die Halshöhe ist.

10. Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 9, bei dem die Distanz kleiner als die Spalttiefe ist.

11. Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 10, bei dem eine Differenz zwischen der Spalttiefe und der Halshöhe kleiner als 1,0 µm ist.

12. Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 9 oder 10, bei dem eine flache obere Oberfläche auf dem oberen Magnetpol spitzenstück definiert ist.

13. Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 12, bei dem eine Differenz zwischen der Spalttiefe und der Halshöhe kleiner als 1,0 µm ist.