DE10102145A1 - Plattiervorbehandlungsvorrichtung und Plattierbehandlungsvorrichtung - Google Patents
Plattiervorbehandlungsvorrichtung und PlattierbehandlungsvorrichtungInfo
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Abstract
Es werden eine Plattiervorbehandlungsvorrichtung, bei der eine Plattiervorbehandlungsflüssigkeit gleichmäßig zwischen einer Kathode und einem zu behandelnden Gegenstand fließt, und eine Plattierbehandlungsvorrichtung bereitgestellt, die auch bei einem Mehr-Zylinder-Motor verwendbar ist. DOLLAR A Bei der erfindungsgemäßen Plattiervorbehandlungsvorrichtung ist eine zylindrische Kathode (10) in einer Fixiereinrichtung (3) angeordnet, in der ein hohler Abschnitt ausgeformt ist, und ein zu behandelnder, zylindrischer Gegenstand (17) wird auf der Fixiereinrichtung (3) befestigt, so daß die Kathode (10) in dem zu behandelnden Gegenstand (17) angeordnet ist, wobei ein unterer Abschnitt (40) der Kathode (10) so ausgeführt ist, daß er einen kleineren Durchmesser als ein oberer Kathodenabschnitt (41) aufweist. Es sind außerdem mehrere hohle Abschnitte in der Fixiereinrichtung (3) und den Kathoden (10) bereitgestellt und in jedem Zylinder ist ein Thermometer (25) angeordnet. DOLLAR A Die erfindungsgemäße Plattierbehandlungsvorrichtung umfaßt eine Auslaßeinrichtung (103), in der ein hohler Abschnitt (105) ausgeformt und an der, auf einer oberen Stirnfläche (108), ein zu behandelnder, zylindrischer Gegenstand (117) befestigbar ist, eine zylindrische Anode (110), welche so angeordnet ist, daß ihr oberes Ende (106) über die obere Stirnfläche (108) der Auslaßeinrichtung (103) hinausragt, und einen Plattierflüssigkeitsbehälter (115), welcher mit der Anode (110) und der Auslaßeinrichtung (103) über ...
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Plattiervorbehandlungs
vorrichtung, die bei der Durchführung einer Plattierbehandlung
an der inneren Umfangsfläche eines zu behandelnden Gegenstandes
verwendet wird, der eine zylindrische Gestalt aufweist, wie
etwa ein Zylinderblock, und betrifft ferner eine Plattierbe
handlungsvorrichtung, die bei der Durchführung einer Hochge
schwindigkeitsplattierbehandlung an der inneren Umfangsfläche
eines zu behandelnden Gegenstandes verwendet wird, der eine
zylindrische Gestalt aufweist, wie etwa ein Zylinderblock.
Für gewöhnlich wird vor dem Plattieren eine Plattiervorbehand
lung durchgeführt, beispielsweise durch elektrolytisches Ätzen,
um die Haftung der Belagschicht auf einem Grundmaterial zu
verbessern. Bei der Vorbehandlung durch elektrolytisches Ätzen
steigt mit den Zustandswerten Flüssigkeitstemperatur, Strö
mungsrate und Strommenge auch das Ausmaß der Ätzung.
Als Beispiel für das herkömmliche elektrolytische Ätzen sei ein
Verfahren zur Plattiervorbehandlung genannt, das in dem japani
schen Patent mit der vorläufigen Veröffentlichungsnr. 11-1795
offenbart ist, bei dem elektrolytisches Ätzen in einer Vorbe
handlungsflüssigkeit durchgeführt wird, wobei eine siliziumhal
tige Aluminiumlegierung als Anode dient.
Wenn jedoch die Innenfläche eines zu behandelnden, zylindri
schen Gegenstandes, wie etwa ein Zylinderblock, einer Vorbe
handlung unterzogen wird, ist die Strömungsgeschwindigkeit der
Vorbehandlungsflüssigkeit zwischen der Innenfläche der Zylin
derbohrung und einer Kathode instabil, so daß die Strömungsra
te, einer der zuvor beschriebenen Zustandswerte, ungleichmäßig
ist. Somit variiert das Ätzausmaß in Abhängigkeit von dem zu
behandelnden Bereich. Darüber hinaus ist, bei einem Zylinder
block für einen Mehr-Zylinder-Motor, die Flüssigkeitstempera
tur, einer der vorstehend beschriebenen Zustandswerte, zwischen
den Zylindern ungleichmäßig, so daß Abweichungen im Ätzausmaß
auftreten können. Der Grund dafür besteht darin, daß, sogar
wenn die Flüssigkeitstemperatur der Vorbehandlungsflüssigkeit
in einem Vorbehandlungsflüssigkeitsbehälter konstant gehalten
wird, die dem Zylinderblock zugeführte Spannung die Flüssig
keitstemperatur erhöht. Ein weiterer Grund besteht darin, daß,
da die äußere Gestalt der Zylinder unterschiedlich ist, ein
Unterschied in der Flüssigkeitstemperatur zwischen den Zylin
dern auftritt.
Wenn die Plattierbehandlung in diesem Zustand durchgeführt
wird, hat eine Belagschicht, die in einem Bereich ausgeformt
ist, in dem das Ätzausmaß gering ist, eine geringere Haftung
als die, die in einem Bereich ausgeformt ist, in dem das
Ätzausmaß hoch ist, so daß die Haftung der Belagschicht in
diesen Bereichen ebenfalls unterschiedlich ist. Daher war es
bislang schwierig, einen Zylinderblock durch elektrolytisches
Ätzen einer Plattiervorbehandlung zu unterziehen.
Andererseits wird üblicherweise, wenn ein zu behandelnder,
zylindrischer Gegenstand, wie etwa ein Zylinderblock, einer
galvanischen Oberflächenbehandlung unterzogen wird, das Hochge
schwindigkeitsplattieren manchmal durch Erhöhen der Stromdichte
oder durch Verringern eines Anode-Kathode-Abstands zwischen der
Elektrode und dem zu behandelnden Gegenstand durchgeführt, um
die Produktivität zu steigern.
Zunächst wird der Fall erläutert, in dem die Stromdichte erhöht
wird. Wenn beispielsweise SiC in Form von Ni-P-SiC oder Ni-SiC
als Belagschicht abgeschieden wird, ist, sofern die Strömung
der Plattierflüssigkeit ungleichmäßig ist, die Abscheidung von
SiC ebenfalls ungleichmäßig, so daß hinsichtlich der Ver
schleißbeständigkeit der Zylinder ein Problem auftritt. Ferner
kann bei einer hohen Stromdichte eine anormale Abscheidung der
Belagschicht, die als "verbrannte Auflage" bezeichnet wird, in
einem Bereich auftreten, in dem die Plattierflüssigkeit langsam
fließt.
Des weiteren neigt, wenn der Anode-Kathode-Abstand zwischen der
Elektrode und dem zu behandelnden Gegenstand gering ist, die
Strömung der Plattierflüssigkeit in einem Spalt zwischen dem zu
behandelnden Gegenstand und der Anode dazu, ungleichmäßig zu
sein, so daß eine fehlerhafte Belagschicht, wie etwa eine
verbrannte Auflage, entsteht und somit keine gute Plattierbe
handlung durchgeführt werden kann. Darüber hinaus wurde bislang
eine Anode verwendet, in der lösbare Nickelpellets in einem
lattenförmigen Titankorb aufgenommen sind. Da jedoch die äußere
Umfangsfläche dieser Anode eine Wellenform aufweist, wird die
Stärke der Belagschicht, die an der inneren Umfangsfläche des
zu behandelnden Gegenstandes ausgeformt wird, aufgrund der
wellenförmigen Gestalt der äußeren Umfangsfläche der Anode
ungleichmäßig ausgebildet, wenn der Anode-Kathode-Abstand nur 1
bis 5 mm beträgt. Folglich kann keine gute Plattierbehandlung
vorgenommen werden.
Ein ungünstiger Einfluß, der durch die ungleichmäßige Strömung
der Plattierflüssigkeit verursacht wird, tritt leichter auf,
wenn der Anode-Kathode-Abstand, das heißt der Abstand zwischen
der Anode und der Innenfläche des zu behandelnden Gegenstandes,
gering ist. Folglich ist eine gleichmäßige Strömung der Plat
tierflüssigkeit äußerst wichtig.
Ein Beispiel für die Bereitstellung einer gleichmäßigen Strö
mung der Plattierflüssigkeit ist in dem japanischen Patent mit
der Veröffentlichungsnr. 8-16278 offenbart. Dieser Stand der
Technik ist jedoch zur Verwendung bei einer Hochgeschwindig
keitsplattierung nach wie vor unzureichend und es ist eine
erhöhte Gleichmäßigkeit der Plattierflüssigkeit erforderlich.
Wenn ein Mehr-Zylinder-Zylinderblock plattiert wird, müssen die
Zylinder so gebaut sein, daß sie einander nicht beeinträchti
gen.
Die vorliegende Erfindung wurde gemacht, um die vorstehenden
Probleme zu lösen, und es ist demgemäß Aufgabe der Erfindung,
eine Plattiervorbehandlungsvorrichtung, die einen zu behandeln
den, zylindrischen Gegenstand, wie etwa einen Zylinderblock,
gleichmäßig ätzen kann, und die auch bei einem Mehr-Zylinder-
Zylinderblock verwendbar ist, ohne daß Abweichungen zwischen
den Zylindern auftreten, sowie eine Plattierbehandlungsvorrich
tung bereitzustellen, die bewirken kann, daß eine Plattierflüs
sigkeit zwischen einer Anode und einem zu behandelnden
Gegenstand fließt, und die auch bei einem Mehr-Zylinder-
Zylinderblock verwendbar ist.
Zur Lösung der vorstehenden Aufgabe stellt die vorliegende
Erfindung eine Plattiervorbehandlungsvorrichtung bereit, bei
der eine zylindrische Kathode in einer Fixiereinrichtung ange
ordnet ist, in der ein hohler Abschnitt ausgeformt ist, und ein
zu behandelnder, zylindrischer Gegenstand auf der Fixierein
richtung befestigt wird, so daß die Kathode in dem zu behan
delnden Gegenstand angeordnet ist, wobei eine untere Kathode
oder ein unterer Abschnitt der Kathode so ausgeführt ist, daß
er einen kleineren Durchmesser als eine obere Kathode oder ein
oberer Kathodenabschnitt aufweist, wodurch der Rauminhalt eines
unteren Hohlraums, der zwischen dem unteren Kathodenabschnitt
und der Fixiereinrichtung ausgeformt ist, größer ist als der
eines oberen Hohlraums, der zwischen dem oberen Kathodenab
schnitt und dem zu behandelnden Gegenstand ausgeformt ist.
Gemäß der vorstehend beschriebenen Plattiervorbehandlungsvor
richtung kann, da eine Plattiervorbehandlungsflüssigkeit mit
einer gleichmäßigen Strömungsgeschwindigkeit in den zu behan
delnden Gegenstand fließt, die gesamte Innenfläche des zu
behandelnden Gegenstands gleichmäßiges geätzt werden, wodurch
die Haftung der Belagschicht verbessert und somit die schlechte
Haftung verringert wird.
Bei der Plattiervorbehandlungsvorrichtung gemäß einer Ausfüh
rung der vorliegenden Erfindung ist die Kathode außerdem so
konfiguriert, daß sie in eine obere und eine untere Kathode
teilbar ist.
Daher kann, wenn an der Kathode Wartungsarbeiten durchgeführt
werden, nur die obere Kathode oder nur die untere Kathode
bequem ausgetauscht werden. Des weiteren kann ein Zylinderblock
mit unterschiedlichem Bohrungsdurchmesser einer Vorbehandlung
unterzogen werden.
Ferner sind bei der Plattiervorbehandlungsvorrichtung gemäß
einer anderen Ausführung der vorliegenden Erfindung mehrere
hohle Abschnitte in der Fixiereinrichtung und den Kathoden
bereitgestellt und in jedem Zylinder ist ein Thermometer ange
ordnet.
Dadurch kann, sogar bei einem Mehr-Zylinder-Motor, die Tempera
tur der in jedem der Zylinder enthaltenen Vorbehandlungsflüs
sigkeit erfaßt und die Flüssigkeitstemperatur, durch geeignetes
Regeln des Stromwertes und der Strömungsrate der Vorbehand
lungsflüssigkeit in Abhängigkeit von der Temperatur, konstant
gehalten werden. Daher gibt es keine Abweichungen des Ätzausma
ßes zwischen den Zylindern und die Haftung der Belagschicht ist
verbessert, so daß die vorliegende Erfindung auch bei einem
Mehr-Zylinder-Zylinderblock verwendbar ist.
Zur Lösung der vorstehenden Aufgabe stellt die vorliegende
Erfindung eine Plattierbehandlungsvorrichtung bereit, bei der
eine Plattierflüssigkeit von einem Plattierflüssigkeitsbehälter
einer Anode zugeführt wird, in welcher ein hohler Abschnitt für
die zugeführte Plattierflüssigkeit ausgeformt ist, und zwar in
einem Zustand, in dem ein elektrischer Strom in einem zu behan
delnden, zylindrischen Gegenstand und der Anode fließt, sich
die Flüssigkeit in den zu behandelnden Gegenstand über ein
oberes Ende der Anode ergießt, und zwischen der Außenfläche der
Anode und der Innenfläche des zu behandelnden Gegenstandes
fließt, ferner zwischen der Außenfläche der Anode und der
Innenfläche einer Auslaßeinrichtung fließt und zu dem Plattier
flüssigkeitsbehälter zurückgeführt wird, wodurch die Innenflä
che des zu behandelnden Gegenstandes plattiert wird, wobei der
Durchmesser eines unteren Abschnitts der Anode, der in einem
hohlen Abschnitt der Auslaßeinrichtung angeordnet ist, kleiner
ist als der Durchmesser eines oberen Anodenabschnitts, der in
dem zu behandelnden Gegenstand angeordnet ist.
Gemäß der vorstehend beschriebenen Plattierbehandlungsvorrich
tung wird, da ein Anode-Kathode-Abstand zwischen der Außenflä
che der Anode und der Innenfläche der Auslaßeinrichtung größer
ausgeführt ist als ein Anode-Kathode-Abstand zwischen der
Außenfläche der Anode und der Innenfläche des zu behandelnden
Gegenstandes, in der Auslaßeinrichtung ein Puffereffekt er
zeugt, so daß die Plattierflüssigkeit gleichmäßig in den zu
behandelnden Gegenstand strömt. Dadurch können, wenn ein Hoch
geschwindigkeitsplattieren durchgeführt wird, eine fehlerhafte
Abscheidung, wie etwa eine verbrannte Auflage, verhindert und
eine verkürzte Behandlungsdauer sowie reduzierte Behandlungsko
sten erzielt werden.
Die vorstehend beschriebene Plattierbehandlungsvorrichtung ist
vorzugsweise so ausgeführt, daß sie die Auslaßeinrichtung, in
der ein hohler Abschnitt ausgeformt und an der, auf einer
oberen Stirnfläche, ein zu behandelnder, zylindrischer Gegen
stand befestigbar ist, die zylindrische Anode, welche so ange
ordnet ist, daß ihr oberes Ende über die obere Stirnfläche der
Auslaßeinrichtung hinausragt, und den Plattierflüssigkeitsbe
hälter umfaßt, welcher mit der Anode und der Auslaßeinrichtung
über Rohre verbunden ist, wobei der zu behandelnde, zylindri
sche Gegenstand auf der oberen Stirnfläche der Auslaßeinrich
tung befestigt und der obere Abschnitt der Anode in dem zu
behandelnden Gegenstand angeordnet ist.
Darüber hinaus wird bei der Plattierbehandlungsvorrichtung
gemäß einer Ausführung der vorliegenden Erfindung als Anode
eine unlösliche Anode verwendet.
Wenn die unlösliche Anode verwendet wird, kann der Anode-
Kathode-Abstand weiter verringert werden, so daß die Plattier
behandlungsdauer weiter verkürzt werden kann. Wenn beispiels
weise ein Zylinderblock als zu behandelnder Gegenstand
verwendet wird, kann der Anode-Kathode-Abstand erfindungsgemäß
auf 1 bis 5 mm verringert werden, obgleich der herkömmliche
Anode-Kathode-Abstand 5 mm und mehr betragen muß.
Bei der Plattierbehandlungsvorrichtung gemäß einer anderen
Ausführung der vorliegenden Erfindung ist die Anode ferner so
konfiguriert, daß sie in eine obere Anode und eine untere Anode
teilbar ist.
Daher kann, wenn an der Elektrode Wartungsarbeiten durchgeführt
werden, nur die obere Anode oder nur die untere Anode bequem
ausgetauscht werden.
Bei der Plattierbehandlungsvorrichtung gemäß einer weiteren
Ausführung der vorliegenden Erfindung sind weiterhin mehrere
hohle Abschnitte in der Auslaßeinrichtung und den Anoden be
reitgestellt, wodurch die Plattierbehandlung auch an einem
Mehr-Zylinder-Motor durchgeführt werden kann.
Wie vorstehend in bezug auf die erfindungsgemäße Plattiervorbe
handlungsvorrichtung beschrieben, wird durch den in der Fi
xiereinrichtung ausgeformten, unteren Hohlraum ein Puffereffekt
erzeugt, so daß die Plattiervorbehandlungsflüssigkeit gleichmä
ßig in den zu behandelnden Gegenstand fließt. Daher können,
wenn ein Hochgeschwindigkeitsplattieren durchgeführt wird, eine
fehlerhaftes Abscheidung, wie etwa eine verbrannte Auflage,
verhindert und eine verkürzte Behandlungsdauer sowie reduzierte
Behandlungskosten erzielt werden.
Andererseits wird bei der erfindungsgemäßen Plattierbehand
lungsvorrichtung in der Auslaßeinrichtung ein Puffereffekt
erzeugt, so daß die Plattierflüssigkeit gleichmäßig in den zu
behandelnden Gegenstand fließt. Folglich können, wenn ein
Hochgeschwindigkeitsplattieren durchgeführt wird, eine fehler
hafte Abscheidung, wie etwa eine verbrannte Auflage, verhindert
und eine verkürzte Behandlungsdauer sowie reduzierte Behand
lungskosten erzielt werden.
Fig. 1 ist eine Schnittansicht einer erfindungsgemäßen Plat
tiervorbehandlungsvorrichtung;
Fig. 2 ist eine Schnittansicht einer erfindungsgemäßen Plat
tierbehandlungsvorrichtung, bei der der Durchmesser ei
ner unteren Anode kleiner ist als der einer oberen
Anode; und
Fig. 3 ist eine Schnittansicht einer Plattierbehandlungsvor
richtung, die eine Anode mit unteren und oberen Ab
schnitten gleichen Durchmessers verwendet.
Zunächst wird eine Plattiervorbehandlungsvorrichtung gemäß
einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung im Detail
und unter Bezugnahme auf die begleitende Zeichnung beschrieben.
Eine Plattiervorbehandlungsvorrichtung 1 umfaßt gemäß dem
Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, wie in Fig. 1
gezeigt, eine Fixiereinrichtung 3, in der ein hohler Abschnitt
ausgeformt ist, eine zylindrische Kathode 10, die in der Fi
xiereinrichtung 3 so angeordnet ist, daß ihr oberes Ende 6 über
eine obere Stirnfläche 8 der Fixiereinrichtung 3 hinausragt,
einen Plattiervorbehandlungsflüssigkeitsbehälter 15, der mit
der Fixiereinrichtung 3 und der Kathode 10 über Rohre 12 bzw.
13 verbunden ist, Stromquellen 19 und 20, die mit einem Zylin
derblock 17, der ein zu behandelnder Gegenstand ist, bzw. der
Kathode 10 verbunden sind, und ein Thermometer 25, das in einem
Kurbelgehäuseabschnitt 23 des Zylinderblocks 17 angeordnet ist.
Die Fixiereinrichtung 3 ist von einer Seitenplatte 27, die eine
zylindrische Gestalt aufweist, und einer Bodenplatte 28 umge
ben, wobei der hohle Abschnitt durch die Seitenplatte 27 und
die Bodenplatte 28 gebildet wird. Der Durchmesser des hohlen
Abschnitts ist ungefähr gleich dem Durchmesser eines hohlen
Abschnitts einer Zylinderbohrung 30 des Zylinderblocks 17
ausgeführt, wobei ein Dichtelement 31 auf der oberen Stirnflä
che 8 der Seitenplatte 27 angeordnet ist. Als Dichtelement 31
wird bevorzugt ein Material verwendet, das Elastizität besitzt,
so daß es seine Dichtwirkung in bezug auf den Zylinderblock 17
aufrechterhalten kann. Es ist außerdem ein Einlaßanschluß 33 am
unteren Abschnitt der Fixiereinrichtung 3 bereitgestellt, wobei
die Fixiereinrichtung 3 mit dem Plattiervorbehandlungsflüssig
keitsbehälter 15 über den Einlaßanschluß 33 durch das Rohr 12
verbunden ist. An einer Stelle im Verlauf des Rohres 12 ist
eine Pumpe 34 angeordnet, die eine in dem Vorbehandlungsflüs
sigkeitsbehälter 15 befindliche Vorbehandlungsflüssigkeit 37
unter Druck fördern kann.
Die Kathode 10, die eine zylindrische Gestalt aufweist, deren
Inneres hohl ist, ist vertikal angeordnet, so daß sie durch die
hohlen Abschnitte des Zylinderblockes 17 und der Fixiereinrich
tung 3 tritt. Die Kathode 10 ist in zwei Abschnitte geteilt,
einen unteren und einen oberen, welche voneinander abnehmbar
ausgeführt sind. Ein oberes Ende 40a einer unteren Kathode 40,
welche im unteren Bereich angeordnet ist, hat eine Höhe, die in
etwa der Höhe der oberen Stirnfläche 8 der Fixiereinrichtung 3
entspricht, wobei das obere Ende 6 einer oberen Kathode 41, die
im oberen Bereich angeordnet ist, in einer Höhe angebracht ist,
die in etwa der Höhe einer Kante 23a des Kurbelgehäuseab
schnitts 23 des Zylinderblockes 17 entspricht. Der Durchmesser
der unteren Kathode 40 ist kleiner ausgeführt als der Durchmes
ser der oberen Kathode 41. Obgleich der Durchmesser der unteren
Kathode 40 nur geringfügig kleiner als der der oberen Kathode
41 sein muß, sollte der Größenunterschied zwischen den Durch
messern bevorzugt beispielsweise 5 mm und mehr betragen. Wie in
Fig. 1 gezeigt, ist der Durchmesser der unteren Kathode 40 an
deren oberem Abschnitt auf einen Durchmesser erweitert, der
ungefähr dem Durchmesser der oberen Kathode 41 an deren unterem
Ende entspricht.
Daher hat ein oberer Hohlraum 44, der zwischen der äußeren
Umfangsfläche der oberen Kathode 41 und der Innenfläche der
Zylinderbohrung 30 ausgeformt ist, einen geringeren Rauminhalt
als ein unterer Hohlraum 45, der zwischen der äußeren Umfangs
fläche der unteren Kathode 40 und der inneren Seitenfläche der
Fixiereinrichtung 3 ausgeformt ist. Am unteren Ende der unteren
Kathode 40 ist ein Auslaßanschluß 48 bereitgestellt.
Wie vorstehend beschrieben ist das Rohr 12, das sich vom Ein
laßanschluß 33 der Fixiereinrichtung 3 erstreckt, mit dem
Plattiervorbehandlungsflüssigkeitsbehälter 15 über die Pumpe 34
verbunden, wobei der Plattiervorbehandlungsflüssigkeitsbehälter
15 auch mit dem Auslaßanschluß 48 der unteren Kathode 40 über
das Rohr 13 verbunden ist. Demzufolge wird dem unteren Hohlraum
45 der Fixiereinrichtung 3 die Vorbehandlungsflüssigkeit 37 aus
dem Plattiervorbehandlungsflüssigkeitsbehälter 15 zugeführt und
steigt in den oberen Hohlraum 44 auf. Danach fließt die Vorbe
handlungsflüssigkeit 37 über das obere Ende 6 der oberen Katho
de 41 in die obere Kathode 41 und über den Auslaßanschluß 48
der unteren Kathode 40 in den Plattiervorbehandlungsflüssig
keitsbehälter 15 zurück.
Ein zu behandelnder Gegenstand, der durch die vorstehend be
schriebene Plattiervorbehandlungsvorrichtung 1 behandelt werden
kann, ist ein zylindrisches Teil, in dem ein hohler Abschnitt
ausgeformt ist, wie etwa ein Zylinderblock 17, wie in Fig. 1
gezeigt, wobei die Plattiervorbehandlung an der Innenfläche des
hohlen Abschnitts durchgeführt wird.
Wie in Fig. 1 gezeigt, wird der Zylinderblock 17 an der Plat
tiervorbehandlungsvorrichtung 1 in einem vertikal umgekehrten
Zustand angebracht. Das heißt, wenn sich der Zylinderblock 17
in einem Zustand befindet, in dem er in einem Fahrzeug montiert
ist, befindet sich der Kurbelgehäuseabschnitt 23, dessen unte
rer Abschnitt sich nach außen ausdehnt, unten und ein Zylinder
kopf oben, wobei die Zylinderbohrung 30, in der ein Kolben
(nicht gezeigt) verschieblich aufgenommen wird, im Zylinderkopf
ausgeformt ist. Daher befindet sich, wenn der Zylinderblock 17
umgedreht ist, der Kurbelgehäuseabschnitt 23 oben und eine
Zylinderkopfstirnfläche unten. Die Zylinderkopfstirnfläche des
Zylinderblockes 17 wird in Kontakt mit dem Dichtelement 31
gebracht, das auf der Fixiereinrichtung 3 angeordnet ist, wobei
die untere Stirnfläche des Kurbelgehäuseabschnitts 23 in Kon
takt mit einem Dichtelement 50 gebracht wird, wodurch sowohl
das obere als auch das untere Ende des Zylinderblockes 17
abgedichtet ist.
Es folgt eine Beschreibung der Strömung und des Verhaltens der
Plattiervorbehandlungsflüssigkeit 37 in der Plattiervorbehand
lungsvorrichtung 1 mit der vorstehend beschriebenen Bauweise.
Zunächst wird die Vorbehandlungsflüssigkeit 37 aus dem Plat
tiervorbehandlungsflüssigkeitsbehälter 15 durch die Antriebs
kraft der Pumpe 34 über das Rohr 12 dem unteren Hohlraum 45 der
Fixiereinrichtung 3 zugeführt. Dann steigt die Vorbehandlungs
flüssigkeit 37 von dem unteren Hohlraum 45 in den oberen Hohl
raum 44 auf. Da der untere Hohlraum 45 einen größeren
Rauminhalt als der obere Hohlraum 45 hat, erfüllt der untere
Hohlraum 45 die Rolle eines sogenannten Puffers. Dadurch wird
die Strömungsgeschwindigkeit der Vorbehandlungsflüssigkeit 37,
die entlang dem oberen Hohlraum 44 emporsteigt, vereinheit
licht, so daß die gesamte Innenfläche der Zylinderbohrung 30
gleichmäßig einem elektrolytischen Ätzen unterzogen wird. Als
nächstes fließt die Vorbehandlungsflüssigkeit 37 über und
strömt durch eine im oberen Ende 6 der oberen Kathode ausge
formte Öffnung in die obere Kathode 41, und wird dann über den
Auslaßanschluß 48 der unteren Kathode 40 über das Rohr 13 dem
Plattiervorbehandlungsflüssigkeitsbehälter 15 zugeführt.
Als nächstes wird eine Plattierbehandlungsvorrichtung gemäß
einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung im Detail
und unter Bezugnahme auf die begleitenden Zeichnungen beschrie
ben.
Eine Plattierbehandlungsvorrichtung 101 umfaßt gemäß dem Aus
führungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, wie in Fig. 2
gezeigt, eine Auslaßeinrichtung 103, in der ein hohler Ab
schnitt 105 ausgeformt ist, eine zylindrische Anode 110, die in
dem hohlen Abschnitt 105 der Auslaßeinrichtung 103 so angeord
net ist, daß ein oberes Ende 106 derselben über eine obere
Stirnfläche 108 der Auslaßeinrichtung 103 hinausragt, einen
Plattierflüssigkeitsbehälter 115, der mit der Auslaßeinrichtung
103 und der Anode 110 über Rohre 112 bzw. 113 verbunden ist,
und Stromquellen 119 und 120, die mit einem Zylinderblock 117,
der der zu behandelnde Gegenstand ist, bzw. der Anode 110
verbunden sind.
Die Auslaßeinrichtung 103 ist von einer Seitenplatte 122, die
eine zylindrische Gestalt aufweist, und einer Bodenplatte 123
umgeben, wobei ein dünnes Dichtmaterial 125 auf der oberen
Stirnfläche 108 der Seitenplatte 122 angeordnet ist. Als Dicht
material 125 wird bevorzugt ein Material verwendet, das Elasti
zität besitzt, so daß es seine Dichtwirkung in bezug auf den
Zylinderblock 117 aufrechterhalten kann. Es ist außerdem ein
Plattierflüssigkeitsauslaßanschluß 126 am unteren Abschnitt der
Auslaßeinrichtung 103 bereitgestellt, wobei die Auslaßeinrich
tung 103 mit dem Plattierflüssigkeitsbehälter 115 über den
Plattierflüssigkeitsauslaßanschluß 126 durch das Rohr 112
verbunden ist.
Die Anode 110, die eine zylindrische Gestalt aufweist, deren
Inneres hohl ist, ist vertikal angeordnet, so daß sie durch
einen hohlen Abschnitt 128 des Zylinderblockes 117 und den
hohlen Abschnitt 105 der Auslaßeinrichtung 103 tritt. Die Anode
110, die eine unlösliche Anode ist, ist in zwei Abschnitte
geteilt, einen unteren und einen oberen, welche voneinander
abnehmbar ausgeführt sind. Ein oberes Ende 130a einer unteren
Anode 130, welche im unteren Bereich angeordnet ist, hat eine
Höhe, die in etwa der Höhe der oberen Stirnfläche 108 der
Auslaßeinrichtung 103 entspricht, wobei das obere Ende 106
einer oberen Anode 131, die im oberen Bereich angeordnet ist,
in einer Höhe angebracht ist, die in etwa der Höhe einer Kante
133a eines Kurbelgehäuseabschnitts 133 des Zylinderblockes 117
entspricht, der ein zu behandelnder Gegenstand ist. Der Durch
messer der unteren Anode 130 ist kleiner ausgeführt als der
Durchmesser der oberen Anode 131. Obgleich der Durchmesser der
unteren Anode 130 nur geringfügig kleiner als der der oberen
Anode 131 sein muß, sollte der Größenunterschied zwischen den
Durchmessern bevorzugt beispielsweise 10 mm und mehr betragen.
Als Anode 110 kann bevorzugt beispielsweise eine Anode, bei der
die Oberfläche eines aus Titan bestehenden, zylindrischen
Grundmaterials mit Platin überzogen ist, eine Anode aus plat
tiertem Material, bei der ein dünnes Blech aus Platin mit einem
aus Titan bestehenden, zylindrischen Grundmaterial verbunden
ist, oder eine Anode verwendet werden, bei der die Oberfläche
eines aus Titan bestehenden, zylindrischen Grundmaterials mit
einer Iridiumoxidschicht überzogen ist.
Daher ist ein Anode-Kathode-Abstand, der ein Spalt (Abstand)
zwischen der äußeren Umfangsfläche der oberen Anode 131 und der
Innenfläche des Zylinderblocks 117 ist, kleiner ausgeführt als
ein Anode-Kathode-Abstand, der ein Spalt (Abstand) zwischen der
äußeren Umfangsfläche der unteren Anode 130 und der Innenfläche
der Auslaßeinrichtung 103 ist. Die obere Anode 131 ist bei
spielsweise in einem Zustand angeordnet, in dem sie von der
Innenfläche einer Zylinderbohrung im Zylinderblock 117 durch
einen Spalt von 1 bis 5 mm abgesetzt ist, welcher dazwischen
ausgeformt und im wesentlichen parallel zur Innenfläche der
Zylinderbohrung ist. Es ist ferner ein Plattierflüssigkeitsein
laßanschluß 135 am unteren Ende der unteren Anode 130 bereitge
stellt.
Wie vorstehend beschrieben ist das Rohr 112, das sich vom
Plattierflüssigkeitsauslaßanschluß 126 der Auslaßeinrichtung
103 erstreckt, mit dem Plattierflüssigkeitsbehälter 115 verbun
den, wobei der Plattierflüssigkeitsbehälter 115 außerdem mit
dem unteren Ende der unteren Anode 130 über die Pumpe 136 durch
das Rohr 113 verbunden ist. Demzufolge wird der Anode 110
Plattierflüssigkeit 138 aus dem Plattierflüssigkeitsbehälter
115 zugeführt, wobei die Plattierflüssigkeit 138, nachdem an
der Innenfläche des Zylinderblockes 117 eine Plattierbehandlung
durchgeführt wurde, in den Plattierflüssigkeitsbehälter 115
zurückfließt.
Ein zu behandelnder Gegenstand, der durch die vorstehend be
schriebene Plattierbehandlungsvorrichtung 101 behandelt werden
kann, ist ein zylindrisches Teil, wie etwa ein Zylinderblock
117, wie in Fig. 2 gezeigt, wobei die Plattierbehandlung an der
Innenfläche des zylindrischen Teils durchgeführt wird.
Wie in Fig. 2 gezeigt, wird der Zylinderblock 117 an der Plat
tierbehandlungsvorrichtung 101 in einem vertikal umgekehrten
Zustand angebracht. Das heißt, wenn sich der Zylinderblock 117
in einem Zustand befindet, in dem er in einem Fahrzeug montiert
ist, befindet sich der Kurbelgehäuseabschnitt 133, dessen
unterer Abschnitt sich nach außen ausdehnt, unten und ein
Zylinderkopf oben, wobei die Zylinderbohrung, in der ein Kolben
(nicht gezeigt) verschieblich aufgenommen wird, im Zylinderkopf
ausgeformt ist. Daher befindet sich, wenn der Zylinderblock 117
umgedreht ist, der Kurbelgehäuseabschnitt 133 oben und der
Zylinderkopfabschnitt unten. Eine Zylinderkopfstirnfläche des
Zylinderblockes 117 wird in Kontakt mit dem Dichtmaterial 125
gebracht, das auf der oberen Stirnfläche 108 der Auslaßeinrich
tung 103 angeordnet ist, wobei die untere Stirnfläche des
Kurbelgehäuseabschnitts 133 in Kontakt mit einem Dichtelement
140 gebracht wird, wodurch sowohl das obere als auch das untere
Ende des Zylinderblockes 117 abgedichtet ist. Die vorstehend
beschriebene obere Anode 131 ist in einer Höhe angeordnet, die
der der Innenfläche der Zylinderbohrung entspricht.
Es folgt eine Beschreibung der Strömung und des Verhaltens der
Plattierflüssigkeit 138 in der Plattierbehandlungsvorrichtung
101 mit der vorstehend beschriebenen Bauweise. Bei der vorlie
genden Erfindung wird eine Hochgeschwindigkeitsplattierbehand
lung mittels einer Hochgeschwindigkeitsplattiereinrichtung bei
einer hohen Stromdichte von 100 (A/dm2) und mehr durchgeführt.
Zunächst wird bewirkt, daß die Plattierflüssigkeit 138 von dem
Plattierflüssigkeitsbehälter 115 durch die Antriebskraft der
Pumpe 136 durch das Rohr 113 zur unteren Anode 130 fließt. Da
in der unteren und oberen Anode 130 und 131 hohle Abschnitte
ausgeformt sind, steigt die Plattierflüssigkeit 138 vom Inneren
der unteren Anode 130 ins Innere der oberen Anode 131 und
ergießt sich ins Innere des Kurbelgehäuseabschnitts 133 des
Zylinderblocks 117 durch eine am oberen Ende 106 der oberen
Anode 131 bereitgestellte Öffnung. Die Plattierflüssigkeit 138
sammelt sich vorübergehend im Kurbelgehäuseabschnitt 133, so
daß das Innere des Kurbelgehäuseabschnitts 133 die Rolle eines
sogenannten Puffereffekts erfüllt. Dadurch wird die Strömung
der Plattierflüssigkeit 138 vereinheitlicht. Danach fließt die
Plattierflüssigkeit 138 zwischen der oberen Anode 131 und der
Innenfläche der Zylinderbohrung nach unten. Wie vorstehend
beschrieben ist der Anode-Kathode-Abstand an der unteren Anode
130 größer als der an der oberen Anode 131, so daß die Plat
tierflüssigkeit 138, aufgrund des Puffereffekts, zwischen der
unteren Anode 130 und der Auslaßeinrichtung 103 gleichmäßig und
ruhig fließt. Ein synergistischer Effekt, der durch die zwei
Puffereffekte verursacht wird, kann eine gleichmäßige Strömung
der Plattierflüssigkeit 138 vom Inneren des Kurbelgehäuseab
schnitts zur Auslaßeinrichtung 103 aufrechterhalten. Durch
Erhöhen des Anode-Kathode-Abstands zwischen der Auslaßeinrich
tung 103 und der unteren Anode 130 wird eine gegenseitige
Beeinflussung der Zylinder des Zylinderblockes 117 beseitigt,
so daß diese Vorrichtung auch bei einem Mehr-Zylinder-Motor
verwendet werden kann.
Als nächstes wird die vorliegende Erfindung anhand von Beispie
len näher erläutert.
Nachdem die Plattiervorbehandlung an der Innenfläche des Zylin
derblockes 17 unter Verwendung der in Fig. 1 gezeigten Plat
tiervorbehandlungsvorrichtung 1 durchgeführt wurde, wurde die
Plattierbehandlung unter Verwendung einer nicht dargestellten
Plattierbehandlungsvorrichtung durchgeführt. Die in der Plat
tiervorbehandlungsvorrichtung 1 angeordnete Kathode 10 besteht
aus der zylindrischen oberen Kathode 41 und der unteren Kathode
40, die, wie vorstehend beschrieben, einen kleineren Durchmes
ser als die obere Kathode 41 hat, wobei diese oberen und unte
ren Kathoden 41 und 40 voneinander trennbar sind.
Bezugnehmend auf die Bedingungen der Plattiervorbehandlungs
flüssigkeit 37 betrug die Strömungsrate 10 Liter/Minute, die
Konzentration an Phosphorsäure 300 g/Liter und die Flüssig
keitstemperatur 65°C. Des weiteren betrug die Dichte des Stro
mes, den man zwischen der Kathode 10 und dem Zylinderblock 17
fließen ließ, 50 A/dm2. Das Thermometer 25 wurde in jedem
Zylinder des Zylinderblockes 17 angeordnet. Die Vorbehandlung
wurde an der Innenfläche des Zylinderblockes 17 durchgeführt,
wobei die Strommenge und die Strömungsrate der Vorbehandlungs
flüssigkeit angemessen geregelt wurden, so daß die Temperatur
der Vorbehandlungsflüssigkeit 37 in jedem Zylinder konstant
gehalten wurde. Dann wurde eine Plattierbehandlung durchge
führt, um eine Ni-SiC- oder Ni-P-SiC-Belagschicht an der Innen
fläche des Zylinderblockes 17 zu formen.
Dadurch wurde jeder Zylinder in einem beinahe gleichen Ausmaß
geätzt und Abweichungen in der Haftung der Belagschicht zwi
schen den Zylindern wurden ebenfalls beseitigt.
Die Innenfläche des Zylinderblocks 117 wurde bei verschiedenen
Stromdichten unter Verwendung der in den Fig. 2 bzw. 3
gezeigten Plattierbehandlungsvorrichtungen 101 und 151 plat
tiert. Wie vorstehend beschrieben, zeigt Fig. 2 die Plattierbe
handlungsvorrichtung 101, bei der der Durchmesser der unteren
Anode 130 kleiner ist als der der oberen Anode 131.
Im Gegensatz dazu, ist in Fig. 3 als Vergleichsbeispiel eine
Plattierbehandlungsvorrichtung 151 gezeigt, die eine untere
Anode 153 aufweist, deren Durchmesser beinahe gleich dem Durch
messer der oberen Anode 131 ist. Die gesamte Bauweise der in
Fig. 3 gezeigten Plattierbehandlungsvorrichtung 151 entspricht
der in Fig. 2 gezeigten Plattierbehandlungsvorrichtung 101, mit
Ausnahme der unteren Anode 153.
Bezugnehmend auf die Plattierbehandlungsbedingungen wurde die
durchschnittliche Strömungsgeschwindigkeit der Plattierflüssig
keit 138 in beiden Vorrichtungen 101 und 151 konstant gehalten,
sie betrug 1,7 m/s, wobei sowohl der Anode-Kathode-Abstand der
oberen Anode 131 in der in Fig. 2 gezeigten Vorrichtung 101 als
auch die Anode-Kathode-Abstände der oberen Anode 131 und der
unteren Anode 153 der in Fig. 3 gezeigten Vorrichtung 151 5 mm
betrugen. Darüber hinaus wurden drei Stromdichten, 100, 120 und
150 (A/dm2), verwendet.
Die Kreismarkierung steht für einen zufriedenstellenden Zylin
derblock, ohne fehlerhafte Abscheidung, wie etwa eine verbrann
te Auflage, und die Kreuzmarkierung für einen Zylinderblock,
bei dem eine fehlerhafte Abscheidung aufgetreten ist. Der
Ausdruck "verbrannte Auflage" bezeichnet eine fehlerhafte
Abscheidung, etwa dahingehend, daß aufgrund eines Mangels an
zugeführten Ni-Ionen Wasserstoff erzeugt wird, so daß die
nähere Umgebung der Kathode alkalisch wird, wodurch Ni(OH)x
entsteht, das den Bereich schwarz färbt. Dieser Fehler tritt
vor allem in einem Bereich auf, in dem die Strömung der Plat
tierflüssigkeit 138 stagniert.
Gemäß Tabelle 1 führt die Verwendung der erfindungsgemäßen
Plattierbehandlungsvorrichtung 101 zu einem guten Ergebnis,
ohne daß bei einer der Stromdichten von 100 bis 150 (A/dm2)
eine verbrannte Auflage entsteht. Eine derartige Anode 110
ermöglichte ein Hochgeschwindigkeitsplattieren und konnte das
Auftreten verbrannter Auflagen eindämmen, wodurch eine zufrie
denstellende Plattierbehandlung des Zylinderblockes 117 ermög
licht wurde. Im Gegensatz dazu, führte die Verwendung der
Plattierbehandlungsvorrichtung 151 gemäß dem Vergleichsbeispiel
bei hohen Stromdichten von 120 und 150 (A/dm2) zu einer ver
brannten Auflage. Diese verbrannte Auflage trat in einem Be
reich auf, in dem die Strömung der Plattierflüssigkeit 138
ungleichmäßig war und eine niedrige Strömungsgeschwindigkeit
hatte, wobei, ebenfalls bei dem Vergleichsbeispiel, aufgrund
der ungleichmäßigen Strömung der Plattierflüssigkeit 138, das
Eutektoid von SiC ebenfalls ungleichmäßig war.
Gemäß Beispiel 2 floß, durch Verkleinern des Durchmessers der
unteren Anode 153, die Plattierflüssigkeit 138 sogar bei einem
Anode-Kathode-Abstand von 1 bis 5 mm gleichmäßig. Darüber
hinaus führte die Verwendung einer flachen, unlöslichen Anode,
bei der die äußere Umfangsfläche der Anode 110 keine Unregelmä
ßigkeiten aufwies, wie etwa eine Wellenform, zu einem konstan
ten Anode-Kathode-Abstand zwischen jedem Abschnitt der Anode
110 und des Zylinderblocks 117. Somit konnte eine gute Belag
schicht mit gleichmäßiger Schichtstärke und ohne verbrannte
Auflage erreicht werden.
Als nächstes wurde der Zylinderblock 117 unter Verwendung der
Anode mit der in Fig. 2 gezeigten Form plattiert, wobei ledig
lich die Anode durch eine unlösliche Anode oder einen Titankorb
ersetzt wurde. Bezugnehmend auf die Behandlungsbedingungen der
Plattierbehandlung wurde die durchschnittliche Strömungsge
schwindigkeit der Plattierflüssigkeit 138 in beiden Fällen
konstant gehalten, sie betrug 1,7 m/s. Das Ergebnis ist in
Tabelle 2 gezeigt.
Bei der unlöslichen Anode trat keine fehlerhafte Abscheidung
auf, wie etwa eine verbrannte Auflage, und es konnte eine
zufriedenstellende Plattierbehandlung bei jeder der Stromdich
ten von 100 bis 150 (A/dm2) durchgeführt werden. Bei dem Titan
korb jedoch trat bei Stromdichten von 120 bis 150 (A/dm2) eine
fehlerhafte Abscheidung auf, wie etwa eine verbrannte Auflage.
Darüber hinaus kann, da die äußere Umfangsfläche des Titankor
bes eine Wellenform aufweist und die Maßgenauigkeit daher
schlecht ist, ein geringer Anode-Kathode-Abstand einen Kurz
schluß zwischen der Anode und dem zu behandelnden Gegenstand
bewirken. Folglich muß der Anode-Kathode-Abstand größer als 5 mm
sein.
Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die vorstehend be
schriebenen Ausführungsbeispiele beschränkt und verschiedene
Abwandlungen und Veränderungen können basierend auf dem techni
schen Konzept der vorliegenden Erfindung durchgeführt werden.
Obgleich beispielsweise die Kathode, die in obere und untere
Abschnitte geteilt ist, gemäß dem Ausführungsbeispiel der
Erfindung in bezug auf die Vorbehandlungsvorrichtung beschrie
ben wurde, geschah dies für den Fall, daß die Plattiervorbe
handlungsvorrichtung selbst vertikal angeordnet ist. Falls die
Plattiervorbehandlungsvorrichtung schräg oder im wesentlichen
horizontal angeordnet ist, ist eine in bezug auf die Strömungs
richtung der Vorbehandlungsflüssigkeit in der Kathode auf der
stromabwärts gerichteten Seite befindliche Kathode (die der
unteren Kathode 40 entspricht) integral mit einer Kathode auf
der stromaufwärts gerichteten Seite (die der oberen Kathode 41
entspricht) ausgeformt, so daß sie einen kleineren Durchmesser
als die Kathode auf der stromaufwärts gerichteten Seite hat,
wodurch die Effekte der vorliegenden Erfindung erzielt werden
können.
Claims (7)
1. Plattiervorbehandlungsvorrichtung, bei der eine zylindri
sche Kathode in einer Fixiereinrichtung angeordnet ist, in der
ein hohler Abschnitt ausgeformt ist, und ein zu behandelnder,
zylindrischer Gegenstand auf der Fixiereinrichtung befestigt
wird, so daß die Kathode in dem zu behandelnden Gegenstand
angeordnet ist, wobei ein unterer Abschnitt der Kathode so
ausgeführt ist, daß er einen kleineren Durchmesser als ein
oberer Kathodenabschnitt aufweist, wodurch der Rauminhalt eines
unteren Freiraums, der zwischen dem unteren Kathodenabschnitt
und der Fixiereinrichtung ausgeformt ist, größer ist als der
eines oberen Freiraums, der zwischen dem oberen Kathodenab
schnitt und dem zu behandelnden Gegenstand ausgeformt ist.
2. Plattiervorbehandlungsvorrichtung nach Anspruch 1,
bei der die Kathode so konfiguriert ist, daß sie in eine obere
und eine untere Kathode teilbar ist.
3. Plattiervorbehandlungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
bei der mehrere hohle Abschnitte in der Fixiereinrichtung und
den Kathoden bereitgestellt sind und in jedem Zylinder ein
Thermometer angeordnet ist, wodurch die Vorbehandlung auch bei
einem Mehr-Zylinder-Motor durchgeführt werden kann.
4. Plattierbehandlungsvorrichtung, bei der eine Plattierflüs
sigkeit von einem Plattierflüssigkeitsbehälter einer Anode
zugeführt wird, in welcher ein hohler Abschnitt für die zuge
führte Plattierflüssigkeit ausgeformt ist, und zwar in einem
Zustand, in dem ein elektrischer Strom in einem zu behandeln
den, zylindrischen Gegenstand und der Anode fließt, sich die
Flüssigkeit in den zu behandelnden Gegenstand über ein oberes
Ende der Anode ergießt, und zwischen der Außenfläche der Anode
und der Innenfläche des zu behandelnden Gegenstandes fließt,
ferner zwischen der Außenfläche der Anode und der Innenfläche
einer Auslaßeinrichtung fließt und zu dem Plattierflüssigkeits
behälter zurückgeführt wird, wodurch die Innenfläche des zu
behandelnden Gegenstandes plattiert wird, wobei der Durchmesser
eines unteren Abschnitts der Anode, der in einem hohlen Ab
schnitt der Auslaßeinrichtung angeordnet ist, kleiner ist als
der Durchmesser eines oberen Anodenabschnitts, der in dem zu
behandelnden Gegenstand angeordnet ist.
5. Plattierbehandlungsvorrichtung nach Anspruch 4,
bei der als Anode eine unlösliche Anode verwendet wird.
6. Plattierbehandlungsvorrichtung nach Anspruch 4 oder 5,
bei der die Anode so konfiguriert ist, daß sie in eine obere
Anode und eine untere Anode teilbar ist.
7. Plattierbehandlungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 4
bis 6,
bei der mehrere hohle Abschnitte in der Auslaßeinrichtung und
den Anoden bereitgestellt sind, wodurch die Plattierbehandlung
auch einem Mehr-Zylinder-Motor durchgeführt werden kann.
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