CS201102B1 - Sposob zvyšovania adhézie vrstiev pri fotolitografickqm spracovaní tuhých povrchov a zariadenie na jeho realizáciu - Google Patents
Sposob zvyšovania adhézie vrstiev pri fotolitografickqm spracovaní tuhých povrchov a zariadenie na jeho realizáciu Download PDFInfo
- Publication number
- CS201102B1 CS201102B1 CS239679A CS239679A CS201102B1 CS 201102 B1 CS201102 B1 CS 201102B1 CS 239679 A CS239679 A CS 239679A CS 239679 A CS239679 A CS 239679A CS 201102 B1 CS201102 B1 CS 201102B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- adhesion
- increasing
- layers
- solution
- solid surfaces
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 239000007787 solid Substances 0.000 title claims description 8
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 8
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims description 5
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- AQIHMSVIAGNIDM-UHFFFAOYSA-N benzoyl bromide Chemical compound BrC(=O)C1=CC=CC=C1 AQIHMSVIAGNIDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 3
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- -1 polysiloxanes Polymers 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- ZVNPWFOVUDMGRP-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol sulfate Chemical compound OS(O)(=O)=O.CNC1=CC=C(O)C=C1.CNC1=CC=C(O)C=C1 ZVNPWFOVUDMGRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000237354 Lymnaea Species 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002070 germicidal effect Effects 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N methane;hydrate Chemical compound C.O VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000002186 photoactivation Effects 0.000 description 1
- 229920002589 poly(vinylethylene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
Vynález sa týká účinného sposobu zvyšovania adhézie tenkých vrstiev organických polymérov na povrchu tuhých telies a zariadenia na jeho realizáciu.
V súčasnej době sa k zvyšovsniu adhézie organických polymérov na povrchu anorganických materiálov používajd organokremičité promotéry adhézie, najčastejšie typu RSiXj alebo RLR2SiX2, kde R představuji! najrozličnejšie funkčně skupiny schopné vytvořil chemická alebo fyzikálnu vazbu s organickým polymérom a X je hydrolyzovateíná skupina, najčastejšie alkoxyl, při starších produktoch tiež chlór. Hydrolýz°u RSiX^ a RjR2SiX2 vznikají příslušné trihydroxyT,resp. dihydroxyderiváty, ktorých silanolové skupiny reagujú jednak s povrchovými skupinami -OH silikátov a kysličníkov kovov, jednak vzájomne kondenzuji! za vzniku polysiloxánov. Ako konkrétny příklad uvedeného typu možno uviesl CH2=C/0^/0/0/0-/0^/jSi/OCH^/^ a CH2/O/CH-CH2O-/CH2/3Si/OCH3/3 (Johannson 0. K., Stark F. 0., Vogel G. E.,. Fleischmann R. M.: Composite Mater 1, 278 /1968/), 3alej Si/OC^/^ (Unger K., Schisk-Kalb J., DOS 2,357.184 /1975/). V posledněj době sa objevuji! správy o zavádzaní skupin SiX^ priamo do polymérov.
Tak napr. Miron a spol-opisuji! silyláciu 1,2-polybutadiénu na visiacich dvojných vazbách (Miron J., Bhatt P., Skeist I.s Recent Adv. Adhesives, Proč. Am. Chem. Soc. Symposium 1971 publikované r. 1973: Chem. Abstr. 82, 31813). Prehíad používaných promotérov adhézie je uvedený v referáte K. Veselého (K. Veselý: Organokremičité spojovacie prostriedky, Chem. listy 71, 225 /1977/).
201 102
Nedostatkem uvedeného postupu, založeného na aplikécii organokremičitých zlúčenin, je leh vysoká cena a malá odolnost k účinku vzdušnéj vlhkosti.
Uvedené nedostatky odstraňuje sposob podlá vynálezu, ktorého podstata je v tom, že sa spájený povrch aktivuje polychromatickým a elektromagnetickým žiarením o rozsahu vlnových o
dlžok od 0,01 do 100 um a hustotě světelného toku od 0,01 do 100 W/cm , po přerušení expozície sa nanesie svetlocitlivý roztok a/alebo na aktivovaný povrch sa nanesie fotoeenzibilizétor obecného vzorca RCOX, kde R je aryl, a X je -R, -Cl, -Br, například benzaldehyd, benzoylchlorid, benzoylbromid, po přerušení expozície sa nanesie svetlocitlivý roztok. Upravený povrch sa po nanesení svetlocitlivého roztoku može vystavit posobeniu pólychromatického a elektromagnetického žiarenia o rozsahu vlnových dlžok od 0,01 do 100 um a hustotě světleného toku od 0,01 tiež do 100 W/cm2*
Predmetom vynálezu je zariadenie na prevádzanie sposobu na zvyšovanie adházie vrstiev pri fotol,itografickom spracovaní tuhých povrchov, ktorého podstata spočívá v tom, že rotačný držiak pre doštičku je usporiadaný vo vákuovej komoře, kde na strad deštičky je nasměrované ústie infračerveného a ultrafialového žiarenia, přívod plynu a dávkovač kvapalíri.
Účinným sposobom zvyšovania adhézie tenkých vrstiev organických látok na povrchu tuhých telies je vytvéranie prechodovej, intenzitu vzájomnej interakcie obidvoch adhétentov kontrolujíce j, medzifázovej vrstvičky definovaného zloženia a hrůbky cestou fotochemickéj a fototermickej aktivácie spájených povrchov, pozostévajúcou z prefereněhej fotoaktivovanej desorpcie adsorbovaných molekúl na fázových rozhraniach kyslík, kysličník uhličitý a voda a fotoaenzibilizovanej disproporcionácie povrchových -OH štruktúr, vedúcej k odstraneniu chemicky viazanej vody za súčasného vzniku reaktívnych skupin. Najskor sa na reaktívny povrch kyaličníkovej fázy kysličníka křemičitého, hlinitého atd. viaže tripletový senzibilizátor typu RCOX, kde R je aryl, například fenyl alebo naftyl, a X je -H, -Cl alebo /Br a potom sa vytvoří tenká vrstva polyméru převrstvením povrchu roztokom polyméru v prchavom rozpúštadle a jeho odpařením. Pri dalšej expozícii ultrafialovým žiarením dojde ku vzéjomnému spojeniu molekúl situovaných na spájených rozhraniach obidvoch systémov jednak v dosledku vytvořenia chemických vazieb, jednak v dosledku čiastočného mechanického zapletenia. Pri priamom kontaktovaní sa fotochemicky opracované povrchy spéjajú jednoduchým překrytím, pričom vzájomné adhézia je zabezpečená vznikom chemických vazieb medzi obidvomi systémami.
Postup podlá vynálezu možno aplikovat v jednoduchom rotačnom zariadení na súbežné fotochemické fototermické a chemické opracovanie tuhých telies, vyznačujúce sa možnosťou synchronně j alebo postupnéj excitácie fyzikélnych a chemických vazieb v sústave adsorbovaná látka/adsorbent, pričom transport desorbovaných molekúl z povrchu sa docieli účinkem grevitačného póla alebo zdielaním hybnosti zréžkami a molekulovým lúčom inertného plynu.
Zariadenie podlá vynálezu je schématicky zobrazené na připojeném obrázku.
Výhodou postupu podlá vynálezu je dosiahnutie vyšěej intenzity vzájemných vazieb medzi povrchmi, fyzikélnych i chemických, v dosledku účinného odstránenia adsorbovaných októznych plynov a zamedzenia vzniku velkého volného objemu na fázovom rozhraní.
Na obrázku je znázorněné zariadenie na zvyšovanie adhézie světlocitlivých vrstiev na tuhých povrchoch pri výrobě mikroelektronických prvkov.
Do vákuovej komory 1, opatřenéj odvodom 2 do čerpacej vákuovej súpravy, v ktoréj je umiestnený vakuový rotačný držiak 3 doštičky sú vbudované zdroje 4 infračerveného žiarenia a zdroj 5 ultrafialového žiarenia tak, aby luče směrovali na střed opracovávanej doštičky 6, orientovanej vrstvičkou kysličníka křemičitého nahor. Vákuová komora 1 je 3alej opatřená prívodom 7 plynu a dávkovačem 8 kvapalín, ktoré sú usměrněné na střed doštičky 6.
Opracovávaná doštička sa upevní na vákuový držiak, uvedie do rotačného pohybu a po prípadnom vyevakuovaní celého priestoru, alebo naplnění čistým dusíkom sa exponuje ultrafialovým, infračerveným žiarením, alebo obidvomi súbežne po stanovená dobu. Po skončení expozície sa súčasne s vypnutím zdrojov elektromagnetického žiarenia nanesie aktivačný alebo svetlocitlivý roztok, ktorý sa odpaří. Vytvořená povrchová aktivovaná vrstvička alebo tuhá svetlocitlivá vrstva hrůbky 0,5 až 1 /tm sa 3alej opracovává pódia bežnej praxe.
Konkrétné postupy podía vynálezu ilustrujú nasledujúee příklady:
Příklad 1
Ilustruje sa aplikácia postupu podía vynálezu pri výrobě mikroelektronických prvkov a ich integrovaných zoskupení. Křemíková doštička kruhového prierezu o priemere 37 mm, na. ktorej bola pyrolitickým rozkladom zmesi křemík, voda a kyslík vytvořená vrstvička kysličníka křemičitého o hrúbke 0,5 yum, sa upevní vákuove na rotačnom držiaku a nechá rotoval rýchlosíou 4 000 otáček za minutu. Koncentrickým polychromatickým lúčom infračerveného zdroja o výkone 200 W a 500 W ultrafialového zdroja vysokotlakej ortuíovej výbojky sa desorbuje a aktivuje povrch kysličníka křemičitého po dobu 3 minút. Po uplynutí uvedeného časového intervalu sa. na povrch prikvapne 0,5 ml 10 molárneho roztoku benzaldehydu v n-heptáne a pokračuje sa iba v ultrafialovéj expozícii 3alšie 3 minuty. V priebehu procesu sa v komoře udržuje mierny podtlak 6,7 kPa, zabezpečujúci odsávanie aplikovaného rozpúšíadla. Po skončení expozície sa nanesie na doštičku roztok svetlocitlivého polymérneho laku primeranej koncentrácie. Ďalšie spracovanie systému sa koná podía zaužívanej technologie.
Příklad 2
Postup podía příkladu 1 len s tým rozdielom, že namiesto roztoku benzaldehydu sa použije roztok benzoylchloridu rovnakej koncentrácie.
Příklad 3
Postup zhodný ako v příklade 1 len s tým rozdielom, že doby aktivácie a postexpozície sa skrátia na jednu minútu.
Příklad 4 ·
Postup zhodný ako v příklade 2 len s tým rozdielom, že po aplikácii roztoku beuzoyl4
201 102 chloridu sa súbežne aktivuje infračerveným a ultrafialovým žiarením po dobu 3 minúty.
Příklad 5
Postup zhodný ako v příklade 1 len s tým rozdielom, že po aplikácii roztoku benzaldehydu sa bezprostředná nanesie svetlocitlivý lak.
Příklad 6
Postup zhodný ako v příklade 2 len s tým rozdielom,, že sa namiesto roztoku benzoylchloridu aplikuje roztok benzoylbromidu v rovnakom rozpúáíadle a o rovnakej koncentrécii.
Příklad 7
Postup zhodný ako v příklade 4 len s tým rozdielom, že namiesto roztoku.benzoylchloridu sa použije benzoylbromid.
Příklad 8
Postup zhodný ako v příklade 1 len s tým rozdielom, že po nanesení svetlocitlivého laku sa aplikuje infračervené žiarenie v rozsahu vlnových fllžok od 10 do 100 um.
Příklad 9
Ilustruje sa aplikdcia postupu pódia vynálezu pri výrobě monometalických ofsetových tlačových platní na báze hliníka. Anodickou oxidáciou povrchovo upravená tlačová podložka, zbavená prachu umýváním vodou, o hrúbke 0,3 mm, normalizovaného formátu Αθ, sa aktivuje po dobu 2 minút v horizontálnom tuneli vybavenom polychromatickými infračervenými zdrojmi /20 ks/ o oelkovom výkone 2 000 111 a 5 germicidnými nízkotlakými rtutovými výbojkami o celkovom výkone 150 W, za odsávania vznikájúceho ozónu. Vzdialenosí zdrojov žiarenia je od podložky 60 cm. Takto aktivovaná podložka sa 3alej ovretvuje svetlocitlivým roztokom v clonovom alebo valcovom ovrstvovacom zařiadění, čím sa získá predsenzibilizovaná ofsetová tlačová platňa s vyššou adhéziou tlačového prvku k podložka než pri klasickom postupe bez fotoaktivácie povrchu před nanesením svetlocitíivej polymérnej vrstvy.
Příklad 10 ·
Postup zhodný ako v příklade 9 len s tým rozdielom, že fotoaktivácie a nanááanie svetlocitlivého laku sa konají v rotačněj centrifúge, vybavenéj rovnakými zdrojmi ako v příklade 9 při 80 otáčkách za minútu.
Claims (3)
1. Spósob zvyšovania adhézie vrstiev fotolitografickom spracovaní tuhých povrchov, vyznačujúci sa tým, že sa spájaný povrch aktivuje polychromatickým a elektromagnetickým žiarením o rozsahu vlnových dížok 0,01 až 100 um a hustotě světelného toku 0,01 až 100 W/cm2
201 ίο:
a po přerušení expozície sa nanesla svetlocltlivý roztok a/alebo sa na aktivovaný povrch nanesie fotosenzibilizátor obecného vzorca RCOX, ve ktorom R je aryl a X je H, Cl alebo Br, například benzaldehyd, benzoylchlorid alebo benzoylbromid, pričom sa po přerušení expozície nanesie svetlocltlivý roztok.
2. Šposob podlá bodu 1, vyznačujdci sa tým, že upravený povrch sa po nanesení svetlocitlivého roztoku vystaví posobeniu polychromatického a elektromagnetického žiarenia o rozsahu vlnových dlžok 0,01 až 100 /um a hustotě světelného toku 0,01 až 100 W/cm2.
3. Zariadenie na realizáciu sposobu podlá bodu 1 a 2, vyznačujdci sa tým, že pozostáva z rotačného držiaku /3/ pre uchytenie doštičky so spájeným povrchom, pričom na střed držiaku /3/, ktorý je usporiadaný vo vakuovej komoře /1/, je nasměrovaný zdroj /4/ infra červeného žiarenia, zdroj /5/ ultrafialového žiarenia, přívod /7/ plynu a dávkovač /8/ kvapalín.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS239679A CS201102B1 (sk) | 1979-04-09 | 1979-04-09 | Sposob zvyšovania adhézie vrstiev pri fotolitografickqm spracovaní tuhých povrchov a zariadenie na jeho realizáciu |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS239679A CS201102B1 (sk) | 1979-04-09 | 1979-04-09 | Sposob zvyšovania adhézie vrstiev pri fotolitografickqm spracovaní tuhých povrchov a zariadenie na jeho realizáciu |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS201102B1 true CS201102B1 (sk) | 1980-10-31 |
Family
ID=5360984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS239679A CS201102B1 (sk) | 1979-04-09 | 1979-04-09 | Sposob zvyšovania adhézie vrstiev pri fotolitografickqm spracovaní tuhých povrchov a zariadenie na jeho realizáciu |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS201102B1 (sk) |
-
1979
- 1979-04-09 CS CS239679A patent/CS201102B1/sk unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO1998053767A1 (en) | Method of producing a film coating by matrix assisted pulsed laser deposition | |
| JPS63214413A (ja) | 紫外線硬化性の反応性樹脂コンパウンドの加工方法及び装置 | |
| RU2002131969A (ru) | Способ изготовления субстрата и субстрат, способ определения концентрации анализируемого вещества и устройство и комплект для его осуществления | |
| US4936940A (en) | Equipment for surface treatment | |
| DK0484472T3 (da) | Fremgangsmåde til lysinduceret immobilisering af biomolekyler på kemisk "inerte" overflader | |
| CN101726786A (zh) | 光学元件及其制造方法 | |
| JP2000127290A (ja) | バリア被覆および高出力プラズマ化学気相成長法によってプラスチック物体上にバリア被覆を堆積する方法 | |
| JPH03236475A (ja) | 大気圧プラズマ表面処理法 | |
| JP2001137800A (ja) | 基板処理装置及び処理方法 | |
| CS201102B1 (sk) | Sposob zvyšovania adhézie vrstiev pri fotolitografickqm spracovaní tuhých povrchov a zariadenie na jeho realizáciu | |
| JP2695744B2 (ja) | 支持体上に保護層を形成する方法 | |
| JP2007100191A (ja) | 単分子膜形成装置及び単分子膜形成方法 | |
| GB2089377A (en) | Improved photochemical vapor deposition apparatus and method | |
| JPS58119336A (ja) | 光反応蒸着装置 | |
| JP4321706B2 (ja) | 積層体およびその製造方法 | |
| JP2002311031A (ja) | 分子認識蛍光体、それを用いた標的物質の測定方法 | |
| JP3919958B2 (ja) | 高分子薄膜の製造方法 | |
| Wu et al. | Effect of adsorbate coverage and ion beam exposure time on reactive ion-surface collisions: pyridine cation (C5H5N+) reactions with deuterated pyridine on silver surface (C5D5N/Ag (111)) | |
| JPS5976870A (ja) | 酸化膜の化学蒸着法 | |
| JPS63500893A (ja) | 固体基質に生物学的物質を付着する方法 | |
| JPH0266551A (ja) | フォトレジスト塗布装置 | |
| JPS6110443A (ja) | 導電性積層体 | |
| Fujimoto et al. | Kinetics of reactions at an interface: functionalisation of silicate glass with porphyrins via covalent bonds | |
| CN1160534A (zh) | 血液采集管组件 | |
| JPS6175515A (ja) | 真空蒸着装置 |