CN2768200Y - 衬底支撑组件 - Google Patents

Abstract

衬底支撑组件在处理室中支撑衬底。所述的衬底支撑组件具有：支撑块，所述支撑块具有电极；以及臂，用于在所述处理室中支持所述的支撑块，所述的臂具有贯穿其中的通道。所述的臂具有固定到所述支撑块的第一夹板以及固定到所述处理室的第二夹板。多个电导体穿过所述臂的所述通道，而陶瓷绝缘体处在所述的导体之间。

Description

衬底支撑组件

技术领域

本发明一般地涉及用于在处理室中支撑衬底的衬底支撑组件(substrate support assembly)。

背景技术

在电子电路例如集成电路和显示器的制造中，衬底被放置在处理室中，而处理气体被引入到室中以处理衬底。处理室通常包含包围衬底处理区域的围壁(enclosure wal1)。气体激发器通过例如微波发生器(microwave applicator)、感应器线圈或围绕室布置的电极对处理气体施加射频(RF)能或微波能，激发(energize)被引入室中的处理气体。处理气体被激发来进行处理，如刻蚀衬底中的特征的刻蚀处理或在衬底上沉积一层材料的沉积处理。

在处理室中处理衬底期间，衬底被支持在衬底支撑组件上。衬底支撑组件包含支撑部件，支撑部件具有衬底承受表面。组件还可以具有电极，而电极作为气体激发器的一部分来激发处理气体。支撑电极也可以可选择地加电偏压，以在支撑组件上用静电支持衬底。组件可以具有电连接器和导电结构如电线或引线。电连接器将支撑组件的若干部分与其它的室元件或外部电路连接起来。举例来说，衬底电极可以具有电接地的电连接器(接地连接器)或给支撑电极提供电源的电连接器(电源连接器)。当室中的壁电极为了激发室中的气体以处理衬底而加电偏压时，接地连接器使支撑电极保持为接地电势。接地连接器也可以消除支撑组件的多余的电荷，以便于衬底从支撑部件中移出。导电电线的另一个实例为热电耦，热电偶被用于在处理衬底期间监测温度。其它的连接器可以包括被连接到处理监测器的电线。

传统的衬底支撑组件引起的一个问题是在室中的等离子体和支撑部件中的连接器及电线之间发生电弧和辉光放电。例如，当被激发处理气体腐蚀连接器或热电偶上的绝缘涂层时，可以发生电弧。用于激发室中的气体的电势也可以引起辉光放电或微电弧(micro-arcing)。此外，当导电电线从带电荷电线附近经过时，在电线中所感应的反电磁场(backe.m.f.)可以引起电弧和信号串扰。这样的电弧和辉光放电是人们所不希望的，因为它们毁坏和“燃烧”连接器或电线以及衬底支撑部件的邻近部分。在某些等离子体氛中，在处理数量相对较少的衬底以后，老化的衬底支撑组件和其元件可能需要重新修复(refurbishment)或更换，这增加了每个衬底的制造成本。

室中的被激发处理气体也可以腐蚀衬底支撑组件的若干部分，最终导致对正在被处理的衬底的污染和支撑组件的失效。举例来说，被激发处理气体如卤素气体可以腐蚀支撑组件的金属部分，如它的铝金属部分，对这些部分需要经常进行清洁和更换。

因此，人们希望具有一种衬底支撑组件，此衬底支撑组件在等离子体氛中减少电弧或辉光放电。人们也希望具有一种衬底支撑组件，此衬底支撑组件允许处理数量很大的衬底而不用经常更换或维修。人们还希望能够容易地重新修复或清洁衬底支撑组件的元件。

发明内容

用于在处理室中支撑衬底的支撑组件具有支撑块，支撑块具有电极。臂在处理室中支持支撑块。臂具有贯穿其中的通道、固定到支撑块的第一夹板、以及固定到处理室的第二夹板。多个电导体穿过臂的通道，而陶瓷绝缘体处在这些导体之间。

在另一个方案中，衬底支撑组件具有介电块，介电块具有嵌入其中的电极。臂在处理室中支持介电块。臂具有贯穿其中的通道、固定到介电块的第一夹板、以及固定到室的一部分的第二夹板。电接地连接器穿过臂的通道，而该连接器具有电连接到电极的第一端点和适用于将电极电接地的第二端点。热电偶靠近电接地连接器穿过臂的通道。陶瓷绝缘体处在臂的通道中的电接地连接器和热电偶之间。

在另一个方案中，衬底支撑组件具有金属块，金属块上具有阳极化金属板。臂在处理室中支持金属块，臂具有固定到金属块的第一夹板以及固定到室的一部分的第二夹板，臂具有贯穿其中的通道。电接地连接器穿过臂的通道，而电接地连接器具有电连接到金属块的第一端点和适用于将金属块电接地的第二端点。热电偶靠近电接地连接器穿过臂的通道。陶瓷绝缘体处在臂的通道中的电接地连接器和热电偶之间。

附图说明

参照随后的具体实施方式、权利要求，以及说明本发明实例的附图，将可以更好的理解本发明的这些特征、方面、以及优点。但是，应该理解每个特征可以被一般地用于此发明，而不是仅仅在具体附图所示的范围，且此发明的包括这些特征的任何的组合，其中：

图1a为衬底支撑组件的实施例的截面侧视图，此衬底支撑组件包含在支撑臂中处在接地连接器和热电偶之间的陶瓷绝缘体；

图1b为衬底支撑组件的另一个实施例的截面侧视图，此衬底支撑组件包含在支撑臂中处在接地连接器和热电偶之间的陶瓷绝缘体；

图2为具有陶瓷绝缘体的支撑臂的横截面图；

图3为根据本发明的实施例的一个室的方案的部分的截面侧视示意图，此室具有衬底支撑组件。

具体实施方式

衬底支撑组件200包含支撑部件100(supporting member)，支撑部件100具有在处理室106中支撑衬底104的衬底承受表面140，如图1a、1b和3所示。支撑部件100包含支撑块115，支撑块115在衬底承受表面140的下面。如图1a所示，在一个方案中，支撑块115包含由介电材料例如氮化铝、氧化铝和氧化硅中的一种或多种形成的介电块115a。举例来说，介电块115a可以是单块介电材料，此单块介电材料是单纯单一结构的或可以由介电材料堆叠板(stacked plate)或涂层形成。如图1b所示，在另一个方案中，支撑块115包含金属块115b，金属块115b由适当的金属材料例如铝、钛、镍及其合金中的一种或多种形成。为了防止金属块115b的腐蚀，耐腐蚀材料层177，如阳极化铝材料，被提供在衬底承受表面140上。举例来说，可以将在其上具有阳极化材料层177的阳极化金属板174结合到或用其他方法固定到下面的金属块115b上。

支撑部件100包含电极105，电极105适用于作为气体激发器154的一部分来激发室106中处理气体以处理衬底104。电极105也可以是可选择地可充电的，以在支撑组件200上用静电支持衬底104。如图1a和3所示，在一个方案中，支撑部件100包含电极105，此电极105至少部分地被介电块115a覆盖，或被嵌入介电块115a中。嵌入电极105包含适于在整个支撑部件100中提供所希望的电磁特性的形状。例如，嵌入电极105可以包含被嵌入到介电块115a中的网状电极或电极板。嵌入电极105由适当的导电材料例如钼形成。如图1b所示，在另一个方案中，金属块115b的一部分起到了电极105的作用来激发处理气体。

支撑部件100也可以适用于控制衬底104的温度。例如，支撑块115可以具有形成在其中的若干传热流体导管(heat transfer fluidconduit)(没有示出)以提供对被支撑在支撑块115上的衬底104的温度控制。衬底承受表面140也可以具有多个凸起的台面(mesas)(没有示出)，这些台面给整个衬底承受表面140提供更加均一的热分布，来控制衬底104的温度。

衬底支撑组件200还包含支撑臂90，支撑臂90适用于支持处理室106中的支撑部件100。支撑臂90通过提供：第一夹板206，连接到支撑块115；以及第二夹板208，连接到处理室106的一部分，如室壁的一部分或衬底支撑部件的其他部分，来固定支撑部件100。在图1所示的方案中，支撑臂90的第一端201包含第一夹板206，此处的第一夹板206在支撑块115的下表面204的中心202被固定到支撑部件100。支撑臂90的第二端203包含第二夹板208，此处的第二夹板208通过固定到处理室106的一部分如室壁107的一部分或其他支撑元件，来将支撑部件100固定到室106。例如如图3所示，支撑臂90的第二端203可以被固定到膜盒结构(bellows structure)300，膜盒结构300适用于升高和降低室106中的衬底支撑组件200，以提供所希望的等离子体处理特性。在排气出口143的上方，在图中示出的支撑臂90也支撑支撑部件100和衬底104，而排气出口143位于衬底支撑组件200下方的室106的底壁116中。支撑臂90的支撑梁部分205在第一和第二端201、203之间延伸，来支撑支撑部件100在两端之间的部分。支撑臂90的两端201、203上的第一和第二夹板206、208通过钉、螺纹、粘合、铜焊，或其它合适的紧固方法被连接到支撑部件100和处理室106的一部分。理想地，支撑臂90包含耐被激发气体腐蚀的材料，以提供用于支持静电部件100的可靠的且耐腐蚀的结构。例如，支撑臂90可以包含陶瓷材料，如氮化铝、氧化铝和氧化硅中的至少一种。

支撑臂90包含空心支撑臂部分，该空心支撑臂部分具有贯穿其中的通道207，其尺寸和形状可容多个电导体209如电连接器、导电电线以及引线。通道207沿支撑臂90的至少一部分延伸，来为导体209提供一个封闭的外壳210，例如，通道207可以沿着支撑臂连接端202、203之间的支撑梁部分205的大致整个长度延伸。使电导体209如电连接器经由或穿过空心支撑臂中的通道207，来将导体209从支撑部件100引导至，例如，电源、处理监测器以及衬底支撑组件200外部的室元件。空心支撑臂90的外壳210屏蔽和保护电导体以隔离腐蚀性的被激发的各种等离子体，来减少腐蚀和电弧。

在一个方案中，衬底支撑组件200包含电导体209，此电导体209包含电接地连接器211，使电接地连接器211穿过空心支撑臂90的通道207。电接地连接器211将支撑部件100的某些部分如电极105电接地，而室106中的另一个电极141被加电偏压，使得室106中的处理气体可以被激发，以处理衬底104。电接地连接器211也可以从支撑部件100的一些部分除去多余的电荷，以便在处理后从衬底承受表面140移走衬底104。电接地连接器211包含：第一端点212，第一端点212被电连接到支撑部件100的一部分，如电极105或支撑块115；以及第二端点213，第二端点213适用于电连接到处理室106，以将静电部件“接地”，或使静电部件100与处理室106保持大致相同的电势。图1a和图3示出了电接地连接器211，此电接地连接器211包含：第一端点212，第一端点212被嵌入介电块115中，并且通过例如将电接地连接器211铜焊到电极105，被电连接到电极105；以及第二端点213，第二端点213被固定和电连接到室106。在图1b中，例如通过将接地连接器211铜焊到金属块115b，电接地连接器211的第一端点212被电连接到包含电极105的金属块115b。第二端点213可以在挡板300的底部被连接到室106的底壁116，如图3所示。理想地，电接地连接器211包含导电材料，例如不锈钢、镍、钼、铝、镍基合金(hastelloy)及其合金中的一种或多种。

衬底支撑组件200也可以包含电导体209，电导体209包含热电偶215，使热电偶215靠近接地连接器211穿过空心支撑臂90的通道207。图1a、图1b和图2示出了衬底支撑组件200，此衬底支撑组件200具有至少有一部分被经由通道207穿过的热电偶215。热电偶215适用于探测衬底支撑组件周围的温度，如衬底104和支撑部件100的若干部分之中的一个或多个温度。热电偶215通常包含两种或两种以上的不同的电线如金属线或半导体杆，在它们的末端将它们焊接或用其它方法接合在一起。合适的电线的实例包括铂和铑，或铬合金和铝合金。在两个末端或接合点之间的温度差产生一个电磁场，此电磁场的大小与接合点之间的温度差有关。通过温度监测系统275可以测量所产生的电磁场，温度监测系统275包含适当的毫伏计或电位计，而毫伏计或电位计被连接到由这些电线所形成的电路中。在图1所示的方案中，热电偶215包含：第一顶端216，例如通过将热电偶端点216铜焊到支撑块115的底表面204，第一顶端216被连接或放置接近到支撑块115以探测支撑块115的若干部分的温度；以及第二顶端214，第二顶端214被电连接到温度监测系统275。

图2示出了空心支撑臂90的侧视示意图，说明了支撑臂通道207中的电接地连接器211和热电偶215的布置的实施例。在此实施例中，接地连接器211和热电偶215沿着空心支撑臂梁部分205的长轴被大致相互平行地排列。接地连接器211和热电偶215被彼此相对靠近地布置，以使在处理室106中安装支撑臂90所需的空间大小最小化并降低制造支撑臂90的成本。举例来说，接地连接器211和热电偶215之间的距离可以小于约2英寸(约51毫米)，例如从约0.0005英寸(约0.013毫米)到约2英寸(约51毫米)，甚至小于约0.001英寸(约0.025毫米)。

衬底支撑组件200还包含陶瓷绝缘体222，陶瓷绝缘体222被放置在支撑臂90中的电接地连接器211和热电偶215之间，如图1a、图1b和图2所示。人们已经发现在小间距的接地连接器211和热电偶215之间插入陶瓷绝缘体222可以减少接地连接器211和热电偶215之间电弧的发生，由此提高衬底支撑组件200的零件寿命。陶瓷绝缘体222包含在接地连接器211和热电偶215之间提供充分电绝缘的陶瓷材料。例如，陶瓷绝缘体222可以包含氮化铝、氧化铝、氧化锆、氧化硅、碳化硅、莫来石(mullite)以及氮化硅中的一种或多种。理想地，陶瓷绝缘体222还包含适当的厚度以电屏蔽热电偶215和接地连接器211，如至少约0.0005英寸(约0.013毫米)甚至至少约0.001英寸(约0.025毫米)的厚度，如从约0.001英寸(约0.025毫米)到约2英寸(约51毫米)的厚度。

陶瓷绝缘体222被布置在支撑臂90的通道207中，以在接地连接器211和热电偶215之间提供良好的电屏蔽。陶瓷绝缘体222在支撑臂90中沿着所希望的距离例如支撑臂90的支撑梁部分205的整个长度延伸。举例来说，陶瓷绝缘体222可以沿着支撑梁部分205的至少约50％，甚至大致整个完整的支撑梁部分205延伸。陶瓷绝缘体222可以被放置在通道207中，靠紧甚至支撑接地连接器211和热电偶215中的一个或多个。在如图1a、图1b和图2所示的方案中，陶瓷绝缘体222被放置在接地连接器211的下面，并具有支撑通道207中的接地连接器211的上支撑表面223。

为了便于将接地连接器211和热电偶215布置得彼此靠近，并降低制造成本，所形成的通道207可以具有不同尺寸的上沟槽和下沟槽217、219。接地连接器211被放置在热电偶215上面、上沟槽217中，上沟槽217形成了通道207的上部分，而热电偶215被放置在接地连接器211下面、下沟槽219中，下沟槽219形成了通道207的下部分。上沟槽217的宽度大于下沟槽219，以容纳宽度更大的接地连接器211。举例来说，上沟槽217可以具有从约0.005英寸(约0.13毫米)到约0.5英寸(约13毫米)的宽度。下沟槽219具有更小的宽度，如从约0.001英寸(约0.025毫米)到约0.1英寸(约2.5毫米)的宽度，以容纳更小的热电偶215。为了制造的方便，使较小的下沟槽219的开口220的尺寸足够大，以允许在衬底支撑组件200的组装期间，热电偶215通过开口220并进入下沟槽219而被安装。因此，具有不同尺寸的上沟槽和下沟槽217、219的通道207允许在支撑臂90中接地连接器211靠近热电偶215放置，而不需要花费时间和可能困难的步骤，钻用于热电偶215和接地连接器211的单独的通道。

使陶瓷绝缘体222的尺寸和形状适合于接地连接器211和热电偶215之间的开了沟槽的通道207。在图2所示的方案中，在接地连接器211和热电偶215之间，陶瓷绝缘体222所具有的尺寸和形状使其搁置在上沟槽217的底表面225，并且甚至可以被下方的热电偶215的上表面部分地支撑。陶瓷绝缘体222也可以至少部分地按照上方的接地连接器211的形状而被成形。在图2所示的方案中，陶瓷绝缘体222包含半圆柱的形状，此半圆柱的形状具有凹支撑表面223，凹支撑表面223与搁置在绝缘体222上的接地连接器211的圆柱形相一致。半圆柱形的陶瓷绝缘体222的底表面227也可以被制成曲面或用其它方法成型，以配合上沟槽217的形状。作为另一个可选择的布置，可以使陶瓷绝缘体222与接地连接器211和热电偶215中的一个或多个间隔开(没有示出)。陶瓷绝缘体222也可以被安装到下沟槽219中(没有示出)，例如在下沟槽219的开口220中，或在另一个布置中，适当地将陶瓷绝缘体222放置在接地连接器211和热电偶215之间，以提供电屏蔽。

在一个方案中，陶瓷绝缘体222包含沿着通道207的长度连续地延伸的单片的陶瓷材料，如图3所示。单片陶瓷材料在接地连接器211和热电偶215之间沿着陶瓷绝缘体222的长度提供了连续的电屏蔽。在另一个方案中，陶瓷绝缘体222包含若干陶瓷材料条222a、222b、222c，陶瓷材料条222a、222b、222c在接地连接器211和热电偶215之间沿着通道207的长度被间隔开，如图1a和1b所示。以更小的绝缘体条222a、222b、222c的形式提供陶瓷绝缘体222可以减小成本，并相对于制造单个的长陶瓷绝缘体片，提高制造陶瓷绝缘体222的简易性。所选择的各陶瓷绝缘体条222a、222b、222c之间的间隔足够地小，以保持接地连接器211和热电偶215之间的所希望的电屏蔽。举例来说，每个条之间的间隔可以小于约4.5英寸(约114毫米)，如从约0.001英寸(约0.025毫米)到约4.5英寸(约114毫米)，并且甚至小于约0.005英寸(约0.13毫米)。合适的陶瓷绝缘体222的一个方案包含约3个绝缘体条222a、222b、222c。

衬底支撑组件200的上述结构具有处在接地连接器211和热电偶215之间的陶瓷绝缘体222，已发现此结构通过减少在室106中处理衬底104期间接地连接器211和热电偶215之间电弧的发生，在处理室106中提供了良好的耐腐蚀性。陶瓷绝缘体222的使用也保留了衬底支撑组件200组装的简易性，因为可以容易地使接地连接器和热电偶经由相同的通道207穿过，不需要为它们每一个钻单独的通道。因此，具有陶瓷绝缘体的衬底支撑组件200为在处理室106中处理衬底104提供了耐腐蚀性提高的支撑元件。

衬底支撑组件200也允许组件的重新修复以提供更长的处理寿命。重新修复处理可以允许更换任何已腐蚀的组件零件如金属板174，以及清洁若干零件如支撑块115和支撑臂90，以除去处理残留物。因为陶瓷绝缘体222阻止了电弧并减少了接地连接器211的腐蚀，所以也可以进行重新修复处理而不需要更换接地连接器211。为了重新修复衬底支撑组件200，热电偶215和金属板174中的一个或多个被从支撑块115中移走。然后进行清洁处理以从支撑块115和支撑臂90中的一个或多个中清洁处理残留物。举例来说，清洁过程可以包括将支撑块115和支撑臂90浸入清洁溶液中，清洁溶液包含酸性或碱性物质例如HF或KOH，如申请序列号10/032,387的美国申请(案卷号6770，发明人He等，2001年12月21日申请，转让给应用材料公司)和申请序列号10/304,535的美国申请(案卷号8061，发明人Wang等，2002年11月25日申请，转让给应用材料公司)所述，这些申请在此被全文引用。清洁溶液去掉任何的处理残留物，并且也可以去掉来自介电块115和支撑臂90的任何的松散的颗粒(loose grains)，不然这些松散的颗粒会在处理期间污染衬底104。如上面引用的申请所述，也可以进行喷砂处理来清洁和重新修复支撑块115和支撑臂90。在已经进行了清洁处理以后，例如通过将热电偶的顶端铜焊到支撑块115的下表面204，相同的或新的热电偶215被靠近支撑块115布置。在包括了金属板174的衬底支撑组件的实施例中，新的金属板174可以被应用到金属块115的上表面179。使热电偶215和接地连接器211重新经由支撑臂90的通道穿过，而陶瓷绝缘体222被放置在它们之间。

如图3所示，适于用衬底支撑组件200处理衬底104的装置102包含处理室106，衬底支撑组件200包含具有陶瓷绝缘体的空心支撑臂90。在此所示的装置102的具体实施例适合于处理衬底104如半导体晶片，并可以被普通技术人员用来处理其它的衬底104如平板显示器、聚合物板、或其它的电路承载结构。装置102对于处理层如衬底104上的抗刻蚀层、含硅层、含金属层、介电和/或导体层，特别有用。

装置102可以被固定到主框单元(没有示出)，此主框单元包含和提供装置102的电气功能、管路功能、以及其它的支撑功能，并可以是多室系统(multichamber system)(没有示出)的一部分。多室系统具有在它的若干室之间转移衬底104而不用破坏真空和不用使衬底暴露于多室系统外面的湿气和其它污染物的能力。多室系统的一个优点是多室系统中不同的室在整个处理过程中可以被用于不同的目的。例如，一个室可以被用于刻蚀衬底104，一个被用于金属膜的沉积，一个被用于快速热处理，还有一个可以被用于防反射层(anti-reflective layer)的沉积。处理可以在多室系统中不间断地进行，由此防止了当在用于处理过程的不同部分的不同的独立的单个的室之间转移衬底104时，衬底104的污染，不然衬底104会发生污染。

通常，处理室106包含壁107如围壁103，围壁103可以包含室顶118、侧壁114、以及底壁116，它们将处理区域108包围起来。在运行时，处理气体通过气体输入装置130被导入室106中，气体输入装置130包括处理气体源138和气体配送器137。气体配送器137可以包含一个或多个管道136，管道136具有一个或多个气流阀134以及在衬底104周围的一个或多个气体出口142，衬底104被支持在处理区域108中、具有衬底承受表面140的衬底支撑组件200上。或者，气体配送器137可以包含喷淋头气体配送器(showerhead gas distributor)(没有示出)。剩余处理气体和刻蚀剂副产品通过排气装置144被从室106中排出，排气装置144可以包括：泵通道，用于通过排气出143接收来自处理区域的剩余处理气体；节流阀135，用于控制室106中的处理气体的压力；以及一个或多个排气泵152。

气体激发器154将能量耦合到室106的处理区域108中的处理气体，通过气体激发器154可以激发处理气体来处理衬底104。在图3所示的方案中，气体激发器154包含处理电极105、141，以及电源159，电源159给电极105、141中的一个或多个输入电能，来激发处理气体。处理电极105、141可以包含电极141，而电极141是壁或处在壁中，壁为例如室106的侧壁114或室顶118，电极141被电容耦合到另一个电极105，如在衬底104下面、衬底支撑组件200中的电极105。在一个方案中，气体激发器154给电极141提供电能，电极141包含气体配送板，此气体配送板是在室顶118中的喷淋头气体配送器(没有示出)的一部分。或者或此外，气体激发器154可以包含天线175，天线175包含一个或多个感应器线圈178，感应器线圈178可以具有关于室106的中心对称的圆形。在另一个方案中，气体激发器154可以包含微波源和波导(waveguide)，通过微波能来激励在室上游的远距离区域中的处理气体。

为了处理衬底104，处理室106被抽真空并保持预定的负压。然后，衬底104通过衬底运输装置101如机械手和起模顶杆系统(lift pinsystem)被提供到衬底支撑组件200的衬底承受表面140上。然后，气体激发器154通过将射频能或微波能耦合到气体，激发气体，以在处理区域中提供被激发气体，来处理衬底104。膜盒结构300可以上升或下降衬底104，来提供理想的等离子体处理特性。

虽然本发明的示例性的实施例被示出和描述，本领域的普通技术人员可以设计包含本发明的其它实施方式，以及还有在本发明范围内的其它实施方式。举例来说，可以使用除具体所提及的支撑臂结构以外的其它的支撑臂结构。同时，如本领域的普通技术人员所清楚的，接地连接器211和热电偶215在支撑臂90中的位置可以被颠倒，或者它们可以被并排地放置。此外，对于图中的示例性实施例，示出了术语：下、上、底、顶、向上、向下、第一和第二以及其它关系或位置术语，并且这些术语是可互换的。因此，权利要求不应该被限制在具体实施方式中的在此被描述来说明本发明的优选方案、材料、或空间结构。

Claims (13)

1.一种用于在处理室中支撑衬底的支撑组件，其特征是，所述的支撑

组件包含：

(a)支撑块，包含电极；

(b)臂，用于在所述的处理室中支持所述的支撑块，所述的臂包含固定到所述支撑块的第一夹板和固定到所述处理室的第二夹板，以及所述的臂具有贯穿其中的通道；

(c)多个电导体，穿过所述臂的所述通道；以及

(d)陶瓷绝缘体，处在所述的导体之间。

2.如权利要求1所述的支撑组件，其特征是，所述的多个电导体包括(i)热电偶，以及(ii)电接地连接器。

3.如权利要求1所述的组件，其特征是，所述的陶瓷绝缘体包含氧化铝、氧化锆、氧化硅、碳化硅、莫来石以及氮化硅中的一种或多种。

4.如权利要求1所述的组件，其特征是，所述的陶瓷绝缘体包含若干条，所述的条在所述的多个电导体之间沿着长度被间隔开。

5.如权利要求1所述的组件，其特征是，所述的陶瓷绝缘体包含半圆柱的形状。

6.如权利要求5所述的组件，其特征是，所述的陶瓷绝缘体包含支撑所述电连接器中的一个或多个的凹支撑表面。

7.一种处理室，其特征是，所述处理室包含如权利要求1所述的组件。

8.一种用于在处理室中支撑衬底的衬底支撑组件，其特征是，所述的组件包含：

介电块，具有被嵌入其中的电极；

臂，用于在所述的处理室中支持所述的介电块，所述的臂具有固定到所述介电块的第一夹板和固定到所述室的一部分的第二夹板，所述的臂具有贯穿其中的通道；

电接地连接器，穿过所述臂的所述通道，所述的电接地连接器包含电连接到所述电极的第一端点和适用于将所述电极电接地的第二端点；

热电偶，靠近所述的电接地连接器穿过所述臂的所述通道；以及

陶瓷绝缘体，处在所述臂的所述通道中的所述电接地连接器和所述热电偶之间。

9.如权利要求8所述的组件，其特征是，所述的陶瓷绝缘体包含氧化铝、氧化锆、氧化硅、碳化硅、莫来石以及氮化硅中的一种或多种。

10.如权利要求8所述的组件，其特征是，所述的陶瓷绝缘体包含半圆柱的形状。

11.一种用于在处理室中支撑衬底的衬底支撑组件，其特征是，所述的组件包含：

金属块，其上具有阳极化金属板；

臂，用于在所述的处理室中支持所述的金属块，所述的臂具有固定到所述金属块的第一夹板和固定到所述室的一部分的第二夹板，所述的臂具有贯穿其中的通道；

电接地连接器，穿过所述臂的所述通道，所述的电接地连接器包含电连接到所述金属块的第一端点和适用于将所述金属块电接地的第二端点；

热电偶，靠近所述的电接地连接器穿过所述臂的所述通道；

陶瓷绝缘体，处在所述臂的所述通道中的所述电接地连接器和所述热电偶之间。

12.如权利要求11所述的组件，其特征是，所述的陶瓷绝缘体包含氧化铝、氧化锆、氧化硅、碳化硅、莫来石以及氮化硅中的一种或多种。

13.如权利要求11所述的组件，其特征是，所述的陶瓷绝缘体包含半圆柱的形状。

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