JP2007149639A - プラズマ生成方法及び装置並びにプラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマ生成室1内に複数本の高周波アンテナ2を設置し、高周波電力供給装置(電源41、42、位相制御部Cont等)から供給される高周波電力をアンテナ2から室1内ガスに印加して誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成方法及び装置。複数本のアンテナ2は、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置される。高周波電力供給装置は、各アンテナ2に印加する高周波電圧の位相を制御することで誘導結合プラズマにおける電子温度を制御する。
【選択図】図1
Description
そして、電子温度を3eV以下に設定する手法として、マイクロ波プラズマを生成し、該マイクロ波の導波管に接続された平面アンテナに周方向に沿って多数のスリットを形成することが記載されている。
後者では、マイクロ波プラズマを生成し、該マイクロ波の導波管に接続された平面アンテナに周方向に沿って多数のスリットを形成する、というものであり、わざわざかかる平面アンテナを準備しなければならない。
すなわち、プラズマ生成室内に高周波アンテナを複数本設置して誘導結合プラズマを生成させる場合、該複数本の高周波アンテナのうちの全部又は一部の複数本のアンテナについては、順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置するとともに、それら高周波アンテナのそれぞれに印加する高周波電圧の位相を制御することで、比較的簡易にプラズマの電子温度を低く制御することが可能である。また、そのように高周波電圧の位相を制御することでプラズマ電子温度を低く抑制しても、プラズマ密度については問題視すべき低下を招くことがなく、アンテナ本数等にみあった高密度プラズマを得ることができる。
プラズマ生成室内に複数本の高周波アンテナを設置し、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内ガスに高周波電力を印加して誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成方法であり、該複数本の高周波アンテナのうち少なくとも一部の複数本の高周波アンテナについては、順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置するとともに、該順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置した高周波アンテナのそれぞれに印加する高周波電圧の位相を制御することで誘導結合プラズマにおける電子温度を制御するプラズマ生成方法を提供する。
プラズマ生成室、該室内に設置された複数本の高周波アンテナ及び該高周波アンテナに高周波電力を供給する高周波電力供給装置を有し、該高周波電力供給装置から供給される高周波電力を該高周波アンテナから該プラズマ生成室内ガスに印加して誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成装置であり、該複数本の高周波アンテナのうち少なくとも一部の複数本の高周波アンテナについては、順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置されているとともに、該高周波電力供給装置は、該順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置された高周波アンテナのそれぞれに印加する高周波電圧の位相を制御することで誘導結合プラズマにおける電子温度を制御するプラズマ生成装置を提供する。
プラズマ生成方法については、
(1) 前記順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置した複数本の高周波アンテナにおける各隣り合う高周波アンテナのそれぞれについて、隣り合う高周波アンテナ同士において極性が同一極性となり(換言すれば、隣り合う高周波アンテナ同士において電力供給方向が同一となり、さらに言えば、隣り合う高周波アンテナ同士において電流の方向が同一となり)、且つ、高周波電圧の位相差が180°となるように、又は隣り合う高周波アンテナ同士において極性が異極性となり(換言すれば、隣り合う高周波アンテナ同士において電力供給方向が互いに逆方向となり、さらに言えば、隣り合う高周波アンテナ同士において電流の方向が互いに逆方向となり)、且つ、高周波電圧の位相差が0°となるように、該各高周波アンテナに高周波電力を供給する場合、
(2) 前記順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置した複数本の高周波アンテナにおける各隣り合う高周波アンテナ同士において極性が同一極性となり、且つ、高周波電圧の位相差が180°となるように、該各高周波アンテナに高周波電力を供給する場合、
(3) 前記順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置した複数本の高周波アンテナにおける各隣り合う高周波アンテナ同士において極性が異極性となり、且つ、高周波電圧の位相差が0°となるように、該各高周波アンテナに高周波電力を供給する場合
を挙げることができる。
(1) 前記高周波電力供給装置が、前記順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置した複数本の高周波アンテナにおける各隣り合う高周波アンテナのそれぞれについて、隣り合う高周波アンテナ同士において極性が同一極性となり、且つ、高周波電圧の位相差が180°となるように、又は隣り合う高周波アンテナ同士において極性が異極性となり、且つ、高周波電圧の位相差が0°となるように、該各高周波アンテナに高周波電力を供給する場合、
(2) 前記高周波電力供給装置が、前記順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置した複数本の高周波アンテナにおける各隣り合う高周波アンテナ同士において極性が同一極性となり、且つ、高周波電圧の位相差が180°となるように、該各高周波アンテナに高周波電力を供給する場合、
(3) 前記高周波電力供給装置が、前記順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置した複数本の高周波アンテナにおける各隣り合う高周波アンテナ同士において極性が異極性となり、且つ、高周波電圧の位相差が0°となるように、該各高周波アンテナに高周波電力を供給する場合
を挙げることができる。
(1)前記プラズマ生成室壁のうち、前記高周波アンテナが設置され、前記ホルダに保持される被処理物のプラズマ処理対象面が対向する壁の内面が前記電気絶縁性部材で覆われている。
(2)前記プラズマ生成室壁のうち、前記高周波アンテナが設置され、前記ホルダに保持される被処理物のプラズマ処理対象面が対向する壁の内面及び前記ホルダを側方から囲む側周壁の内面が前記電気絶縁性部材で覆われている。
(3)前記プラズマ生成室壁のうち前記高周波アンテナを設置した壁の内面における各高周波アンテナに隣り合う部分を含む各アンテナ周囲部分が局所的に前記電気絶縁性部材で覆われている。
図1は本発明に係るプラズマ生成装置の1例を示している。図2は図1のプラズマ生成装置における高周波アンテナ等を抽出して示す図である。
一方の(図1において左側の)アンテナ2の室天井壁11から室外へ突出した部分21、21’のうち一方の部分21は給電ブスバーB1(図2参照、図1では図示省略)に接続されており、ブスバーB1はマッチングボックス31を介して高周波電源41に接続されている。
<実験例1>
(1) プラズマ発生条件
高周波電力:2本のアンテナのそれぞれに13.56MHz、1250Wを供給
プラズマ生成圧:1.8Pa
ガス種及び供給量:水素ガス、300cc/分
なお、当初はプラズマ生成室内から10-5Paオーダーまで排気し、その後に水素ガスを300cc/分導入するとともに室内圧を1.8Paに維持した。
各アンテナ材質、構造:外径1/4インチ(約6.35mm)、肉厚1mmの銅製丸管 をU字形状に屈曲させたもので、内部に冷却水を通水可能なも の
各アンテナの水平方向幅w(図2参照)=55mm
鉛直方向長さ=250mm(室1内の長さL=100mm)
互いに向かい合うように並列配置した両アンテナ間距離b=340mm
アンテナを被覆する各絶縁管:外径16mm、内径12mmの石英管
電子温度及び電子密度の測定は、ラングミューアプローブPを、両アンテナに垂直な水平面における両アンテナ間の中央位置c(図2参照)の直下、且つ、アンテナ下端から距離a(図1参照)=175mmの位置に配置し、その位置を300mmの位置として、さらにプローブを水平方向に50mm刻みの各位置に配置して行った。
図4、図5からわかるように、電子温度については、位相差180°の場合が最も低く抑制された。一般にプラズマ密度の指標とされる電子密度についも、位相差180°の場合には、位相差0°や90°の場合より大きく、最大となっている。
<実験例2>
(1) プラズマ発生条件
前記実験例1と同じ。
(2) アンテナ及び絶縁管条件
前記実験例1と同じ。
図7、図8からわかるように、電子温度については、位相差0°の場合が最も低く抑制された。一般にプラズマ密度の指標とされる電子密度についも、位相差0°の場合には、位相差90°や180°の場合より大きく、最大となっている。
(1) 極性が同一極性となるように、換言すれば、電力供給方向が同一となるように、さらに言えば、電流の方向が同一となるように高周波電力が供給される隣り合う高周波アンテナについは、位相差180°の高周波電圧を印加することで、また、
(2) 極性が異極が異極性となるように、換言すれば、電力供給方向が互いに逆方向となるように、さらに言えば、電流の方向が互いに逆方向となるように高周波電力が供給される隣り合う高周波アンテナについては、位相差0°の高周波電圧を印加することで、
プラズマの電子温度を低く抑制することができる。
図12(A)は、図11のシリコン薄膜形成装置(プラズマ処理装置の1例)において、プラズマ生成室1を構成する壁のうち、高周波アンテナ2が設置され、ホルダ6に保持される基板Sの膜形成対象面が対向する天井壁11の内面を全面的に電気絶縁性板(アルミナ等でもよいが本例では石英板)111で被覆したシリコン薄膜形成装置を示している。図12(B)はプラズマ生成室1の天井壁11の部分を下から見た図である。
11 室1の天井壁
12 室1の側周壁
111、112、112 電気絶縁性部材例である石英板
2 高周波アンテナ
20 絶縁性部材
10 絶縁性部材
21、21’ アンテナ2の室外突出部分
B1、B2 給電ブスバー
31、32 マッチングボックス
41、42 高周波電源
Cont 位相制御部
131、132 位相検出用ケーブル
141、142 位相制御用ケーブル
5 排気装置
6 基板ホルダ
61 ヒータ
G ガス導入部
7、8 ガス導入管
70 モノシランガス供給装置
80 水素ガス供給装置
9 冷媒循環装置
91、92、93 配管
Claims (16)
- プラズマ生成室内に複数本の高周波アンテナを設置し、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内ガスに高周波電力を印加して誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成方法であり、該複数本の高周波アンテナのうち少なくとも一部の複数本の高周波アンテナについては、順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置するとともに、該順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置した高周波アンテナのそれぞれに印加する高周波電圧の位相を制御することで誘導結合プラズマにおける電子温度を制御することを特徴とするプラズマ生成方法。
- 前記順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置した複数本の高周波アンテナにおける各隣り合う高周波アンテナのそれぞれについて、隣り合う高周波アンテナ同士において極性が同一極性となり、且つ、高周波電圧の位相差が180°となるように、又は隣り合う高周波アンテナ同士において極性が異極性となり、且つ、高周波電圧の位相差が0°となるように、該各高周波アンテナに高周波電力を供給する請求項1記載のプラズマ生成方法。
- 前記順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置した複数本の高周波アンテナにおける各隣り合う高周波アンテナ同士において極性が同一極性となり、且つ、高周波電圧の位相差が180°となるように、該各高周波アンテナに高周波電力を供給する請求項1記載のプラズマ生成方法。
- 前記順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置した複数本の高周波アンテナにおける各隣り合う高周波アンテナ同士において極性が異極性となり、且つ、高周波電圧の位相差が0°となるように、該各高周波アンテナに高周波電力を供給する請求項1記載のプラズマ生成方法。
- プラズマ生成室、該室内に設置された複数本の高周波アンテナ及び該高周波アンテナに高周波電力を供給する高周波電力供給装置を有し、該高周波電力供給装置から供給される高周波電力を該高周波アンテナから該プラズマ生成室内ガスに印加して誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成装置であり、該複数本の高周波アンテナのうち少なくとも一部の複数本の高周波アンテナについては、順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置されているとともに、該高周波電力供給装置は、該順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置された高周波アンテナのそれぞれに印加する高周波電圧の位相を制御することで誘導結合プラズマにおける電子温度を制御することを特徴とするプラズマ生成装置。
- 前記高周波電力供給装置は、前記順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置した複数本の高周波アンテナにおける各隣り合う高周波アンテナのそれぞれについて、隣り合う高周波アンテナ同士において極性が同一極性となり、且つ、高周波電圧の位相差が180°となるように、又は隣り合う高周波アンテナ同士において極性が異極性となり、且つ、高周波電圧の位相差が0°となるように、該各高周波アンテナに高周波電力を供給する請求項5記載のプラズマ生成装置。
- 前記高周波電力供給装置は、前記順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置した複数本の高周波アンテナにおける各隣り合う高周波アンテナ同士において極性が同一極性となり、且つ、高周波電圧の位相差が180°となるように、該各高周波アンテナに高周波電力を供給する請求項5記載のプラズマ生成装置。
- 前記高周波電力供給装置は、前記順次隣り合わせて、且つ、各隣り合うもの同士が互いに向かい合った並列配置となるように設置した複数本の高周波アンテナにおける各隣り合う高周波アンテナ同士において極性が異極性となり、且つ、高周波電圧の位相差が0°となるように、該各高周波アンテナに高周波電力を供給する請求項5記載のプラズマ生成装置。
- 被処理物にプラズマのもとで目的とする処理を施すプラズマ処理装置であって、請求項5から8のいずれかに記載のプラズマ生成装置を含むことを特徴とするプラズマ処理装置。
- 前記被処理物のプラズマ処理対象面を前記高周波アンテナへ向けて保持するためのホルダが前記プラズマ生成室内に配置されており、前記プラズマ生成室の室壁内面のうち少なくとも一部が電気絶縁性部材で覆われている請求項9記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマ生成室壁のうち、前記高周波アンテナが設置され、前記ホルダに保持される被処理物のプラズマ処理対象面が対向する壁の内面が前記電気絶縁性部材で覆われている請求項10記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマ生成室壁のうち、前記高周波アンテナが設置され、前記ホルダに保持される被処理物のプラズマ処理対象面が対向する壁の内面及び前記ホルダを側方から囲む側周壁の内面が前記電気絶縁性部材で覆われている請求項10記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマ生成室壁のうち前記高周波アンテナを設置した壁の内面における各高周波アンテナに隣り合う部分を含む各アンテナ周囲部分が局所的に前記電気絶縁性部材で覆われている請求項10記載のプラズマ処理装置。
- 前記電気絶縁性部材は石英、アルミナ、窒化アルミニゥム、イットリア及び炭化ケイ素から選ばれた少なくとも1種の材料から形成されている請求項10から13のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマ生成室内に膜形成のためのガスを供給するガス供給部を備えており、該ガス供給部から該プラズマ生成室内に供給されるガスに前記高周波アンテナから高周波電力を印加して誘導結合型プラズマを発生させ、該プラズマのもとで前記被処理物に薄膜を形成する薄膜形成装置である請求項9から14のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記ガス供給部は前記被処理物のプラズマ処理対象面にシリコン膜を形成するためのガスを前記プラズマ生成室内へ供給するものであり、前記被処理物に形成される膜はシリコン膜である請求項15記載のプラズマ処理装置。
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