CN220208904U - 一种用于晶圆加工的工装系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种晶圆加工的新型工装系统，涉及晶圆加工技术领域，旨在解决晶圆加工时，会产生玻璃粉尘，粉尘附着在晶圆表面，如果不进行清理，则影响后续的加工过程；通过放置槽内设有的限位机构与清洁机构之间相互配合，限位机构通过二号电动推缸和二号限位件将晶圆限位在由二号限位件、一号转杆、限位辊组成的限位空间内，避免在清洁过程中晶圆偏移松动，由箱体外的二号电机控制一号转杆旋转，从而控制晶圆旋转，在通过清洁机构对晶圆避免进行除尘处理，去除晶圆表面的玻璃粉尘，避免影响后续的加工过程；箱体上设有的收集机构对清除下去的粉尘进行收集，避免四处飞散，造成环境污染，且避免对晶圆造成破损。

Description

一种用于晶圆加工的工装系统

技术领域

本实用新型属于晶圆加工技术领域，具体涉及一种用于晶圆加工的工装系统。

背景技术

制造晶圆的过程涉及将硅片材料切割成圆形并进行纯化，然后在表面涂上一层具有电学性质的材料，如锗、氧化物和铝，以形成电路形状。

晶圆加工加工时，会产生玻璃粉尘，粉尘附着在晶圆表面，如果不进行清理，则影响后续的加工过程，现有的清洁方式，缺少对晶圆表面的自动清理，且有采用手工清除，容易损坏晶圆。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在缺陷与不足，设计的一种结构简单，稳定可靠，既方便有效，又提高清洁效率、节约人力物力的用于晶圆加工的工装系统。

为实现上述目的，本实用新型所采用的技术方案是：一种用于晶圆加工的工装系统，包括箱体，所述箱体上设有控制箱，所述控制箱内设有控制电路，所述箱体的顶面设有放置槽，所述放置槽内设有限位机构，所述限位机构旁设有收集机构和清洁机构。

优选的，所述限位机构包括设在放置槽的内底面上的一号电动推缸，以及左右对称设置在放置槽内壁上的二号电动推缸，所述一号电动推缸的伸缩端设有一号限位件，所述二号电动推缸的伸缩端设有二号限位件。

优选的，所述一号限位件和二号限位件均为U型件。

优选的，所述清洁机构包括转动连接在放置槽内壁上的一号转杆，以及设置在一号转杆上的限位辊，所述一号转杆上方设有与放置槽侧壁转动连接的二号转杆，所述二号转杆上套装有清洁辊。

优选的，所述一号转杆设有两组，左右对称设置，每个一号转杆上均设有两个前后对称设置的限位辊。

优选的，所述一号转杆由二号电机驱动。

优选的，所述二号转杆平行设有两组，且两组二号转杆的一端均贯穿至箱体外部，贯穿至箱体外部的两组二号转杆上设有相互啮合的齿轮，其中一个齿轮能够在一号电机驱动下带动另一个齿轮转动。

优选的，所述收集机构包括通过架子设置在放置槽顶部的风机，以及设置在箱体一侧底部通过管道与放置槽内部连通的收集箱，所述收集箱上设有抽风机。

优选的，所述架子为U型结构，且设有两组，左右对称设置。

采用上述技术方案后，本实用新型提供的一种用于晶圆加工的工装系统具有以下有益效果：

本实用新型通过放置槽内设有的限位机构与清洁机构之间相互配合，限位机构通过二号电动推缸和二号限位件将晶圆限位在由二号限位件、一号转杆、限位辊组成的限位空间内，避免在清洁过程中晶圆偏移松动，由箱体外的二号电机控制一号转杆旋转，从而控制晶圆旋转，再通过清洁机构对晶圆表面进行除尘处理，去除晶圆表面的玻璃粉尘，避免影响后续的加工过程；箱体上设有的收集机构对清除下去的粉尘进行收集，避免四处飞散，造成环境污染，且避免对晶圆造成破损。因此，本实用新型具有结构简单，稳定可靠，既方便有效，又提高清洁效率、节约人力物力等优点。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图之图一；

图2为本实用新型外部结构示意图之图一；

图3为本实用新型外部结构示意图之图二；

图4为本实用新型的俯视结构示意图；

图5为本实用新型结构示意图之图二。

其中：1、箱体；101、放置槽；2、一号转杆；3、限位辊；4、一号电动推缸；5、一号限位件；6、二号转杆；7、清洁辊；8、齿轮；9、一号电机；10、二号电动推缸；11、二号限位件；12、架子；13、风机；14、管道；15、收集箱；16、二号电机。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本实用新型及其应用或使用的任何限制。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。

除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本实用新型的范围。同时，应当明白，为了便于描述，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，在未作相反说明的情况下，这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制；方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

此外，需要说明的是，使用“第一”、“第二”等词语来限定零部件，仅仅是为了便于对相应零部件进行区别，如没有另行声明，上述词语并没有特殊含义，因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制。

本实用新型一种用于晶圆加工的工装系统，如图1-5所示，包括箱体1，所述箱体1上设有控制箱，所述控制箱内设有控制电路，所述箱体1的顶面设有放置槽101，所述放置槽101内设有限位机构，所述限位机构旁设有收集机构和清洁机构，所述限位机构、收集机构和清洁机构均与控制电路电连接，通过限位机构对晶圆，在清洗时进行一个位置的固定，避免其松动，且在清洁完毕后辅助取出；清洁机构驱动晶圆在箱体1内部旋转，对其表面附着的玻璃粉尘进行去除；收集机构将去除的玻璃粉尘进行收集，避免造成环境污染。

箱体1的放置槽101内底面设有一号电动推缸4，一号电动推缸4的顶面设有一号限位件5，限位件为U型，其目的是对晶圆进行一个底部承托，在清洁完毕后将其顶出，以便取拿，放置槽101内壁上设有的两组二号电动推缸10，其伸缩端设有的二号限位件11对晶圆进行上半部分的限位，其作用使避免在加工过程中发生松动等现象。

放置槽101内转动连接的两组一号转杆2上均设有两组前后对称的限位辊3，晶圆在放置时，位于两组限位辊3之间，与一号转杆2相接触，在限位机构的限制下，箱体1外壁设有的二号电机16通过转动二号转杆2带动晶圆在箱体1内部旋转，搭配一号转杆2上方转动的连接在放置槽101内的二号转杆6，箱体1外壁上设有一号电机9，一号电机9驱动转动在箱体1外壁上的齿轮8旋转，旋转的齿轮带动另外一组与之啮合的齿轮8旋转，同时带动与之同轴的二号转杆6旋转，二号转杆6上的清洁辊7对晶圆进行清洁。

箱体1上设有架子12，其上铰接风机13，可以根据使用人员需要进行角度切换，风机13工作将去除下的粉尘向箱体1底部吹去，然后通过收集箱15内的抽风机，其通过管道14连通箱体1底部，进行粉尘收集。

本实用新型一种用于晶圆加工的工装系统的工作原理如下：通过将晶圆放置在放置槽101内，随后通过控制箱内的控制电路控制一号电机9和二号电机16工作，两组电机分别驱动二号转杆6和一号转杆2工作，二号转杆6通过其同轴的齿轮8，两组齿轮8在箱体1的外壁上旋转，从而使两组二号转杆6相向旋转，进而带动清洁辊7旋转，对晶圆表面进行粉尘去除，同时二号电机16带动一号转杆2旋转，旋转的一号转杆2搭配一号限位件5和二号限位件11，带动晶圆旋转的同时，对晶圆进行限位，旋转的晶圆配合清洁辊7进行粉尘清除，然后通过架子12上的风机13工作，将粉尘向下方吹去，然后通过收集箱15内的抽风机，通过管道14进行粉尘收集。

完成清洁后，电机停止工作，随后两组二号电动推缸10收回，一号电动推缸4伸出，将晶圆顶出。

综上所述，本实用新型提供的一种用于晶圆加工的工装系统，具有结构简单，稳定可靠，既方便有效，又提高清洁效率、节约人力物力等优点，具有很大的市场价值，值得广泛推广应用。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种用于晶圆加工的工装系统，包括箱体(1)，所述箱体(1)上设有控制箱，所述控制箱内设有控制电路，其特征在于：所述箱体(1)的顶面设有放置槽(101)，所述放置槽(101)内设有限位机构，所述限位机构旁设有收集机构和清洁机构。

2.根据权利要求1所述的一种用于晶圆加工的工装系统，其特征在于：所述限位机构包括设在放置槽(101)的内底面上的一号电动推缸(4)，以及左右对称设置在放置槽(101)内壁上的二号电动推缸(10)，所述一号电动推缸(4)的伸缩端设有一号限位件(5)，所述二号电动推缸(10)的伸缩端设有二号限位件(11)。

3.根据权利要求2所述的一种用于晶圆加工的工装系统，其特征在于：所述一号限位件(5)和二号限位件(11)均为U型件。

4.根据权利要求1所述的一种用于晶圆加工的工装系统，其特征在于：所述清洁机构包括转动连接在放置槽(101)内壁上的一号转杆(2)，以及设置在一号转杆(2)上的限位辊(3)，所述一号转杆(2)上方设有与放置槽(101)侧壁转动连接的二号转杆(6)，所述二号转杆(6)上套装有清洁辊(7)。

5.根据权利要求4所述的一种用于晶圆加工的工装系统，其特征在于：所述一号转杆(2)设有两组，左右对称设置，每个一号转杆(2)上均设有两个前后对称设置的限位辊(3)。

6.根据权利要求4所述的一种用于晶圆加工的工装系统，其特征在于：所述一号转杆(2)由二号电机(16)驱动。

7.根据权利要求4所述的一种用于晶圆加工的工装系统，其特征在于：所述二号转杆(6)平行设有两组，且两组二号转杆(6)的一端均贯穿至箱体(1)外部，贯穿至箱体(1)外部的两组二号转杆(6)上设有相互啮合的齿轮(8)，其中一个齿轮(8)能够在一号电机(9)驱动下带动另一个齿轮(8)转动。

8.根据权利要求1所述的一种用于晶圆加工的工装系统，其特征在于：所述收集机构包括通过架子(12)设置在放置槽(101)顶部的风机(13)，以及设置在箱体(1)一侧底部通过管道(14)与放置槽(101)内部连通的收集箱(15)，所述收集箱(15)上设有抽风机。

9.根据权利要求8所述的一种用于晶圆加工的工装系统，其特征在于：所述架子(12)为U型结构，且设有两组，左右对称设置。