CN214407428U - 平面度检测设备及系统 - Google Patents

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张丽蕾
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闫俊伟
谷平宽
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Abstract

本实用新型涉及一种平面度检测设备及系统。所述平面度检测设备，包括底座、检测平台与测距传感器，检测平台装配在底座上，检测平台包括支撑结构，支撑结构位于检测平台远离底座的一侧，用于支撑待检测板件；支撑结构与待检测板件的结构相匹配。测距传感器位于检测平台远离底座的一侧，在待检测板件放置于检测平台上后，测距传感器用于检测待检测板件上的N个待检测位置分别与测距传感器之间的距离，得到N个距离信息，N个距离信息用于确定待检测板件的平面度，N为大于2的整数。根据本实用新型的实施例，可以检测玻璃基板的平面度，以改善制备工艺减小玻璃基板的平面度，避免玻璃基板在进入后续工艺设备时容易发生破碎导致工艺设备宕机的问题。

Description

平面度检测设备及系统
技术领域
本实用新型涉及平面度检测技术领域，尤其涉及一种平面度检测设备及系统。
背景技术
相关技术中，随着玻璃基板在工艺路线中的流转，经历成膜、刻蚀、加热、冷却等各种加工工艺，玻璃基板中各膜层之间形成不同程度的应力，部分玻璃基板中膜层之间的应力过大导致玻璃基板发生变形，在进入后续工艺设备时，容易发生玻璃基板破碎导致工艺设备宕机的问题。
因此，如何检测玻璃基板的平面度，以改善制备工艺减小玻璃基板的平面度，避免玻璃基板在进入后续工艺设备时容易发生破碎导致工艺设备宕机的问题。
实用新型内容
本实用新型提供一种平面度检测设备及系统，以解决相关技术中的不足。
根据本实用新型实施例的第一方面，提供一种平面度检测设备，包括：
底座；
检测平台，可拆卸地装配在所述底座上，所述检测平台包括支撑结构，所述支撑结构位于所述检测平台远离所述底座的一侧，用于支撑待检测板件；所述支撑结构与所述待检测板件的结构相匹配；
测距传感器，位于所述检测平台远离所述底座的一侧，在所述待检测板件放置于所述检测平台上后，所述测距传感器用于检测所述待检测板件上的N个待检测位置分别与所述测距传感器之间的距离，得到N个距离信息，所述N个距离信息用于确定所述待检测板件的平面度，N为大于2的整数。
在一个实施例中，所述的平面度检测设备，包括转轴、M个所述底座以及M个所述检测平台，M个所述底座围绕所述转轴设置，且M个所述底座分别与所述转轴固定连接，M个所述检测平台一一对应地装配在M个所述底座上，M个所述检测平台的支撑结构不相同；M为大于1的整数；
所述待检测板件放置于M个所述检测平台中面向所述测距传感器的所述检测平台上。
在一个实施例中，所述平面度检测设备，还包括驱动机构，所述驱动机构位于所述检测平台远离所述底座的一侧，所述测距传感器位于所述驱动机构上，所述驱动机构用于驱动所述测距传感器分别移动至N个所述待检测位置。
在一个实施例中，所述驱动机构包括第一直线驱动机构、第二直线驱动机构与第三直线驱动机构，所述第一直线驱动机构沿第一方向延伸，所述第二直线驱动机构沿第二方向延伸，所述第三直线驱动机构沿第三方向延伸，所述第一方向与所述第二方向相交，所述第三方向垂直于所述第一方向与所述第二方向；
所述第一直线驱动机构位于所述第二直线驱动机构上，所述第二直线驱动机构用于驱动所述第一直线驱动机构沿所述第二直线驱动机构移动；
所述第三直线驱动机构位于所述第一直线驱动机构上，所述第一直线驱动机构用于驱动所述第三直线驱动机构沿第一直线驱动机构移动；
所述测距传感器位于所述第三直线驱动机构上，所述第三直线驱动机构用于驱动所述测距传感器沿所述第三直线驱动机构移动。
在一个实施例中，所述检测平台可拆卸地装配在所述底座上，所述平面度检测设备还包括平台仓与平台传输机构；
所述平台仓包括第一仓位与第二仓位，所述第一仓位用于存储备用的检测平台，所述第二仓位为空仓位；备用的检测平台的支撑结构与所述底座上装配的检测平台的支撑结构不同；
所述平台传输机构用于将所述底座上装配的检测平台输送至所述第二仓位，并将所述第一仓位存储的备用的检测平台输送至底座上。
在一个实施例中，所述平台传输机构包括多个第一滚轮、多个第二滚轮、多个第三滚轮、多个第四滚轮、第一传动带、第二传动带、第三传动带、第四传动带、第五传动带、第六传动带、第一电机与第二电机；
所述底座位于所述第一传动带与所述第二传动带之间，所述平台仓位于所述第三传动带与所述第四传动带之间；
所述第一电机用于驱动所述第一传动带转动，所述第二电机用于驱动所述第二传动带转动；
所述第一传动带用于带动多个第一滚轮滚动，所述第二传动带用于带动多个第二滚轮滚动；
所述第五传动带套设在一个所述第一滚轮与一个所述第三滚轮上，多个第一滚轮滚动时，通过所述第五传动带带动多个第三滚轮滚动；
所述第六传动带套设在一个所述第二滚轮与一个所述第四滚轮上，多个第二滚轮滚动时，通过所述第六传动带带动多个第四滚轮滚动；
当所述平台传输机构将所述底座上装配的检测平台输送至所述第二仓位时，多个所述第一滚轮位于所述底座上装配的检测平台下方，且与所述底座上装配的检测平台接触，多个所述第二滚轮位于所述底座上装配的检测平台下方，且与所述底座上装配的检测平台接触，多个所述第三滚轮与多个所述第四滚轮位于所述第二仓位下方，所述第一电机驱动所述第一传动带转动，所述第二电机驱动所述第二传动带转动，以驱动多个第一滚轮、多个第二滚轮、多个第三滚轮、多个第四滚轮转动并将所述底座上装配的检测平台输送至所述第二仓位；
当所述平台传输机构将所述第一仓位存储的备用的检测平台输送至所述底座上时，多个所述第三滚轮位于所述第一仓位存储的备用的检测平台下方，且与所述第一仓位存储的备用的检测平台接触，多个所述第四滚轮位于所述第一仓位存储的备用的检测平台下方，且与所述第一仓位存储的备用的检测平台接触，多个所述第一滚轮与多个所述第三滚轮对准，多个所述第二滚轮与多个所述第四滚轮对准，所述第一电机驱动所述第一传动带转动，所述第二电机驱动所述第二传动带转动，以驱动多个第一滚轮、多个第二滚轮、多个第三滚轮、多个第四滚轮转动并将所述第一仓位存储的备用的检测平台输送至所述底座上。
在一个实施例中，所述的平面度检测设备还包括第一升降装置，所述第一升降装置位于所述底座下方；
在所述平台传输机构将所述底座上装配的检测平台输送至所述第二仓位之前，所述第一升降装置用于驱动所述底座在第三方向上移动，以使多个所述第一滚轮位于所述底座上装配的检测平台下方，且与所述底座上装配的检测平台接触，多个所述第二滚轮位于所述底座上装配的检测平台下方，且与所述底座上装配的检测平台接触；
在所述平台传输机构将所述第一仓位存储的备用的检测平台输送至所述底座上之前，所述第一升降装置用于驱动所述底座在第三方向上移动，直至所述平台传输机构能够将所述第一仓位存储的备用的检测平台输送至所述底座上；
在所述平台传输机构不工作时，所述第一升降装置用于驱动所述底座在第三方向上移动，以使多个所述第一滚轮位于所述底座上装配的检测平台下方，且与所述底座上装配的检测平台不接触，多个所述第二滚轮位于所述底座上装配的检测平台下方，且与所述底座上装配的检测平台不接触。
在一个实施例中，所述的平面度检测设备还包括控制装置、定位装置与第二升降装置；所述控制装置分别与所述定位装置、所述第二升降装置连接；
所述第二升降装置用于驱动所述平台仓在第三方向上移动；
所述控制装置用于在所述平台传输机构将所述底座上装配的检测平台输送至所述第二仓位之前，控制所述第二升降装置驱动所述平台仓在第三方向上移动，直至所述定位装置检测到所述底座上装配的检测平台与所述第二仓位对准；
所述控制装置还用于在所述平台传输机构将所述第一仓位存储的备用的检测平台输送至底座上之前，控制所述第二升降装置驱动所述平台仓在第三方向上移动，直至所述定位装置检测到所述第一仓位存储的备用的检测平台的位置与所述底座的位置匹配。
根据本实用新型实施例的第二方面，提供一种平面度检测系统，包括：物料仓、导片机构以及上述的平面度检测设备；
所述物料仓与所述平面度检测设备围绕所述导片机构设置；
所述物料仓用于存储所述待检测板件，所述导片机构用于将所述待检测板件从所述物料仓取出并放置在所述平面度检测设备的检测平台上。
在一个实施例中，所述平面度检测系统还包括调整机构，所述导片机构位于所述调整机构与所述平面度检测设备之间；
所述导片机构还用于将所述待检测板件从所述物料仓取出并放置在所述调整机构上；
所述调整机构用于对所述待检测板件进行旋转，使所述待检测板件的结构与所述检测平台的支撑结构在同一方向上相同；
所述导片机构还用于从所述调整机构拾取旋转后的所述待检测板件，并放置在所述检测平台上。
在一个实施例中，所述物料仓还用于对所述待检测板件执行规正操作，以使所述待检测板件的处于第一指定位置；
所述调整机构还用于对所述待检测板件执行规正操作，以使所述待检测板件的处于第二指定位置。
根据上述实施例可知，由于检测平台包括支撑结构，而且，支撑结构与待检测板件的结构相匹配，因此，检测平台可以模拟待检测板件在工艺设备上的支撑结构，并模拟待检测板件在工艺设备上的受力情况，又由于在检测平台远离底座的一侧设置有测距传感器，因此，当待检测板件放置于检测平台上后，通过测距传感器可以检测待检测板件上的N个待检测位置分别与测距传感器之间的距离，得到N个距离信息，N个距离信息可以用于确定待检测板件的平面度，其中，N为大于2的整数。综上，本实用新型实施例提供的技术方案，可以模拟待检测板件在工艺设备上的受力情况，并检测待检测板件的平面度。进而，本实用新型实施例提供的技术方案，可以检测玻璃基板的平面度，以改善制备工艺减小玻璃基板的平面度，避免玻璃基板在进入后续工艺设备时容易发生破碎导致工艺设备宕机的问题。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本实用新型。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本实用新型的实施例，并与说明书一起用于解释本实用新型的原理。
图1是根据本实用新型实施例示出的一种平面度检测设备的结构示意图；
图2是根据本实用新型实施例示出的一种检测平台的结构示意图；
图3是根据本实用新型实施例示出的另一种检测平台的结构示意图；
图4是根据本实用新型实施例示出的另一种检测平台的结构示意图；
图5是根据本实用新型实施例示出的另一种检测平台的结构示意图；
图6是根据本实用新型实施例示出的另一种平面度检测设备的结构示意图；
图7是根据本实用新型实施例示出的另一种平面度检测设备的结构示意图；
图8是根据本实用新型实施例示出的另一种平面度检测设备的结构示意图；
图9是根据本实用新型实施例示出的另一种平面度检测设备的结构示意图；
图10是根据本实用新型实施例示出的另一种平面度检测设备的结构示意图；
图11是根据本实用新型实施例示出的一种平面度检测系统的结构示意图；
图12是根据本实用新型实施例示出的平面度检测系统的工作方法的流程示意图。
具体实施方式
这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本实用新型相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本实用新型的一些方面相一致的装置和方法的例子。
本实用新型实施例提供一种平面度检测设备。该平面度检测设备，如图1所示，包括：底座11、检测平台12以及测距传感器13。
如图1所示，检测平台12装配在底座11上，检测平台12包括支撑结构，支撑结构位于检测平台12远离底座11的一侧，用于支撑待检测板件；支撑结构与待检测板件的结构相匹配。
测距传感器13位于检测平台12远离底座11的一侧，在待检测板件放置于检测平台12上后，测距传感器13用于检测待检测板件上的N个待检测位置分别与测距传感器13之间的距离，得到N个距离信息，N个距离信息用于确定待检测板件的平面度，N为大于2的整数。
在本实施例中，由于检测平台12包括支撑结构，而且，支撑结构与待检测板件的结构相匹配，因此，检测平台12可以模拟待检测板件在工艺设备上的支撑结构，并模拟待检测板件在工艺设备上的受力情况，可以还原待检测板件在工艺设备上的变形量，又由于在检测平台12远离底座11的一侧设置有测距传感器13，因此，当待检测板件放置于检测平台12上后，通过测距传感器13可以检测待检测板件上的N个待检测位置分别与测距传感器13之间的距离，得到N个距离信息，N个距离信息可以用于确定待检测板件的平面度，其中，N为大于2的整数。综上，本实用新型实施例提供的技术方案，可以模拟待检测板件在工艺设备上的受力情况，并检测待检测板件的平面度。进而，本实用新型实施例提供的技术方案，可以检测玻璃基板的平面度，以改善制备工艺减小玻璃基板的平面度，避免玻璃基板在进入后续工艺设备时容易发生破碎导致工艺设备宕机的问题。
以上对本实用新型实施例提供的平面度检测设备进行了简要的介绍，下面对本实用新型实施例提供的平面度检测设备进行详细的介绍。
本实用新型实施例还提供一种平面度检测设备。该平面度检测设备，如图1所示，包括：底座11、检测平台12以及测距传感器13。
在本实施例中，底座11可以设置在机架(未示出)上。底座11的数目为1个。
在本实施例中，如图1所示，检测平台12装配在底座11上。其中，检测平台12可拆卸地装配在底座11上。当然，检测平台12也可以固定地装配在底座11上。当需要将检测平台12装配在底座11上时，可以手动将检测平台12装配在底座11上，也可以通过自动化工具将检测平台12装配在底座11上。
在本实施例中，平面度检测设备还可包括气爪与第一气缸，气爪位于底座11上，用于固定检测平台12。第一气缸用于驱动气爪合拢与松开。当气爪合拢时，将检测平台12固定于底座11上，当气爪松开时，检测平台12可被取走。其中，检测平台12可被人工取走，也可被自动化工具取走。
在本实施例中，如图2所示，检测平台12包括基板121、支撑结构122以及安装定位孔123。支撑结构122位于基板121远离底座11的一侧，即支撑结构122位于检测平台12远离底座11的一侧，用于支撑待检测板件14，检测平台12的支撑结构122与待检测板件14的结构相匹配。安装定位孔123用于与待检测板件14上的定位插销配合实现对待检测板件14的定位，或者说是实现待检测板件14与检测平台12的对位。
在本实施例中，待检测板件14是玻璃基板。其中，玻璃基板可以包括玻璃衬底与位于玻璃衬底上的驱动电路层，但不限于此。玻璃基板是制备液晶显示基板121过程中的玻璃基板。当然，玻璃基板也可以是制备OLED显示基板过程中的玻璃基板。
需要说明的是，在制备液晶显示基板的过程中，可以包括钼刻工艺、蒸镀工艺、溅射工艺等多个工艺步骤。在不同的工艺步骤中，玻璃基板的结构可能不同，工艺设备对玻璃基板的支撑结构可能并不相同，例如，支撑结构的位置与支撑结构的结构不同。例如，支撑结构可包括多个支撑柱，也可包括多个支撑垫，但不限于此。因此，可根据检测需求将对应的检测平台12装配在底座11上。其中，检测平台12的支撑结构122与特定工艺中使用的工艺设备的支撑结构相同。而每一种特定工艺中工艺设备上支撑的待检测板件14的结构可能具备特定的结构，因此，检测平台12的支撑结构122与待检测板件14的结构相匹配。
例如，在钼刻工艺中，工艺设备对玻璃基板的支撑结构122可如图3所示，因此，如果需要检测玻璃基板在钼刻工艺中的工艺设备上的平面度，检测平台12可以采用如图3所示的支撑结构122。如图3所示，支撑结构122包括6个支撑柱，支撑柱的横截面为圆形，支撑柱的直径可不同。
再如，在蒸镀工艺中，工艺设备对玻璃基板的支撑结构122可如图4所示，因此，如果需要检测玻璃基板在蒸镀工艺中的工艺设备上的平面度，检测平台12可以采用如图4所示的支撑结构122。如图4所示，支撑结构122包括8个支撑柱，支撑柱的横截面为矩形，支撑柱的尺寸可相同。
又如，在溅射工艺中，工艺设备对玻璃基板的支撑结构122可如图5所示，因此，如果需要检测玻璃基板在溅射工艺中的工艺设备上的平面度，检测平台12可以采用如图5所示的支撑结构122。如图5所示，支撑结构122包括8个支撑柱，支撑柱的横截面为圆形，支撑柱的直径可相同。
在本实施例中，如图1所示，测距传感器13位于检测平台12远离底座11的一侧。当需要检测待检测板件的平面度时，可将待检测板件放置于检测平台12上。在待检测板件放置于检测平台12上后，测距传感器13检测待检测板件上的N个待检测位置分别与测距传感器13之间的距离，得到N个距离信息。N个距离信息用于确定待检测板件的平面度，N为大于2的整数。例如，N为3、4、5、10、15、16或20，不限于此。
在本实施例中，当测距传感器13检测待检测板件上的待检测位置与测距传感器13之间的距离时，测距传感器13可位于待检测位置的正上方，即测距传感器13在待检测板件上的正投影与待检测位置重合。
在本实施例中，测距传感器13的数目可以为一个，也可为两个、三个或三个以上。当测距传感器13的数目小于N时，可以通过移动测距传感器13的位置，来检测待检测板件上的待检测位置与测距传感器13之间的距离。测距传感器13的位置可通过自动化工具移动，也可以人工移动。当测距传感器13的数目较多时，可以提高检测效率。需要说明的是，本文中的自动化工具是统称，而不是某一特定设备的名称。
在本实施例中，由于检测平台12包括支撑结构122，而且，支撑结构122与玻璃基板的结构相匹配，因此，检测平台12可以模拟玻璃基板在工艺设备上的支撑结构122，并模拟玻璃基板在工艺设备上的受力情况，又由于在检测平台12远离底座11的一侧设置有测距传感器13，因此，当玻璃基板放置于检测平台12上后，通过测距传感器13可以检测玻璃基板上的N个待检测位置分别与测距传感器13之间的距离，得到N个距离信息，N个距离信息可以用于确定玻璃基板的平面度。综上，本实用新型实施例提供的技术方案，可以模拟玻璃基板在工艺设备上的受力情况，并检测玻璃基板的平面度。进而，可以改善制备工艺减小玻璃基板的平面度，避免玻璃基板在进入后续工艺设备时容易发生破碎导致工艺设备宕机的问题。
本实用新型的实施例还提出了一种平面度检测设备。该平面度检测设备，如图6所示，包括：转轴15、底座11、检测平台12、测距传感器13以及驱动机构16。
如图6所示，在本实施例中，平面度检测设备包括4个底座11，4个底座11围绕转轴15设置，且4个底座11分别与转轴15固定连接，且有4个检测平台12一一对应地装配在4个底座11上，4个检测平台12的支撑结构122不相同。例如，4个检测平台12分别对应不同工艺设备对玻璃基板的支撑结构。当然，在其他实施例中，围绕转轴15也可设置两个、三个、五个、六个或者其他数目的检测平台12。
如图7所示，在本实施例中，待检测板件14放置于4个检测平台12中面向测距传感器13的检测平台12上，其他3个检测平台12在不面向测距传感器13时不放置待检测板件14。通过旋转转轴15可将符合检测需求的检测平台12旋转至面向测距传感器13的位置。例如，转轴15每旋转90度可切换一次面向测距传感器13的检测平台12。其中转轴15旋转可通过联轴器或皮带与驱动电机连接，获得转动的动力，但不限于此。
在本实施例中，驱动机构16位于检测平台12远离底座11的一侧，测距传感器13位于驱动机构16上，驱动机构16用于驱动测距传感器13分别移动至N个待检测位置。可以理解的是，当驱动机构16上只有一个测距传感器13时，测距传感器13驱动测距传感器13分别移动至N个待检测位置。当驱动机构16上有两个测距传感器13时，测距传感器13可同时驱动两个测距传感器13分别移动至N/2个待检测位置，以得到N个距离信息，可以提高检测效率。当驱动机构16上有两个以上的测距传感器13时，测距传感器13可通过驱动测距传感器13采集N个待检测位置对应的N个距离信息，即可。
在本实施例中，如图8所示，驱动机构16包括第一直线驱动机构161、第二直线驱动机构162与第三直线驱动机构163。第一直线驱动机构161沿第一方向延伸，第二直线驱动机构162沿第二方向延伸，第三直线驱动机构163沿第三方向延伸，第一方向与第二方向相交，第三方向垂直于第一方向与第二方向。其中，第一方向为Y方向，第二方向为X方向，第三方向为Z方向，第一方向与第二方向相互垂直。
第一直线驱动机构161位于第二直线驱动机构162上，第二直线驱动机构162用于驱动第一直线驱动机构161沿第二直线驱动机构162移动。第三直线驱动机构163位于第一直线驱动机构161上，第一直线驱动机构161用于驱动第三直线驱动机构163沿第一直线驱动机构161移动。测距传感器13位于第三直线驱动机构163上，第三直线驱动机构163用于驱动测距传感器13沿第三直线驱动机构163移动。这样，测距传感器13可以分别在第一方向、第二方向、第三方向上移动。在将待检测板件放置于检测平台12之前，可以驱动测距传感器13在第三方向上移动以远离检测平台12，提供足够空间以方便将待检测板件放置于检测平台12上。
本实用新型的实施例还提出了一种平面度检测设备。在如图6所示的实施例的基础上，在本实施例中，如图9～图10所示，该平面度检测设备，还包括：平台仓61、平台传输机构(未示出)、控制装置(未示出)、定位装置(未示出)、第一升降装置(未示出)与第二升降装置(未示出)。
在本实施例中，如图9所示，平台仓61包括第一仓位C1与第二仓位C2。第一仓位C1用于存储备用的一个或一个以上的检测平台12，第二仓位C2为空仓位。备用的检测平台12的支撑结构122与底座11上装配的检测平台12的支撑结构122不同，备用的检测平台12用以替换底座11上装配的检测平台12。空仓位用于放置从底座11上拆卸下来的检测平台12。平台仓61中每个的检测平台12的位置可记录在平面度检测设备的存储器中，以便查询。
在本实施例中，平台传输机构用于将底座11上装配的检测平台12输送至第二仓位C2，并将第一仓位C1存储的备用的检测平台12输送至底座11上。
在本实施例中，如图9所示，平台传输机构包括多个第一滚轮62、多个第二滚轮63、多个第三滚轮64、多个第四滚轮65、第一传动带66、第二传动带67、第三传动带68、第四传动带69、第五传动带610、第六传动带611、第一电机612与第二电机613。
在本实施例中，第一传动带66、第二传动带67、第三传动带68、第四传动带69、第五传动带610、第六传动带611可为皮带。
如图9所示，底座11位于第一传动带66与第二传动带67之间，平台仓61位于第三传动带68与第四传动带69之间。
在本实施例中，第一电机612用于驱动第一传动带66转动，第二电机613用于驱动第二传动带67转动。第一电机612与第二电机613工作同步，例如，第一电机612与第二电机613同时启动、同时制动，第一电机612的旋转方向与第二电机613的旋转方向相同。其中，第一传动带66用于带动多个第一滚轮62滚动，第二传动带67用于带动多个第二滚轮63滚动。
如图9所示，第五传动带610套设在一个第一滚轮62与一个第三滚轮64上，多个第一滚轮62滚动时，通过第五传动带610带动多个第三滚轮64滚动。被第五传动带610套设的第一滚轮62与第三滚轮64之间的距离最小，被第五传动带610套设的第三滚轮64与第一滚轮62之间的距离最小。
如图9所示，第六传动带611套设在一个第二滚轮63与一个第四滚轮65上，多个第二滚轮63滚动时，通过第六传动带611带动多个第四滚轮65滚动。被第六传动带611套设的第二滚轮63与第四滚轮65之间的距离最小，被第六传动带611套设的第四滚轮65与第二滚轮63之间的距离最小。
当平台传输机构将底座11上装配的检测平台12输送至第二仓位C2时，平台传输机构执行合动作，多个第一滚轮62位于底座11上装配的检测平台12下方，且与底座11上装配的检测平台12接触，多个第二滚轮63位于底座11上装配的检测平台12下方，且与底座11上装配的检测平台12接触，多个第三滚轮64与多个第四滚轮65位于第二仓位C2下方。第一电机612驱动第一传动带66转动，第二电机613驱动第二传动带67转动，以驱动多个第一滚轮62、多个第二滚轮63、多个第三滚轮64、多个第四滚轮65转动并将底座11上装配的检测平台12输送至第二仓位C2。
当平台传输机构将第一仓位C1存储的备用的检测平台12输送至底座11上时，平台传输机构执行合动作，多个第三滚轮64位于第一仓位C1存储的备用的检测平台12下方，且与第一仓位C1存储的备用的检测平台12接触，多个第四滚轮65位于第一仓位C1存储的备用的检测平台12下方，且与第一仓位C1存储的备用的检测平台12接触，多个第一滚轮62与多个第三滚轮64对准，多个第二滚轮63与多个第四滚轮65对准，第一滚轮62的位置、第二滚轮63的位置与底座11的位置相匹配，以使备用的检测平台12能够通过第一滚轮62与第二滚轮63输送至底座11上。第一电机612驱动第一传动带66转动，第二电机613驱动第二传动带67转动，以驱动多个第一滚轮62、多个第二滚轮63、多个第三滚轮64、多个第四滚轮65转动并将第一仓位C1存储的备用的检测平台12输送至底座11上。
在本实施例中，当平台传输机构将底座11上装配的检测平台12输送至第二仓位C2时以及当平台传输机构将第一仓位C1存储的备用的检测平台12输送至底座11上时，平台传输机构执行合动作。在平台传输机构不工作时，平台传输机构执行开动作，平台传输机构远离检测平台12与平台仓61。也就是，开动作与合动作是沿X方向的动作。其中，上述的合动作与开动作可通过气动方式实现，例如，平面度检测设备包括第三气缸，第三气缸提供动力用于实现上述的合动作与开动作。
在本实施例中，第一升降装置位于底座11下方。第一升降装置可包括第四气缸。第四气缸用于为第一升降装置提供动力。第一升降装置用于使底座11沿第三方向上下移动。其中，沿第三方向向上移动是指沿Z轴正向移动，沿第三方向向下移动是指沿Z轴负向移动。
在本实施例中，在平台传输机构将底座11上装配的检测平台12输送至第二仓位C2之前，第一升降装置用于驱动底座11在第三方向上向下移动，以使多个第一滚轮62位于底座11上装配的检测平台12下方，且与底座11上装配的检测平台12接触，多个第二滚轮63位于底座11上装配的检测平台12下方，且与底座11上装配的检测平台12接触。
在本实施例中，在平台传输机构将第一仓位C1存储的备用的检测平台12输送至底座11上之前，第一升降装置用于驱动底座11在第三方向上向下移动，直至平台传输机构能够将第一仓位C1存储的备用的检测平台12输送至底座11上。
在平台传输机构不工作时，第一升降装置用于驱动底座11在第三方向上向上移动，以使多个第一滚轮62位于底座11上装配的检测平台12下方，且与底座11上装配的检测平台12不接触，多个第二滚轮63位于底座11上装配的检测平台12下方，且与底座11上装配的检测平台12不接触，方便平台传输机构执行开动作远离检测平台12与平台仓61，避免使底座11上的检测平台12的位置错位。
在本实施例中，第二升降装置用于驱动平台仓61在第三方向上移动。第二升降装置可包括第二气缸。第二气缸用于为第二升降装置提供动力。
在本实施例中，控制装置分别与定位装置、第二升降装置连接。控制装置在平台传输机构将底座11上装配的检测平台12输送至第二仓位C2之前，控制第二升降装置驱动平台仓61在第三方向上移动，直至定位装置检测到底座11上装配的检测平台12与第二仓位C2对准。其中，定位装置包括多个接近传感器与金属件，金属件位于平台仓61上，多个接近传感器位于机架上，多个接近传感器与多个位置一一对应。当底座11上装配的检测平台12需要与一个第二仓位C2对准时，对应的接近传感器有效，其他接近传感器失效，第二升降装置驱动平台仓61在第三方向上移动，当接近传感器检测到金属件时，视为检测到底座11上装配的检测平台12与第二仓位C2对准。当然，定位装置的实现方式不限于本实施例中的接近传感器与金属件。
在本实施例中，控制装置还在平台传输机构将第一仓位C1存储的备用的检测平台12输送至底座11上之前，控制第二升降装置驱动平台仓61在第三方向上移动，直至定位装置检测到第一仓位C1存储的备用的检测平台12的位置与底座11的位置匹配，即第一仓位C1存储的备用的检测平台12能够通过平台传输机构输送至底座11上。
本实用新型的实施例还提出了一种平面度检测系统。如图11所示，该平面度检测系统，包括：物料仓111、导片机构112以及上述任一实施例的平面度检测设备。
如图11所示，物料仓111与平面度检测设备围绕导片机构112设置。导片机构112例如可以是机械手。
在本实施例中，物料仓111用于存储待检测板件，例如，用于存储玻璃基板。
在本实施例中，导片机构112用于将待检测板件从物料仓111取出并放置在平面度检测设备的检测平台12上，还用于在检测结束后将待检测板件从检测平台12上取走并放置在物料仓111。导片机构112不工作时返回空闲工位，等待执行下一个指令。
在本实施例中，物料仓111还用于对待检测板件执行规正操作，以使待检测板件的处于第一指定位置。这样，当导片机构112从物料仓111取待检测板件时，导片机构112与待检测板件的相对位置是已知的，便于控制待检测板件在检测平台12的位置。
在本实施例中，平面度检测系统还包括数据处理单元，用于处理得到的N个距离信息，以确定待检测板件的平面度。
本实用新型的实施例还提出了一种平面度检测系统。如图11所示，该平面度检测系统，包括：物料仓111、导片机构112、调整机构113以及上述任一实施例的平面度检测设备。
在本实施例中，物料仓111、调整机构113与平面度检测设备围绕导片机构112设置。
在本实施例中，导片机构112用于将待检测板件从物料仓111取出并放置在调整机构113上。调整机构113用于对待检测板件进行旋转，使待检测板件的结构与检测平台12的支撑结构122在同一方向上相同。这样，导片机构112从调整机构113拾取旋转后的待检测板件后，不需要做旋转操作，只需要执行平移操作即可将待检测板件放置在检测平台12上，方便控制待检测板件在检测平台12的位置。
在本实施例中，调整机构113还用于对待检测板件执行规正操作，以使待检测板件的处于第二指定位置，这样，当导片机构112从调整机构113取待检测板件时，导片机构112与待检测板件的相对位置是已知的，便于控制待检测板件在检测平台12的位置。
在本实施例中，导片机构112用于从调整机构113拾取旋转后的待检测板件，并放置在检测平台12上。
在本实施例中，平面度检测系统的工作流程可如图12所示，包括以下步骤1201～1210：
在步骤1201中，检测物料仓111中是否存在待检测板件。若是，则执行步骤1202，若否，则执行步骤1209。
在步骤1202中，检测待检测板件的数目以及位置是否存在异常。若否，则执行步骤1203，若是，则执行步骤1209。
在步骤1203中，检测导片机构112的状态是否存在异常。若否，则执行步骤1204，若是，则执行步骤1209。
在步骤1204中，从检测物料仓111拾取待检测板件，并放置在调整机构113上。
在步骤1205中，调整机构113对待检测板件进行规正与旋转。
在步骤1206中，从调整机构113拾取待检测板件，并放置在检测平台12上进行检测。在本步骤中，检测的目的是得到N个距离信息，以确定待检测板件的平面度。
在步骤1207中，判断检测是否结束。若是，则执行步骤1208，若否，则执行步骤1210。
在步骤1208中，将待检测板件从检测平台12上取走并放置在物料仓111。
在步骤1209中，报警，并中断工艺。
在步骤1210中，等待检测。
其中，平面度检测系统的工作已在上文中介绍，在此不做赘述。
本实施例中，可以模拟待检测板件在工艺设备上的受力情况，并检测待检测板件的平面度。进而，本实用新型实施例提供的技术方案，可以检测玻璃基板的平面度，以改善制备工艺减小玻璃基板的平面度，避免玻璃基板在进入后续工艺设备时容易发生破碎导致工艺设备宕机的问题。
其中，上述实施例所采用的工艺例如可包括：沉积、溅射等成膜工艺和刻蚀等构图工艺。
需要指出的是，在附图中，为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，它可以直接在其他元件上，或者可以存在中间的层。另外，可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“下”时，它可以直接在其他元件下，或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外，还可以理解，当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时，它可以为两层或两个元件之间唯一的层，或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。
在本实用新型中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“多个”指两个或两个以上，除非另有明确的限定。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的公开后，将容易想到本实用新型的其它实施方案。本实用新型旨在涵盖本实用新型的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本实用新型的一般性原理并包括本实用新型未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本实用新型的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
应当理解的是，本实用新型并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本实用新型的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (11)

1.一种平面度检测设备，其特征在于，包括：
底座；
检测平台，装配在所述底座上，所述检测平台包括支撑结构，所述支撑结构位于所述检测平台远离所述底座的一侧，用于支撑待检测板件；所述支撑结构与所述待检测板件的结构相匹配；
测距传感器，位于所述检测平台远离所述底座的一侧，在所述待检测板件放置于所述检测平台上后，所述测距传感器用于检测所述待检测板件上的N个待检测位置分别与所述测距传感器之间的距离，得到N个距离信息，所述N个距离信息用于确定所述待检测板件的平面度，N为大于2的整数。
2.根据权利要求1所述的平面度检测设备，其特征在于，包括转轴、M个所述底座以及M个所述检测平台，M个所述底座围绕所述转轴设置，且M个所述底座分别与所述转轴固定连接，M个所述检测平台一一对应地装配在M个所述底座上，M个所述检测平台的支撑结构不相同；M为大于1的整数；
所述待检测板件放置于M个所述检测平台中面向所述测距传感器的所述检测平台上。
3.根据权利要求1所述的平面度检测设备，其特征在于，还包括驱动机构，所述驱动机构位于所述检测平台远离所述底座的一侧，所述测距传感器位于所述驱动机构上，所述驱动机构用于驱动所述测距传感器分别移动至N个所述待检测位置。
4.根据权利要求3所述的平面度检测设备，其特征在于，所述驱动机构包括第一直线驱动机构、第二直线驱动机构与第三直线驱动机构，所述第一直线驱动机构沿第一方向延伸，所述第二直线驱动机构沿第二方向延伸，所述第三直线驱动机构沿第三方向延伸，所述第一方向与所述第二方向相交，所述第三方向垂直于所述第一方向与所述第二方向；
所述第一直线驱动机构位于所述第二直线驱动机构上，所述第二直线驱动机构用于驱动所述第一直线驱动机构沿所述第二直线驱动机构移动；
所述第三直线驱动机构位于所述第一直线驱动机构上，所述第一直线驱动机构用于驱动所述第三直线驱动机构沿第一直线驱动机构移动；
所述测距传感器位于所述第三直线驱动机构上，所述第三直线驱动机构用于驱动所述测距传感器沿所述第三直线驱动机构移动。
5.根据权利要求1所述的平面度检测设备，其特征在于，所述检测平台可拆卸地装配在所述底座上，所述平面度检测设备还包括平台仓与平台传输机构；
所述平台仓包括第一仓位与第二仓位，所述第一仓位用于存储备用的检测平台，所述第二仓位为空仓位；备用的检测平台的支撑结构与所述底座上装配的检测平台的支撑结构不同；
所述平台传输机构用于将所述底座上装配的检测平台输送至所述第二仓位，并将所述第一仓位存储的备用的检测平台输送至底座上。
6.根据权利要求5所述的平面度检测设备，其特征在于，所述平台传输机构包括多个第一滚轮、多个第二滚轮、多个第三滚轮、多个第四滚轮、第一传动带、第二传动带、第三传动带、第四传动带、第五传动带、第六传动带、第一电机与第二电机；
所述底座位于所述第一传动带与所述第二传动带之间，所述平台仓位于所述第三传动带与所述第四传动带之间；
所述第一电机用于驱动所述第一传动带转动，所述第二电机用于驱动所述第二传动带转动；
所述第一传动带用于带动多个第一滚轮滚动，所述第二传动带用于带动多个第二滚轮滚动；
所述第五传动带套设在一个所述第一滚轮与一个所述第三滚轮上，多个第一滚轮滚动时，通过所述第五传动带带动多个第三滚轮滚动；
所述第六传动带套设在一个所述第二滚轮与一个所述第四滚轮上，多个第二滚轮滚动时，通过所述第六传动带带动多个第四滚轮滚动；
当所述平台传输机构将所述底座上装配的检测平台输送至所述第二仓位时，多个所述第一滚轮位于所述底座上装配的检测平台下方，且与所述底座上装配的检测平台接触，多个所述第二滚轮位于所述底座上装配的检测平台下方，且与所述底座上装配的检测平台接触，多个所述第三滚轮与多个所述第四滚轮位于所述第二仓位下方，所述第一电机驱动所述第一传动带转动，所述第二电机驱动所述第二传动带转动，以驱动多个第一滚轮、多个第二滚轮、多个第三滚轮、多个第四滚轮转动并将所述底座上装配的检测平台输送至所述第二仓位；
当所述平台传输机构将所述第一仓位存储的备用的检测平台输送至所述底座上时，多个所述第三滚轮位于所述第一仓位存储的备用的检测平台下方，且与所述第一仓位存储的备用的检测平台接触，多个所述第四滚轮位于所述第一仓位存储的备用的检测平台下方，且与所述第一仓位存储的备用的检测平台接触，多个所述第一滚轮与多个所述第三滚轮对准，多个所述第二滚轮与多个所述第四滚轮对准，所述第一电机驱动所述第一传动带转动，所述第二电机驱动所述第二传动带转动，以驱动多个第一滚轮、多个第二滚轮、多个第三滚轮、多个第四滚轮转动并将所述第一仓位存储的备用的检测平台输送至所述底座上。
7.根据权利要求6所述的平面度检测设备，其特征在于，还包括第一升降装置，所述第一升降装置位于所述底座下方；
在所述平台传输机构将所述底座上装配的检测平台输送至所述第二仓位之前，所述第一升降装置用于驱动所述底座在第三方向上移动，以使多个所述第一滚轮位于所述底座上装配的检测平台下方，且与所述底座上装配的检测平台接触，多个所述第二滚轮位于所述底座上装配的检测平台下方，且与所述底座上装配的检测平台接触；
在所述平台传输机构将所述第一仓位存储的备用的检测平台输送至所述底座上之前，所述第一升降装置用于驱动所述底座在第三方向上移动，直至所述平台传输机构能够将所述第一仓位存储的备用的检测平台输送至所述底座上；
在所述平台传输机构不工作时，所述第一升降装置用于驱动所述底座在第三方向上移动，以使多个所述第一滚轮位于所述底座上装配的检测平台下方，且与所述底座上装配的检测平台不接触，多个所述第二滚轮位于所述底座上装配的检测平台下方，且与所述底座上装配的检测平台不接触。
8.根据权利要求5所述的平面度检测设备，其特征在于，还包括控制装置、定位装置与第二升降装置；所述控制装置分别与所述定位装置、所述第二升降装置连接；
所述第二升降装置用于驱动所述平台仓在第三方向上移动；
所述控制装置用于在所述平台传输机构将所述底座上装配的检测平台输送至所述第二仓位之前，控制所述第二升降装置驱动所述平台仓在第三方向上移动，直至所述定位装置检测到所述底座上装配的检测平台与所述第二仓位对准；
所述控制装置还用于在所述平台传输机构将所述第一仓位存储的备用的检测平台输送至底座上之前，控制所述第二升降装置驱动所述平台仓在第三方向上移动，直至所述定位装置检测到所述第一仓位存储的备用的检测平台的位置与所述底座的位置匹配。
9.一种平面度检测系统，其特征在于，包括：物料仓、导片机构以及权利要求1至8中任一项所述的平面度检测设备；
所述物料仓与所述平面度检测设备围绕所述导片机构设置；
所述物料仓用于存储所述待检测板件，所述导片机构用于将所述待检测板件从所述物料仓取出并放置在所述平面度检测设备的检测平台上。
10.根据权利要求9所述的平面度检测系统，其特征在于，还包括调整机构，所述导片机构位于所述调整机构与所述平面度检测设备之间；
所述导片机构还用于将所述待检测板件从所述物料仓取出并放置在所述调整机构上；
所述调整机构用于对所述待检测板件进行旋转，使所述待检测板件的结构与所述检测平台的支撑结构在同一方向上相同；
所述导片机构还用于从所述调整机构拾取旋转后的所述待检测板件，并放置在所述检测平台上。
11.根据权利要求10所述的平面度检测系统，其特征在于，所述物料仓还用于对所述待检测板件执行规正操作，以使所述待检测板件的处于第一指定位置；
所述调整机构还用于对所述待检测板件执行规正操作，以使所述待检测板件的处于第二指定位置。
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