CN213701066U - 托料治具循环机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种托料治具循环机构，该托料治具循环机构包括托料治具、送料模组、回料模组和升降装置。托料治具用于放置待清洗的物料，送料模组包括并行且间隔排布的两条送料导轨、以及滑动安装于两条送料导轨上的送料件。两条送料导轨的间隔大于托料治具在两条送料导轨的排布方向上的宽度，送料件呈具有开口的半包围结构并能够定位以及带动托料治具移动。回料模组设于送料模组的两条送料导轨之间且位于送料件的下方，并能够带动托料治具移动。升降装置设于回料模组的下方，升降装置能够带动托料治具在送料模组和回料模组之间循环切换。本实用新型托料治具循环机构可有效提高等离子清洗机的清洗效率。

Description

托料治具循环机构

技术领域

本实用新型涉及等离子清洗机技术领域，特别涉及一种托料治具循环机构。

背景技术

在IC行业中，基板和引线框架在生产时通常会遗留有溢胶、氧化物等污染物，进而影响焊线效果。目前主要是通过等离子清洗机对基板和引线框架进行清洗，但是一些等离子清洗机的清洗效率较低，进而影响生产成本。

上述内容仅用于辅助理解实用新型的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种托料治具循环机构，旨在解决一些等离子清洗机的清洗效率较低，进而影响生产成本的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型提出的托料治具循环机构，包括托料治具、送料模组、回料模组和升降装置。所述托料治具用于放置待清洗的物料，所述送料模组包括并行且间隔排布的两条送料导轨、以及滑动安装于所述两条送料导轨上的送料件。所述两条送料导轨的间隔大于所述托料治具在所述两条送料导轨的排布方向上的宽度，所述送料件呈具有开口的半包围结构并能够定位以及带动所述托料治具移动。所述回料模组设于所述送料模组的所述两条送料导轨之间且位于所述送料件的下方，并能够带动所述托料治具移动。升降装置设于所述回料模组的下方，所述升降装置能够带动所述托料治具在所述送料模组和所述回料模组之间循环切换。

在一实施例中，所述送料件具有与所述两条送料导轨一一对应滑动连接的两个滑动部，每个所述滑动部连接有朝向另一滑动部凸出的定位块，所述定位块用以支撑及定位所述托料治具。

在一实施例中，所述托料治具设有与所述定位块适配的第一定位槽，所述定位块可卡接于所述第一定位槽内；和/或，每个所述滑动部上的所述定位块具有面向另一滑动部的限位面，多个所述限位面共同限位所述托料治具在所述两条送料导轨的排布方向上的位移。

在一实施例中，所述定位块与所述送料件转动连接，且其转动轴线平行于所述送料导轨的延伸方向，以使所述定位块能够向上翻转。

在一实施例中，每个所述滑动部上的所述定位块还具有朝向所述回料模组上的导向面，所述导向面在远离所述回料模组的方向上，逐渐朝另一滑动部所在的一侧倾斜。

在一实施例中，所述回料模组包括并行且间隔排布的两条回料导轨，至少一条所述回料导轨上滑动安装有回料件，所述回料件能够定位以及带动所述托料治具移动。

在一实施例中，托料治具还设有与所述回料件适配的第二定位槽，所述回料件可卡接于所述第二定位槽内。

在一实施例中，所述托料治具的底面和/或侧面凸设有滚珠结构，所述滚珠结构可与所回料模组的所述回料导轨滚动接触。

在一实施例中，所述送料模组和所述回料模组均具有换料端和清洗端，所述升降装置设有两个，且其中一个与所述换料端对应，另一个与所述清洗端对应。

在一实施例中，所述升降装置具有用于与所述托料治具抵接的抵接部，所述抵接部和所述托料治具中的一者设有定位凸起，另一者设有与所述定位凸起适配的定位孔。

本实用新型托料治具循环机构在应用至等离子清洗机时，可使送料模组(或回料模组)的两端分别对应在等离子清洗机的换料工位和清洗工位上，以及使送料模组(或回料模组)的一端位于反应腔体的下方。

在清洗时，可先将待清洗的物料放置在托料治具上，再通过送料模组将托料治具送至清洗工位处，接着通过升降装置将托料治具顶升至反应腔体内进行清洗。在清洗结束后可通过升降装置的下降而将托料治具带至回料模组上，回料模组再将托料治具带动至换料工位进行物料的更换，并且在物料更换结束后，升降装置可将托料治具带回至送料模组上的送料件上，以进行下一批物料的清洗。

可以理解的是，因为送料件呈具有开口的半包围结构，因而当升降装置将送料件上的托料治具顶升并进行清洗时，送料件可以通过其开口避开升降装置的阻碍而运动回换料工位，进而使得清洗机在进行清洗工序的同时，可以通过在送料件上定位另一个托料治具而同步进行换料工序，大大的提高了等离子清洗机的清洗效率，进而有利于降低生产成本。

另外，升降装置还可以将回料模组上的托料治具带回送料模组上，使得等离子清洗机可通过两个托料治具实现换料和清洗的循环，提高清洗效率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型托料治具循环机构所应用的等离子清洗机一实施例的结构示意图；

图2为本实用新型托料治具循环机构的治具循环示意图；

图3为本实用新型托料治具循环机构一实施例的结构示意图；

图4为本实用新型托料治具循环机构的送料件一实施例的结构示意图；

图5为本实用新型托料治具循环机构的托料治具一实施例的结构示意图；

图6为本实用新型托料治具循环机构又一实施例的治具循环示意图。

附图标号说明：

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，全文中出现的“和/或”的含义为，包括三个并列的方案，以“A和/或B”为例，包括A方案，或B方案，或A和B同时满足的方案。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

如图1所示，现有的一些等离子清洗机10主要包括有料盒安装机构40、推料机构30、导料机构50、物料运送机构(比如托料治具循环机构20，下同)以及腔体模组60。在等离子清洗机10对基板、引线框架等物料进行清洗之前，会通过料盒70将多个物料存放好，料盒70呈盒状结构并具有前后贯通的开口，料盒70内具有上下排布的多层物料放置层，其中每一层都能够放置一片待清洗或已经清洗结束的物料。料盒70前后贯通的开口使得物料可以被推出或推回，进而实现物料在料盒70内的上下料。

料盒安装机构40则用于安装及定位料盒70，并且可带动料盒70做升降运动，以使每一层物料放置层内的物料都可以被推出或推回。

推料机构30主要用于将料盒70内的基板或引线框架推到物料运送机构上(比如托料治具21)，进而完成上料工序。以及，推料机构30还用于将托料治具21上清洗好的基板或引线框架推回料盒70内，进而完成下料工序。当然，推料机构30可以设置有多个，比如设置有两个推料机构30，其中一个设于料盒安装机构40的后方并且负责将料盒70内的物料推出，另一个则可以设于料盒安装机构40的前方并且负责将托料治具21上清洗好的物料推回料盒70内。

而导料机构50设于料盒安装机构40和物料运送机构之间，主要用于将物料在料盒70和物料运送机构(如托料治具21)之间进行传送，既能够避免推料机构30推料不完全而影响上下料的情况，还能够减少粉尘污染的产生。具体的，在推料机构30将料盒70内的物料推出之后，导料机构50将物料传送至物料运送机构上；在推料机构30将物料运送机构上的物料推出之后，导料机构50将物料反向运送回料盒70内，保证上下料的顺利进行。

物料运送机构主要用于将料盒安装机构40处的物料运送至腔体模组60处进行清洗，以及将腔体模组60处清洗完成的物料运回料盒安装机构40处进行存放。物料运送机构在运送物料时，可以通过托料治具21先将物料放置并定位好，再通过驱动件、运送轨道等将托料治具21运送至腔体模组60处或料盒安装机构40处。

腔体模组60包括用于清洗物料的反应腔体，物料被运送至腔体模组60后，可将物料置入反应腔体内，反应腔体内的电场会通过电离气体(如氩气)而产生等离子体，进而借助等离子体具有活性组分的性能而对物料进行清洗。

然而在现有的一些些等离子清洗机10的清洗效率较低，进而影响生产成本，因此本实用新型提出一种托料治具循环机构20，以通过提高物料的运送效率来提高等离子清洗机10的清洗效率，进而解决上述的技术问题。

在本实用新型实施例中，如图2至图6所示，该托料治具循环机构20包括托料治具21、送料模组22、回料模组23和升降装置24。所述托料治具21用于放置待清洗的物料，托料治具21可以通过夹持、紧压、吸附等等方式对所放置的物料进行定位，具体的可以根据实际需要自行设定。在本实施例中，推料治具上可以设置多个用于夹持物料的夹料槽，夹料槽可以同料盒70一样具有前后贯通的开口，以便于物料的推进和退出。夹料槽的宽度可调，进而方便物料的推进和推出，并且还能够更好的夹紧物料、以及适应不同宽度的物料。

所述送料模组22包括并行且间隔排布的两条送料导轨221、以及滑动安装于所述两条送料导轨221上的送料件222。本实用新型托料治具循环机构20在应用至等离子清洗机10时，可使送料模组22(或回料模组23)的两端分别对应在等离子清洗机10的料盒安装机构40和腔体模组60处，也即对应在换料工位和清洗工位上，以及使送料模组22(或回料模组23)的一端位于腔体模组60的反应腔体的下方。

所述两条送料导轨221的间隔大于所述托料治具21在所述两条送料导轨221的排布方向上的宽度，具体的，以托料治具21呈长方形结构为例，托料治具21被运送时，两条送料导轨221与托料治具21的两条宽边相平行，两条送料导轨221之间的间距大于托料治具21的长边。托料治具21通过定位在送料件222上而能够在两条送料轨道上滑动。

所述送料件222呈具有开口的半包围结构并能够定位以及带动所述托料治具21移动。具体的，送料件222大致呈C型开口结构，送料件222具有两个滑动部2221和连接于两个滑动部2221之间的连接部，连接部能够保持两个滑动部2221的相对位置，避免两个滑动部2221相对偏移而影响托料治具21的定位。

托料治具21定位在送料件222上的方式有多种，可以在送料件222上设置定位凹槽，再直接将托料治具21放置在送料件222上，也可以通过夹持、卡接、托架等方式定位托料治具21，具体的可以根据实际需要进行设定。当然，送料模组22还可以包括电机、气缸等驱动件，以用于驱动送料件222在送料导轨221上滑动，进而带动托料治具21滑动。

可以理解的是，因为送料件222呈具有开口的半包围结构，当升降装置24自送料件222的下方穿过送料件222并将送料件222上物料顶升时，送料件222可以通过其开口避开升降装置24而沿送料导轨221往回运动，并且不受升降装置24的影响。并且送料件222往回运动后便不会再限制托料治具21在竖向方向上的运动，进而升降装置24可以将顶升后的托料治具21带至回料模组23上。

所述回料模组23设于所述送料模组22的所述两条送料导轨221之间且位于所述送料件222的下方，并能够带动所述托料治具21移动。回料模组23可以是传送带、滚筒等传送机构，也可以由回料导轨231与回料件232组成。回料模组23可以只设置一条回料导轨231，也可以设置多条，具体的可以根据实际需要进行设定。

升降装置24设于所述回料模组23的下方，所述升降装置24能够带动所述托料治具21在所述送料模组22和所述回料模组23之间循环切换。具体的，在清洗时，可先将待清洗的物料放置在托料治具21上，再通过送料模组22将托料治具21送至清洗工位处，接着通过升降装置24将托料治具21顶升至反应腔体内进行清洗。在清洗结束后可通过升降装置24的下降而将托料治具21带至回料模组23上，回料模组23再将托料治具21带动至换料工位进行物料的更换，并且在物料更换结束后，升降装置24可将托料治具21带回至送料模组22上的送料件222上，以进行下一批物料的清洗。

其中，升降装置24将托料治具21从回料模组23上带回送料模组22上的送料件222的方式有多种。例如，可以先使送料件222和托料治具21在上下方向上错位，在升降装置24将托料治具21顶升至送料模组22的上方之后再将托料治具21定位在送料件222上。也可以在送料件222上设置可以移动、翻转、折叠的结构，以避免送料件222阻碍托料治具21回到送料模组22上。

在更换物料时，可以直接在回料模组23上更换，也可以在将托料治具21回到送料件222上之后在更换，或者其他的更换方式。例如，在一实施例中，物料主要是在送料模组22的上方进行更换，此时可以先通过升降装置24将托料治具21顶升至托料模组的上方并进行物料的更换。在更换结束后，升降装置24带动托料治具21下降，同时送料件222在下方截住并定位托料治具21，使得托料治具21不跟随升降装置24继续往下运动，以继续对物料进行循环清洗。

可以理解的是，因为送料件222呈具有开口的半包围结构，因而当升降装置24将送料件222上的托料治具21顶升并进行清洗时，送料件222可以通过其开口避开升降装置24的阻碍而运动回换料工位，进而使得清洗机在进行清洗工序的同时，可以通过在送料件222上定位另一个托料治具21而同步进行换料工序，大大的提高了等离子清洗机10的清洗效率，进而有利于降低生产成本。另外，升降装置24还可以将回料模组23上的托料治具21带回送料模组22上，使得等离子清洗机10可通过两个托料治具21实现换料和清洗的循环，提高清洗效率。

在一实施例中，结合图3至图5，所述送料件222具有与所述两条送料导轨221一一对应滑动连接的两个滑动部2221，每个所述滑动部2221连接有朝向另一滑动部2221凸出的定位块2222，所述定位块2222用以支撑及定位所述托料治具21。每个滑动部2221大致呈板状结构，两个滑动部2221之间还连接有连接部，以保证两个滑动部2221之间的相对位置保持稳定。自滑动部2221上凸出的定位块2222可以与滑动部2221固定连接，也可以活动连接，仅需能够支撑托料治具21即可。

而定位块2222定位托料治具21的方式有多种，例如，可以是所述托料治具21设有与所述定位块2222适配的第一定位槽211，所述定位块2222可卡接于所述第一定位槽211内。当然，也可以是定位块2222上设有凹槽，而托料治具21上对应设有凸起，进而可以通过凸起与凹槽的卡接将托料治具21进行定位。

在另外的一些实施例中，如图4所示，每个所述滑动部2221上的所述定位块2222具有面向另一滑动部2221的限位面2223，多个所述限位面2223共同限位所述托料治具21在所述两条送料导轨221的排布方向上的位移。具体的，当托料治具21定位到送料件222上时，每个定位块2222上的限位面2223可以与托料治具21的侧面相抵接，以避免托料治具21在两条送条导轨的排布方向上发生偏移。

在一实施例中，如图4所示，所述定位块2222与所述送料件222转动连接，且其转动轴线平行于所述送料导轨221的延伸方向，以使所述定位块2222能够向上翻转。进而使得托料治具21能够从送料件222的下方直接穿过送料件222而被顶升至送料件222的上方，而不需要送料件222移动避让，简化了托料治具21的切换过程。当然，需要注意的是，应确保托料治具21抵接在定位块2222上时定位块2222不会向下翻转，为达到这个目的，可以通过在定位块2222的转轴、或定位块2222与送料件222之间的接触面等设置限位结构，确保托料治具21定位在定位块2222上时不会往下掉落，同时又能够从送料件222的下方推动定位块2222翻转而运动至送料件222的上方。

在一实施例中，结合图3及图4，为使得托料治具21向上穿过送料件222时可以更加顺畅，每个所述滑动部2221上的所述定位块2222还具有朝向所述回料模组23上的导向面2224，所述导向面2224在远离所述回料模组23的方向上，逐渐朝另一滑动部2221所在的一侧倾斜。托料治具21可以通过抵接导向面2224而很好的推动定位块2222翻转，进而更加快速的运动至送料件222的上方。

在一实施例中，如图6所示，所述回料模组23包括并行且间隔排布的两条回料导轨231，至少一条所述回料导轨231上滑动安装有回料件232，所述回料件232能够定位以及带动所述托料治具21移动。如此使得托料治具21可以直接落到两条回料导轨231上，并在回料件232的带动下沿着回料导轨231运动。而不需要再设置用于托住托料治具21的辅助装置，使得托料治具循环机构20的结构更为简单紧凑、所占用的安装空间更小。

在一实施例中，结合图5及图6，托料治具21还设有与所述回料件232适配的第二定位槽212，所述回料件232可卡接于所述第二定位槽212内。在本实施例中，第二定位槽212为设置于托料治具21边缘的贯通槽，如此不仅便于回料件232的卡接，还便于托料治具21的加工。当然，第二定位槽212也可以为开口朝下的非贯通槽，第二定位槽212的数量也可设置有多个，在此均不作具体的限定，仅需能够与回料件232卡接适配即可。

在一实施例中，如图5所示，所述托料治具21的底面和/或侧面凸设有滚珠结构213，所述滚珠结构213可与所回料模组23的所述回料导轨231滚动接触。如此可减少托料治具21与回料导轨231之间的摩擦，使得托料治具21可以滑动得更加顺畅和快速，提高等离子清洗机10的清洗效率。

在一实施例中，如图2或图3所示，所述送料模组22和所述回料模组23均具有换料端和清洗端，所述升降装置24设有两个，且其中一个与所述换料端对应，另一个与所述清洗端对应。可以理解的是，通过两个升降装置24分别负责托料治具21的顶升换料和顶升清洗，进而不需要控制升降装置24沿送料导轨221(或回料导轨231)的延伸方向来回运动，不仅有利于提高等离子清洗机10的清洗效率，还不需要为升降装置24预留来回运动的空间，使得等离子清洗机10的结构可以更加的紧凑。

在一实施例中，如图6所示，所述升降装置24具有用于与所述托料治具21抵接的抵接部，所述抵接部和所述托料治具21中的一者设有定位凸起241，另一者设有与所述定位凸起241适配的定位孔214。具体的，可以是升降装置24的抵接部上设置有定位凸起241，托料治具21的底面设置有定位孔214。在升降装置24将托料治具21顶升时，抵接部上的定位凸起241伸入定位孔214内。直至抵接部与托料治具21相抵接。以保证托料治具21在顶升和下降的过程中都不会发生偏移或掉落的情况。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的发明构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种托料治具循环机构，其特征在于，包括：

托料治具，用于放置待清洗的物料；

送料模组，包括并行且间隔排布的两条送料导轨、以及滑动安装于所述两条送料导轨上的送料件；所述两条送料导轨的间隔大于所述托料治具在所述两条送料导轨的排布方向上的宽度，所述送料件呈具有开口的半包围结构并能够定位以及带动所述托料治具移动；

回料模组，设于所述送料模组的所述两条送料导轨之间且位于所述送料件的下方，并能够带动所述托料治具移动；以及，

升降装置，设于所述回料模组的下方，所述升降装置能够带动所述托料治具在所述送料模组和所述回料模组之间循环切换。

2.如权利要求1所述的托料治具循环机构，其特征在于，所述送料件具有与所述两条送料导轨一一对应滑动连接的两个滑动部，每个所述滑动部连接有朝向另一滑动部凸出的定位块，所述定位块用以支撑及定位所述托料治具。

3.如权利要求2所述的托料治具循环机构，其特征在于，所述托料治具设有与所述定位块适配的第一定位槽，所述定位块可卡接于所述第一定位槽内；和/或，

每个所述滑动部上的所述定位块具有面向另一滑动部的限位面，多个所述限位面共同限位所述托料治具在所述两条送料导轨的排布方向上的位移。

4.如权利要求2所述的托料治具循环机构，其特征在于，所述定位块与所述送料件转动连接，以使所述定位块能够向上翻转。

5.如权利要求4所述的托料治具循环机构，其特征在于，每个所述滑动部上的所述定位块还具有朝向所述回料模组上的导向面，所述导向面在远离所述回料模组的方向上，逐渐朝另一滑动部所在的一侧倾斜。

6.如权利要求1所述的托料治具循环机构，其特征在于，所述回料模组包括并行且间隔排布的两条回料导轨，至少一条所述回料导轨上滑动安装有回料件，所述回料件能够定位以及带动所述托料治具移动。

7.如权利要求6所述的托料治具循环机构，其特征在于，托料治具还设有与所述回料件适配的第二定位槽，所述回料件可卡接于所述第二定位槽内。

8.如权利要求6所述的托料治具循环机构，其特征在于，所述托料治具的底面和/或侧面凸设有滚珠结构，所述滚珠结构可与所回料模组的所述回料导轨滚动接触。

9.如权利要求1至8任意一项所述的托料治具循环机构，其特征在于，所述送料模组和所述回料模组均具有换料端和清洗端，所述升降装置设有两个，且其中一个与所述换料端对应，另一个与所述清洗端对应。

10.如权利要求1至8任意一项所述的托料治具循环机构，其特征在于，所述升降装置具有用于与所述托料治具抵接的抵接部，所述抵接部和所述托料治具中的一者设有定位凸起，另一者设有与所述定位凸起适配的定位孔。

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