CN211161090U - 一种清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及容器清洗技术领域，公开了一种清洗装置。该清洗装置包括：运动机构，运动机构设置于待清洗物的上方，运动机构能够朝向待清洗物运动；清洗喷头，清洗喷头设置于运动机构上，清洗喷头能够随运动机构运动以靠近待清洗物，清洗喷头与供液装置和供气装置连通，并被配置为能够选择性地向待清洗物喷洒清洗液或者烘干气体。本实施例提供的清洗装置利用运动机构将清洗喷头移动至待清洗物附近，无需人工操作，安全性高；清洗喷头可通入清洗液和空气，能够对待清洗物进行清洗和烘干两种操作，装置集成度高，节约成本。

Description

一种清洗装置

技术领域

本实用新型涉及清洗技术领域，尤其涉及一种清洗装置。

背景技术

在工业生产中，某些产品如用于盛装和转移物料的料罐是不可或缺的用具。料罐在生产车间需要反复使用，为防止二次使用造成交叉污染，都需要清洗干燥后才能继续使用。

料罐因罐体高，罐口小，内壁深，很难彻底清洗，目前采用的是人爬至料罐口用高压水枪冲洗，冲洗完成后再用气体吹干的方式。上述清洗方式不仅费时费力，并且具有清洗人员易跌落和易触电的安全隐患。

实用新型内容

基于以上所述，本实用新型的目的在于提供一种清洗装置，以解决现有技术下对特定待清洗物的清洗方式存在的费时费力和具有安全隐患的问题。

为达上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

提供一种清洗装置，包括：

运动机构，所述运动机构设置于待清洗物的上方，所述运动机构能够朝向所述待清洗物运动；

清洗喷头，所述清洗喷头设置于所述运动机构上，所述清洗喷头能够随所述运动机构运动以靠近所述待清洗物，所述清洗喷头与供液装置和供气装置连通，并被配置为能够选择性地向所述待清洗物喷洒清洗液或者烘干气体。

作为优选，所述清洗喷头通过管道组件与所述供液装置和所述供气装置连通，所述管道组件设置有控制所述管道组件启闭的电磁阀。

作为优选，所述管道组件包括第一管道、第二管道和第三管道，所述电磁阀具有第一进口、第二进口和出口，所述出口通过所述第一管道与所述清洗喷头连通，所述第一进口通过所述第二管道与所述供液装置连通，所述第二进口通过所述第三管道与所述供气装置连通。

作为优选，还包括支撑机构，所述运动机构固定于所述支撑机构上。

作为优选，还包括输送机构，所述输送机构设置于所述支撑机构和所述运动机构的下方，所述输送机构用于支撑并输送所述待清洗物。

作为优选，所述输送机构上设置有用于检测所述待清洗物的第一传感器，当所述第一传感器检测到所述待清洗物时所述输送机构停止输送。

作为优选，还包括第二传感器，所述第二传感器设置于所述支撑机构上且与所述运动机构正对设置，所述第二传感器用于检测所述运动机构的位置。

作为优选，所述运动机构上设置有安装板，所述清洗喷头转动设置在所述安装板上。

作为优选，所述清洗喷头的数量为多个。

作为优选，还包括后处理设施，所述后处理设施包括水槽和沉淀池，所述水槽设置在所述输送机构的下方，所述沉淀池设置在所述水槽的下游。

本实用新型的有益效果为：

本实用新型提供的清洗装置利用运动机构将清洗喷头移动至待清洗物附近，无需人工操作，安全性高且清洗效果好；清洗喷头可通入清洗液和空气，能够对待清洗物进行清洗和烘干两种操作，装置集成度高，节约成本。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对本实用新型实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据本实用新型实施例的内容和这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例提供的清洗装置的结构示意图；

图2是待清洗物的清洗原理图；

图中：1、支撑机构；11、入口门；12、出口门；2、运动机构；21、固定部；22、驱动部；23、安装板；3、清洗喷头；4、管道组件；41、第一管道；42、第二管道；43、第三管道；5、电磁阀；6、输送机构；61、滚筒；62、第一传感器；7、第二传感器；8、后处理设施；81、水槽；82、沉淀池；100、料罐；101、料罐出水口。

具体实施方式

为使本实用新型解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面将结合附图对本实用新型实施例的技术方案作进一步的详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1-2所示，本实施例提供一种清洗装置，该清洗装置包括运动机构2和清洗喷头3，清洗喷头3固定于运动机构2上。运动机构2和清洗喷头3置于待清洗物的上方，且运动机构2可朝向待清洗物运动，当运动机构2朝向待清洗物运动时，固定在运动机构2上的清洗喷头3能够靠近待清洗物并进一步对待清洗物进行清洗。本实施例针对的是料罐100的清洗，当运动机构2朝向料罐100运动到位后，清洗喷头3能够向下插入到料罐100的顶部开口内。当清洗喷头3位于料罐100内后，与清洗喷头3连通的供液装置和供气装置能够向料罐100内通入清洗液和烘干气体，从而可实现可对料罐100的清洗及风干。

进一步地，本实施例提供的清洗装置还包括支撑机构1，运动机构2固定于支撑机构1上，支撑机构1为箱体式结构，运动机构2固定于箱体的顶壁上，料罐100放置在箱体内进行清洗，以防止喷溅。如图1所示，支撑机构1的左右两侧具有箱体入口和箱体出口，箱体入口和箱体出口由可开合的入口门11和出口门12封堵。料罐100从箱体入口进入箱体内，在箱体内清洗完成后从箱体出口排出并最终进入料罐存放库中。

进一步地，本实施例提供的清洗装置还包括输送机构6，输送机构6设置于支撑机构1和运动机构2的下方，用于将料罐100输送至运动机构2和清洗喷头3的正下方，以对料罐100进行清洗。在本实施例中，输送机构6为滚筒输送线，当支撑机构1为箱体式结构时，滚筒输送线从箱体入口向内延伸进入箱体的底部并从箱体出口穿出并最终连接到料罐存放库。在本实施例中，滚筒输送线包括多个平行等间隔布置的滚筒61，在驱动机构的驱动下，滚筒61通过转动能够带动料罐100水平移动。

可选地，输送机构6上设置有第一传感器62，第一传感器62用于检测所在滚筒输送线区域是否存在料罐100。可选地，第一传感器62为光电位置传感器。当料罐100遮住第一传感器62时，第一传感器62向外输出信号，输送机构6根据此信号停止运动。光电位置传感器的工作原理是基于光电效应，将光信号转换为电信号，其为本领域内的现有技术，在此不再赘述。

运动机构2用于将清洗喷头3送入待清洗的料罐100内以对料罐100进行清洗。具体地，运动机构2包括固定部21和驱动部22，固定部21固定于支撑机构1，清洗喷头3固定在驱动部22上，驱动部22与固定部21滑动连接，驱动部22可相对于支撑机构1和固定部21向下作升降运动，从而将清洗喷头3插入到料罐100内部。

进一步地，在运动机构2的驱动部22下端固定有安装板23，清洗喷头3安装在安装板23上。安装板23的设置更便于清洗喷头3的固定和定向，且安装板3可安装多个清洗喷头3。安装板23的轮廓不超过料罐100的开口范围，以便于插入料罐100内部。

可选地，运动机构2选用气缸或电缸。由于气缸具有小型轻量和动作敏捷的优点，因此优选地，在本实施例中，运动机构2选用气缸。气缸包括缸体和活塞杆，缸体固定于支撑机构1，活塞杆可相对于缸体向下作升降运动，安装板23固定在活塞杆顶端，清洗喷头3固定在安装板23上。

可选地，在支撑机构1上还固定有第二传感器7，且第二传感器7在支撑机构1上与运动机构2正对设置，用于检测运动机构2的状态。运动机构2的驱动部22上升或下降时第二传感器7可分别输出不同的信号。第二传感器7也为光电位置传感器，其为本领域内的现有技术，不再赘述。

清洗喷头3与供液装置和供气装置连通，用于将清洗液或压缩空气喷射到料罐100的内壁，以对料罐100进行清洗或风干。清洗喷头3为旋转式喷头，其可在清洗液或压缩空气的流体压力下旋转，以将清洗液或压缩空气呈环形均匀喷射到料罐100的内壁。清洗喷头3在料罐100内部清洗过程如图2所示，清洗喷头3上均匀开设有多个开口，从多个开口中排出的清洗液或压缩空气均匀作用到料罐100的内壁上，清洗喷头3的旋转运动可进一步保证清洗效果，使清洗无死角。可选地，清洗喷头3设置为多个，以使清洗更彻底，提高清洁度。优选地，清洗喷头3设置为两个，两个清洗喷头3对称固定在安装板23上，以在保证清洗效果的同时节约成本。

具体地，清洗喷头3通过管道组件4与供液装置和供气装置连通，在管道组件4上设置有控制通断的电磁阀5。如图1所示，管道组件4包括第一管道41、第二管道42和第三管道43，清洗喷头3通过第一管道41连通到电磁阀5，电磁阀5通过第二管道42和第三管道43分别连通到供液装置和供气装置。电磁阀5具有两个进口和一个出口，两个进口分别为第一进口和第二进口，第一进口通过第二管道42连通供液装置，在本实施例中，清洗液一般选用水，供液装置为水泵。电磁阀5的第二进口通过第三管道43连通供气装置，在本实施例中，一般利用压缩气体对料罐100进行烘干，供气装置选用压缩机。

进一步地，本实施例提供的清洗装置还包括后处理设施8，后处理设施8用于处理清洗后的污水。后处理设施8包括水槽81和沉淀池82。水槽81设置在输送机构6的下方，料罐100上一般设置有料罐排水口101，清洗后的污水从料罐排水口101排出，并直接流入到水槽81内。沉淀池82设置在水槽81的下游，且通过管道与水槽81连通，水槽81中收集的污水进一步被导入到沉淀池82内，在沉淀池82中污水产生沉淀从而得到净化。

优选地，本实施例提供的清洗装置还包括控制器(未示出)，控制器与第一传感器62、第二传感器7、运动机构2和电磁阀5等部件均电气连接，用于接收传感器信号并根据所接收的信号控制各部件运作以对料罐100进行冲洗及烘干。控制器可以是集中式或分布式的控制器，比如，控制器可以是一个单独的单片机，也可以是分布的多块单片机构成，或者也可以是PLC等控制装置，单片机或PLC中可以运行控制程序，进而控制运动机构2和电磁阀5等部件运作。控制器的结构和原理为本领域内的现有技术，在此不再赘述。

本实用新型提供的清洗装置不仅可以用于料罐100的清洗，在其他实施例中，该清洗装置还可以用于清洗其他具有不同形状或容积的待清洗物。

下面结合附图对本实用新型提供的清洗装置的工作过程进行描述：

待清洗物如料罐100随输送机构6移动从箱体入口进入箱体内，料罐100移动到第一传感器62上方并遮住第一传感器62后，第一传感器62向控制器发送料罐100就位的信号，控制器控制输送机构6停止，同时运动机构2的驱动部22下降，使固定在运动机构2上的清洗喷头3插入到料罐100内。

运动机构2下降到位后，第二传感器7向控制器发送运动机构2下降到位的信号，控制器控制电磁阀5的第一进口打开、第二进口关闭，同时供液装置启动。此时清洗液依次流经第二管道42、电磁阀5和第一管道41，最后经清洗喷头3喷射到料罐100的内壁，从而实现对料罐100的清洗。料罐100清洗后的污水经料罐100底部的料罐出水口101流出到水槽81，并被水槽81收集后送入沉淀池82并被沉淀池82处理。

上述过程中清洗时间由控制器设定，当清洗时间到后控制器控制电磁阀5的第一进口关闭、第二进口打开，同时供水装置关闭且供气装置启动。此时压缩气体依次经过第三管道43、电磁阀5、第一管道41和清洗喷头3并最终作用到料罐100的内壁，从而实现对料罐100的风干。风干时间由控制器控制，当风干时间到后控制器控制供气装置关闭，同时电磁阀5的第二进口关闭，运动机构2上升，将清洗喷头3从料罐100内部移出。运动机构2上升到位后，第二传感器7给控制器发送运动机构2上升到位信号，控制器控制输送机构6启动，将料罐100输送入库。

注意，上述仅为本实用新型的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本实用新型不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本实用新型进行了较为详细的说明，但是本实用新型不仅仅限于以上实施例，在不脱离本实用新型构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本实用新型的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (10)

1.一种清洗装置，其特征在于，包括：

运动机构(2)，所述运动机构(2)设置于待清洗物的上方，所述运动机构(2)能够朝向所述待清洗物运动；

清洗喷头(3)，所述清洗喷头(3)设置于所述运动机构(2)上，所述清洗喷头(3)能够随所述运动机构(2)运动以靠近所述待清洗物，所述清洗喷头(3)与供液装置和供气装置连通，并被配置为能够选择性地向所述待清洗物喷洒清洗液或者烘干气体。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗喷头(3)通过管道组件(4)与所述供液装置和所述供气装置连通，所述管道组件(4)上设置有控制所述管道组件(4)启闭的电磁阀(5)。

3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述管道组件(4)包括第一管道(41)、第二管道(42)和第三管道(43)，所述电磁阀(5)具有第一进口、第二进口和出口，所述出口通过所述第一管道(41)与所述清洗喷头(3)连通，所述第一进口通过所述第二管道(42)与所述供液装置连通，所述第二进口通过所述第三管道(43)与所述供气装置连通。

4.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，还包括支撑机构(1)，所述运动机构(2)固定于所述支撑机构(1)上。

5.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，还包括输送机构(6)，所述输送机构(6)设置于所述支撑机构(1)和所述运动机构(2)的下方，所述输送机构(6)用于支撑并输送所述待清洗物。

6.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，所述输送机构(6)上设置有用于检测所述待清洗物的第一传感器(62)，当所述第一传感器(62)检测到所述待清洗物时所述输送机构(6)停止输送。

7.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，还包括第二传感器(7)，所述第二传感器(7)设置于所述支撑机构(1)上且与所述运动机构(2)正对设置，所述第二传感器(7)用于检测所述运动机构(2)的位置。

8.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述运动机构(2)上设置有安装板(23)，所述清洗喷头(3)转动设置在所述安装板(23)上。

9.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗喷头(3)的数量为多个。

10.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，还包括后处理设施(8)，所述后处理设施(8)包括水槽(81)和沉淀池(82)，所述水槽(81)设置在所述输送机构(6)的下方，所述沉淀池(82)设置在所述水槽(81)的下游。

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