CN202067787U - 托盘组件和具有该托盘组件的基片处理设备 - Google Patents
托盘组件和具有该托盘组件的基片处理设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN202067787U CN202067787U CN2011201407286U CN201120140728U CN202067787U CN 202067787 U CN202067787 U CN 202067787U CN 2011201407286 U CN2011201407286 U CN 2011201407286U CN 201120140728 U CN201120140728 U CN 201120140728U CN 202067787 U CN202067787 U CN 202067787U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- tray body
- substrate
- cover plate
- pallet component
- utility
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 24
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 8
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
- 239000001307 helium Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 8
- 230000003044 adaptive effect Effects 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
Claims (10)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2011201407286U CN202067787U (zh) | 2011-05-05 | 2011-05-05 | 托盘组件和具有该托盘组件的基片处理设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2011201407286U CN202067787U (zh) | 2011-05-05 | 2011-05-05 | 托盘组件和具有该托盘组件的基片处理设备 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN202067787U true CN202067787U (zh) | 2011-12-07 |
Family
ID=45061642
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2011201407286U Expired - Lifetime CN202067787U (zh) | 2011-05-05 | 2011-05-05 | 托盘组件和具有该托盘组件的基片处理设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN202067787U (zh) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103590020A (zh) * | 2012-08-13 | 2014-02-19 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 托盘组件及具有其的mocvd设备 |
CN104282610A (zh) * | 2013-07-02 | 2015-01-14 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 承载装置及等离子体加工设备 |
CN104342758A (zh) * | 2013-07-24 | 2015-02-11 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 压环及等离子体加工设备 |
CN104752129A (zh) * | 2013-12-30 | 2015-07-01 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 托盘组件和刻蚀设备 |
CN104979251A (zh) * | 2015-07-16 | 2015-10-14 | 海迪科(南通)光电科技有限公司 | 整体式pss刻蚀托盘治具 |
CN106684029A (zh) * | 2015-11-10 | 2017-05-17 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 承载装置及半导体加工设备 |
CN106856187A (zh) * | 2015-12-08 | 2017-06-16 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 托盘组件 |
CN104124185B (zh) * | 2013-04-26 | 2017-09-01 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 晶片盖板和晶片加工设备 |
CN108004525A (zh) * | 2016-11-01 | 2018-05-08 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 托盘、反应腔室、半导体加工设备 |
WO2019095722A1 (zh) * | 2017-11-16 | 2019-05-23 | 君泰创新(北京)科技有限公司 | 太阳能电池硅片承载装置以及传输系统 |
CN111863702A (zh) * | 2020-07-30 | 2020-10-30 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 盖板托盘组件及半导体设备的工艺腔室 |
CN113113306A (zh) * | 2021-04-08 | 2021-07-13 | 绍兴同芯成集成电路有限公司 | 一种利用耐高温托盘进行化合物半导体晶圆高温回火工艺 |
-
2011
- 2011-05-05 CN CN2011201407286U patent/CN202067787U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103590020A (zh) * | 2012-08-13 | 2014-02-19 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 托盘组件及具有其的mocvd设备 |
CN103590020B (zh) * | 2012-08-13 | 2015-12-02 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 托盘组件及具有其的mocvd设备 |
CN104124185B (zh) * | 2013-04-26 | 2017-09-01 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 晶片盖板和晶片加工设备 |
CN104282610A (zh) * | 2013-07-02 | 2015-01-14 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 承载装置及等离子体加工设备 |
CN104282610B (zh) * | 2013-07-02 | 2017-12-19 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 承载装置及等离子体加工设备 |
CN104342758A (zh) * | 2013-07-24 | 2015-02-11 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 压环及等离子体加工设备 |
CN104342758B (zh) * | 2013-07-24 | 2017-07-21 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 压环及等离子体加工设备 |
CN104752129A (zh) * | 2013-12-30 | 2015-07-01 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 托盘组件和刻蚀设备 |
CN104752129B (zh) * | 2013-12-30 | 2018-01-19 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 托盘组件和刻蚀设备 |
CN104979251A (zh) * | 2015-07-16 | 2015-10-14 | 海迪科(南通)光电科技有限公司 | 整体式pss刻蚀托盘治具 |
CN106684029A (zh) * | 2015-11-10 | 2017-05-17 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 承载装置及半导体加工设备 |
CN106856187A (zh) * | 2015-12-08 | 2017-06-16 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 托盘组件 |
CN106856187B (zh) * | 2015-12-08 | 2020-01-03 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 托盘组件 |
CN108004525A (zh) * | 2016-11-01 | 2018-05-08 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 托盘、反应腔室、半导体加工设备 |
CN108004525B (zh) * | 2016-11-01 | 2020-04-28 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 托盘、反应腔室、半导体加工设备 |
WO2019095722A1 (zh) * | 2017-11-16 | 2019-05-23 | 君泰创新(北京)科技有限公司 | 太阳能电池硅片承载装置以及传输系统 |
CN111863702A (zh) * | 2020-07-30 | 2020-10-30 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 盖板托盘组件及半导体设备的工艺腔室 |
CN113113306A (zh) * | 2021-04-08 | 2021-07-13 | 绍兴同芯成集成电路有限公司 | 一种利用耐高温托盘进行化合物半导体晶圆高温回火工艺 |
CN113113306B (zh) * | 2021-04-08 | 2024-05-28 | 绍兴同芯成集成电路有限公司 | 一种利用耐高温托盘进行化合物半导体晶圆高温回火工艺 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN202067787U (zh) | 托盘组件和具有该托盘组件的基片处理设备 | |
CN101622703B (zh) | 基板支持框架及基板处理设备和以此设备装卸基板的方法 | |
CN101919041A (zh) | 衬底固持器,衬底支撑设备,衬底处理设备以及使用所述衬底处理设备的衬底处理方法 | |
CN102373440A (zh) | 化学气相沉积装置 | |
KR101600265B1 (ko) | 화학기상증착장치 | |
CN104282610B (zh) | 承载装置及等离子体加工设备 | |
CN105624634B (zh) | 反应腔室及半导体加工设备 | |
CN117089824A (zh) | 一种薄膜沉积设备、方法及存储介质 | |
CN103531513B (zh) | 衬底支撑设备以及衬底处理设备 | |
KR101106153B1 (ko) | 박막 태양전지 제조용 플라즈마 처리장치 | |
KR101062185B1 (ko) | 플라즈마 처리장치 | |
CN105789106B (zh) | 夹持装置及半导体加工设备 | |
CN101261933A (zh) | 真空容器、耐压容器和它们的密封方法 | |
KR100978851B1 (ko) | 진공처리장치 | |
CN101924057A (zh) | 载板及连续等离子体镀膜装置 | |
CN207489814U (zh) | 一种刻蚀设备的上电极安装结构以及刻蚀设备 | |
KR20150138921A (ko) | 글라스 단면 에칭용 카세트 | |
CN219267594U (zh) | 托盘装置及具有该托盘装置的刻蚀机 | |
JP2013243184A (ja) | ドライエッチング装置 | |
CN205258601U (zh) | 一种用于下镀膜的硅片载板 | |
KR20200041001A (ko) | 가스공급유닛 | |
CN217552286U (zh) | 一种背光模组的装配平台 | |
CN105225908A (zh) | 托盘组件和刻蚀设备 | |
CN220585244U (zh) | 一种衬底 | |
CN220116666U (zh) | 一种半导体工艺设备及其进气调节装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 100015 No. 1 East Jiuxianqiao Road, Beijing, Chaoyang District Patentee after: Beijing North China microelectronics equipment Co Ltd Address before: 100015 No. 1 East Jiuxianqiao Road, Beijing, Chaoyang District Patentee before: Beifang Microelectronic Base Equipment Proces Research Center Co., Ltd., Beijing |
|
CP01 | Change in the name or title of a patent holder | ||
CP02 | Change in the address of a patent holder |
Address after: 100176 No. 8, Wenchang Avenue, Beijing economic and Technological Development Zone Patentee after: Beijing North China microelectronics equipment Co Ltd Address before: 100015 No. 1 East Jiuxianqiao Road, Beijing, Chaoyang District Patentee before: Beijing North China microelectronics equipment Co Ltd |
|
CP02 | Change in the address of a patent holder | ||
CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20111207 |
|
CX01 | Expiry of patent term |