CN101261933A - 真空容器、耐压容器和它们的密封方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供真空容器、耐压容器和其密封方法，在插入有沿周向被分割的环状中间部件的真空容器中，包括中间部件的分割部件之间的间隙在内，均能够划分中间部件的内外气氛。该真空容器的结构为，包括：由沿着中间部件形成为环状、且为了对该中间部件与上述第一部件间气密地进行堵塞而以被按压的状态介于它们之间的弹性体构成的环状的第一密封部；由沿着上述中间部件形成为环状、且为了对该中间部件与上述第二部件间气密地进行堵塞而以被按压的状态介于它们之间的弹性体构成的环状的第二密封部；和为了对相互邻接的上述分割部件间气密地进行堵塞，沿着上述中间部件形成为环状，一方的周边和另一方的周边分别与第一密封部和第二密封部密接的板状部。

Description

真空容器、耐压容器和它们的密封方法

技术领域

本发明涉及一种真空容器、耐压容器和它们的密封方法，该容器插入有沿周向被分割的环状的中间部件，其内侧空间和外侧空间的一方为大气气氛、另一方为真空气氛，并在气密地划分这两个气氛的密封结构上具有特征。

背景技术

例如包括在FPD(Flat Panel Display：平板显示器)基板的表面上形成电路图案的工序，在该工序中，在基板上实施蚀刻、溅射、CVD(Chemical Vapor Deposition：化学气相沉积)等的等离子体处理。作为进行这样的等离子体处理的装置，例如能够举出平行平板等离子体处理装置。

这种等离子体处理装置包括在处理容器内的处理空间中构成下部电极的载置台，和在该载置台的上部平行设置的、具有处理气体的供给孔的上部电极。在基板处理时，处理空间被抽真空，并且通过上述气体供给孔将处理气体供给到处理容器内，当处理空间达到规定的压力时，在上部电极上施加高频，在这些上部电极和下部电极之间形成电场。利用通过该电场形成的处理气体的等离子体，对上述载置台上的基板实施处理。

图13是表示该等离子体处理装置的一个例子的纵截侧面的图。该等离子体处理装置1具有接地的处理容器11，处理容器11由处理容器主体11a和上盖11b构成。图中11c是闸阀，图中11d、11e是用于对处理容器11内进行密封的O型圈。图中12是构成基板B的载置台的下部电极，与等离子体产生用的高频电源13电连接。下部电极12隔着框架状的间隔件(spacer)(中间部件)14设置在处理容器11的底板上，该间隔件14由特氟隆(注册商标)等的绝缘部件构成，由此，使下部电极12从处理容器11电浮起。

在下部电极12的上方设置有平板状的上部电极15，支承在角板状的上部电极基座16上。上部电极15和上部电极基座16例如由铝构成。图中16a是处理气体的扩散空间，其通过上部电极15和沿着横向分散地设置在上部电极基座16的下表面而形成的凹部所形成。上部电极基座16通过框架状的间隔件(中间部件)17支承在处理容器11的顶部，为了使上部电极15从处理容器11电浮起，上述间隔件17与间隔件14同样由绝缘部件构成。在由上部电极基座16、间隔件17和处理容器11的顶部构成的上部空间17a中，配设有与气体供给源18和上述扩散空间16a连接的气体供给管18a，当通过气体供给管18a将处理气体从气体供给源18供给至扩散空间16a时，该处理气体通过设置于上部电极15的气体供给孔15a供给至上述基板B上的处理空间S。

但是，因为高频电源13通常设置在大气气氛中，所以由下部电极12、间隔件14和处理容器11的底板所包围的下部空间14a有时会构成为大气气氛，在该情况下，处理空间S必须从下部空间14a划分开，以保证其真空度。

现有技术中，为了进行处理空间S和下部空间14a的划分，不设置接缝、间隙等地一体形成间隔件14，即使用一体形状的部件，并且如图1 4所示，以隔着O型圈10、10由下部电极12和处理容器11的底面夹持间隔件14的方式构成。图中10a是用于引导O型圈10的沿着间隔件14的形状设置的槽。

但是，伴随FPD基板的大型化，这样的等离子体处理装置也大型化，间隔件14也必须比现有的大型。但是，在制造这样大型化的该间隔件14时，配合其尺寸一体形成绝缘部件变得困难，此外，能够加工该形成的绝缘部件的加工机器也受到限制，因此，制造这样大型化的间隔件14较为困难。

此外，因为通常气体供给源18也设置在处理容器11之外的大气气氛中，所以被间隔件17和上部电极基座16包围的上部空间17a有时也构成为大气气氛。为了在该情况下也将处理空间S从上部空间17a划分开，以保持其真空度，间隔件17必须与间隔件14同样一体成形，以在处理容器11的顶面和上部电极基座16之间隔着O型圈10、10被夹持的方式构成该间隔件17，但是，伴随装置的大型化该间隔件17也必须进行大型化，结果产生其制造变得困难的问题。

发明内容

本发明是基于上述情况提出的，其目的在于提供一种真空容器、耐压容器和它们的密封方法，在插入有沿周向被分割的环状的中间部件的、其内侧空间和外侧空间的一方为大气气氛而另一方为真空气氛的真空容器中，包括中间部件的分割部件间的间隙在内，均能够划分中间部件的内外的气氛(气密地密封)。

本发明的真空容器具有一面侧和另一面侧分别与第一部件和第二部件密接并介于这些部件之间的、由沿周向被分割的多个分割部件构成的中间部件，由该中间部件包围的内侧空间和该中间部件的外侧空间中的一方为大气气氛，另一方为真空气氛，其特征在于，包括：

由沿着上述中间部件形成为环状、并且为了对该中间部件与上述第一部件之间气密地进行堵塞而以被按压的状态介于它们之间的弹性体构成的环状的第一密封部；

由沿着上述中间部件形成为环状、并且为了对该中间部件与上述第二部件之间气密地进行堵塞而以被按压的状态介于它们之间的弹性体构成的环状的第二密封部；和

为了对相互邻接的上述分割部件之间气密地进行堵塞，沿着上述中间部件形成为环状，一方的周边和另一方的周边分别与第一密封部和第二密封部密接的板状部，

上述板状部设置在大气气氛一侧，或者，上述中间部件被分割成内侧部分和外侧部分，上述板状部设置在它们之间。

上述第一部件是容器主体的壁部，上述中间部件可以以包围形成于上述壁部的开口部的方式设置，在该情况下，例如由上述中间部件包围的内侧空间为大气气氛，上述第二部件是用于在真空容器内产生等离子体的电极，上述中间部件由用于使该电极相对上述容器主体的壁部绝缘的绝缘件构成。此外在该情况下，上述电极可以是用于对平板显示器用的玻璃基板进行等离子体处理的平行平板型等离子体装置的电极。

例如，可以在上述第一部件和中间部件相互相对的面的至少一个面上设置有嵌合第一密封部的槽部，并在上述第二部件和中间部件相互相对的面的至少一个面上设置有嵌合第二密封部的槽部，此外，例如上述板状部与第一密封部以及第二密封部一体形成。

本发明的耐压容器具有一面侧和另一面侧分别与第一部件和第二部件密接并介于这些部件之间的、由沿周向被分割的多个分割部件构成的中间部件，由该中间部件包围的内侧空间和该中间部件的外侧空间中的一方为作为第一压力的第一气氛，另一方为作为比第一压力低的第二压力的第二气氛，其特征在于，包括：

由沿着上述中间部件形成为环状、并且为了对该中间部件与上述第一部件之间气密地进行堵塞而以被按压的状态介于它们之间的弹性体构成的环状的第一密封部；

由沿着上述中间部件形成为环状、并且为了对该中间部件与上述第二部件之间气密地进行堵塞而以被按压的状态介于它们之间的弹性体构成的环状的第二密封部；和

为了对相互邻接的上述分割部件之间气密地进行堵塞，沿着上述中间部件形成为环状，一方的周边和另一方的周边分别与第一密封部和第二密封部密接的板状部，

上述板状部设置在上述第一气氛一侧，或者，上述中间部件被分割成内侧部分和外侧部分，上述板状部设置在它们之间。

本发明的真空容器的密封方法是使用于下述真空容器的密封方法，该真空容器具有一面侧和另一面侧分别与第一部件和第二部件密接并介于这些部件之间的、由沿周向被分割的多个分割部件构成的中间部件，由该中间部件包围的内侧空间和该中间部件的外侧空间中的一方为大气气氛，另一方为真空气氛，该真空容器的密封方法的特征在于，包括：

通过使由沿着上述中间部件形成为环状的弹性体构成的环状的第一密封部以被按压的状态介于该中间部件和上述第一部件之间，对它们之间气密地进行堵塞的工序；

通过使由沿着上述中间部件形成为环状的弹性体构成的环状的第二密封部以被按压的状态介于该中间部件和上述第二部件之间，对它们之间气密地进行堵塞的工序；和

通过使沿着上述中间部件形成为环状的板状部的一方的周边和另一方的周边分别与第一密封部和第二密封部密接，对相互邻接的上述分割部件之间气密地进行堵塞的工序，

上述板状部设置在上述大气气氛一侧，或者，上述中间部件被分割成内侧部分和外侧部分，上述板状部设置在它们之间。

本发明的耐压容器的密封方法是使用于下述耐压容器的密封方法，该耐压容器具有一面侧和另一面侧分别与第一部件和第二部件密接并介于这些部件之间的、由沿周向被分割的多个分割部件构成的中间部件，由该中间部件包围的内侧空间和该中间部件的外侧空间中的一方为作为第一压力的第一气氛，另一方为作为比第一压力低的第二压力的第二气氛，该耐压容器的密封方法的特征在于，包括：

通过使由沿着上述中间部件形成为环状的弹性体构成的环状的第一密封部以被按压的状态介于该中间部件和上述第一部件之间，对它们之间气密地进行堵塞的工序；

通过使由沿着上述中间部件形成为环状的弹性体构成的环状的第二密封部以被按压的状态介于该中间部件和上述第二部件之间，对它们之间气密地进行堵塞的工序；和

通过使沿着上述中间部件形成为环状的板状部的一方的周边和另一方的周边分别与第一密封部和第二密封部密接，对相互邻接的上述分割部件之间气密地进行堵塞的工序，

上述板状部设置在上述第一气氛一侧，或者，上述中间部件被分割成内侧部分和外侧部分，上述板状部设置在它们之间。

根据本发明，具有介于第一部件和第二部件之间的中间部件，当划分由中间部件包围的内侧空间和外侧空间的气氛时，通过沿着该中间部件形成为环状的第一密封部和第二密封部分别对中间部件的两个面进行密封，并且设置有沿着中间部件形成为环状、其一方的周边和另一方的周边分别与第一密封部和第二密封部密接的板状部，因此，即使中间部件沿周向被分割，在它们的间隙处也能够容易且可靠地划分大气气氛和真空气氛。从而，因为能够采用中间部件沿周向被分割的结构，所以即使中间部件是大型的，也能够制造成为分割部件的组合。例如FPD基板被大型化，在用于使等离子体处理装置的电极从容器主体电绝缘的作为中间部件的绝缘件介于电极和容器主体的壁部之间的情况下，因为能够采用分割该绝缘件的结构，所以具有制造容易的效果。

根据另一发明，即使中间部件沿周向被分割，在它们的间隙处也能够容易且可靠地划分作为第一压力的第一气氛和作为比第一压力低的第二压力的第二气氛。从而，同样能够采用中间部件沿周向被分割的结构，即使中间部件是大型的，也能够制造成为分割部件的组合。

附图说明

图1为本发明的实施方式的等离子体蚀刻装置的纵截面图。

图2为设置在上述等离子体蚀刻装置中的载置台的分解立体图。

图3为构成上述载置台的间隔件和衬垫(packing)的立体图。

图4为构成上述载置台的下部空间的各部分的分解立体图。

图5为构成上述下方空间的各部分的纵截侧视图。

图6为构成设置在上述等离子体蚀刻装置中的上部空间的各部分的分解立体图。

图7为表示构成上述下方空间的各部分的另一结构例的分解立体图。

图8为构成上述下方空间的间隔件的俯视图。

图9为构成上述上部气体供给机构的上部电极基座和上部电极的下侧立体图。

图10为表示构成上述下方空间的各部分的又一结构例的分解立体图。

图11为构成上述下方空间的各部分的纵截侧视图。

图12为表示本发明的真空容器和耐压容器的结构的说明图。

图13为现有的等离子体蚀刻装置的纵截面图。

图14为构成设置在上述等离子体蚀刻装置中的载置台的各部分的分解立体图。

符号说明

B    基板

21   处理容器

25        底板

3         载置台

31        下部电极

33        间隔件

33A、33B  间隔部件

36        衬垫

37、38    密封部

具体实施方式

(第一实施方式)

以下，参照图1，对将本发明的真空容器应用于对FPD基板B进行蚀刻处理的等离子体处理装置的例子进行说明。图1的等离子体处理装置2具有用于对基板B实施蚀刻处理的接地的角筒形的处理容器21，该处理容器21相当于发明的范围中的真空容器。处理容器21由平面形状构成为四边形状的铝制成，具有顶部开口的容器主体21A，和以堵塞该容器主体21A的顶部开口部的方式设置的上盖21B。为了保持处理容器21内的处理空间S的气密性，该容器主体21A和上盖21B隔着O型圈22a进行接合。此外，在容器主体21A的侧壁上设置有基板B的搬送口22，通过闸阀G构成为能够自由开关。图中的22b是用于在关闭闸阀G的状态下保持处理空间S的气密性的O型圈。

在构成容器主体21A的底板23上设置有成为基板B的载置部的四边形的载置台3。参照图2和图3进行说明，该载置台3具有用于形成等离子体的下部电极31、盖32、将下部电极31支承在底板23上的作为中间部件的间隔件33、和衬垫36(图2中为了方便没有记载)，下部电极31形成为角板状，在其周边部以沿着该下部电极31的边的方式形成有台阶31a。盖32以包围下部电极31和间隔件33的侧周的方式形成为环状，其上部形成为朝向内侧、覆盖下部电极31的台阶31a的凸缘，下部电极31的上表面与该盖32的凸缘的上表而形成为平坦面，构成基板B的载置面。而且，基板B形成为例如一边为2200mm、另一边为2500mm左右的尺寸的四边形。

间隔件33例如由特氟隆(注册商标)等的绝缘部件构成，形成为沿着下部电极31的边的方环状，通过该间隔件33和上述盖32使下部电极31成为从处理容器21充分电浮起的状态。如图2所示，间隔件33以包围在下部电极31的中央下方开口的孔24和在该孔24的周围开口的孔25的方式设置在底板23上。此外，在间隔件33的上表面形成有沿着该间隔件33的形状的环状的槽34。间隔件33由4个构成环的角部的L字型的间隔部件33A和4个构成环的其他部分的直线型的间隔部件33B构成，间隔部件33A、33B以能够自由地连接或分割的方式构成。

返回图1，在下部电极31的中心部连接有导电通路41的一端，该导电通路41的另一端通过处理容器21的底板23的孔24引出到处理容器21的外部，通过匹配器42a与例如13.56MHz的等离子体产生用的高频电源42连接。

底板23的孔25的下方侧被扩径，形成有台阶部，用于支承下部电极31并将其固定在底板上的筒状的固定用部件43从底板23的下面侧插入该孔25。在固定用部件43的下方以与上述台阶部对应的方式形成有凸缘。此外，在上述下部电极31的下表面上，在与固定用部件43的孔44对应的位置上设置有孔31b，在孔31b的周面上刻有螺纹。与形成于孔31b的螺纹对应的棒形螺钉(棒ネジ)45从底板23的下面侧贯穿孔44，插入孔31b中，由此将下部电极31固定在底板23上。

接着，参照作为载置台3的角部的分解立体图的图4进行说明。如该图4所示，在处理容器21的底板23的表面上形成有与间隔件33的形状对应的环状的槽26，并在下部电极31的下表面上以与间隔件33的槽34相对应并相互重合的方式形成有环状的槽35。

此外在处理容器21的被间隔件33包围的内侧区域设置有作为密封部件的衬垫36。该衬垫36以将一体成形的、例如具有挠性和弹性的环状的板向外方弯折，使其纵截面成为向外方开口的コ字形的方式形成，其截面的コ字形的两边缘部由密封部37、38构成，该密封部37、38以后述那样嵌入上述的各槽26、34、35的方式向上下鼓起。而且，作为衬垫36的材质，例如可以使用橡胶、树脂等，也可以使用例如布那样的挠性材质，也可以如本实施方式那样使用形状固定的板状体。如图3所示，衬垫36以包围处理容器21的底板23的孔24、25的方式构成。

参照图4对载置台3的制造方法进行说明，首先使衬垫36下侧的密封部38嵌入处理容器21的底板23的槽26，接着，连接间隔部件33A和33B，形成间隔件33，并将该间隔件33载置在上述底板23上。接着，使衬垫36的上侧的密封部37嵌入间隔件33的槽34，然后，以使下部电极31的下表面的槽35和间隔件33的上表面的槽34重合的方式将下部电极31载置在间隔件33上。接着，将固定用部件43插入孔25，通过棒形螺钉45将下部电极31固定在底板23上。

图5表示此时的载置台3的纵截侧面，通过以按压介于底板23和间隔件33之间的密封部38、以及介于间隔件33和下部电极31之间的密封部37的方式拧紧棒形螺钉45，使得密封部38通过其恢复力与底板23和间隔件33密接，并使得密封部37通过其恢复力与间隔件33和下部电极密接，对底板23和间隔件33的间隙、以及间隔件33和下部电极31的间隙进行密封。即，密封部37、38相当于现有技术的O型圈，衬垫36能够被看作是将两个O型圈和设置在它们之间的一个板状部一体形成的结构。通过这样进行密封，即使是间隔件33被分割的结构，也能够将处理空间S从构成为大气气氛的、被衬垫36、下部电极31和底板23包围的下部空间3A划分开，在将该处理空间S抽成真空时，能够维持其真空度。在进行密封之后，将盖32安装在下部电极31和间隔件33的周围，制成载置台3。

返回图1，以包围载置台3的方式在处理容器21的底板23上设置有排气口51，排气口51通过排气通路52与例如由真空泵构成的真空排气单元53连接。通过该真空排气单元53对处理空间S进行真空排气，使该处理空间S维持在期望的真空度。

在载置台3的上方，在处理容器21的顶部的下表面形成有凹部，以埋入该凹部的方式设置有用于向载置台3上的基板B供给处理气体的上部气体供给机构6。上部气体供给机构6包括以与载置台3的表面相对的方式设置的上部电极61、支承该上部电极61的上部电极基座62、间隔件63和绝缘部件65。上部电极61例如由铝构成为四边形的平板，在其厚度方向上分散地穿设有多个气体供给孔61a。上部电极基座62形成为具有与上部电极61对应的大小的角板状，在其下表面例如沿横向形成有多个凹部，各凹部被上述上部电极61盖住，由此形成处理气体的扩散空间62a。

上部电极基座62例如由铝构成，隔着设置在该上部电极基座62的周边部上的四边形的环状的间隔件63安装在处理容器21的顶部。该间隔件63与载置台3的间隔件33为同样的结构，能够自由分割地构成为与间隔件33的间隔部件33A对应的间隔部件63A、和与间隔部件33B对应的间隔部件63B。间隔件63与间隔件33同样由特氟隆(注册商标)等的绝缘部件构成，此外，以包围上部电极61、上部电极基座62和间隔件63的侧周的方式设置有环状的绝缘部件65。通过该绝缘部件65和间隔件63使上部电极基座62和上部电极61成为从处理容器21充分地电浮起的状态。

图6是表示处理容器21的间隔件63和其周围的结构的分解立体图，如该图所示，在上部电极基座62的上表面和处理容器21的顶部下表面上以与间隔件63的形状对应的方式分别形成槽62b、27。此外，在间隔件63的上表面形成有与间隔件33的槽34对应的槽64。此外，图中的66是衬垫，与载置台3的衬垫36为同样的结构，并具有分别与密封部37、38对应的密封部67、68。

密封部68嵌入上部电极基座62的槽62b，被夹持在上部电极基座62和间隔件63之间，并且密封部67以嵌入槽64、27的方式被间隔件63和处理容器21的顶部夹持，密封部67、68以被按压的方式构成，从而，通过各密封部67、68的恢复力对上部电极基座62和间隔件63之间的间隙、以及间隔件63和处理容器21的顶部之间的间隙进行密封。

衬垫66以包围在处理容器21的顶部中央开口的孔28的方式设置。通过采用这样的结构，即使是间隔件63被分隔的结构，也能够将处理空间S从被上部电极基座62、衬垫66和处理容器21的顶部包围的构成为大气气氛的上部空间6A划分开，在将该处理空间S抽成真空时，能够维持其真空度。

返回图1，气体供给管69的一端与上部电极基座62的各扩散空间62a连接。气体供给管69的另一端相互合流，通过上述空间6A和孔28被引出到处理容器21之外，并且被引出的气体供给管69的另一端连接在处理气体供给源60上。此外，导电通路46的一端连接在上部电极基座62上，该导电通路46的另一端通过孔28被引出到处理容器21之外，连接在阻抗调整机构47上。阻抗调整机构47包括电容成分，具有在处理容器21内产生均匀的等离子体的作用。

接着，对等离子体蚀刻装置2的处理动作进行说明。打开闸阀G，通过未图示的搬送机构将基板B搬入处理容器21内，载置在载置台3上，关闭闸阀G，通过真空排气单元53对处理空间S进行排气，成为真空气氛。此时，因为分别通过衬垫36、66进行密封，所以下部电极31下的下部空间3A和上部电极基座62上的上部空间6A维持在大气气氛，当开始抽真空时，从处理气体供给源60通过气体供给管69向扩散空间62a供给处理气体，例如Cl₂、SF₆、CF₄等的卤素类气体，将处理容器21内维持在规定的压力。

然后，通过高频电源42向载置台3、上部电极61之间供给高频电力，使处理气体等离子化，通过该等离子体对基板B进行蚀刻处理。蚀刻处理结束后，停止高频电力的供给和处理气体的供给，通过未图示的搬送机构将基板B搬送到处理容器21之外。

根据本实施方式，间隔件33和下部电极31、处理容器21的底板23之间分别由衬垫36的密封部37、38密封。并且因为间隔件33被分割，所以在作为该被分割的部件的间隔部件33A、33B之间存在间隙，但是因为该间隙被衬垫36的板状部堵塞，所以处理容器21内的处理空间S从被衬垫36和下部电极31包围的、作为大气气氛的下部空间3A划分开，在处理空间S被抽成真空时，能够维持该处理空间S的真空度。从而，因为能够将间隔件33制造成各间隔部件33A、33B，所以能够抑制制造所需的材料的尺寸，使其较小，因此能够抑制由加工机器引起的来自材料的对制造的限制。其结果，这样的间隔件33的制造变得容易。并且因为材料的尺寸被抑制得较小，所以使用的材质的选择范围变广。

此外，间隔件63也与间隔件33同样，被分割成间隔部件63A、63B，但因为这些部件之间的间隙通过衬垫66被堵塞，所以处理空间S从作为大气气氛的上部空间6A划分开，在处理空间S被抽成真空时，能够维持其真空度。从而，因为间隔件63能够制造成各间隔部件63A、63B，所以能够抑制制造所需的材料的尺寸，使其较小，间隔件63的制造变得容易，并且因为材料的尺寸被抑制得较小，所以使用的材质的选择范围变广。

而且，在上述实施方式中的各间隔件33、63的分割数量、分割形状并不被上述例子所限制。此外，间隔件33、63中的任一个也可以采用背景技术栏中所示的一体形状。

接着，参照图7对用于密封下部电极31的下方的下部空间3A的衬垫和间隔件的另一结构例进行说明。图7是应用这些衬垫和间隔件的载置台的分解立体图，图中的衬垫71通过与衬垫36同样的材质构成为环状，但是，与衬垫36不同，它不弯折成コ字形，而以上下延伸的方式形成，其上下端构成为与密封部37、38分别对应的密封部72、73。

此外，该载置台具有形成为矩形的块状的多个间隔部件74A和间隔部件75A。间隔部件74A、75A分别排列成环状，以间隔部件74A彼此之间、间隔部件75A彼此之间能够相互自由地分开和连接的方式构成，通过进行连接形成四边形的环状的间隔件74、75。图8表示从上方观察安装在底板23上的间隔件74、75的状态，如该图所示，间隔件74、75具有各自不同的尺寸，以分别从外周侧、内周侧夹持衬垫71的方式形成。在这里为了方便说明而将间隔件74、75分开，但是这也能够看成是将间隔件分割成内侧部分和外侧部分的结构。

此外，图9表示安装在底板23上的间隔件74、75、衬垫71和下部电极31的纵截面，如该图所示，间隔件74、75的高度以能够支承衬垫71并支承下部电极31的方式，并以与衬垫71的高度对应的方式构成。

如图9所示，当构成载置台的各部分安装在底板23上时，密封部72被按压，通过其恢复力与间隔件74、75的上侧角部和槽35内密接。同样的，密封部73被按压，通过其恢复力与间隔件74、75的下侧角部和槽26内密接，将处理空间S从下部空间3A划分开。在这样的结构中也通过被分割的部件构成间隔件，从而能够得到与上述实施方式同样的效果。

接着，参照图10进一步对其它的用于密封下部空间3A的结构例进行说明。该结构例的载置台具有与间隔件33大致同样结构的环状的间隔件81，能够自由分割地构成为与间隔件33的间隔部件33A对应的间隔部件81A、和与间隔部件33B对应的间隔部件81B，但是在其上表面不形成槽。此外，上述载置台具有与衬垫36大致同样的以纵截面成为コ字型的方式构成的衬垫82，但是在衬垫82的顶端没有如衬垫36那样设置有密封部，代替它的，是在上述载置台上设置有与该密封部对应的、相对衬垫82为单独个体的O型圈(树脂制的环状的密封部件)83、84。作为O型圈83、84的材质，能够使用例如作为构成衬垫36的材质而例举的材质。

如图11所示，将O型圈83、84分别嵌入下部电极31的槽35、底板23的槽26，通过这些下部电极31和底板23对将间隔件81夹持在中间的衬垫82从上下进行夹持，由此使O型圈83与下部电极31以及衬垫82密接，并使O型圈84与底板23以及衬垫82密接，将处理空间S从下部空间3A划分开。在这样的结构中也通过被分割的部件构成间隔件81，从而能够得到与上述实施方式同样的效果。而且，构成上述衬垫82的材质能够使用作为构成衬垫36的材质而例举的橡胶、树脂等。

图7和图10所示的间隔件和衬垫的结构也能够应用为对上部空间6A进行密封的结构。

在上述实施方式中，举出了中间部件的内侧为大气气氛、外侧为真空气氛的各个结构的例子，但是本发明的真空容器也能够应用于中间部件的内侧为真空气氛、外侧为大气气氛的各个结构的情况。图12(a)、(b)表示这样的真空容器9，该真空容器9由下侧开口的第一部件91、上侧开口的第二部件92、分割成4个的环状的中间部件93和衬垫94(图12(a)中为了方便而省略其说明)构成。衬垫94与衬垫36为同样的结构，但是如图12(b)所示，与衬垫36不同，以其纵截面为向内侧开口的コ字型的方式形成，衬垫94的密封部95对第一部件91和中间部件93之间进行密封，同时衬垫94的密封部96对第二部件92和中间部件93之间进行密封，由此，真空容器9内从容器9外部的大气气氛划分开，成为真空气氛。在这样的实施方式中，在制造中间部件93时，也能够以被分割的各部分进行制造，因此能够抑制用于制造中间部件93所需的材料的尺寸，使其较小。

图12(c)表示例如内侧空间为正压的耐压容器90。该耐压容器90与上述真空容器9为同样的结构，具有第一部件91、第二部件92、中间部件93，在该情况下，与上述衬垫94对应的衬垫97以通过耐压容器90内侧包围中间部件93的方式进行设置，其纵截面为向外侧开口的コ字型。图中98是使第一部件91、中间部件93和第二部件92相互固定的止挡部。在这样构成耐压容器的情况下，也能够获得与以上述方式构成真空容器的情况下同样的效果。

Claims (9)

1.一种真空容器，其具有一面侧和另一面侧分别与第一部件和第二部件密接并介于这些部件之间的、由沿周向被分割的多个分割部件构成的中间部件，由该中间部件包围的内侧空间和该中间部件的外侧空间中的一方为大气气氛，另一方为真空气氛，其特征在于，包括：

由沿着所述中间部件形成为环状、并且为了对该中间部件与所述第一部件之间气密地进行堵塞而以被按压的状态介于它们之间的弹性体构成的环状的第一密封部；

由沿着所述中间部件形成为环状、并且为了对该中间部件与所述第二部件之间气密地进行堵塞而以被按压的状态介于它们之间的弹性体构成的环状的第二密封部；和

为了对相互邻接的所述分割部件之间气密地进行堵塞，沿着所述中间部件形成为环状，一方的周边和另一方的周边分别与第一密封部和第二密封部密接的板状部，

所述板状部设置在大气气氛一侧，或者，所述中间部件被分割成内侧部分和外侧部分，所述板状部设置在它们之间。

2.如权利要求1所述的真空容器，其特征在于：

所述第一部件是容器主体的壁部，

所述中间部件以包围形成在所述壁部的开口部的方式设置。

3.如权利要求2所述的真空容器，其特征在于：

由所述中间部件包围的内侧空间为大气气氛，

所述第二部件是用于在真空容器内产生等离子体的电极，

所述中间部件由用于使该电极相对所述容器主体的壁部绝缘的绝缘件构成。

4.如权利要求3所述的真空容器，其特征在于：

所述电极是用于对平板显示器用的玻璃基板进行等离子体处理的平行平板型等离子体装置的电极。

5.如权利要求1～4中任一项所述的真空容器，其特征在于：

在所述第一部件和中间部件相互相对的面的至少一个面上设置有嵌合第一密封部的槽部，并且在所述第二部件和中间部件相互相对的面的至少一个面上设置有嵌合第二密封部的槽部。

6.如权利要求1～5中任一项所述的真空容器，其特征在于：

所述板状部与第一密封部以及第二密封部一体形成。

7.一种耐压容器，其具有一面侧和另一面侧分别与第一部件和第二部件密接并介于这些部件之间的、由沿周向被分割的多个分割部件构成的中间部件，由该中间部件包围的内侧空间和该中间部件的外侧空间中的一方为作为第一压力的第一气氛，另一方为作为比第一压力低的第二压力的第二气氛，其特征在于，包括：

由沿着所述中间部件形成为环状、并且为了对该中间部件与所述第一部件之间气密地进行堵塞而以被按压的状态介于它们之间的弹性体构成的环状的第一密封部；

由沿着所述中间部件形成为环状、并且为了对该中间部件与所述第二部件之间气密地进行堵塞而以被按压的状态介于它们之间的弹性体构成的环状的第二密封部；和

为了对相互邻接的所述分割部件之间气密地进行堵塞，沿着所述中间部件形成为环状，一方的周边和另一方的周边分别与第一密封部和第二密封部密接的板状部，

所述板状部设置在所述第一气氛一侧，或者，所述中间部件被分割成内侧部分和外侧部分，所述板状部设置在它们之间。

8.一种真空容器的密封方法，是使用于下述真空容器的密封方法，该真空容器具有一面侧和另一面侧分别与第一部件和第二部件密接并介于这些部件之间的、由沿周向被分割的多个分割部件构成的中间部件，由该中间部件包围的内侧空间和该中间部件的外侧空间中的一方为大气气氛，另一方为真空气氛，该真空容器的密封方法的特征在于，包括：

通过使由沿着所述中间部件形成为环状的弹性体构成的环状的第一密封部以被按压的状态介于该中间部件和所述第一部件之间，对它们之间气密地进行堵塞的工序；

通过使由沿着所述中间部件形成为环状的弹性体构成的环状的第二密封部以被按压的状态介于该中间部件和所述第二部件之间，对它们之间气密地进行堵塞的工序；和

通过使沿着所述中间部件形成为环状的板状部的一方的周边和另一方的周边分别与第一密封部和第二密封部密接，对相互邻接的所述分割部件之间气密地进行堵塞的工序，

所述板状部设置在所述大气气氛一侧，或者，所述中间部件被分割成内侧部分和外侧部分，所述板状部设置在它们之间。

9.一种耐压容器的密封方法，是使用于下述耐压容器的密封方法，该耐压容器具有一面侧和另一面侧分别与第一部件和第二部件密接并介于这些部件之间的、由沿周向被分割的多个分割部件构成的中间部件，由该中间部件包围的内侧空间和该中间部件的外侧空间中的一方为作为第一压力的第一气氛，另一方为作为比第一压力低的第二压力的第二气氛，该耐压容器的密封方法的特征在于，包括：

通过使由沿着所述中间部件形成为环状的弹性体构成的环状的第一密封部以被按压的状态介于该中间部件和所述第一部件之间，对它们之间气密地进行堵塞的工序；

通过使由沿着所述中间部件形成为环状的弹性体构成的环状的第二密封部以被按压的状态介于该中间部件和所述第二部件之间，对它们之间气密地进行堵塞的工序；和

通过使沿着所述中间部件形成为环状的板状部的一方的周边和另一方的周边分别与第一密封部和第二密封部密接，对相互邻接的所述分割部件之间气密地进行堵塞的工序，

所述板状部设置在所述第一气氛一侧，或者，所述中间部件被分割成内侧部分和外侧部分，所述板状部设置在它们之间。

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