CN202067075U - 一种减压干燥设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种减压干燥设备，所述减压干燥设备腔室的至少一个盖板上具有抽气孔，其中，所述盖板上距离中心位置越近的区域，抽气孔的分布密度越大；盖板上距离中心位置越远的区域，抽气孔的分布密度越小。本实用新型实施例通过布局减压干燥设备抽气孔的模式，可以保证整个基板范围内的减压干燥过程中抽气时的流动均匀性，保证光阻在减压干燥过程中的均匀性，从而提高光阻的厚度和角度在整个基板上分布的均匀性。
Description
技术领域
本实用新型涉及薄膜晶体管液晶显示器的制造领域，具体涉及一种减压干燥设备。
背景技术
在目前的薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)的生产制造过程中，需要采取多次曝光的技术。其每次曝光前都需要进行光阻的涂覆和涂覆后的减压干燥的工艺方法。在减压干燥过程中，大型基板很容易产生干燥不均，造成在整个基板范围内的光阻厚度和角度的不均匀，继而影响到后续工程的生产制造，每一次的不均匀都可能造成产品的显示品质下降，而在目前的薄膜晶体管液晶显示器中使用半曝光的情况越来越多，因此干燥不均对产品的影响也尤为突出。
图1a为现有减压干燥设备的顶盖部分的示意图；图1b为现有减压干燥设备的底座部分的示意图。如图1a和图1b所示，顶盖部分相当于一个盖子，底座部分相当于一个没有盖子的盒子，两者共同可以围成一个腔体。从图中可以看出，现有的减压干燥设备腔室的上盖板上是密闭的，腔室的下盖板有四个抽气孔，分布在下底座的四个角落。
参见图2所示，在减压干燥过程中，需要在抽气孔1与气泵(Pump)(图中未示出)之间设有一个抽气阀门2进行控制，当抽气阀门2打开时，可以进行抽气；当抽气阀门2关闭时，减压干燥设备腔室即为一封闭的空间，腔体内的气体无法排出。
在现有技术中，抽气孔一般为1～4个不等，抽气阀门一般为1～2个。
由于流体存在粘滞性，所以在抽气过程中，存在抽气口附近气体流动快；越远离抽气口速度越慢的问题。由于气体流动的不均匀性造成了基板表面的压力不均，造成光刻胶的干燥程度也不同。
实用新型内容
本实用新型提供一种减压干燥设备，使其在对基板进行减压干燥时，可提高减压干燥的均匀性。
本实用新型实施例提供的一种减压干燥设备，所述减压干燥设备腔室的至少一个盖板上具有抽气孔，其中，所述盖板上距离中心位置越近的区域，抽气孔的分布密度越大；盖板上距离中心位置越远的区域，抽气孔的分布密度越小。
本实用新型实施例通过布局减压干燥设备抽气孔的模式，可以保证整个基板范围内的减压干燥过程中抽气时的流动均匀性，保证光阻在减压干燥过程中的均匀性，从而提高光阻的厚度和角度在整个基板上分布的均匀性。
附图说明
图1a为现有减压干燥设备的顶盖部分的示意图；图1b为现有减压干燥设备的底座部分的示意图；
图2为现有技术中利用气泵对减压干燥设备进行抽气的示意图；
图3a为本实用新型实施例的减压干燥设备的顶盖部分的示意图；图3b为本实用新型实施例的底座部分的意图；
图4a为本实用新型实施例的减压干燥设备的上盖的示意图；图4b为本实用新型实施例的减压干燥设备的下盖的示意图。
具体实施方式
为了提高对基板进行减压干燥的均匀性，参见图3a和图3b所示，本实用新型实施例的减压干燥设备腔室的至少一个盖板上具有抽气孔，其中，所述盖板上距离中心位置越近的区域，抽气孔的分布密度越大；盖板上距离中心位置越远的区域，抽气孔的分布密度越小。
所述盖板可以为上盖板或下盖板，即只有一个盖板上具有抽气孔，或者所述盖板为上盖板和下盖板，即上盖板和下盖板上都具有抽气孔。所述盖板上的抽气孔的孔径大小可以相同，也可以不同。比如：根据所述盖板上与中心的距离不同，所述抽气孔的孔径不同。进一步地，可以设置为：距离中心越远的抽气孔孔径越大。当然，还可以根据腔体的容积变化抽气孔的大小。
下面结合附图举具体实施例详细说明本实用新型的技术方案。
参见图4a所示，本实施例的减压干燥设备的上盖中具有抽气孔，从图中可以看出，按照距离基板的位置，上盖板上分布有均匀度不一的抽气孔，中间部分的抽气孔的分布密集，四周的抽气孔的分布稀疏。
参见图4b所示，本实施例的减压干燥设备的下盖中具有抽气孔，从图中可以看出，按照距离基板的位置，下盖板上分布有均匀度不一的抽气孔，中间部分的抽气孔的分布密集，四周的抽气孔的分布稀疏。
该实施方式中，下盖板中的抽气孔的孔径比现有技术中的孔径小，个数比现有技术中的个数多，分布情况可以为：距离中心位置越近的区域，抽气孔的分布密度越大；距离中心位置越远的区域，抽气孔的分布密度越小。
当然，本实用新型还可以在上盖板和下盖板上同时设置抽气孔，抽气孔的具体设置方式如上所述。本实用新型实施例的减压干燥设备的盖板上分布有若干排气孔，并且距离中心位置越近的区域，抽气孔的分布密度越大；距离中心位置越远的区域，抽气孔的分布密度越小。利用该设备进行减压干燥时，可以使被干燥的基板的上方和/或下方的盖板上各个部位增加抽气孔，使其在抽气过程中的气体流动尽量统一。
也可以根据腔体的容积和尺寸，改变各个排气口的孔径大小，从而更好地维护此气体流速的均一性。
本实用新型是利用调整在光阻涂覆后的减压干燥设备腔室的构造。可以通过改变减压干燥的设备腔室的抽气孔的模式、孔径的大小以及排布方式变化达到在整个基板范围内的减压干燥过程中抽气时气体的流动均匀性，保证光阻在减压干燥过程中的均匀性，提高光阻的厚度和角度在整个基板上分布的均匀性。特别对于在半曝光的制程中，薄膜晶体管的沟道以及类似的半曝光部分在玻璃基板上光阻的厚度和角度分布的均匀性得到改善。
显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (5)
1.一种减压干燥设备，其特征在于，所述减压干燥设备腔室的至少一个盖板上具有抽气孔，其中，
所述盖板上距离中心位置越近的区域，抽气孔的分布密度越大；盖板上距离中心位置越远的区域，抽气孔的分布密度越小。
2.根据权利要求1所述的减压干燥设备，其特征在于，所述盖板为上盖板，或者为下盖板，或者为上盖板和下盖板。
3.根据权利要求1或2所述的减压干燥设备，其特征在于，根据所述盖板上与中心的距离不同，所述抽气孔的孔径不同。
4.根据权利要求3所述的减压干燥设备，其特征在于，距离中心越远的抽气孔孔径越大。
5.根据权利要求1或2所述的减压干燥设备，其特征在于，所述盖板上的抽气孔的孔径大小相同。
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|---|---|
| CN202067075U true CN202067075U (zh) | 2011-12-07 |
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104051674A (zh) * | 2013-03-14 | 2014-09-17 | 东京毅力科创株式会社 | 干燥装置及干燥处理方法 |
| WO2014153827A1 (zh) * | 2013-03-28 | 2014-10-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种基板减压干燥方法及装置 |
| WO2015109985A1 (zh) * | 2014-01-21 | 2015-07-30 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 光阻干燥装置 |
| CN104859291A (zh) * | 2015-04-13 | 2015-08-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种干燥装置及其干燥方法 |
| CN105091506A (zh) * | 2015-08-31 | 2015-11-25 | 武汉华星光电技术有限公司 | 真空干燥装置 |
| CN107315325A (zh) * | 2017-07-18 | 2017-11-03 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 减压干燥设备及减压干燥方法 |
| CN108132588A (zh) * | 2017-12-21 | 2018-06-08 | 信利（惠州）智能显示有限公司 | 一种新型的vcd结构及其匀压方法 |
| CN112642213A (zh) * | 2020-12-18 | 2021-04-13 | 金华职业技术学院 | 一种实验室用微生物过滤装置 |
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2011
- 2011-06-09 CN CN2011201923557U patent/CN202067075U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104051674A (zh) * | 2013-03-14 | 2014-09-17 | 东京毅力科创株式会社 | 干燥装置及干燥处理方法 |
| US9347706B2 (en) | 2013-03-28 | 2016-05-24 | Boe Technology Group., Ltd. | Reduced pressure drying method and device of a substrate |
| WO2014153827A1 (zh) * | 2013-03-28 | 2014-10-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种基板减压干燥方法及装置 |
| WO2015109985A1 (zh) * | 2014-01-21 | 2015-07-30 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 光阻干燥装置 |
| US20170057249A1 (en) * | 2015-04-13 | 2017-03-02 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Drying device and drying method using the same |
| CN104859291A (zh) * | 2015-04-13 | 2015-08-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种干燥装置及其干燥方法 |
| CN104859291B (zh) * | 2015-04-13 | 2017-12-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种干燥装置及其干燥方法 |
| US10549551B2 (en) | 2015-04-13 | 2020-02-04 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Drying device and drying method using the same |
| CN105091506A (zh) * | 2015-08-31 | 2015-11-25 | 武汉华星光电技术有限公司 | 真空干燥装置 |
| CN107315325A (zh) * | 2017-07-18 | 2017-11-03 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 减压干燥设备及减压干燥方法 |
| WO2019015006A1 (zh) * | 2017-07-18 | 2019-01-24 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 减压干燥设备及减压干燥方法 |
| CN107315325B (zh) * | 2017-07-18 | 2019-04-30 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 减压干燥设备及减压干燥方法 |
| CN108132588A (zh) * | 2017-12-21 | 2018-06-08 | 信利（惠州）智能显示有限公司 | 一种新型的vcd结构及其匀压方法 |
| CN112642213A (zh) * | 2020-12-18 | 2021-04-13 | 金华职业技术学院 | 一种实验室用微生物过滤装置 |
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