CN1975573A - 侧链不饱和聚合物、放射线敏感性树脂组合物以及液晶显示元件用隔离物 - Google Patents
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- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 title claims abstract description 71
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 47
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title abstract description 20
- -1 isocyanate compound Chemical class 0.000 claims abstract description 174
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 60
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 claims abstract description 24
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 16
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 8
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 36
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 20
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 19
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 16
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 10
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 10
- 238000011084 recovery Methods 0.000 abstract description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 47
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 45
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 44
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 39
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 239000002585 base Substances 0.000 description 26
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 22
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 20
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 18
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 16
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 15
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 14
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 13
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 13
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 12
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 12
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 11
- 229960004063 propylene glycol Drugs 0.000 description 11
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 11
- 231100000489 sensitizer Toxicity 0.000 description 11
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- VPVSTMAPERLKKM-UHFFFAOYSA-N glycoluril Chemical class N1C(=O)NC2NC(=O)NC21 VPVSTMAPERLKKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229940022663 acetate Drugs 0.000 description 8
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N anhydrous diethylene glycol Natural products OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 8
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 8
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical class CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N (z)-2-cyano-3-thiophen-2-ylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C/C1=CC=CS1 QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N 0.000 description 5
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 5
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN=C=O DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- REUQOSNMSWLNPD-UHFFFAOYSA-N [2-(diethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 REUQOSNMSWLNPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 4
- 210000002469 basement membrane Anatomy 0.000 description 4
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical class F* 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical class 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DCBSHORRWZKAKO-UHFFFAOYSA-N rac-1-monomyristoylglycerol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO DCBSHORRWZKAKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DUJMVKJJUANUMQ-UHFFFAOYSA-N 4-methylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CCC#N DUJMVKJJUANUMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YZGQDNOIGFBYKF-UHFFFAOYSA-N Ethoxyacetic acid Natural products CCOCC(O)=O YZGQDNOIGFBYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Natural products OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 3
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SSOONFBDIYMPEU-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COC(=O)C=C SSOONFBDIYMPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 230000000254 damaging effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229940051841 polyoxyethylene ether Drugs 0.000 description 3
- 229920000056 polyoxyethylene ether Polymers 0.000 description 3
- 125000006225 propoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXYXLEZVDSUZQU-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-1-(1,1,2,2,3,3-hexafluoropentoxy)pentane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC CXYXLEZVDSUZQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJURQEZAWYGJDB-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-(1,1,2,2-tetrafluorobutoxy)butane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)CC IJURQEZAWYGJDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VUHMIPWBDMGTNL-MHCZMQLOSA-N 1,2-dimethoxy-4-[(e)-prop-1-enyl]benzene;1,2,4-trimethoxy-5-[(e)-prop-1-enyl]benzene Chemical compound COC1=CC=C(\C=C\C)C=C1OC.COC1=CC(OC)=C(\C=C\C)C=C1OC VUHMIPWBDMGTNL-MHCZMQLOSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 1-methylpiperidine Chemical compound CN1CCCCC1 PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCC(O)COC(=O)C=C OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OJVAMHKKJGICOG-UHFFFAOYSA-N 2,5-hexanedione Chemical compound CC(=O)CCC(C)=O OJVAMHKKJGICOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PSYGHMBJXWRQFD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylacetyl)oxyethyl 2-sulfanylacetate Chemical class SCC(=O)OCCOC(=O)CS PSYGHMBJXWRQFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LKMJVFRMDSNFRT-UHFFFAOYSA-N 2-(methoxymethyl)oxirane Chemical compound COCC1CO1 LKMJVFRMDSNFRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical class COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAVWXKQADKRESO-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;prop-1-ene Chemical group CC=C.CC(=C)C(O)=O FAVWXKQADKRESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRJSXFWDNMKQT-UHFFFAOYSA-N 2-n-methoxy-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CONC1=NC(N)=NC(N)=N1 BLRJSXFWDNMKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=C1 WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 3-butoxypropan-1-ol Chemical compound CCCCOCCCO NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n-[2-(trifluoromethyl)phenyl]butanamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1C(F)(F)F VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010020751 Hypersensitivity Diseases 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 2
- IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N [(1s,3s,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N 0.000 description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 208000026935 allergic disease Diseases 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002168 ethanoic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009610 hypersensitivity Effects 0.000 description 2
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIBMHJPPKCXONB-UHFFFAOYSA-N propane-2,2-diol Chemical compound CC(C)(O)O CIBMHJPPKCXONB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005767 propoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[#8]C([H])([H])* 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001605 (5-methyl-2-propan-2-ylcyclohexyl) acetate Substances 0.000 description 1
- YKSSSKBJDZDZTD-XVNBXDOJSA-N (E)-isoeugenyl benzyl ether Chemical compound COC1=CC(\C=C\C)=CC=C1OCC1=CC=CC=C1 YKSSSKBJDZDZTD-XVNBXDOJSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- FWFUGQANHCJOAR-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluorodecane Chemical compound CCCCCCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)F FWFUGQANHCJOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIZMPBJZAHNFGY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-hexoxyoctane Chemical compound CCCCCCOC(F)(F)C(F)(F)CCCCCC RIZMPBJZAHNFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- NQUXRXBRYDZZDL-UHFFFAOYSA-N 1-(2-prop-2-enoyloxyethyl)cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical class OC(=O)C1CCCCC1(CCOC(=O)C=C)C(O)=O NQUXRXBRYDZZDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUTHQCGFZNYPIG-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical class CC(=C)C(=O)OCCC1(C(O)=O)CCCCC1C(O)=O YUTHQCGFZNYPIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIKLJUUTSQYGQI-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxypropoxy)propane Chemical compound CCOCC(C)OCC(C)OCC ZIKLJUUTSQYGQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMAUULKNZLEMGN-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3,5-dimethylbenzene Chemical compound CCC1=CC(C)=CC(C)=C1 LMAUULKNZLEMGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHYBNVZCQIDLSQ-UHFFFAOYSA-N 1-fluorododecane Chemical class CCCCCCCCCCCCF YHYBNVZCQIDLSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- RSVLLJMCLGUKLM-UHFFFAOYSA-N 10-isocyanatodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical class CC(=C)C(=O)OCCCCCCCCCCN=C=O RSVLLJMCLGUKLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXOJEFDVHQCJNH-UHFFFAOYSA-N 10-isocyanatodecyl prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OCCCCCCCCCCN=C=O QXOJEFDVHQCJNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNBMZFHIYRDKNS-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-1-phenylethanone Chemical compound COC(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 LNBMZFHIYRDKNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIYRHXBYLQWDQS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxypropoxy)-1-methoxypropane Chemical compound CCOC(C)COC(C)COC MIYRHXBYLQWDQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBHQOMRKOUANQQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxypropanoic acid Chemical compound CCOC(C)C(O)=O XBHQOMRKOUANQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypropanoic acid Chemical compound COC(C)C(O)=O ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXKOSHBFVWYVIH-UHFFFAOYSA-N 2-n-(butoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CCCCOCNC1=NC(N)=NC(N)=N1 NXKOSHBFVWYVIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPVLPWLUVFRGN-UHFFFAOYSA-N 2-n-(ethoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CCOCNC1=NC(N)=NC(N)=N1 XLPVLPWLUVFRGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQRDVHKFQFSRFZ-UHFFFAOYSA-N 2-n-(propan-2-yloxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CC(C)OCNC1=NC(N)=NC(N)=N1 LQRDVHKFQFSRFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQAXBTFXHKKQHN-UHFFFAOYSA-N 2-n-(propoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CCCOCNC1=NC(N)=NC(N)=N1 ZQAXBTFXHKKQHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSQYKOSZQFTNSN-UHFFFAOYSA-N 2-n-[(2-methylpropan-2-yl)oxymethyl]-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CC(C)(C)OCNC1=NC(N)=NC(N)=N1 JSQYKOSZQFTNSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006227 2-n-butoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonooxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP(O)(O)=O SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDXXYUDJOHIIDZ-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonooxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OP(O)(=O)OCCOC(=O)C=C UDXXYUDJOHIIDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYYQKWASBLTRIW-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylbenzoic acid Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1C(O)=O WYYQKWASBLTRIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxypropanoic acid Chemical compound CCOCCC(O)=O JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVQPNKXSWMVRDZ-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical class CC(=C)C(=O)OCCCN=C=O HVQPNKXSWMVRDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 3-mercaptopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 3-mercaptopropionate Chemical compound [O-]C(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HTNUUDFQRYBJPH-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropanehydrazide Chemical compound COCCC(=O)NN HTNUUDFQRYBJPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYPNJNDODFVZLE-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-enoic acid Chemical compound CC(C)=CC(O)=O YYPNJNDODFVZLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-naphthalen-1-ylethylamino)-4-oxobutanoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CCNC(=O)CCC(=O)O)=CC=CC2=C1 CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRUKRHLZDVJJSX-UHFFFAOYSA-N 4-cyanopentanoic acid Chemical compound N#CC(C)CCC(O)=O XRUKRHLZDVJJSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPMYOMFDJKFHBV-UHFFFAOYSA-N 4-isocyanatobutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCN=C=O FPMYOMFDJKFHBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQEAEWQOPZQPSS-UHFFFAOYSA-N 4-isocyanatobutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCN=C=O OQEAEWQOPZQPSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDPITNFDYXOKRM-UHFFFAOYSA-N 5-methoxy-3h-1,3-benzothiazole-2-thione Chemical compound COC1=CC=C2SC(=S)NC2=C1 JDPITNFDYXOKRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISDYQNBADWDQAB-UHFFFAOYSA-N 6-isocyanatohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical class CC(=C)C(=O)OCCCCCCN=C=O ISDYQNBADWDQAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRMEBKVZKZQGM-UHFFFAOYSA-N 6-isocyanatohexyl prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OCCCCCCN=C=O XJRMEBKVZKZQGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILMHAGCURJPNRZ-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-1h-benzimidazole Chemical class COC1=CC=C2N=CNC2=C1 ILMHAGCURJPNRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 9-prop-2-enoyloxynonyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCCCCOC(=O)C=C PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000208140 Acer Species 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N Betaine Natural products C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSQGNTGFZZMQNC-UHFFFAOYSA-N CC(=CC(=O)OCCCCCCCCCO)C Chemical compound CC(=CC(=O)OCCCCCCCCCO)C JSQGNTGFZZMQNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAENSMVSXSVRDM-UHFFFAOYSA-N CC(=CC(=O)OCCOCCO)C Chemical compound CC(=CC(=O)OCCOCCO)C HAENSMVSXSVRDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHXUANMFYXWVNG-UHFFFAOYSA-N D-menthyl acetate Natural products CC(C)C1CCC(C)CC1OC(C)=O XHXUANMFYXWVNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004129 EU approved improving agent Substances 0.000 description 1
- CJQWLNNCQIHKHP-UHFFFAOYSA-N Ethyl 3-mercaptopropanoic acid Chemical compound CCOC(=O)CCS CJQWLNNCQIHKHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N Glycidol Chemical compound OCC1CO1 CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHXUANMFYXWVNG-ADEWGFFLSA-N Menthyl acetate Natural products CC(C)[C@@H]1CC[C@@H](C)C[C@H]1OC(C)=O XHXUANMFYXWVNG-ADEWGFFLSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical compound CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Natural products P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920002675 Polyoxyl Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M Superoxide Chemical compound [O-][O] OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCFFZAQQHCLMNH-UHFFFAOYSA-N [3-(6-prop-2-enoyloxyhexanoyloxy)-2-[[3-(6-prop-2-enoyloxyhexanoyloxy)-2,2-bis(6-prop-2-enoyloxyhexanoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(6-prop-2-enoyloxyhexanoyloxymethyl)propyl] 6-prop-2-enoyloxyhexanoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCC(=O)OCC(COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C)(COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C)COCC(COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C)(COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C)COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C VCFFZAQQHCLMNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTMMMSIQFWMMIJ-UHFFFAOYSA-N [3-[2,2-dimethyl-3-(6-prop-2-enoyloxyhexanoyloxy)propanoyl]oxy-2,2-dimethylpropyl] 6-prop-2-enoyloxyhexanoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCC(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)(C)COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C HTMMMSIQFWMMIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNTQTLGBCMXNFX-UHFFFAOYSA-N [5-ethyl-2-(2-methyl-1-prop-2-enoyloxypropan-2-yl)-1,3-dioxan-5-yl]methyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1(CC)COC(C(C)(C)COC(=O)C=C)OC1 YNTQTLGBCMXNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] Chemical compound [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- RDURTRDFNKIFKC-UHFFFAOYSA-N acetic acid;1-butoxypropan-2-ol Chemical class CC(O)=O.CCCCOCC(C)O RDURTRDFNKIFKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPSOQTFPIWIGJT-UHFFFAOYSA-N acetic acid;1-propoxypropane Chemical class CC(O)=O.CCCOCCC IPSOQTFPIWIGJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QACZTJJABFVRAS-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2-butoxyethanol Chemical class CC(O)=O.CCCCOCCO QACZTJJABFVRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZRRFAZLUBSCFL-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2-propoxyethanol Chemical class CC(O)=O.CCCOCCO OZRRFAZLUBSCFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N acetic acid;ethoxyethane Chemical class CC(O)=O.CCOCC KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 229940062527 alendronate Drugs 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N alpha-isobutyric acid Natural products CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940107816 ammonium iodide Drugs 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N anhydrous collidine Natural products CC1=CC=NC(C)=C1C HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 150000003851 azoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N butyric acid octyl ester Natural products CCCCCCCCOC(=O)CCC PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N chloroethene;ethenyl acetate Chemical compound ClC=C.CC(=O)OC=C HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N collidine Natural products CC1=CC=C(C)C(C)=N1 UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012669 compression test Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 150000001990 dicarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- ZEFVHSWKYCYFFL-UHFFFAOYSA-N diethyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound CCOC(=O)CC(=C)C(=O)OCC ZEFVHSWKYCYFFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N dimethyl butane Natural products CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N dimethylpyridine Natural products CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCOC(=O)COC JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXUJMEYKYHETBZ-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-nitrophenyl ethylphosphonate Chemical compound CCOP(=O)(CC)OC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 XXUJMEYKYHETBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNFXXAGQEUUZAZ-UHFFFAOYSA-N ethyl ethaneperoxoate Chemical compound CCOOC(C)=O KNFXXAGQEUUZAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-N hydroperoxyl Chemical compound O[O] OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVORRXJAVSDKSP-UHFFFAOYSA-N hydroxymethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCO.CC(=O)OCO.CC(=O)OCO YVORRXJAVSDKSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000008676 import Effects 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000001802 infusion Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMIODHQZRUFFFF-UHFFFAOYSA-N methoxyacetic acid Chemical compound COCC(O)=O RMIODHQZRUFFFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethoxypropanoate Chemical class CCOC(C)C(=O)OC YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VABBJJOSOCPYIT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methoxypropanoate Chemical class COC(C)C(=O)OC VABBJJOSOCPYIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical class CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical class COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N monoethanolamine hydrochloride Natural products NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N n-Nonyl alcohol Natural products CCCCCCCCCO ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940017144 n-butyl lactate Drugs 0.000 description 1
- UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N n-butyric acid methyl ester Natural products CCCC(=O)OC UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNVRJGIVDSQCOP-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-methylethanamine Chemical compound CCN(C)CC GNVRJGIVDSQCOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical compound O=NN(O)C1=CC=CC=C1 DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIKUXBYRTXDNIY-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-phenylformamide Chemical compound O=CN(C)C1=CC=CC=C1 JIKUXBYRTXDNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- KPADFPAILITQBG-UHFFFAOYSA-N non-4-ene Chemical compound CCCCC=CCCC KPADFPAILITQBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 description 1
- LWNSNYBMYBWJDN-UHFFFAOYSA-N octyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)CCS LWNSNYBMYBWJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 150000003053 piperidines Chemical class 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- QVKOLZOAOSNSHQ-UHFFFAOYSA-N prop-1-ene;prop-2-enoic acid Chemical group CC=C.OC(=O)C=C QVKOLZOAOSNSHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C=C LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNYIJJOTPSKGJM-UHFFFAOYSA-N propoxymethyl acetate Chemical compound CCCOCOC(C)=O HNYIJJOTPSKGJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILVGAIQLOCKNQA-UHFFFAOYSA-N propyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)O ILVGAIQLOCKNQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 150000005619 secondary aliphatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N sym-collidine Natural products CC1=CN=C(C)C(C)=C1 GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSECCTDWEGTEBD-UHFFFAOYSA-N tert-butylperoxycyclohexane Chemical class CC(C)(C)OOC1CCCCC1 GSECCTDWEGTEBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003698 tetramethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-M thioglycolate(1-) Chemical compound [O-]C(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 1
- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 1
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Abstract
一种放射线敏感性树脂组合物,其特征在于含有使通过右式(2)表示的异氰酸酯化合物与(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、(a2)下式(1)表示的1个分子中含有2个或2个以上羟基的化合物和(a3)其它不饱和化合物的共聚物反应所得到的聚合物。式(1)中,R1表示氢原子或甲基,p是0-3的整数,q是1-12的整数。式(2)中,R2表示氢原子或甲基,n是1-12的整数。本发明提供高敏感性和高分辨率,并且即使是低曝光量也能得到充分的隔离物形状,且可以形成弹性回复性、耐研磨性、与透明基板的密合性、耐热性、剥离液耐性等都优异的液晶显示元件用隔离物的放射线敏感性树脂组合物。
Description
技术领域
本发明特别涉及非常适合用于形成液晶显示元件的隔离物(spacer)的侧链不饱和聚合物、含有该聚合物的放射线敏感性树脂组合物、隔离物和其形成方法以及液晶显示元件。
背景技术
迄今为止,在液晶显示元件中,为了使2块基板间的间隔也就是盒间隙保持一定,一直使用具有规定粒径的玻璃珠、塑料珠等隔离物,但由于这些隔离物在玻璃基板等透明基板上无规散布,因此如果在像素形成区域存在隔离物,则有产生隔离物映入现象、入射光受到散射、液晶显示元件的对比度降低的问题。
于是,为了解决这些问题,采用了通过光刻法形成隔离物的方法。该方法是在基板上涂布放射线敏感性树脂组合物,通过规定的掩模进行例如紫外线曝光后,进行显影,从而形成点状或条状的隔离物的方法,由于可以仅在像素形成区域以外的规定位置形成隔离物,因此可以基本上解决前述问题。
另外近年来,从实现液晶显示元件大面积化和提高生产性等观点考虑,玻璃基板母板的大型化一直在进行,例如1,500×1,800mm,甚至1,870×2,200mm的程度。但是,以现有的基板尺寸,由于基板尺寸小于掩模尺寸,所以可采用一次性曝光方式,但是对于大型基板,制作与该大型基板尺寸相同大小的掩模几乎是不可能的,所以难以采用一次性曝光方式。
于是,作为可以应对大型基板的曝光方式,提出了采用分级曝光方式。但是在分级曝光方式中,一块基板需要进行多次曝光,每次曝光时,位置调整或分级移动需要时间,所以与一次性曝光方式相比,看到了其生产率降低的问题。
此外,在一次性曝光方式中,曝光量可以达到3,000J/m2左右,而在分级曝光方式中,必需进一步降低每次的曝光量,对于形成隔离物所用的现有放射线敏感性树脂组合物,很难以1,200J/m2或1,200J/m2以下的曝光量得到完整的隔离物形状和足够的膜厚。
并且随着基板的大型化,在生产工序中产生不良情况时,需要剥离在滤色片上所形成的取向膜进行再利用。取向膜的剥离可以使用碱性水溶液类的剥离液,但是隔离物对该剥离液必须具有耐性。也就是说,希望在剥离取向膜的时候,不会因溶胀、溶解而使下层的隔离物产生膜厚变化,并且弹性特性等物理性质也必须与剥离前相同。
特开2000-105456号公报、特开2000-171804号公报和特开2000-298339号公报中,在感光性树脂组合物中,通过使用使(甲基)丙烯酰氧基烷基异氰酸酯化合物与具有羟基的共聚树脂反应而得到以光聚合性官能团作为结构单元的共聚树脂,可以实现高敏感性、耐药品性等作为隔离物和保护膜所需的性能的提高。为了提高隔离物和保护膜的耐热性、与基板的密合性、耐药品性,特别是对取向膜剥离液或碱性水溶液的耐性,使用分子中含有2个或2个以上环氧基的环氧树脂。但是,因为添加了该环氧树脂,感光性树脂组合物的保存稳定性和在显影液中的溶解性令人担忧。
如上所述,对于现有的放射线敏感性树脂组合物,通过添加环氧化合物可以提高与基板的密合性、耐药品性,例如对取向膜剥离液的耐性,但是其保存稳定性和在显影液中的溶解性令人担忧。
发明内容
因此,本发明的课题在于提供一种放射线敏感性树脂组合物,其敏感性高、即使是以1,200J/m2或1,200J/m2以下的曝光量也可以得到完整的隔离物形状、且可以形成弹性回复性、耐研磨性、与透明基板的密合性、耐热性等优异,并且对取向膜剥离时的剥离液显示充分耐性的液晶显示元件用隔离物。
本发明的另一个课题在于提供作为该放射线敏感性树脂组合物的树脂成分有用的侧链不饱和聚合物。
本发明的又一个课题在于提供由上述放射线敏感性树脂组合物形成的液晶显示用隔离物以及具有该隔离物的液晶显示元件。
本发明的再一个课题在于提供上述液晶显示用隔离物的形成方法。
根据本发明,前述课题的第一个是通过一种聚合物实现的,该聚合物是使(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、(a2)下式(1)表示的1个分子中含有2个或2个以上羟基的化合物和(a3)其它不饱和化合物的共聚物与下式(2)表示的异氰酸酯化合物反应得到的。
(式中,R1表示氢原子或甲基,p是0-3的整数,q是1-12的整数);
(式中,R2表示氢原子或甲基,n是1-12的整数。)
根据本发明,前述课题的第二个是通过用于形成液晶显示元件用隔离物的放射线敏感性树脂组合物(以下称为“液晶显示元件隔离物用放射线敏感性树脂组合物”)而实现的,该放射线敏感性树脂组合物含有[A]上述聚合物、[B]聚合性不饱和化合物和[C]放射线敏感性聚合引发剂。
根据本发明,前述课题的第三个是通过由前述放射线敏感性树脂组合物形成的液晶显示元件用隔离物而现的。
根据本发明,前述课题的第四个是通过液晶显示元件用隔离物的形成方法实现的,该方法的特征在于按照下述顺序包括至少下列工序:
(1)在基板上形成前述液晶显示元件隔离物用放射线敏感性树脂组合物被膜的工序、
(2)对该被膜的至少一部分进行曝光的工序、
(3)对曝光后的该被膜进行显影的工序、和
(4)加热显影后的该被膜的工序。
根据本发明,前述课题的第五个是通过具有前述液晶显示元件用隔离物的液晶显示元件实现的。
附图说明
图1是液晶显示元件结构的一个例子的示意图。
图2是液晶显示元件结构的另一个例子的示意图。
图3是合成例1的聚合物[α-1]的红外光谱图。
图4是同上的聚合物溶液[α-1]反应1小时后的溶液的红外光谱图。
图5是同上的反应1小时后的溶液进一步在40℃下反应1小时、在60℃下反应2小时后的溶液的红外光谱图。
图6是举例说明隔离物断面形状的示意图。
图7是举例说明在对弹性回复率的评价中,加荷时以及减荷时的荷重-变形量曲线图。
具体实施方式
以下对本发明进行详细说明。
-[A]聚合物-
本发明的聚合物含有使上式(2)表示的异氰酸酯化合物(以下称为“不饱和异氰酸酯化合物(1)”)与(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、(a2)上式(1)表示的在1个分子中含有2个或2个以上羟基的化合物(以下称为“含有2个或2个以上羟基的化合物”)和(a3)其它不饱和化合物的共聚物(以下称为“共聚物[α]”)反应得到的聚合物(以下,称为“[A]聚合物”)。
构成共聚物[α]的各成分中,作为(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐(以下将其统称为“(a1)不饱和羧酸类化合物”),可以列举例如
丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸、2-丙烯酰氧基乙基琥珀酸酯、2-甲基丙烯酰氧基乙基琥珀酸酯、2-丙烯酰氧基乙基六氢苯二甲酸酯、2-甲基丙烯酰氧基乙基六氢苯二甲酸酯等一元羧酸;
马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸、衣康酸等二元羧酸;
前述二元羧酸的酸酐等。
在这些(a1)不饱和羧酸类化合物中,从共聚反应性、所得的[A]聚合物在碱性显影液中的溶解性以及获取容易的观点考虑,优选丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸酐等。
共聚物[α]中,(a1)不饱和羧酸类化合物可以单独使用,也可以将两种或两种以上混合使用。
共聚物[α]中,来自(a1)不饱和羧酸类化合物的重复单元的含量优选为5-50重量%,更优选为10-40重量%,特别优选为15-30重量%。如果来自(a1)不饱和羧酸类化合物的重复单元的含量低于5重量%,则具有与不饱和异氰酸酯化合物(1)反应所得的聚合物在碱性显影液中的溶解性降低的倾向,另一方面,如果超过50重量%,则有该聚合物在碱性显影液中的溶解性变得过大的可能性。
另外,作为(a2)含有2个或2个以上羟基的不饱和化合物,可以列举例如丙烯酸1,2-二羟基乙酯、丙烯酸2,3-二羟基丙酯、丙烯酸3,4-二羟基丁酯、丙烯酸3-[3-(2,3-二羟基丙氧基)-2-羟基丙氧基]-2-羟基丙酯等丙烯酸羟基烷基酯;
甲基丙烯酸1,2-二羟基乙酯、甲基丙烯酸2,3-二羟基丙酯、甲基丙烯酸3,4-二羟基丁酯、甲基丙烯酸3-[3-(2,3-二羟基丙氧基)-2-羟基丙氧基]-2-羟基丙酯等甲基丙烯酸羟基烷基酯等。
在这些(a2)含有2个或2个以上羟基的不饱和化合物中,从共聚反应性和与异氰酸酯化合物的反应性的观点考虑,优选丙烯酸1,2-二羟基乙酯、丙烯酸2,3-二羟基丙酯、甲基丙烯酸1,2-二羟基乙酯、甲基丙烯酸2,3-二羟基丙酯等。
共聚物[α]中,(a2)含有2个或2个以上羟基的不饱和化合物可以单独使用,也可以将两种或两种以上混合使用。
共聚物[α]中,来自(a2)含有2个或2个以上羟基的不饱和化合物的重复单元的含量优选为1-50重量%,更优选为3-40重量%,特别优选为5-30重量%。如果来自于(a2)含羟基不饱和化合物的重复单元的含量低于1重量%,则具有导入到不饱和异氰酸酯化合物(1)的聚合物中的导入率降低,敏感性降低的倾向,另一方面,如果超过50重量%,则有通过与不饱和异氰酸酯化合物(1)反应而得到的聚合物的保存稳定性降低的倾向。
另外,作为(a3)其它不饱和化合物,可以列举例如
丙烯酸甲酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸仲丁酯、丙烯酸叔丁酯等丙烯酸烷基酯;
甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯等甲基丙烯酸烷基酯;
丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸2-甲基缩水甘油酯、4-羟基丁基丙烯酸酯缩水甘油醚、丙烯酸3,4-环氧丁酯、丙烯酸6,7-环氧庚酯、丙烯酸3,4-环氧环己酯等丙烯酸环氧(环)烷基酯;
甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸2-甲基缩水甘油酯、甲基丙烯酸3,4-环氧丁酯、甲基丙烯酸6,7-环氧庚酯、甲基丙烯酸3,4-环氧环己酯等甲基丙烯酸环氧(环)烷基酯;
α-乙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丁基丙烯酸缩水甘油酯、α-乙基丙烯酸6,7-环氧庚酯、α-乙基丙烯酸3,4-环氧环己酯等其它α-烷基丙烯酸环氧(环)烷基酯;
邻乙烯基苯甲基缩水甘油醚、间乙烯基苯甲基缩水甘油醚、对乙烯基苯甲基缩水甘油醚等缩水甘油醚类;
丙烯酸环己酯、丙烯酸2-甲基环己酯、丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸烷-8-基酯、丙烯酸2-(三环[5.2.1.02,6]癸烷-8-基氧基)乙酯、丙烯酸异冰片酯等丙烯酸脂环酯;
甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸2-甲基环己酯、甲基丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸烷-8-基酯、甲基丙烯酸2-(三环[5.2.1.02,6]癸烷-8-基氧基)乙酯、甲基丙烯酸异冰片酯等甲基丙烯酸脂环酯;
丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯等丙烯酸芳基酯或芳烷基酯;
甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苄酯等甲基丙烯酸芳基酯或芳烷基酯;
马来酸二乙酯、富马酸二乙酯、衣康酸二乙酯等不饱和二元羧酸二烷基酯;
丙烯酸四氢呋喃-2-基酯、丙烯酸四氢吡喃-2-基酯、丙烯酸2-甲基四氢吡喃-2-基酯等具有含氧五元杂环或含氧六元杂环的丙烯酸酯;
甲基丙烯酸四氢呋喃-2-基酯、甲基丙烯酸四氢吡喃-2-基酯、甲基丙烯酸2-甲基四氢吡喃-2-基酯等具有含氧五元杂环或含氧六元杂环的甲基丙烯酸酯;
苯乙烯、α-甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、对甲氧基苯乙烯等乙烯基芳香族化合物;
1,3-丁二烯、异戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯等共轭二烯类化合物;
除此之外,还可以列举丙烯腈、甲基丙烯腈、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、氯乙烯、偏二氯乙烯、醋酸乙烯酯等。
在这些(a3)其它不饱和化合物中,从共聚反应性和所得[A]聚合物在碱性水溶液中的溶解性的观点考虑,优选甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸2-甲基缩水甘油酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸烷-8-基酯、苯乙烯、对甲氧基苯乙烯、甲基丙烯酸四氢呋喃-2-基酯、1,3-丁二烯等。
共聚物[α]中,(a3)其它不饱和化合物可以单独使用,也可以将两种或两种以上混合使用。
共聚物[α]中,来自(a3)其它不饱和化合物的重复单元的含量优选为10-70重量%,更优选为20-50重量%,特别优选为30-50重量%。如果来自(a3)其它不饱和化合物的重复单元的含量低于10重量%,则具有通过与不饱和异氰酸酯化合物(1)反应而得到的聚合物的保存稳定性降低的倾向,另一方面,如果其超过70重量%,则有该聚合物在碱性显影液中的溶解性降低的倾向。此外,在使用(甲基)丙烯酸环氧(环)烷基酯类时,其含量优选为20重量%或20重量%以下,如果超过20重量%,则有保存稳定性降低的倾向。
共聚物[α]例如可以通过在适当的溶剂中、自由基聚合引发剂存在下将(a1)不饱和羧酸类化合物、(a2)含有2个或2个以上羟基的不饱和化合物和(a3)其它不饱和化合物聚合而制备。
作为在前述聚合中使用的溶剂,可以列举例如
甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇等醇类;
四氢呋喃、二_烷等醚类;
乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丙醚、乙二醇单正丁醚等乙二醇单烷基醚;
乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丙醚乙酸酯、乙二醇单正丁醚乙酸酯等乙二醇单烷基醚乙酸酯;
乙二醇单甲醚丙酸酯、乙二醇单乙醚丙酸酯、乙二醇单正丙醚丙酸酯、乙二醇单正丁醚丙酸酯等乙二醇单烷基醚丙酸酯;
二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇甲乙醚等二乙二醇烷基醚;
丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单正丙醚、丙二醇单正丁醚等丙二醇单烷基醚;
二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇二甲醚、二丙二醇二乙醚、二丙二醇甲乙醚等二丙二醇烷基醚;
丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单正丙醚乙酸酯、丙二醇单正丁醚乙酸酯等丙二醇单烷基醚乙酸酯;
丙二醇单甲醚丙酸酯、丙二醇单乙醚丙酸酯、丙二醇单正丙醚丙酸酯、丙二醇单正丁醚丙酸酯等丙二醇单烷基醚丙酸酯;
甲苯、二甲苯等芳香烃;
甲乙酮、2-戊酮、3-戊酮、环己酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮等酮类;
2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸正丙酯、2-甲氧基丙酸正丁酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸正丙酯、2-乙氧基丙酸正丁酯、2-正丙氧基丙酸甲酯、2-正丙氧基丙酸乙酯、2-正丙氧基丙酸正丙酯、2-正丙氧基丙酸正丁酯、2-正丁氧基丙酸甲酯、2-正丁氧基丙酸乙酯、2-正丁氧基丙酸正丙酯、2-正丁氧基丙酸正丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸正丙酯、3-甲氧基丙酸正丁酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸正丙酯、3-乙氧基丙酸正丁酯、3-正丙氧基丙酸甲酯、3-正丙氧基丙酸乙酯、3-正丙氧基丙酸正丙酯、3-正丙氧基丙酸正丁酯、3-正丁氧基丙酸甲酯、3-正丁氧基丙酸乙酯、3-正丁氧基丙酸正丙酯、3-正丁氧基丙酸正丁酯等烷氧基丙酸烷基酯类;
乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸正丁酯、羟基乙酸甲酯、羟基乙酸乙酯、羟基乙酸正丙酯、羟基乙酸正丁酯、乙酸4-甲氧基丁酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙酸2-甲氧基丁酯、乙酸3-乙氧基丁酯、乙酸3-丙氧基丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯、乳酸正丁酯、2-羟基-2-甲基丙酸甲酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、3-羟基丙酸甲酯、3-羟基丙酸乙酯、3-羟基丙酸正丙酯、3-羟基丙酸正丁酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸正丙酯、甲氧基乙酸正丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸正丙酯、乙氧基乙酸正丁酯、正丙氧基乙酸甲酯、正丙氧基乙酸乙酯、正丙氧基乙酸正丙酯、正丙氧基乙酸正丁酯、正丁氧基乙酸甲酯、正丁氧基乙酸乙酯、正丁氧基乙酸正丙酯、正丁氧基乙酸正丁酯等其它酯类等。
这些溶剂之中,优选二乙二醇烷基醚、丙二醇单烷基醚乙酸酯、烷氧基丙酸烷基酯、乙酸酯等。
前述溶剂可以单独使用,也可以将两种或两种以上混合使用。
此外,作为前述自由基聚合引发剂,没有特别限定,可以列举例如2,2’-偶氮二异丁腈、2,2’-偶氮二-(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮二-(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、4,4’-偶氮二(4-氰基戊酸(シアノバレリン酸))、二甲基-2,2’-偶氮二(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮二(4-甲氧基2,4-二甲基戊腈)等偶氮化合物;过氧化苯甲酰、过氧化月桂酰、叔丁基过氧化新戊酸酯、1,1-双(叔丁基过氧)环己烷等有机过氧化物;过氧化氢等。
此外,当使用过氧化物作为自由基聚合引发剂时,也可以将其与还原剂并用,并作为氧化还原型引发剂。
这些自由基聚合引发剂可以单独使用,也可以将两种或两种以上混合使用。
这样得到的共聚物[α]可以从溶液中分离后用于制备[A]聚合物,当共聚物[α]的聚合所用溶剂是醇类以外的溶剂时,也可以直接以溶液形式用于制备[A]聚合物。作为将共聚物[α]从溶液中分离后用于制备[A]聚合物时的溶剂,可以使用作为可以用于共聚物[α]的聚合所列举的上述溶剂(但醇类除外)。
通过凝胶渗透色谱法(GPC)测定的共聚物[α]的聚苯乙烯换算重均分子量(以下称为“Mw”)优选为2,000-100,000,更优选为5,000-50,000。如果Mw低于2,000,则有所得被膜的碱显影性、残膜率等降低,或损害图案形状、耐热性等的可能性,另一方面,如果超过100,000,则存在分辨率降低,或损害图案形状的可能性。
本发明中[A]聚合物是通过使不饱和异氰酸酯化合物(1)与共聚物[α]反应而获得的。
作为不饱和异氰酸酯化合物(1),可以列举例如
2-丙烯酰氧基乙基异氰酸酯、3-丙烯酰氧基丙基异氰酸酯、4-丙烯酰氧基丁基异氰酸酯、6-丙烯酰氧基己基异氰酸酯、8-丙烯酰氧基辛基异氰酸酯、10-丙烯酰氧基癸基异氰酸酯等丙烯酸衍生物;
2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯、3-甲基丙烯酰氧基丙基异氰酸酯、4-甲基丙烯酰氧基丁基异氰酸酯、6-甲基丙烯酰氧基己基异氰酸酯、8-甲基丙烯酰氧基辛基异氰酸酯、10-甲基丙烯酰氧基癸基异氰酸酯等甲基丙烯酸衍生物。
并且,作为2-丙烯酰氧基乙基异氰酸酯的市售品,可以列举商品名为カレンズAO I(昭和电工(株)制造)的产品,作为2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯的市售品,可以列举商品名为カレンズMO I(昭和电工(株)制造)的产品。
在这些不饱和异氰酸酯化合物(1)中,从与共聚物[α]的反应性观点考虑,优选2-丙烯酰氧基乙基异氰酸酯、2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯等。
对于[A]聚合物,不饱和异氰酸酯化合物(1)可以单独使用,也可以将两种或两种以上混合使用。
在本发明中,共聚物[α]与不饱和异氰酸酯化合物(1)的反应,可以通过例如在室温或加热条件下,在含有二月桂酸二正丁基锡(IV)等催化剂或对甲氧基苯酚等聚合抑制剂的共聚物[α]溶液中一边搅拌一边滴加不饱和异氰酸酯化合物(1)而进行。
在制备[A]聚合物时,相对于共聚物[α]中(a2)含有2个或2个以上羟基的不饱和化合物,不饱和异氰酸酯化合物(1)的使用量优选为0.1-90重量%,更优选为10-80重量%,特别优选为25-75重量%。如果不饱和异氰酸酯化合物(1)的使用量低于0.1重量%,则提高敏感性和弹性特性的效果差,而如果超过90重量%,则未反应的不饱和异氰酸酯化合物(1)残留下来,具有所得聚合物溶液、放射线敏感性树脂组合物的保存稳定性降低的倾向。
[A]聚合物具有羧基和/或羧酸酐基、以及聚合性不饱和键,在碱性显影液中具有适当的溶解性,同时即使不并用特别的固化剂,通过加热也能容易地固化,含有[A]聚合物的放射线敏感性树脂组合物在显影时不会产生显影残留和膜减小,可以容易地形成规定形状的隔离物。
-放射线敏感性树脂组合物-
本发明的放射线敏感性树脂组合物含有[A]聚合物、[B]聚合性不饱和化合物和[C]放射线敏感性聚合引发剂。
-[B]聚合性不饱和化合物-
[B]聚合性不饱和化合物含有在放射线敏感性聚合引发剂存在下,通过射线曝光而聚合的不饱和化合物。
作为这样的[B]聚合性不饱和化合物,没有特别限定,但是,例如单官能、双官能、或者3官能或3官能以上的(甲基)丙烯酸酯共聚性良好,从提高了所得隔离物强度的观点考虑是优选的。
作为上述单官能(甲基)丙烯酸酯,可以列举如2-羟基乙基丙烯酸酯、2-羟基乙基甲基丙烯酸酯、二乙二醇单乙基醚丙烯酸酯、二乙二醇单乙基醚甲基丙烯酸酯、丙烯酸异冰片酯(イソボロニルアクリレ一ト)、甲基丙烯酸异冰片酯、3-甲氧基丁基丙烯酸酯、3-甲氧基丁基甲基丙烯酸酯、(2-丙烯酰氧基乙基)(2-羟基丙基)苯二甲酸酯、(2-甲基丙烯酰氧基乙基)(2-羟基丙基)苯二甲酸酯等。作为市售品,可以列举商品名为例如アロニツクスM-101、アロニツクスM-111、アロニツクスM-114(以上为东亚合成(株)制造);KAYARAD TC-110S、KAYARAD TC-120S(以上为日本化药(株)制造);ビスコ-ト158、ビスコ一ト2311(以上为大阪有机化学工业(株)制造)的产品等。
此外,作为前述双官能(甲基)丙烯酸酯,可以列举例如乙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二甲基丙烯酸酯、双苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯、双苯氧基乙醇芴二甲基丙烯酸酯等。作为市售品,可以列举商品名为例如アロニツクスM-210、アロニツクスM-240、アロニツクスM-6200(以上为东亚合成(株)制造)、KAYARAD HDDA、KAYARAD HX-220、KAYARAD R-604(以上为日本化药(株)制造)、ビスコ一ト260、ビスコ一ト312、ビスコ一ト335HP(以上为大阪有机化学工业(株)制造)的产品等。
进一步地,作为前述3官能或3官能以上的(甲基)丙烯酸酯,可以列举例如三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇五甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、三(2-丙烯酰氧基乙基)磷酸酯、三(2-甲基丙烯酰氧基乙基)磷酸酯,或者作为9官能或9官能以上的(甲基)丙烯酸酯,具有直链亚烷基和脂环结构、并且具有2个或2个以上异氰酸酯基的化合物,与分子内具有1个或1个以上的羟基,并且具有3个、4个或5个丙烯酰氧基和/或甲基丙烯酰氧基的化合物反应得到的多官能尿烷丙烯酸酯(ウレタンアクリレ一ト)类化合物等。
作为3官能或3官能以上的(甲基)丙烯酸酯的市售品,可以列举商品名为アロニツクスM-309、アロニツクスM-400、アロニツクスM-405、アロニツクスM-450、アロニツクスM-7100、アロニツクスM-8030、アロニツクスM-8060、アロニツクスTO-1450(以上为东亚合成(株)制造)、KAYARAD TMPTA、KAYARAD DPHA、KAYARAD DPCA-20、KAYARADDPCA-30、KAYARAD DPCA-60、KAYARAD DPCA-120(以上为日本化药(株)制造)、ビスコ一ト295、ビスコ一ト300、ビスコ一ト360、ビスコ一トGPT、ビスコ一ト3PA、ビスコ一ト400(以上为大阪有机化学工业(株)制造)的产品等,作为含有多官能尿烷丙烯酸酯类化合物的市售品,可以列举商品名为ニユ一フロンテイアR-1150(第一工业制药(株)制造)、KAYARAD DPHA-40H(日本化药(株)制造)的产品等。
这些单官能、双官能、3官能或3官能以上的(甲基)丙烯酸酯中,优选3官能或3官能以上的(甲基)丙烯酸酯,特别优选三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯;或者含有多官能尿烷丙烯酸酯类化合物的市售品等。
前述单官能、双官能、3官能或3官能以上的(甲基)丙烯酸酯可以单独使用,也可以将两种或两种以上混合使用。
本发明的放射线敏感性树脂组合物中,相对于100重量份[A]聚合物,[B]聚合性不饱和化合物的使用量优选为1-150重量份,进一步优选为30-140重量份。如果[B]聚合性不饱和化合物的使用量低于1重量份,则在显影时有可能发生显影残留,另一方面,如果超过150重量份,则具有所得隔离物的密合性降低的倾向。
-[C]放射线敏感性聚合引发剂-
[C]放射线敏感性聚合引发剂包括通过可见光、紫外线、远紫外线、带电粒子射线、X射线等射线的曝光而产生能引发[B]聚合性不饱和化合物聚合的活性种的成分。
作为这样的[C]放射线敏感性聚合引发剂,可以列举O-酰基肟类化合物、苯乙酮类化合物、联咪唑类化合物、苯偶姻类化合物、二苯甲酮类化合物、α-二酮类化合物、多核醌类化合物、呫吨酮类化合物、膦类化合物、三嗪类化合物等。
作为O-酰基肟类化合物,优选9.H.-咔唑类的O-酰基肟型聚合引发剂。可以列举如1-[9-乙基-6-苯甲酰基-9.H.-咔唑-3-基]-壬烷-1,2-壬烷-2-肟-O-苯甲酸酯、1-[9-乙基-6-苯甲酰基-9.H.-咔唑-3-基]-壬烷-1,2-壬烷-2-肟-O-乙酸酯、1-[9-乙基-6-苯甲酰基-9.H.-咔唑-3-基]-戊烷-1,2-戊烷-2-肟-O-乙酸酯、1-[9-乙基-6-苯甲酰基-9.H.-咔唑-3-基]-辛烷-1-酮肟-O-乙酸酯、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙烷-1-酮肟-O-苯甲酸酯、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙烷-1-酮肟-O-乙酸酯、1-[9-乙基-6-(1,3,5-三甲基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙烷-1-酮肟-O-苯甲酸酯、1-[9-丁基-6-(2-乙基苯甲酰基)-9.H.-咔唑3-基]-乙烷-1-酮肟-O-苯甲酸酯、1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氢吡喃基甲氧基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙烷-1-酮肟-O-乙酸酯、1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氢呋喃基甲氧基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙烷-1-酮肟-O-乙酸酯等。
这些O-酰基肟化合物中,特别优选1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙烷-1-酮肟-O-乙酸酯、1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氢吡喃基甲氧基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙烷-1-酮肟-O-乙酸酯。
前述O-酰基肟化合物可以单独使用,也可以将两种或两种以上混合使用。在本发明中,通过使用O-酰基肟化合物,即使曝光量为1,200J/m2或1,200J/m2以下也可以得到具有足够敏感性和密合性的隔离物。
作为前述苯乙酮类化合物,可以列举例如α-羟基酮类化合物、α-氨基酮类化合物等。
作为前述α-羟基酮类化合物,可以列举例如1-苯基-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基2-甲基丙烷-1-酮、4-(2-羟基乙氧基)苯基-(2-羟基-2-丙基)酮、1-羟基环己基苯基酮等,此外作为前述α-氨基酮类化合物,可以列举例如2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮、2-苯甲基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁烷-1-酮、2-(4-甲基苯甲酰基)-2-(二甲基氨基)-1-(4-吗啉代苯基)-丁烷-1-酮等。作为这些化合物以外的化合物,还可以列举例如2,2-二甲氧基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮等。
这些苯乙酮类化合物中,特别优选2-甲基-1-(4-甲硫基苯基(methylthiophenyl))-2-吗啉代丙烷-1-酮、2-(4-甲基苯甲酰基)-2-(二甲基氨基)-1-(4-吗啉代苯基)-丁烷-1-酮。
在本发明中,通过并用苯乙酮类化合物,可以进一步改善敏感性、隔离物形状、压缩强度。
此外,作为前述联咪唑类化合物,可以列举如2,2’-双(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(4-乙氧基羰基苯基)-1,2’-联咪唑、2,2’-双(2-溴苯基)-4,4’,5,5’-四(4-乙氧基羰基苯基)-1,2’-联咪唑、2,2’-双(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、2,2’-双(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、2,2’-双(2,4,6-三氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、2,2’-双(2-溴苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、2,2’-双(2,4-二溴苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、2,2’-双(2,4,6-三溴苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑等。
这些联咪唑类化合物中,优选使用2,2’-双(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、2,2’-双(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、2,2’-双(2,4,6-三氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑等,特别优选2,2’-双(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑。
在本发明中,通过并用联咪唑类化合物,可以进一步改善敏感性、分辨率、密合性。
此外,当并用联咪唑类化合物时,为了增加其敏感性,可以添加具有二烷基氨基的脂肪族类或芳香族类的化合物(以下称为“氨基类敏化剂”)。
作为氨基类敏化剂,可以列举例如N-甲基二乙醇胺、4,4’-双二甲基氨基)二苯甲酮、4,4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮、对二甲基氨基苯甲酸乙酯、对二甲基氨基苯甲酸异戊酯等。
这些氨基类敏化剂中,特别优选4,4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮。
前述氨基类敏化剂可以单独使用,也可以将两种或两种以上混合使用。
进一步地,当将联咪唑类化合物和氨基类敏化剂并用时,作为提供氢的化合物,可以添加硫醇类化合物。联咪唑类化合物通过前述氨基类敏化剂而敏化并断裂,产生咪唑自由基,但是这样并不直接表现高的聚合引发能力,所得隔离物大多形成倒梯形等不优选的形状。但是通过在联咪唑类化合物和氨基类敏化剂共存的体系中添加硫醇类化合物,向咪唑自由基提供来源于硫醇类化合物的氢自由基,结果使咪唑自由基转化为中性的咪唑,同时产生具有聚合引发能力高的硫自由基的成分,由此可以使隔离物的形状形成更加优选的正梯形。
作为前述硫醇类化合物,可以列举如2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并_唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基-5-甲氧基苯并噻唑、2-巯基-5-甲氧基苯并咪唑等芳香族化合物;3-巯基丙酸、3-巯基丙酸甲酯、3-巯基丙酸乙酯、3-巯基丙酸辛酯等脂肪族单硫醇;3,6-二氧杂-1,8-辛烷二硫醇、季戊四醇四(巯基乙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)等双官能或双官能以上的脂肪族硫醇。
这些硫醇类化合物中,特别优选2-巯基苯并噻唑。
在本发明的放射线敏感性树脂组合物中,相对于全部放射线敏感性聚合引发剂100重量份,其它放射线敏感性聚合引发剂的使用比例优选为100重量份或100重量份以下,更优选为80重量份或80重量份以下,特别优选为60重量份或60重量份以下。如果其它放射线敏感性聚合引发剂的使用比例超过100重量份,则有可能损害本发明所期待的效果。
此外,当将联咪唑类化合物和氨基类敏化剂并用时,相对于100重量份联咪唑类化合物,氨基类敏化剂的添加量优选为0.1-50重量份,更优选为1-20重量份。如果氨基类敏化剂的添加量低于0.1重量份,则具有敏感性、分辨率和密合性的改善效果降低的倾向,另一方面,如果超过50重量份,则有损坏所得隔离物形状的倾向。
此外,当将联咪唑类化合物和氨基类敏化剂并用时,相对于100重量份联咪唑类化合物,硫醇类化合物的添加量优选为0.1-50重量份,更优选为1-20重量份。如果硫醇类化合物的添加量低于0.1重量份,则有隔离物形状的改善效果降低、或者容易产生膜减小的倾向,另一方面,如果超过50重量份,则有损坏所得隔离物形状的倾向。
-添加剂-
在本发明的放射线敏感性树脂组合物中,在不损坏本发明所期待效果的范围内,根据需要,除前述成分以外,还可以混合表面活性剂、粘合助剂、保存稳定剂、耐热性提高剂等添加剂。
前述表面活性剂是具有改善涂布性作用的成分,优选氟类表面活性剂和硅氧烷类表面活性剂。
作为前述氟类表面活性剂,优选在末端、主链和侧链中的至少任一部位上具有氟代烷基或氟代亚烷基的化合物,作为其具体例子,可以优选列举1,1,2,2-四氟辛基(1,1,2,2-四氟-正丙基)醚、1,1,2,2-四氟-正辛基(正己基)醚、八乙二醇二(1,1,2,2-四氟-正丁基)醚、六乙二醇二(1,1,2,2,3,3-六氟-正戊基)醚、八丙二醇二(1,1,2,2-四氟-正丁基)醚、六丙二醇二(1,1,2,2,3,3-六氟-正戊基)醚、1,1,2,2,3,3-六氟-正癸烷、1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-十氟-正十二烷、全氟-正十二烷基磺酸钠、氟代烷基苯磺酸钠、氟代烷基膦酸钠、氟代烷基羧酸钠、氟代烷基聚氧乙烯醚、双甘油四(氟代烷基聚氧乙烯醚)、氟代烷基碘化铵、氟代烷基甜菜碱、氟代烷基聚氧乙烯醚、全氟烷基聚氧乙醇、全氟烷基烷氧化物、氟类烷基酯等。
另外,作为氟类表面活性剂的市售品,可以列举商品名为例如BM-1000、BM-1100(以上为BM CHEMIE公司制造)、メガフアツクF142D、メガフアツクF172、メガフアツクF173、メガフアツクF183、メガフアツクF178、メガフアツクF191、メガフアツクF471、メガフアツクF476(以上为大日本インキ化学工业(株)制造)、フロラ一ドFC170C、フロラ一ドFC-171、フロラ一ドFC-430、フロラ一ドFC-431(以上为住友スリ一エム(株)制造)、サ一フロンS-112、サ一フロンS-113、サ一フロンS-131、サ一フロンS-141、サ一フロンS-145、サ一フロンS-382、サ一フロンSC-101、サ一フロンSC-102、サ一フロンSC-103、サ一フロンSC-104、サ一フロンSC-105、サ一フロンSC-106(以上为旭硝子(株)制造)、エフトツプEF301、エフトツプEF303、エフトツプEF352(以上为新秋田化成(株)制造)、フタ一ヅエントFT-100、フタ一ヅエントFT-110、フタ一ヅエントFT-140A、フタ一ヅエントFT-150、フタ一ヅエントFT-250、フタ一ヅエントFT-251、フタ一ヅエントFTX-251、フタ一ヅエントFTX-218、フタ一ヅエントFT-300、フタ一ヅエントFT-310、フタ一ヅエントFT-400S(以上为(株)ネオス制造)的产品等。
作为前述硅氧烷类表面活性剂,作为市售商品,可以列举商品名为例如ト一レシリコ一ンDC 3PA、ト一レシリコ一ンDC7PA、ト一レシリコ一ンSH11PA、ト一レシリコ一ンSH21PA、ト一レシリコ一ンSH28PA、ト一レシリコ一ンSH29PA、ト一レシリコ一ンSH30PA、ト一レシリコ一ンSH-190、ト一レシリコ一ンSH-193、ト一レシリコ一ンSZ-6032、ト一レシリコ一ンSF-8428、ト一レシリコ一ンDC-57、ト一レシリコ一ンDC-190(以上为东レ·ダウコ一ニング·シリコ一ン(株)制造)、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452(以上为GE东芝シリコ一ン(株)制造)的产品等。
此外,作为除前述以外的表面活性剂,可以列举例如聚氧乙烯十二烷基醚、聚氧乙烯十八烷基醚、聚氧乙烯油醚等聚氧乙烯烷基醚类;聚氧乙烯正辛基苯基醚、聚氧乙烯正壬基苯基醚等聚氧乙烯芳基醚类;聚氧乙烯二月桂酸酯、聚氧乙烯二硬脂酸酯等聚氧乙烯二烷基酯类等非离子型表面活性剂,或作为市售品,可列举商品名为KP341(信越化学工业(株)制造)、ポリフロ一No.57、ポリフロ一No.95(共荣社化学(株)制造)的产品等。
前述表面活性剂可以单独使用,也可以将两种或两种以上混合使用。
相对于100重量份[A]聚合物,表面活性剂的配合量优选为5重量份或5重量份以下,更优选为2重量份或2重量份以下。如果表面活性剂的配合量超过5重量份,则在涂布时有膜容易变得粗糙的倾向。
前述粘合助剂是具有进一步改善隔离物和基体密合性作用的成分,优选官能性硅烷偶联剂。
作为前述官能性硅烷偶联剂,可以列举例如具有羧基、甲基丙烯酰基、乙烯基、异氰酸酯基、环氧基等反应性官能团的化合物。更具体地可以列举三甲氧基甲硅烷基苯甲酸、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、γ-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷等。
这些粘合助剂可以单独使用,也可以将两种或两种以上混合使用。
相对于100重量份[A]聚合物,粘合助剂的配合量优选为20重量份或20重量份以下,更优选为10重量份或10重量份以下。如果粘合助剂的配合量超过20重量份,则有容易产生显影残留的倾向。
作为前述保存稳定剂,可以列举例如硫、醌类、氢醌类、多氧化合物、胺、硝基亚硝基化合物等。更具体地可以列举4-甲氧基苯酚、N-亚硝基-N-苯基羟基氨铝等。
这些保存稳定剂可以单独使用,还可以将两种或两种以上混合使用。
相对于100重量份[A]聚合物,保存稳定剂的配合量优选为3重量份或3重量份以下,更优选为0.001-0.5重量份。如果保存稳定剂的配合量超过3重量份,则有敏感性降低、图案形状受到损坏的可能性。
作为前述耐热性提高剂,可以列举如N-(烷氧基甲基)甘脲化合物、N-(烷氧基甲基)三聚氰胺化合物等。
作为前述N-(烷氧基甲基)甘脲化合物,可以列举例如N,N,N’,N’-四(甲氧基甲基)甘脲、N,N,N’,N’-四(乙氧基甲基)甘脲、N,N,N’,N’-四(正丙氧基甲基)甘脲、N,N,N’,N’-四(异丙氧基甲基)甘脲、N,N,N’,N’-四(正丁氧基甲基)甘脲、N,N,N’,N’-四(叔丁氧基甲基)甘脲等。
这些N-(烷氧基甲基)甘脲化合物中,特别优选N,N,N’,N’-四(甲氧基甲基)甘脲。
作为前述N-(烷氧基甲基)三聚氰胺化合物,可以列举如N,N,N’,N’,N”,N”-六(甲氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N’,N’,N”,N”-六(乙氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N’,N’,N”,N”-六(正丙氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N’,N’,N”,N”-六(异丙氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N’,N’,N”,N”-六(正丁氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N’,N’,N”,N”-六(叔丁氧基甲基)三聚氰胺等。
这些N-(烷氧基甲基)三聚氰胺化合物中,特别优选N,N,N’,N’,N”,N”-六(甲氧基甲基)三聚氰胺,作为其市售品,可以列举商品名为例如ニカラツクN-2702、ニカラツクMW-30M(以上为三和ケミカル(株)制造)的产品等。
这些耐热性提高剂可以单独使用,也可以将两种或两种以上混合使用。
相对于100重量份[A]聚合物,耐热性提高剂的配合量优选为30重量份或30重量份以下,更优选为20重量份或20重量份以下。如果耐热性提高剂的配合量超过30重量份,则有放射线敏感性树脂组合物的保存稳定性降低的倾向。
本发明的放射线敏感性树脂组合物优选以溶解于适当的溶剂中得到的组合物溶液的形式供于使用。
作为前述溶剂,可以使用均匀溶解构成放射线敏感性树脂组合物的各成分、并且不与各成分发生反应、具有适度的挥发性的溶剂,从各成分的溶解能力、与各成分的反应性和形成被膜的容易性的观点考虑,优选醇类、乙二醇单烷基醚乙酸酯、二乙二醇单烷基醚乙酸酯、二乙二醇烷基醚、丙二醇单烷基醚乙酸酯、二丙二醇烷基醚、烷氧基丙酸烷基酯、乙酸乙酯等。特别优选苯甲醇、2-苯基乙醇、3-苯基-1-丙醇、乙二醇单正丁基醚乙酸酯、二乙二醇单乙基醚乙酸酯、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇乙基甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯、二丙二醇二甲基醚、乙酸3-甲氧基丁酯、乙酸2-甲氧基乙酯等。
前述溶剂可以单独使用,也可以将两种或两种以上混合使用。
在本发明中,也可以进一步将高沸点溶剂与前述溶剂并用。
作为前述高沸点溶剂,可以列举例如N-甲基甲酰胺、N,N二甲基甲酰胺、N-甲基-N-甲酰苯胺、N-甲基乙酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、苄基乙基醚、正己基醚、丙酮基丙酮、异佛尔酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苯甲醇、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、马来酸二乙酯、γ-丁内酯、碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、乙二醇单苯基醚乙酸酯等。
这些高沸点溶剂可以单独使用,也可以将两种或两种以上混合使用。
此外,如上所述制备的组合物溶液也可以用孔径为0.5μm左右的微孔过滤器等过滤后供给使用。
尤其是,本发明的放射线敏感性树脂组合物非常适合用于形成液晶显示元件用隔离物。
隔离物的形成方法
下面,对使用本发明的放射线敏感性树脂组合物形成本发明的隔离物的方法进行说明。
本发明的隔离物的形成按照下述顺序包括至少下列工序:
(1)在基板上形成本发明的放射线敏感性树脂组合物的被膜的工序、
(2)对该被膜的至少一部分进行曝光的工序、
(3)对曝光后的该被膜进行显影的工序、和
(4)加热显影后的该被膜的工序。
以下依次对各工序进行说明。
-工序(1)-
在透明基板的一面形成滤色片(color filter)、保护膜、透明导电膜,在该透明导电膜上形式放射线敏感性树脂组合物的被膜。
作为用于形成隔离物的透明基板,可以列举例如玻璃基板、树脂基板等,更具体的可以列举例如钠钙玻璃、无碱玻璃等玻璃基板;含有聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚醚砜、聚碳酸酯、聚酰亚胺等塑料的树脂基板。
作为在透明基板的一面设置的透明导电膜,可以使用含有氧化锡(SnO2)的NESA膜(美国PPG公司的注册商标)、含有氧化铟-氧化锡(In2O3-SnO2)的ITO膜等。
作为形成本发明感光性树脂组合物的被膜的方法,可以采用例如(1)涂布法、(2)干膜法。
采用(1)涂布法时,在基板上涂布本发明的感光性树脂组合物,优选以组合物溶液的形式涂布,然后加热涂布面(预烘焙),由此形成被膜。
作为组合物溶液的涂布方法,可以采用喷涂法、辊涂法、旋转涂布法(旋涂法)、缝模涂布法、刮棒涂布法、喷墨涂布法等适当的方法。特别优选旋涂法、缝模涂布法。
作为预烘焙的条件,还根据各成分的种类、混合比例等而不同,但优选为在70-120℃下进行1-15分钟左右。
另外,在采用(2)干膜法形成本发明的感光性树脂组合物的被膜时,该干膜是在基膜优选在柔性基膜上层叠包含本发明感光性树脂组合物的感光性层而成的(以下称为“感光性干模”)。
上述感光性干膜可以如下形成:在基膜上涂布本发明的感光性树脂组合物,优选以液体组合物的形式进行涂布,然后除去溶剂,由此层叠感光性层。作为感光性干膜的基膜,可以使用例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚氯乙烯等合成树脂的膜。基膜的厚度在15~125μm的范围是合适的。所得的感光性层的厚度优选为1~30μm左右。溶剂的除去优选通过在80~150℃下加热1~10分钟左右进行。
另外,感光性干膜在未使用时,也可以在其感光性层上进一步层叠被覆膜后进行保存。该被覆膜必须具有在未使用时不剥离、而在使用时可容易地剥离的适当的脱模性。作为满足上述条件的被覆膜,可以使用在例如PET膜、聚丙烯膜、聚乙烯膜、聚氯乙烯膜等合成树脂膜的表面涂布或烧上硅氧烷类脱模剂的膜。被覆膜的厚度通常为25μm左右。
本发明的放射线敏感性树脂组合物以溶液形式使用时,其固体成分浓度(相对于从组合物中除去溶剂重量的总组合物重量的比例)优选为15~80重量%。更优选的固体成分浓度因被膜的形成方法而异,当采用涂布法形成被膜时,固体成分浓度优选为15~30重量%,采用干膜法形成被膜时,固体成分浓度优选为50~70重量。
-工序(2)-
接着,对形成的被膜的至少一部分进行曝光。这时,对被膜的一部分进行曝光时,通常是通过具有规定图案的光掩模进行曝光。
作为曝光所用的射线,可以使用例如可见光、紫外线、远紫外线、电子射线、X射线等,但是优选波长在190-450nm范围的射线,特别优选含365nm紫外线的射线。
以通过照度计(OAI model 356,OAI Optical Associates Inc.制造)测定曝光射线波长在365nm处的强度得到的值作为曝光量,该值优选为100-10,000J/m2,更优选为1,000-2,000J/m2。
-工序(3)-
接着,对曝光后的被膜进行显影,除去不需要的部分,形成规定的图案。
作为显影中所用的显影液,优选碱性显影液。作为例子,可以列举例如氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、(正)硅酸钠(メタケイ酸ナトリウム)、氨等无机碱;乙胺、正丙胺等脂肪族伯胺;二乙胺、二正丙胺等脂肪族仲胺;三甲胺、甲基二乙胺、二甲基乙胺、三乙胺等脂肪族叔胺;吡咯、哌啶、N-甲基哌啶、N-甲基吡咯烷、1,8-二氮杂二环[5.4.0]-7-十一碳烯、1,5-二氮杂二环[4.3.0]-5-壬烯等脂环族叔胺;吡啶、可力丁、卢剔啶、喹啉等芳香族叔胺;乙醇二甲胺、甲基二乙醇胺、三乙醇胺等链烷醇胺;氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵等季铵盐等碱性化合物的水溶液。
此外,还可以向前述碱性化合物的水溶液中适量添加甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂、表面活性剂来使用。
作为显影方法,可以采用盛液法(液盛り法)、浸渍法、喷淋法等任意方法,显影时间优选为10-180秒左右。
显影后,进行例如30-90秒的流水洗涤,然后通过例如压缩空气或压缩氮气进行风干,形成所需要的图案。
-工序(4)-
接着,通过例如加热板、烘箱等加热装置在规定温度,例如100-250℃下,对所得图案进行规定时间的加热(后烘焙),例如在加热板上加热5-30分钟、在烘箱中加热30-180分钟,则可以得到规定的隔离物。
用于形成隔离物的现有的放射线敏感性树脂组合物如果不在180-200℃左右或其以上的温度下进行加热处理,则所得隔离物就不能发挥充分的性能,但是本发明的放射线敏感性树脂组合物的加热温度可以为比以往低的温度,其结果是即使在使用树脂基板作为透明基板时,也不会导致基板变黄或变形,并且可以形成压缩强度、液晶取向时的耐研磨性、与透明基板的密合性等各种性能都优异的隔离物。
液晶显示元件
本发明的液晶显示元件是具有如上所述所形成的本发明的隔离物的液晶显示元件。
作为本发明的液晶显示元件的结构,没有特别限定,可以列举例如如图1所示,具有如下结构:在透明基板上形成滤色层(カラ一フイルタ一
)和隔离物,在液晶层两侧设置的两个取向膜、对置的透明电极、对置的透明基板等。此外如图1所示,根据需要,也可以形成偏振片或在滤色层上形成保护膜。
此外,如图2所示,也可以通过在透明基板上形成滤色层和隔离物,并通过取向膜和液晶层,使其与薄膜晶体管(TFT)阵列对置而形成TN-TFT型液晶显示元件。在这种情况下,也可以根据需要形成偏振片或在滤色层上形成保护膜。
如上所述,本发明的放射线敏感性树脂组合物具有高敏感性和高分辨率,即使曝光量为1,200J/m2或1,200J/m2以下,也可以得到充分的图案形状,可以形成弹性回复性、耐研磨性、与透明基板的密合性、耐热性等都优异的液晶显示元件用隔离物,并且在形成隔离物时,可以降低显影后的后烘焙温度,不会导致树脂基板变黄和变形。
本发明的液晶显示元件具有图案形状、弹性回复性、耐研磨性、与透明基板的密合性、耐热性等各种性能都优异的隔离物,可以长期表现出高的可靠性。
实施例
以下,列举实施例更具体地说明本发明的实施方案。其中,份和%以重量为基准。
合成例1
向具有冷凝管、搅拌器的烧瓶中加入5份2,2’-偶氮二异丁腈、250份二乙二醇甲乙醚,接着加入18份甲基丙烯酸、25份甲基丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸烷-8-基酯、5份苯乙烯、5份丁二烯、25份甲基丙烯酸2,3-二羟基丙酯、22份甲基丙烯酸四氢呋喃-2-基酯,进行氮气置换后,一边缓慢搅拌,一边将溶液温度升至80℃,在该温度下保持5小时进行聚合,由此得到固体成分浓度为28.0%的共聚物[α-1]溶液。
对于所得的共聚物[α-1],使用GPC(凝胶渗透色谱)HLC-8020(商品名,东ソ一(株)制造)测定其Mw,测定值为13,000。
接着,向前述共聚物[α-1]溶液中添加15份2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯(商品名为カレンズMO I,昭和电工(株)制造)、0.1份4-甲氧基苯酚,然后在40℃下搅拌1小时,再在60℃下搅拌2小时,使其反应。通过IR(红外吸收)光谱确认来自于2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯的异氰酸酯基与共聚物[α-1]的羟基的反应进度。将聚合物溶液[α-1]、反应1时后的溶液以及在40℃下反应1小时、再在60℃下反应2小时后的溶液的IR光谱分别示于图3、图4和图5中。由此确认了随着反应的进行,来自于2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯的异氰酸酯基的2,270cm-1附近的峰减弱的情况。得到固体成分浓度为29.3%的[A]聚合物溶液。将该[A]聚合物作为聚合物(A-1)。
合成例2
向100份前述共聚物[α-1]溶液中添加14份2-丙烯酰氧基乙基异氰酸酯(商品名为カレンズAO I,昭和电工(株)制造)、0.1份4-甲氧基苯酚,然后在40℃下搅拌1小时,再在60℃下搅拌2小时,使其反应,由此得到固体成分浓度为29.5%的[A]聚合物溶液。将该[A]聚合物作为聚合物(A-2)。
合成例3
向具有冷凝管、搅拌器的烧瓶中加入7重量份2,2’-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)、250份二乙二醇甲乙醚,接着加入18份甲基丙烯酸、20份甲基丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸烷-8-基酯、5份苯乙烯、5份丁二烯、5份甲基丙烯酸缩水甘油酯、25份甲基丙烯酸2,3-二羟基丙酯、22份甲基丙烯酸四氢呋喃-2-基酯,进行氮气置换后,一边缓慢搅拌,一边将溶液温度升至70℃,在该温度下保持5小时进行聚合,由此得到固体成分浓度为28.0%的共聚物[α-2]溶液。
对于所得的共聚物[α-2],使用GPC(凝胶渗透色谱)HLC-8020(商品名,东ソ一(株)制造)测定其Mw,测定值为8,000。
接着,向100份前述共聚物[α-2]溶液中添加15份2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯、0.1份4-甲氧基苯酚,然后在40℃下搅拌1小时,再在60℃下搅拌2小时,使其反应,由此得到固体成分浓度为29.4%的[A]聚合物溶液。将该[A]聚合物作为聚合物(A-3)。
合成例4
向具有冷凝管、搅拌器的烧瓶中加入5份2,2’-偶氮二异丁腈、250份二乙二醇甲乙醚,接着加入22份丙烯酸、26份甲基丙烯酸苄酯、39份苯乙烯、23份甲基丙烯酸2-羟基乙酯,进行氮气置换后,一边缓慢搅拌,一边将溶液温度升至100℃,在该温度下保持5小时进行聚合,由此得到固体成分浓度为29.0%的共聚物[α-4]溶液。
对于所得的共聚物[α-4],使用GPC(凝胶渗透色谱)HLC-8020(商品名,东ソ一(株)制造)测定其Mw,测定值为25,000。
接着,向100份前述共聚物[α-4]溶液中添加27份2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯、0.1份4-甲氧基苯酚,然后在40℃下搅拌1小时,再在60℃下搅拌2小时,使其反应,由此得到固体成分浓度为29.4%的[A]聚合物溶液。将该[A]聚合物作为聚合物(A-4)。
实施例1
组合物溶液的制备
作为[A]成分,使用100份合成例1中所得[A]聚合物溶液作为聚合物(A-1),作为[B]成分,使用100份二季戊四醇六丙烯酸酯(商品名为KAYARADDPHA,日本化药(株)制造),作为[C]成分,使用5份1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氢吡喃基甲氧基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙烷-1-酮肟-O-乙酸酯、5份2,2’-双(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、5份4,4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮和2.5份2-巯基苯并噻唑,作为粘合剂,使用5份γ-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷,作为表面活性剂,使用0.5份FTX-218(商品名,(株)ネオス制造),作为保存稳定剂,使用0.5份4-甲氧基苯酚,将上述成分混合,溶解于丙二醇单甲醚乙酸酯中,使固体成分浓度为30%,然后用孔径为0.5μm的微孔过滤器过滤,制备组合物溶液。
组合物的评价
(1)敏感性的评价
在无碱玻璃基板上形成透明导电膜,使用旋涂器在其上涂布前述组合物溶液,然后在90℃的加热板上预烘焙3分钟,形成膜厚为4.0μm的被膜。
接着,对得到的被膜通过10μm见方的残余图案的光掩模、以曝光量作为变量,用365nm的强度为250W/m2的紫外线进行曝光。之后,通过0.05重量%的氢氧化钾水溶液在25℃下显影60秒,然后用纯水洗涤,再在220℃的烘箱中加热60分钟,由此形成隔离物。
此时,以显影后的残膜率(显影后的膜厚×100/初始膜厚。以下同)达到90%或90%以上的最小曝光量作为敏感性。当该曝光量为1,200J/m2或1,200J/m2以下时,认为其敏感性良好。
(2)分辨率的评价
除了使曝光量为显影后的残膜率达到90%或90%以上的最小曝光量之外,和前述敏感性的评价同样操作形成隔离物,并通过分辨的最小图案尺寸进行评价。
(3)显影时间的评价
除了使显影时间为显影后的残膜率达到90%或90%以上的最小曝光量,并以显影时间作为变量之外,与上述敏感性的评价同样操作形成隔离物。此时,显影时间为25、30、35、40、45、50、60秒,在各个显影时间时,用光学显微镜观察未曝光部分的残渣。此时,确认在未曝光部分没有残渣的最短显影时间如表2所示。在该显影时间即使为40秒或40秒以下,在未曝光部分也没有残渣时,认为显影时间缩短。
隔离物的评价
(4)断面形状的评价
除了使曝光量为显影后的残膜率达到90%或90%以上的最小曝光量之外,以与前述敏感性的评价同样方式得到隔离物,用扫描电子显微镜观察所得隔离物的断面形状,并根据其相当于图6所示A-D中的任一种情况来进行评价。这时如果其是A或B这样的图案边缘是正梯形或垂直状的情况,可以认为其断面形状良好。与此相对,如果其是C所示这样,敏感性不够、残膜率低,断面尺寸比A和B小,底面为平面半凸透镜状的情况,则断面形状不好,此外如果其是如D所示的倒梯形(断面形状中,膜表面的边比基板一侧的边还长的倒三角形状)的情况,由于在后面的研磨处理时,图案剥落的可能性非常大,因而认为断面形状不好。
(5)弹性回复率的评价
使用微型压缩试验机(商品名为DUH-201,(株)岛津制作所制造)通过直径为50μm的平面压头,使加荷速度和减荷速度都为2.6mN/秒,对所得隔离物加荷至50mN的荷重,保持5秒钟,然后减荷,得出加荷时的荷重-变形量曲线和减荷时的荷重-变形量曲线。这时,如图7所示,设加荷时荷重为50mN时的变形量和荷重为5mN时的变形量差为L1,设减荷时荷重为50mN时的变形量和荷重为5mN时的变形量差为L2,根据下式求出弹性回复率。
弹性回复率(%)=L2×100/L1
(6)耐研磨性的评价
通过液晶取向膜涂布用印刷机在形成有隔离物的基板上涂布作为液晶取向剂的AL 3046(商品名,JSR(株)制造),然后在180℃下干燥1小时,形成膜厚为0.05μm的液晶取向剂涂膜。
然后用具有缠绕了聚酰胺制的布的辊的研磨机,以500rpm的辊转速、1cm/秒的台移动速度对该涂膜进行研磨处理。这时,评价图案有无被削掉或剥落的情况。
(7)密合性的评价
除了不使用光掩模以外,与前述断面形状的评价同样操作形成固化膜,然后在JIS K-5400(1900)8.5的附着性试验中,通过8.52的棋盘格胶带法(碁盤目テ一プ法)进行评价。这时,将100个棋盘格中剩余的棋盘格数示于表2。
(8)耐热性的评价
除了不使用光掩模以外,与前述断面形状的评价同样操作形成固化膜,然后在240℃的烘箱中加热60分钟,测定加热前后的膜厚度,根据残膜率(加热后的膜厚×100/初始膜厚)进行评价。
(9)剥离液耐性的评价
在50℃下将形成有隔离物的基板浸渍在取向膜剥离液(产品名:TS-204,三洋化成制造)中30分钟,再在210℃下加热15分钟后测定膜厚变化。通过加热后的膜厚/初始膜厚×100(%)进行评价。如果用取向膜剥离液浸渍前后膜厚没有变化,则可以认为取向膜剥离液耐性良好。
(10)增粘率的评价
同样操作制备组合物溶液后,测定组合物溶液的粘度。在23℃下保存10天,测定10天后组合物溶液的粘度。由下式计算出增粘率(%)。粘度测定温度为20℃。
增粘率(%)={(组合物溶液制备后10天的粘度)-(组合物溶液制备后0天的粘度)}/(组合物溶液制备后0天的粘度)×100
10天后的增粘率为2%或2%以下时,可以认为保存稳定性良好。
实施例2-5、比较例1-5
实施例1中,将表1中所示的各成分与5份作为粘合助剂的γ-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、0.5份作为表面活性剂的FTX-218、0.5份作为保存稳定剂的4-甲氧基苯酚混合,并将其溶解于丙二醇单甲醚乙酸酯中,使固体成分浓度为30%,然后用孔径为0.5μm的微孔过滤器进行过滤,制备组合物溶液。然后和实施例1同样进行评价。评价结果示于表2。
表1中,除聚合物以外的各成分如下所示。
[B]成分
B-1:二季戊四醇六丙烯酸酯(商品名为KAYARAD DPHA)
B-2:含有多官能尿烷丙烯酸酯类化合物的市售品(商品名为KAYARADDPHA-40H)
[C]成分
C-1:1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9.H.-咔唑3-基]-乙烷-1-酮肟-O-乙酸酯(商品名为CGI-242,チバ·スペシヤルテイ一·ケミカルズ公司制造)
C-2:1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氢吡喃基甲氧基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙烷-1-酮肟-O-乙酸酯
C-3:2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮(商品名イルガキユア907,チバ·スペシヤルテイ一·ケミカルズ公司制造)
C-4:2-(4-甲基苯甲酰基)-2-(二甲基氨基)-1-(4-吗啉代苯基)-丁烷-1-酮(商品名イルガキユア379,チバ·スパシヤルテイ一·ケミカルズ公司制造)
C-5:2,2’-双(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑
C-6:4,4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮
C-7:2-巯基苯并噻唑。
[D]成分
D-1:多官能线型酚醛环氧树脂(商品名ヅヤパンエポキシレジン(株)制造,エピコ一ト152)
表1
共聚物A | B成分 | C成分 | D成分 | |||||
种类 | 重量份 | 种类 | 重量份 | 种类 | 重量份 | 种类 | 重量份 | |
实施例1 | A-1 | 100 | B-1 | 100 | C-2+C-5+C-6+C-7 | 5+5+5+25 | - | - |
实施例2 | A-1 | 100 | B-1+B-2 | 80+60 | C-2+C-5+C-6+C-7 | 5+5+5+25 | - | - |
实施例3 | A-3 | 100 | B-1 | 100 | C-2+C-5+C-6+C-7 | 5+5+5+25 | - | - |
实施例4 | A-3 | 100 | B-1+B-2 | 80+60 | C-2+C-5+C-6+C-7 | 5+5+5+25 | - | - |
实施例5 | A-2 | 100 | B-1 | 100 | C-1+C-4 | 5+10 | - | - |
- | - | |||||||
比较例1 | α-1 | 100 | B-1 | 100 | C-2+C-5+C-6+C-7 | 5+5+5+25 | - | - |
比较例2 | α-2 | 100 | B-1 | 100 | C-2+C-5+C-6+C-7 | 5+5+5+25 | - | - |
比较例3 | A-4 | 100 | B-1 | 100 | C-3 | 4 | D-1 | 4 |
比较例4 | A-4 | 100 | B-1 | 100 | C-2+C-5+C-6+C-7 | 5+5+5+25 | - | - |
比较例5 | A-4 | 100 | B-1 | 100 | C-2+C-5+C-6+C-7 | 5+5+5+25 | D-1 | 4 |
表2
敏感性(J/m2) | 分辨率(μm) | 显影时间(秒) | 断面形状 | 弹性回复率(%) | 耐研磨性试验有无剥落 | 密合性(/100) | 耐热性(%) | 剥离液耐性(%) | 增粘率 | |
(%) | ||||||||||
实施例1 | 1,000 | 10 | 35 | B | 87 | 无 | 100 | 89 | 100 | 1.0 |
实施例2 | 800 | 12 | 40 | A | 88 | 无 | 100 | 89 | 100 | 1.0 |
实施例3 | 1,000 | 10 | 35 | B | 91 | 无 | 100 | 96 | 100 | 2.0 |
实施例4 | 800 | 12 | 40 | A | 89 | 无 | 100 | 95 | 100 | 2.0 |
实施例5 | 800 | 12 | 35 | B | 88 | 无 | 100 | 89 | 100 | 1.2 |
比较例1 | 3,000 | 12 | 40 | C | 70 | 有 | 90 | 75 | 75 | 1.0 |
比较例2 | 3,000 | 12 | 40 | B | 80 | 无 | 100 | 83 | 80 | 2.0 |
比较例3 | 1,800 | 12 | 50 | B | 87 | 无 | 100 | 92 | 100 | 3.2 |
比较例4 | 1,800 | 12 | 45 | B | 81 | 无 | 100 | 78 | 75 | 1.0 |
比较例5 | 1,500 | 12 | 60 | B | 88 | 无 | 100 | 92 | 100 | 3.3 |
Claims (7)
2.权利要求1所述的聚合物的制备方法,其特征在于使上式(2)表示的异氰酸酯化合物与(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、(a2)上式(1)表示的1个分子中含有2个或2个以上羟基的化合物和(a3)其它不饱和化合物的共聚物进行反应。
3.一种放射线敏感性树脂组合物,其特征在于含有[A]权利要求1所述的聚合物、[B]聚合性不饱和化合物和[C]放射线敏感性聚合引发剂。
4.权利要求3所述的放射线敏感性树脂组合物,其用于形成液晶显示元件用隔离物。
5.液晶显示元件用隔离物,其由权利要求4所述的放射线敏感性树脂组合物形成。
6.液晶显示元件用隔离物的形成方法,其特征在于按照下述顺序包括至少下列工序:
(1)在基板上形成权利要求3所述的放射线敏感性树脂组合物被膜的工序、
(2)对该被膜的至少一部分进行曝光的工序、
(3)对曝光后的该被膜进行显影的工序、和
(4)加热显影后的该被膜的工序。
7.液晶显示元件,其具有权利要求5所述的隔离物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005217644 | 2005-07-27 | ||
JP2005217644 | 2005-07-27 | ||
JP2005-217644 | 2005-07-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1975573A true CN1975573A (zh) | 2007-06-06 |
CN1975573B CN1975573B (zh) | 2011-10-12 |
Family
ID=38013612
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2006101718274A Expired - Fee Related CN1975573B (zh) | 2005-07-27 | 2006-07-27 | 侧链不饱和聚合物、放射线敏感性树脂组合物以及液晶显示元件用隔离物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101290855B1 (zh) |
CN (1) | CN1975573B (zh) |
TW (1) | TWI394001B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102466923A (zh) * | 2010-10-29 | 2012-05-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | Tft-lcd及其驱动方法和彩膜基板制造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI467271B (zh) * | 2012-04-23 | 2015-01-01 | Au Optronics Corp | 液晶面板 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3650985B2 (ja) * | 1997-05-22 | 2005-05-25 | Jsr株式会社 | ネガ型感放射線性樹脂組成物およびパターン製造法 |
US6140019A (en) * | 1997-07-24 | 2000-10-31 | Jsr Corporation | Radiation sensitive composition |
US7323232B2 (en) * | 2002-10-31 | 2008-01-29 | Fujifilm Corporation | Resin composition for spacer, spacer, and liquid crystal display device |
JP4351519B2 (ja) * | 2003-11-26 | 2009-10-28 | 東洋インキ製造株式会社 | 感光性組成物およびカラーフィルタ |
JP2006301240A (ja) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、それから形成された突起およびスペーサー、ならびにそれらを具備する液晶表示素子 |
-
2006
- 2006-07-26 TW TW095127315A patent/TWI394001B/zh active
- 2006-07-26 KR KR1020060070132A patent/KR101290855B1/ko active IP Right Grant
- 2006-07-27 CN CN2006101718274A patent/CN1975573B/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102466923A (zh) * | 2010-10-29 | 2012-05-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | Tft-lcd及其驱动方法和彩膜基板制造方法 |
US8836902B2 (en) | 2010-10-29 | 2014-09-16 | Boe Technology Group Co., Ltd. | TFT-LCD, manufacturing method and driving method thereof |
CN102466923B (zh) * | 2010-10-29 | 2014-09-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | Tft-lcd及其驱动方法和彩膜基板制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20070014066A (ko) | 2007-01-31 |
TW200728333A (en) | 2007-08-01 |
CN1975573B (zh) | 2011-10-12 |
TWI394001B (zh) | 2013-04-21 |
KR101290855B1 (ko) | 2013-07-29 |
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