CN1752845A - 形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物和层间绝缘膜 - Google Patents

形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物和层间绝缘膜 Download PDF

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CN1752845A CNA2005101055163A CN200510105516A CN1752845A CN 1752845 A CN1752845 A CN 1752845A CN A2005101055163 A CNA2005101055163 A CN A2005101055163A CN 200510105516 A CN200510105516 A CN 200510105516A CN 1752845 A CN1752845 A CN 1752845A
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Abstract

提供一种形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物，其能够形成分辨率高，能够充分厚膜化，且透明性、耐热性、密合性、耐溶剂性等各种物性都优良的层间绝缘膜，并提供由该树脂组合物形成的层间绝缘膜。形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物特征在于包括(A)将(a)10～50重量％含酸性官能团的聚合性不饱和化合物、(b)20～60重量％含脂环状烃基而无酸性官能团的聚合性不饱和化合物以及(c)5～40重量％其它聚合性不饱和化合物聚合所得的碱可溶性共聚物；(B)聚合性不饱和化合物；(C)光聚合引发剂；以及(D)偶合剂。层间绝缘膜由该形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物形成。

Description

形成层间绝缘膜用的射线 敏感性树脂组合物和层间绝缘膜
技术领域
本发明涉及形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物，由该形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物形成的层间绝缘膜及其形成方法，以及具有该层间绝缘膜的液晶显示元件。
背景技术
薄膜晶体管(以下称为“TFT”)型液晶显示元件、磁头元件、集成电路元件、固体摄像管元件等电子部件通常在层状布置的布线之间设置绝缘用的层间绝缘膜，由于作为绝缘膜的材料，优选形成必要的图案形状的工序少、且具有非常好的表面光洁度的材料，因而射线敏感性树脂组合物被广泛地使用(例如，参考专利文献1和专利文献2)。
上述电子部件中，TFT型液晶显示元件由于经过在层间绝缘膜上形成透明电极膜，再在其上形成液晶定向膜的工序制成，因而该层间绝缘膜被置于透明电极膜形成工序的高温条件下，并且被置于形成预定图案形状的电极时所使用的保护层剥离液中，因此，需要对它们具有非常好的耐受性。
并且，近年来，在TFT液晶显示元件处于大屏幕化、高亮度化、高精密化、快速响应化等的趋势下，与此同时，液晶显示元件的构造也不断复杂化。因此，所用层间绝缘膜在低介电常数、高透光率等方面要求比以往有所提高的高性能，同时，在液晶显示元件的构造上，也提出了能够厚膜化等的特殊要求。
但是，在以往层间绝缘膜的形成中普遍使用的射线敏感性树脂组合物很难同时实现厚膜化、高透光率化和高分辨率化，因此迫切需要开发能够形成兼具这些性能的层间绝缘膜的射线敏感性树脂组合物。
【专利文献1】日本专利公开2001-354822号公报
【专利文献2】日本专利公开2001-343743号公报
发明内容
本发明是鉴于上述情况而作出的，其课题是提供一种形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物，其能够形成分辨率高，能够充分厚膜化，且透明性、耐热性、密合性、耐溶剂性等各种物性都优良的层间绝缘膜。
本发明的另一课题是提供由该形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物形成的层间绝缘膜及其形成方法，以及具有该层间绝缘膜的液晶显示元件。
本发明另外的课题和优点将通过以下的描述进行说明。
本发明，第一，
由一种形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物构成，其特征在于包括(A)将(a)10～50重量％含酸性官能团的聚合性不饱和化合物、(b)20～60重量％含脂环状烃基而无酸性官能团的聚合性不饱和化合物以及(c)5～40重量％其它聚合性不饱和化合物(其中，(a)+(b)+(c)＝100重量％)聚合所得的碱可溶性共聚物；(B)聚合性不饱和化合物；(C)光聚合引发剂；以及(D)偶合剂。
本发明中所述“射线”包括紫外线、远紫外线、X射线、电子束、分子束、γ射线、同步加速射线、质子束等。
本发明，第二，
由上述形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物形成的层间绝缘膜构成。
本发明，第三，
由一种形成层间绝缘膜的方法构成，其特征在于至少包括按照下述顺序的(1)～(4)工序，
(1)在基板上形成上述形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物涂膜的工序，
(2)对该涂膜的至少一部分照射射线的工序，
(3)对照射后的涂膜进行显影的工序，
(4)对显影后的涂膜进行烘焙的工序。
本发明，第四，
由具有上述层间绝缘膜的液晶显示元件构成。
具体实施方式
以下，对本发明进行具体的说明。
形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物
-共聚物(A)-
本发明中的(A)成分由将(a)10～50重量％含酸性官能团的聚合性不饱和化合物(以下，称为“(a)聚合性不饱和化合物”)、(b)20～60重量％含脂环状烃基而无酸性官能团的聚合性不饱和化合物(以下，称为“(b)聚合性不饱和化合物”)以及(c)5～40重量％其它聚合性不饱和化合物(其中，(a)+(b)+(c)＝100重量％)聚合所得的碱可溶性共聚物(以下，称为“(A)共聚物”)组成。
在(a)聚合性不饱和化合物中，作为酸性官能团，可以列举例如羧基、磺酸基、酚性羟基等，特别优选为羧基。
作为含羧基的(a)聚合性不饱和化合物(以下，称为“(a1)聚合性不饱和化合物”)，例如，可以列举：
(甲基)丙烯酸、巴豆酸、丙烯酸或巴豆酸的α-位被卤代烷基、烷氧基、卤素原子、硝基或氰基取代的化合物等不饱和一元羧酸类；
马来酸、马来酸酐、富马酸、柠康酸、中康酸、衣康酸等不饱和二元羧酸及其酸酐类；
上述不饱和二元羧酸中一个羧基的氢原子被甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、苯基、邻甲苯基、间甲苯基或对甲苯基取代的半酯类；
上述不饱和二元羧酸中一个羧基替换为酰胺基的半酰胺类；
(甲基)丙烯酸2-羟基乙基酯与琥珀酸的单酯化物、(甲基)丙烯酸2-羟基乙基酯与马来酸的单酯化物、(甲基)丙烯酸2-羟基乙基酯与六氢酞酸的单酯化物[以下称为“六氢酞酸单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯]”]等含羧基的甲基丙烯酸酯类。
这些(a1)聚合性不饱和化合物中，优选(甲基)丙烯酸、六氢酞酸单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯等。
在本发明中，(a)聚合性不饱和化合物可以单独或者2种或以上混合使用。优选(甲基)丙烯酸与六氢酞酸单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯]的混合物，特别优选甲基丙烯酸与六氢酞酸单[2-甲基丙烯酰氧基乙酯]的混合物。
另外，作为含磺酸基的(a)聚合性不饱和化合物，可以列举例如对-苯乙烯磺酸、对-α-甲基苯乙烯磺酸等，作为含酚性羟基的(a)聚合性不饱和化合物，可以列举例如对羟基苯乙烯、对-羟基-α-甲基苯乙烯等。
其次，作为(b)聚合性不饱和化合物，可以列举例如(甲基)丙烯酸环戊基酯、(甲基)丙烯酸环己基酯、(甲基)丙烯酸2-甲基环己基酯、(甲基)丙烯酸异冰片基酯、(甲基)丙烯酸三环癸烷基酯、(甲基)丙烯酸金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸2-环戊氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸2-环己氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸2-异冰片基氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸2-双环戊烷基氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸2-金刚烷基氧基乙基酯等。
这些(b)聚合性不饱和化合物中，优选(甲基)丙烯酸三环癸烷基酯等，特别优选甲基丙烯酸三环癸烷基酯。
在本发明中，(b)聚合性不饱和化合物可以单独或者2种或以上混合使用。
此外，其它聚合性不饱和化合物主要是为了调节(A)共聚物的机械特性的目的而使用的。
作为其它聚合性不饱和化合物，可以列举例如(甲基)丙烯酸酯类、上述(a)聚合性不饱和化合物中所示例的不饱和二羧酸的二酯类、芳香族乙烯化合物、共轭二烯烃类、含腈基的不饱和化合物、含氯不饱和化合物、含酰胺基的不饱和化合物、脂肪族乙烯酯类等。
作为其它聚合性不饱和化合物，更具体地说，(甲基)丙烯酸酯类可以列举(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸新戊基酯、(甲基)丙烯酸4-异戊基己基酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸炔丙酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸萘基酯、(甲基)丙烯酸蒽基酯、(甲基)丙烯酸蒽醌基酯、(甲基)丙烯酸胡椒基酯、(甲基)丙烯酸水杨基酯、(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸苯乙基酯、(甲基)丙烯酸甲苯基酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸三苯甲基酯、(甲基)丙烯酸枯基酯、(甲基)丙烯酸2，2，2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸五氟乙酯、(甲基)丙烯酸七氟正丙酯、(甲基)丙烯酸七氟异丙酯、(甲基)丙烯酸2-(N，N-二甲氨基)乙酯、(甲基)丙烯酸3-(N，N-二甲氨基)丙酯、(甲基)丙烯酸呋喃酯、(甲基)丙烯酸糠基酯、(甲基)丙烯酸四氢糠基酯、α-(甲基)丙烯酰氧基γ-丁内酯、β-(甲基)丙烯酰氧基γ-丁内酯等；
作为不饱和二羧酸的二酯类，可以列举马来酸二甲酯、马来酸二乙酯、富马酸二甲酯、富马酸二乙酯、衣康酸二甲酯、衣康酸二乙酯等；作为芳香族乙烯化合物，可以列举苯乙烯、α-甲基苯乙烯、邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、对甲氧基苯乙烯等；作为共轭二烯烃类，可以列举1，3-丁二烯、异戊二烯、2，3-二甲基-1，3-丁二烯等；作为含腈基不饱和化合物，可以列举(甲基)丙烯腈、亚乙烯基二氰等；作为含氯不饱和化合物，可以列举氯乙烯、亚乙烯基二氯等；作为含酰胺基的不饱和化合物，可以列举(甲基)丙烯酰胺、马来酸二酰胺、富马酸二酰胺等；作为脂肪族乙烯酯类，可以列举醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等。
这些其它聚合性不饱和化合物中，优选(甲基)丙烯酸四氢糠基酯、苯乙烯、1，3-丁二烯、异戊二烯等。
在本发明中，其它聚合性不饱和化合物可以单独或者2种或以上混合使用，更优选苯乙烯与(甲基)丙烯酸四氢糠基酯的混合物，苯乙烯与1，3-丁二烯和/或异戊二烯的混合物，特别优选苯乙烯与甲基丙烯酸四氢糠基酯的混合物。
若更具体地例举说明本发明中优选的(A)共聚物，优选由(甲基)丙烯酸和/或六氢酞酸单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯]组成的(a1)聚合性不饱和化合物、由(甲基)丙烯酸双环戊烷基酯组成的(b)聚合性不饱和化合物与由选自(甲基)丙烯酸四氢糠基酯、苯乙烯、1，3-丁二烯和异戊二烯的至少一种组成的其它聚合性不饱和化合物形成的共聚物。
更优选由甲基丙烯酸与六氢酞酸单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯]的混合物组成的(a1)聚合性不饱和化合物、由(甲基)丙烯酸双环戊烷基酯组成的(b)聚合性化合物与由苯乙烯与(甲基)丙烯酸四氢糠基酯的混合物或者苯乙烯与1，3-丁二烯和/或异戊二烯的混合物组成的其它聚合性不饱和化合物形成的共聚物。
特别优选由甲基丙烯酸与六氢酞酸单[2-甲基丙烯酰氧基乙酯]的混合物组成的(a1)聚合性不饱和化合物、由甲基丙烯酸双环戊烷基酯组成的(b)聚合性不饱和化合物与由苯乙烯与甲基丙烯酸四氢糠基酯的混合物组成的其它聚合性不饱和化合物形成的共聚物。
(A)共聚物可以通过将(a)聚合性不饱和化合物、(b)聚合性不饱和化合物和其它聚合性不饱和化合物例如于适当的溶剂中在自由基聚合引发剂的存在下进行聚合而制备。
制备(A)共聚物时各聚合性不饱和化合物的使用比率为：(a)聚合性不饱和化合物为10～50重量％，优选为20～40重量％；(b)聚合性不饱和化合物为20～60重量％，优选为30～50重量％；其它聚合性不饱和化合物为5～40重量％，优选为10～35重量％(其中，(a)+(b)+(c)＝100％)。
这时，当(a)聚合性不饱和化合物的使用比率若不足10重量％，则所得共聚物难溶于碱显影液，显影后发生膜残留，从而难以获得足够的分辨率，另一方面，当超过50重量％时，所得共聚物对于碱显影液溶解度过大，导致使射线照射部位膜减少过多。另外，若(b)聚合性不饱和化合物的使用比率不足20重量％，则所得共聚物的分子量不能充分提高，难以形成膜厚度为10μm或以上的涂膜，另一方面，若超过60重量％，则所得共聚物对于聚合中使用的溶剂和下述的液体状组合物的配制中所用的有机溶剂溶解性下降。
作为上述聚合中使用的溶剂，可以列举甲醇、乙醇、双丙酮醇等醇类；四氢呋喃、四氢吡喃、二氧六环等醚类；乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚等乙二醇烷基醚类；乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇单乙醚乙酸酯等乙二醇单烷基醚乙酸酯类；二甘醇单甲醚、二甘醇单乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇乙基甲基醚、二甘醇二乙醚等二甘醇烷基醚类；丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单正丙醚、丙二醇单正丁醚等丙二醇单烷基醚类；丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单正丙醚乙酸酯、丙二醇单正丁醚乙酸酯等丙二醇单烷基醚乙酸酯类；丙二醇单甲醚丙酸酯、丙二醇单乙醚丙酸酯、丙二醇单正丙醚丙酸酯、丙二醇正丁醚丙酸酯等丙二醇单烷基醚丙酸酯类；甲苯、二甲苯等芳香族烃类；甲基乙基酮、甲基异丁基酮、2-庚酮、环己酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮等酮类；
醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸正丁酯、羟基醋酸甲酯、羟基醋酸乙酯、羟基醋酸正丙酯、羟基醋酸正丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯、乳酸正丁酯、3-羟基丙酸甲酯、3-羟基丙酸乙酯、3-羟基丙酸正丙酯、3-羟基丙酸正丁酯、2-羟基-2-甲基丙酸甲酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、甲氧基醋酸甲酯、甲氧基醋酸乙酯、甲氧基醋酸正丙酯、甲氧基醋酸正丁酯、乙氧基醋酸甲酯、乙氧基醋酸乙酯、乙氧基醋酸正丙酯、乙氧基醋酸正丁酯、正丙氧基醋酸甲酯、正丙氧基醋酸乙酯、正丙氧基醋酸正丙酯、正丙氧基醋酸正丁酯、正丁氧基醋酸甲酯、正丁氧基醋酸乙酯、正丁氧基醋酸正丙酯、正丁氧基醋酸正丁酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸正丙酯、2-甲氧基丙酸正丁酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸正丙酯、2-乙氧基丙酸正丁酯、2-正丙氧基丙酸甲酯、2-正丙氧基丙酸乙酯、2-正丙氧基丙酸正丙酯、2-正丙氧基丙酸正丁酯、2-正丁氧基丙酸甲酯、2-正丁氧基丙酸乙酯、2-正丁氧基丙酸正丙酯、2-正丁氧基丙酸正丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸正丙酯、3-甲氧基丙酸正丁酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸正丙酯、3-乙氧基丙酸正丁酯、3-正丙氧基丙酸甲酯、3-正丙氧基丙酸乙酯、3-正丙氧基丙酸正丙酯、3-正丙氧基丙酸正丁酯、3-正丁氧基丙酸甲酯、3-正丁氧基丙酸乙酯、3-正丁氧基丙酸正丙酯、3-正丁氧基丙酸正丁酯等的酯类等。
这些溶剂可以单独或者2种或以上混合使用。
此外，作为上述自由基聚合引发剂，可以列举例如2，2’-偶氮二异丁腈、2，2’-偶氮二-(2，4-二甲基戊腈)、2，2-偶氮二(4-甲氧基-2，4-二甲基戊腈)等偶氮化合物；过氧苯甲酰、过氧化月桂酰、过氧新戊酸叔丁酯、1，1’-二-(叔丁基过氧)环己烷等有机过氧化物或过氧化氢等。当使用过氧化物作为自由基聚合引发剂时，还可以联用还原剂作为氧化还原型引发剂。
(A)共聚物的聚苯乙烯换算重均分子量(以下称为“Mw”)优选为2,000～100,000，更优选为5,000～50,000。这时，若(A)共聚物的Mw不足2,000，则存在碱显影性和残膜率下降，且图案形状和耐热性受损害的可能，另一方面，若超过100,000，存在敏感度、图案形状受损坏的可能。
并且，(A)共聚物的Mw与聚苯乙烯换算的数均分子量(以下称为“Mn”)的比(以下称为“Mw/Mn”)通常为1.0～5.0，优选为1.0～3.0。
在本发明中，(A)共聚物可以单独或者2种或以上混合使用。
-(B)聚合性不饱和化合物-
本发明中的聚合性不饱和化合物是可在光聚合引发剂的存在下通过照射射线进行聚合的化合物。
作为聚合性不饱和化合物，可以列举例如具有1个乙烯性不饱和键的化合物、具有2个乙烯性不饱和键的化合物、具有3个乙烯性不饱和键的化合物等。
作为上述具有1个乙烯性不饱和键的化合物，可以列举例如1元醇的单(甲基)丙烯酸酯类，优选下述式(1)代表的化合物。
Figure A20051010551600121
[式(1)中，n为0～8的整数，R表示氢原子或者碳原子数为1～9的直链、支链或环状的烷基]。
作为式(1)代表的化合物的具体例子，商品名可以列举アロニツクスM-101(n约等于2，R＝H)、アロニツクスM-102(n约等于4，R＝H)、アロニツクスM-111[n约等于1，R＝n-C9H19(n-壬基，以下同)]、アロニツクスM-113(n约等于4，R＝n-C9H19)、アロニツクスM-114(n约等于8，R＝n-C9H19)、アロニツクスM-117(n＝2.5，R＝n-C9H19)[以上由东亚合成化学工业(株)生产]、KAYARADR-564(n约等于2.3，R＝H)[日本化药(株)产]等。
另外，作为式(1)代表的化合物以外的具有1个乙烯性不饱和键的化合物的具体例子，商品名可以列举KAYARAD TC-110S、KAYARAD TC-120S[以上由日本化药(株)生产]，V-158、V-2311[以上由大阪有机化学工业(株)生产]等。
此外，作为上述以外的具有1个乙烯性不饱和键的化合物，可以使用马来酸二甲酯、马来酸二乙酯等不饱和羧酸二酯等以及与对(A)共聚物中的(a)聚合性不饱和化合物、(b)聚合性不饱和化合物或者其它聚合性不饱和化合物所例示的化合物相同的化合物。
其次，作为上述具有2个乙烯性不饱和键的化合物，可以列举例如2元醇的二(甲基)丙烯酸酯类，优选下述式(2)代表的化合物、下述式(3)代表的化合物、下述式(4)代表的化合物等。
[式(2)中，n和m各自为0～8的整数，各个R相互独立地表示氢原子或者甲基]。
CH2＝CHCOO-(R-O)n-COCH＝CH2    (3)
[式(3)中，R为碳原子数为2～8的直链或支链的亚烷基，n为1～10的整数]。
Figure A20051010551600132
[式(4)中，各个R相互独立地表示氢原子或甲基，M表示2元醇残基，N表示二羧酸残基，n为0或1]。
作为式(2)代表的化合物的具体例子，商品名可以列举アロニツクスM-210(n约等于2，m约等于2，R＝CH3)[东亚合成化学工业(株)产]、KAYARAD R-551(n+m约等于4，R＝CH3)、KAYARADR-712(n+m约等于4，R＝H)[以上由日本化药(株)生产]等。
另外，作为式(3)代表的化合物的具体例子，商品名可以列举アロニツクスM-240(R＝-CH2-CH2-，n约等于4)、アロニツクスM-245(R＝-CH2-CH2-，n约等于9)、[以上由东亚合成化学工业(株)生产]、KAYARAD HDDA(R＝-(CH2)6-，n＝1)、KAYARAD NPGDA(R＝-CH2C(CH3)2CH2-，n＝1)、KAYARAD TPGDA(R＝-CH2CH(CH3)-，n＝1)、KAYARAD PEG400DA(R＝-CH2CH2-，n约等于8)、KAYARAD MANDA(R＝-CH2C(CH3)2CH2-，n＝1)[以上由日本化药(株)生产]、ライトアクリレ一ト1.9-NDA[R＝-(CH2)8-，n＝1]等。
另外，作为式(4)代表的化合物的具体例子，商品名可以列举アロニツクスM-6100、アロニツクスM-6200、アロニツクスM-6250、アロニツクスM-6300、アロニツクスM-6400、アロニツクスM-6500[以上由东亚合成化学工业(株)生产]等。
此外，作为上述具有2个乙烯性不饱和键的化合物，可以列举下述式(5-1)代表的化合物[商品名为KAYARAD HX-220，日本化药(株)产]、式(5-2)代表的化合物[商品名KAYARAD HX-620，日本化药(株)产]或商品名R-604[日本化药(株)产]、V-260、V-312、V-335HP[以上由大阪有机化学工业(株)生产]等。
Figure A20051010551600141
Figure A20051010551600142
[式(5-1)中，p和q各自为0～2的整数，p+q＝2]
[式(5-2)中，p和q各自为0～4的整数，p+q＝4]
其次，作为上述具有3个或3个以上的乙烯性不饱和键的化合物，可以列举例如3元或以上醇的聚(甲基)丙烯酸酯类，优选下式(6)代表的化合物、下式(7)代表的化合物、下式(8)代表的化合物、下式(9)代表的化合物等。
[CH2＝CHCO-(OC3H6)n-OCH2-]3CCH2R               (6)
[式(6)中，n为0～8的整数，R表示氢原子、甲基或羟基]。
(CH2＝CHCOOCH2)3CCH2-R-CH2C(CH2OCOCH＝CH2)3    (7)
[式(7)中，R表示氧原子或亚甲基]。
Figure A20051010551600151
[式(8)中，各个R相互独立地表示氢原子或甲基，X表示3元醇残基，Y表示二羧酸残基，n为0～15的整数]。
Figure A20051010551600152
[式(9)中，A表示CH2＝CHCO-，n为1或2，a为2～6的整数，b为0～4的整数，a+b＝6]。
作为式(6)代表的化合物的具体例子，商品名可以列举アロニツクスM-309(n＝0，R＝CH3)、アロニツクスM-310(n约等于1，R＝CH3)、[以上由东亚合成化学工业(株)生产]、KAYARADTMPTA(n＝0，R＝CH3)[日本化药(株)产]、V-295(n＝0，R＝CH3)、V-300(n＝0，R＝OH)[以上由大阪有机化学工业(株)生产]等。
另外，作为式(7)代表的化合物的具体例子，商品名可以列举アロニツクスM-400[东亚合成化学工业(株)产]等。
另外，作为式(8)代表的化合物的具体例子，商品名可以列举アロニツクスM-7100、アロニツクスM-8030、アロニツクスM-8060、アロニツクスM-8100、アロニツクスM-9050[以上由东亚合成化学工业(株)生产]等。
另外，作为式(9)代表的化合物的具体例子，商品名可以列举KAYARAD DPCA-20(n约等于1，a约等于2，b约等于4)、KAYARAD DPCA-30(n约等于1，a约等于3，b约等于3)、KAYARAD DPCA-60(n约等于1，a约等于6，b约等于0)、KAYARAD DPCA-120(n约等于2，a约等于6，b约等于0)[以上由日本化药(株)生产]、V-360、V-GPT、V-3PA、V-400[以上由大阪有机化学工业(株)生产]等。
这些聚合性不饱和化合物中，优选具有2个乙烯性不饱和键的化合物和具有3个或以上乙烯性不饱和键的化合物，更优选式(4)代表的化合物、式(8)代表的化合物等。
在本发明中，聚合性不饱和化合物可以单独或2种或以上混合使用。
本发明形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物中聚合性不饱和化合物的用量，相对于100重量份(A)共聚物，优选为30～150重量份，更优选为50～100重量份。这时，若聚合性不饱和化合物的用量不足30重量份，存在敏感度下降的趋势，另一方面，若超过150重量份，与(A)共聚物的相溶性降低，存在在膜表面产生膜龟裂的可能。
-(C)光聚合引发剂-
本发明的光聚合引发剂是通过照射射线产生活性物质(例如，自由基)的化合物，该活性物质能够引发(B)聚合性不饱和化合物聚合。
作为这样的光聚合引发剂，例如，可以列举二苯甲酰、丁二酮等α-二酮类；苯偶姻等偶姻类；苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚等偶姻醚类；噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、噻吨酮-4-磺酸等噻吨酮类；二苯甲酮、4，4’-二(二甲氨基)二苯甲酮、4，4’-二(二乙氨基)二苯甲酮等二苯甲酮类；苯乙酮、对-二甲氨基苯乙酮、α，α’-二甲氧基乙酰氧基二苯酮、2，2’-二甲氧基-2-苯基乙酰苯、对-甲氧基苯乙酮、2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮、2-甲基[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉基苯基)丁烷-1-酮等苯乙酮类；蒽醌、1，4-萘醌等醌类；苯甲酰甲基氯、三溴甲基苯砜、三(三氯甲基)-s-三嗪等卤代化合物、二叔丁基过氧化物等过氧化物；2，4，6-三甲基苯甲酰二苯基膦过氧化物等酰基膦过氧化物类等。
此外，作为光聚合引发剂的市售品，商品名可以列举イルガキュア184、イルガキュア500、イルガキュア651、イルガキュア907、イルガキュアCGI369、イルガキュアCG24-61(以上由チバガイギ一公司生产)、ルシリンLR8728、ルシリンTPO(以上由BASF公司生产)、ダロキユア1116、ダロキュア1173(以上由默克公司生产)、ュベクリルp36(UCB公司生产)等。
这些光聚合引发剂中，优选2，2-二甲氧基-1，2-二苯乙烷-1-酮、2-甲基[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉基苯基)丁烷-1-酮等苯乙酮类或苯甲酰甲基氯、三溴甲基苯砜、2，4，6-三甲基苯甲酰二苯基膦过氧化物等。
在本发明中，光聚合引发剂可以单独或者2种或以上混合使用，并且可以与光增敏剂联用。
本发明的形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物中光聚合引发剂的用量，相对于100重量份(B)聚合性不饱和化合物，优选为1～50重量份，更优选为10～40重量份。这时，若光聚合引发剂的用量不足1重量份，容易受到自由基因氧失活的影响(敏感性下降)，另一方面，若超过50重量份，则存在与(A)共聚物和聚合性不饱和化合物的相溶性、所得树脂组合物的储存稳定性等下降的趋势。
-(D)偶合剂-
作为本发明的偶合剂，可以列举例如硅烷类偶合剂、钛类偶合剂、铝类偶合剂等。
作为上述硅烷类偶合剂，可以列举例如3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三正丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三异丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三乙酰氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二正丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二异丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二乙酰氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二(2-甲氧基乙氧基)硅烷等含(甲基)丙烯酰基的硅烷类偶合剂；
乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三正丙氧基硅烷、乙烯基三异丙氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、1，3-二乙烯基四甲基二硅氮烷等含乙烯基的硅烷类偶合剂；
5-(二环庚烷基)三甲氧基硅烷、5-(二环庚烷基)三乙氧基硅烷、5-(二环庚烷基)三正丙氧基硅烷、5-(二环庚烷基)三异丙氧基硅烷、5-(二环庚烷基)三乙酰氧基硅烷、5-(二环庚烷基)三(2-甲氧基乙氧基)硅烷等含二环庚烷基的硅烷类偶合剂；
[2-(3-环己烯)乙基]三甲氧基硅烷、[2-(3-环己烯)乙基]三乙氧基硅烷、[2-(3-环己烯)乙基]三正丙氧基硅烷、[2-(3-环己烯)乙基]三异丙氧基硅烷、[2-(3-环己烯)乙基]三乙酰氧基硅烷、[2-(3-环己烯)乙基]三(2-甲氧基乙氧基)硅烷等含环己烯基的硅烷类偶合剂；
3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三正丙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三异丙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙酰氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二正丙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二异丙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙酰氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三乙氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三正丙氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三异丙氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三乙酰氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷等含环氧基的硅烷类偶合剂；
3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三正丙氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三异丙氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三乙酰氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷等含异氰酸酯基的硅烷类偶合剂；
3-二烯丙基氨基丙基三甲氧基硅烷、3-二烯丙基氨基丙基三乙氧基硅烷、3-二烯丙基氨基丙基三正丙氧基硅烷、3-二烯丙基氨基丙基三异丙氧基硅烷、3-二烯丙基氨基丙基三乙酰氧基硅烷、3-二烯丙基氨基丙基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基三甲氧基硅烷、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基三乙氧基硅烷、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基三正丙氧基硅烷、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基三异丙氧基硅烷、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基三乙酰氧基硅烷、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷等含氨基的硅烷类偶合剂；
N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基三甲氧基硅烷·盐酸盐、N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基三乙氧基硅烷·盐酸盐、N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基三正丙氧基硅烷·盐酸盐、N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基三异丙氧基硅烷·盐酸盐、N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基三乙酰氧基硅烷·盐酸盐、N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷·盐酸盐等含胺盐酸盐基的硅烷类偶合剂；
2-(氯甲基)烯丙基三甲氧基硅烷、2-(氯甲基)烯丙基三乙氧基硅烷、2-(氯甲基)烯丙基三正丙氧基硅烷、2-(氯甲基)烯丙基三异丙氧基硅烷、2-(氯甲基)烯丙基三乙酰氧基硅烷、2-(氯甲基)烯丙基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷等含卤素的硅烷类偶合剂等。
另外，作为上述钛类偶合剂，可以列举例如3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基钛、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三乙氧基钛、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三正丙氧基钛、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三异丙氧基钛、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三乙酰氧基钛、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三(2-甲氧基乙氧基)钛、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基钛、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基钛、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二正丙氧基钛、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二异丙氧基钛、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二乙酰氧基钛、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二(2-甲氧基乙氧基)钛等含(甲基)丙烯酰基的钛类偶合剂；
乙烯基三甲氧基钛、乙烯基三乙氧基钛、乙酰基三正丙氧基钛、乙烯基三异丙氧基钛、乙烯基三乙酰氧基钛、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)钛等含乙烯基的钛类偶合剂；
5-(二环庚烷基)三甲氧基钛、5-(二环庚烷基)三乙氧基钛、5-(二环庚烷基)三正丙氧基钛、5-(二环庚烷基)三异丙氧基钛、5-(二环庚烷基)三乙酰氧基钛、5-(二环庚烷基)三(2-甲氧基乙氧基)钛等含二环庚烷基的钛类偶合剂；
[2-(3-环己烯)乙基]三甲氧基钛、[2-(3-环己烯)乙基]三乙氧基钛、[2-(3-环己烯)乙基]三正丙氧基钛、[2-(3-环己烯)乙基]三异丙氧基钛、[2-(3-环己烯)乙基]三乙酰氧基钛、[2-(3-环己烯)乙基]三(2-甲氧基乙氧基)钛等含环己烯基的钛类偶合剂；
3-环氧丙氧基丙基三甲氧基钛、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基钛、3-环氧丙氧基丙基三正丙氧基钛、3-环氧丙氧基丙基三异丙氧基钛、3-环氧丙氧基丙基三乙酰氧基钛、3-环氧丙氧基丙基三(2-甲氧基乙氧基)钛、3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基钛、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基钛、3-环氧丙氧基丙基甲基二正丙氧基钛、3-环氧丙氧基丙基甲基二异丙氧基钛、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙酰氧基钛、3-环氧丙氧基丙基甲基二(2-甲氧基乙氧基)钛、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基钛、2-(3，4-环氧环己基)乙基三乙氧基钛、2-(3，4-环氧环己基)乙基三正丙氧基钛、2-(3，4-环氧环己基)乙基三异丙氧基钛、2-(3，4-环氧环己基)乙基三乙酰氧基钛、2-(3，4-环氧环己基)乙基三(2-甲氧基乙氧基)钛等含环氧基的钛类偶合剂；
3-异氰酸酯基丙基三甲氧基钛、3-异氰酸酯基丙基三乙氧基钛、3-异氰酸酯基丙基三正丙氧基钛、3-异氰酸酯基丙基三异丙氧基钛、3-异氰酸酯基丙基三乙酰氧基钛、3-异氰酸酯基丙基三(2-甲氧基乙氧基)钛等含异氰酸酯基的钛类偶合剂；
3-二烯丙基氨基丙基三甲氧基钛、3-二烯丙基氨基丙基三乙氧基钛、3-二烯丙基氨基丙基三正丙氧基钛、3-二烯丙基氨基丙基三异丙氧基钛、3-二烯丙基氨基丙基三乙酰氧基钛、3-二烯丙基氨基丙基三(2-甲氧基乙氧基)钛、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基三甲氧基钛、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基三乙氧基钛、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基三正丙氧基钛、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基三异丙氧基钛、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基三乙酰氧基钛、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基三(2-甲氧基乙氧基)钛等含氨基的钛类偶合剂；
N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基三甲氧基钛·盐酸盐、N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基三乙氧基钛·盐酸盐、N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基三正丙氧基钛·盐酸盐、N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基三异丙氧基钛·盐酸盐、N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基三乙酰氧基钛·盐酸盐、N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基三(2-甲氧基乙氧基)钛·盐酸盐等含胺盐酸盐基的钛类偶合剂；
2-(氯甲基)烯丙基三甲氧基钛、2-(氯甲基)烯丙基三乙氧基钛、2-(氯甲基)烯丙基三正丙氧基钛、2-(氯甲基)烯丙基三异丙氧基钛、2-(氯甲基)烯丙基三乙酰氧基钛、2-(氯甲基)烯丙基三(2-甲氧基乙氧基)钛等含卤素的钛类偶合剂等。
此外，作为铝类偶合剂，可以列举例如3-(甲基)丙烯酰氧基丙基二甲氧基铝、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基二乙氧基铝、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基二正丙氧基铝、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基二异丙氧基铝、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基二乙酰氧基铝、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基二(2-甲氧基乙氧基)铝、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基甲氧基铝、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基乙氧基铝、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基正丙氧基铝、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基异丙氧基铝、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基乙酰氧基铝、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基(2-甲氧基乙氧基)铝等含(甲基)丙烯酰基的铝类偶合剂；
乙烯基二甲氧基铝、乙烯基二乙氧基铝、乙烯基二正丙氧基铝、乙烯基二异丙氧基铝、乙烯基二乙酰氧基铝、乙烯基二(2-甲氧基乙氧基)铝等含乙烯基的铝类偶合剂；
5-(二环庚烷基)二甲氧基铝、5-(二环庚烷基)二乙氧基铝、5-(二环庚烷基)二正丙氧基铝、5-(二环庚烷基)二异丙氧基铝、5-(二环庚烷基)二乙酰氧基铝、5-(二环庚烷基)二(2-甲氧基乙氧基)铝等含二环庚烷基的铝类偶合剂；
[2-(3-环己烯)乙基]二甲氧基铝、[2-(3-环己烯)乙基]二乙氧基铝、[2-(3-环己烯)乙基]二正丙氧基铝、[2-(3-环己烯)乙基]二异丙氧基铝、[2-(3-环己烯)乙基]二乙酰氧基铝、[2-(3-环己烯)乙基]二(2-甲氧基乙氧基)铝等含环己烯基的铝类偶合剂；
3-环氧丙氧基丙基二甲氧基铝、γ-环氧丙氧基丙基二乙氧基铝、3-环氧丙氧基丙基二正丙氧基铝、3-环氧丙氧基丙基二异丙氧基铝、3-环氧丙氧基丙基二乙酰氧基铝、3-环氧丙氧基丙基二(2-甲氧基乙氧基)铝、3-环氧丙氧基丙基甲基甲氧基铝、3-环氧丙氧基丙基甲基乙氧基铝、3-环氧丙氧基丙基甲基正丙氧基铝、3-环氧丙氧基丙基甲基异丙氧基铝、3-环氧丙氧基丙基甲基乙酰氧基铝、3-环氧丙氧基丙基甲基(2-甲氧基乙氧基)铝、2-(3，4-环氧环己基)乙基二甲氧基铝、2-(3，4-环氧环己基)乙基二乙氧基铝、2-(3，4-环氧环己基)乙基二正丙氧基铝、2-(3，4-环氧环己基)乙基二异丙氧基铝、2-(3，4-环氧环己基)乙基二乙酰氧基铝、2-(3，4-环氧环己基)乙基二(2-甲氧基乙氧基)铝等含环氧基的铝类偶合剂；
3-异氰酸酯基丙基二甲氧基铝、3-异氰酸酯基丙基二乙氧基铝、3-异氰酸酯基丙基二正丙氧基铝、3-异氰酸酯基丙基二异丙氧基铝、3-异氰酸酯基丙基二乙酰氧基铝、3-异氰酸酯基丙基二(2-甲氧基乙氧基)铝等含异氰酸酯基的铝类偶合剂；
3-二烯丙基氨基丙基二甲氧基铝、3-二烯丙基氨基丙基二乙氧基铝、γ-二烯丙基氨基丙基二正丙氧基铝、γ-二烯丙基氨基丙基二异丙氧基铝、3-二烯丙基氨基丙基二乙酰氧基铝、3-二烯丙基氨基丙基二(2-甲氧基乙氧基)铝、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基二甲氧基铝、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基二乙氧基铝、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基二正丙氧基铝、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基二异丙氧基铝、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基二乙酰氧基铝、3-(3-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基二(2-甲氧基乙氧基)铝等含氨基的铝类偶合剂；
N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基二甲氧基铝·盐酸盐、N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基二乙氧基铝·盐酸盐、N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基二正丙氧基铝·盐酸盐、N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基二异丙氧基铝·盐酸盐、N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基二乙酰氧基铝·盐酸盐、N-[2-(对-乙烯基苄氨基)乙基]-3-氨基丙基二(2-甲氧基乙氧基)铝·盐酸盐等含胺盐酸盐基的铝类偶合剂；
2-(氯甲基)烯丙基二甲氧基铝、2-(氯甲基)烯丙基二乙氧基铝、2-(氯甲基)烯丙基二正丙氧基铝、2-(氯甲基)烯丙基二异丙氧基铝、2-(氯甲基)烯丙基二乙酰氧基铝、2-(氯甲基)烯丙基二(2-甲氧基乙氧基)铝等含卤素的铝类偶合剂、或者9-十八烯基乙酰醋酸铝二异丙氧化物等。
这些偶合剂中，优选3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、1，3-二乙烯基四甲基二硅氮烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三异丙氧基钛、9-十八烯基乙酰醋酸铝二异丙氧化物等。
在本发明中，偶合剂可以单独或者2种或以上混合使用。
本发明的形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物中偶合剂的用量，相对于100重量份共聚物(A)，优选为0.5～20重量份，更优选为2～10重量份。这时，若偶合剂用量不足1重量份，则存在所得层间绝缘膜与基板的密合性以及ITO(添加锡的氧化铟)等的透明电极与层间绝缘膜的密合性下降的可能性，另一方面，若超过20重量份，则所得组合物的显影性下降，导致容易残留显影残留物的倾向。
-其它添加剂-
本发明形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物中，可以混合环氧化合物、热聚合抑制剂、表面活性剂、羧酸类添加剂等其它添加剂。
上述环氧化合物是为了进一步提高层间绝缘膜的耐热性、硬度等目的而使用的成分。
作为这样的环氧化合物，只要与射线敏感性树脂组合物的组成成分之间不存在相溶性问题，对其没有特别的限制，可以列举例如双酚A型环氧树脂、苯酚酚醛型环氧树脂、甲酚酚醛型环氧树脂、环状脂肪族环氧树脂、缩水甘油酯型环氧树脂、缩水甘油胺型环氧树脂、杂环式环氧树脂、聚(甲基丙烯酸缩水甘油酯)等。
这些环氧化合物中，优选双酚A型环氧树脂、甲酚酚醛型环氧树脂、缩水甘油酯型环氧树脂等。
上述环氧化合物可以单独或者2种或以上混合使用。
环氧化合物的混合量，相对于100重量份(A)共聚物，优选为100重量份或以下。
另外，上述热聚合抑制剂是在层间绝缘膜形成时的预烘焙时为了防止由于受热降低显影性的目的而使用的成分。
作为这样的热聚合抑制剂，可以列举邻苯三酚、苯醌、氢醌、亚甲蓝、叔丁基儿茶酚、单苄醚、甲基氢醌、戊基醌、戊氧基氢醌、正丁基苯酚、苯酚、对苯二酚单丙醚、4，4’-[1-{4-(1-[4羟基苯基]-1-甲基乙基)苯基}亚乙基]双酚、1，1，3-三(2，5-二甲基-4-羟基苯基)-3-苯基丙烷等。
这些热聚合抑制剂可以单独或者2种或以上混合使用。
热聚合抑制剂的混合量，相对于100重量份(A)共聚物，优选为5重量份或以下。
此外，上述表面活性剂是为了提高下述液体状组合物的涂布性、消泡性、流平性等的目的而使用的成分。
作为这样的表面活性剂，可以列举例如氟类表面活性剂、硅酮类表面活性剂、非离子性表面活性剂等。
作为上述氟类表面活性剂，商品名可以列举例如BM-1000、BM-1100(以上由BM CHIMIE公司生产)、メガフアツクF142D、メガフアツクF172、メガフアツクF173、メガフアツクF183(以上由大日本インキ化学工业(株)生产)、フロラ一ドFC-135、フロラ一ドFC-170C、フロラ一ドFC-430、フロラ一ドFC-431(以上由住友スリ一エム(株)生产)、サ一フロンS-112、サ一フロンS-113、サ一フロンS-131、サ一フロンS-141、サ一フロンS-145、サ一フロンS-382、サ一フロンSC-101、サ一フロンSC-102、サ一フロンSC-103、サ一フロンSC-104、サ一フロンSC-105、サ一フロンSC-106(以上由旭硝子(株)生产)等。
作为上述硅酮类表面活性剂，商品名可以列举例如SH-28PA、SH-190、SH-193、SZ-6032、SF-8428、DC-57、DC-190(以上由东レ·ダウコ一ニング·シリコ一ン(株)生产)、KP341(信越化学工业(株)生产)、エフトツプEF301、エフトツプEF303、エフトツプEF352(以上由新秋田化成(株)生产)等。
作为上述非离子性表面活性剂，可以列举例如聚环氧乙烷烷基醚类、聚环氧乙烷芳基醚类、聚环氧乙烷二烷基酯类等。
作为上述聚环氧乙烷烷基醚类，可以列举例如聚环氧乙烷十二烷基醚、聚环氧乙烷十八烷基醚、聚环氧乙烷油烯基醚等，作为上述聚环氧乙烷芳基醚类，可以列举例如聚环氧乙烷正辛基苯基醚、聚环氧乙烷正壬基苯基醚等，作为上述聚环氧乙烷二烷基酯类，可以列举例如聚环氧乙烷二月桂酸酯、聚环氧乙烷二硬脂酸酯等。
此外，作为上述之外的表面活性剂，商品名还可以列举例如(甲基)丙烯酸类共聚物ポリフロ一No.57、ポリフロ一No.90(以上由共荣社化学(株)生产)等。
这些表面活性剂可以单独或者2种或以上混合使用。
表面活性剂的混合量，相对于100重量份(A)共聚物，优选5重量份或以下，更优选为2重量份或以下。这时，若表面活性剂的混合量超过5重量份，则存在涂膜容易产生膜龟裂的倾向。
上述羧酸类添加剂是由具有羧基和/或羧酸酐基的化合物组成的、为微调对于碱显影液的溶解度的目的而使用的成分。
作为这样的羧酸类添加剂，可以列举例如醋酸、丙酸、丁酸、异丁酸、戊酸、异戊酸、安息香酸、桂皮酸等一元羧酸类；乳酸、2-羟基丁酸、3-羟基丁酸、水杨酸、间羟基安息香酸、对羟基安息香酸、邻羟基桂皮酸、间羟基桂皮酸、对羟基桂皮酸、5-羟基间苯二甲酸、丁香酸等羟基一元羧酸类；草酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、马来酸、衣康酸、六氢邻苯二甲酸、邻苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸、1，2-环己烷二羧酸、1，2，4-环己烷三羧酸、偏苯三酸、均苯四甲酸、1，2，3，4-丁烷四羧酸、1，2，3，4-环戊烷四羧酸、1，2，5，8-萘四羧酸等多元羧酸类；衣康酸酐、琥珀酸酐、柠康酸酐、十二碳烯基琥珀酸酐、三苯胺基甲酸酐(無水トリカルバニル酸)、马来酸酐、六氢酞酸酐、甲基四氢酞酸酐、5-降冰片烯-2，3-二羧酸酐、苯二甲酸酐、均苯四甲酸、偏苯三酸酐、1，2，3，4-丁烷四羧酸二酐、1，2，3，4-环戊烷四羧酸二酐、3，4，3’，4’-二苯酮四羧酸二酐、乙二醇二(偏苯三酸酯)二酸酐、甘油三(偏苯三酸酯)三酸酐等羧酸酐类。
这些羧酸类添加剂可以单独或者2种或以上混合使用。
羧酸类添加剂的混合量，相对于100重量份(A)共聚物，优选为10重量份或以下。
此外，本发明的形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物中，还有可混合填充材料、着色剂、粘度调节剂等，添加量为不损害射线敏感性树脂组合物原来特性的范围，优选合计添加量为所得组合物总量的50重量％或以下。
作为上述填充材料，可以列举例如硅石、矾土、滑石粉、膨润土、硅酸锆、粉末玻璃等。
这些填充材料可以单独或者2种或以上混合使用。
此外，作为上述着色剂，可以列举例如铝白、粘土、碳酸钡、硫酸钡等天然颜料；锌白、铅白、铬黄、铅丹、群青、普鲁士蓝、氧化钛、铬酸锌、代赭石、碳黑等无机颜料；亮胭脂红6B、永久红6B、永久红R、联苯胺黄、酞菁蓝、酞菁绿等有机颜料；品红、若丹明等碱性颜料；直接大红、直接橙等直接染料；罗色灵、酸性间胺黄等酸性染料等。
这些着色剂可以单独或者2种或以上混合使用。
此外，作为上述粘度调节剂，可以列举例如膨润土、硅胶、铝粉等。
这些粘度调节剂可以单独或者2种或以上混合使用。
液体状组合物
本发明形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物是通过将(A)共聚物、(B)聚合性不饱和化合物、(C)光聚合引发剂、(D)偶合剂以及根据需要混合的其它添加剂均匀地混合，并且为了使涂布于基板的操作更容易的目的，用有机溶剂稀释而成的液体状组合物。
作为上述有机溶剂，优选能够使射线敏感性树脂组合物的组成成分均匀地溶解或分散、不与组成成分发生反应、并具有适当的挥发性的溶剂。
作为这样的有机溶剂，例如，除了制备上述(A)共聚物的聚合中所例示的溶剂同样的溶剂以外，还可以列举N-甲基甲酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、N-甲基甲酰苯胺、N-甲基乙酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、苄基乙基醚、二正己基醚、丙酮基丙酮、异佛尔酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苄醇、醋酸苄酯、安息香酸乙酯、草酸二乙酯、马来酸二乙酯、γ-丁内酯、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯、乙二醇单苯醚乙酸酯等高沸点溶剂。
这些溶剂中，从溶解性、与组成成分的反应性和形成涂膜的容易性角度考虑，优选乙二醇单乙醚、二甘醇单甲醚等多元醇的烷基醚类、乙二醇单乙醚乙酸酯等多元醇的烷基醚乙酸酯类、乳酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等的酯类、双丙酮醇等酮类等。
上述有机溶剂可以单独或者2种或以上混合使用。
有机溶剂的用量，可以根据形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物的具体用途、涂布方法等适当地选定。
在配制本发明的射线敏感性树脂组合物和液体状组合物时，当不混合填充材料或颜料时，仅通过常规方法进行搅拌混合即可，当添加填充材料或颜料时，采用高速分散机、匀浆器、三辊式破碎机等分散机使其分散混合较好。此外，液体状组合物还可以根据需要在配制后用粒度筛、滤膜等进行过滤后供使用。
绝缘膜的形成方法
本发明层间绝缘膜的形成方法至少包括按照下述顺序的(1)～(4)工序，
(1)在基板上形成本发明的形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物(以下简称为“射线敏感性树脂组合物”)涂膜的工序，
(2)对该涂膜的至少一部分照射射线(以下称为“曝光”)的工序，
(3)对照射后的涂膜进行显影的工序，
(4)对显影后的涂膜进行烘焙(以下称为“烘焙”)的工序。
以下，对这些工序进行说明。
-(1)工序-
在(1)工序中，将射线敏感性树脂组合物，优选为液体状组合物，涂布于基板表面上，通过进行预烘焙除去溶剂，形成射线敏感性树脂组合物的涂膜。
作为可以使用的基板的种类，可以列举玻璃基板、硅片或在它们的表面上形成各种金属的基板等。
作为涂布组合物溶液的方法，对其没有特别的限制，例如可以采用喷涂法、辊涂法、旋涂法、缝模涂布法、棒涂法、喷墨法等适当的方法。
预烘焙的条件根据射线敏感性树脂组合物组成成分的种类和使用比率而不同，例如，可以在60～130℃下进行30秒～15分钟。
作为形成的涂膜的厚度，预烘焙后的值优选为例如5～20μm。
-(2)工序-
在(2)工序中，对所形成涂膜的至少一部分进行曝光。这时，当仅对涂膜的一部分进行曝光时，通常通过具有预定形状图案的光掩膜进行曝光。
作为曝光所用的射线，可以列举例如g线(波长为436nm)、i线(波长为365nm)等紫外线、KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外线、同步加速射线等X射线、电子束等带电微粒射线等。
这些射线中，优选紫外线，特别优选含g线和/或i线的紫外线。
曝光量优选为50～10,000J/m2。
-(3)工序-
在(3)工序中，通过对曝光后的涂膜进行显影，除去未曝光的部分，形成预定形状的图案。
作为显影中所用的显影液，优选例如氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、正硅酸钠、氨、乙胺、正丙胺、二乙胺、二乙氨基乙醇、二正丙胺、三乙胺、甲基二乙胺、二甲基乙醇胺、三乙醇胺、氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、吡咯、哌啶、1，8-二氮杂双环[5，4，0]-7-十一碳烯、1，5-二氮杂双环[4，3，0]-5-壬烯等碱性化合物的水溶液。
上述碱性化合物的水溶液中，可以添加适量的甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂或表面活性剂。
此外，在本发明中，当射线敏感性树脂组合物不含填充材料或颜料等不溶性成分时，作为显影液，能够溶解组成成分的各种有机溶剂都可以使用。
作为显影方法，可以采用盛液法(液盛り法)、浸渍法、震荡浸渍法、冲洗法等适当的方法。
显影时间根据射线敏感性树脂组合物的混合组成而不同，可以进行例如30～300秒钟。
此外，以往的形成层间绝缘膜所用的射线敏感性树脂组合物，由于如果显影时间比最佳条件超过20～25秒或以上，则形成的图案上会产生表层脱落等缺陷，因此必须严密控制显影时间，而本发明的射线敏感性树脂组合物，即使比最佳显影时间超出的时间达到30秒或以上，也可以形成良好的图案，在产品成品率方面存在优势。
-(4)工序-
在(4)工序中，将显影后的涂膜根据需要进行后续曝光后，通过用例如加热板、烘箱等加热装置进行烘焙，使该涂膜固化。
作为后续曝光中使用的射线，可以列举例如g线(波长为436nm)、i线(波长为365nm)等紫外线、KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外线、同步加速射线等X射线、电子束等带电微粒射线等。
这些射线中，优选紫外线，特别优选含g线和/或i线的紫外线。
后续曝光的曝光量优选为50～10,000J/m2。
烘焙条件根据射线敏感性树脂组合物组成成分的种类和使用比率、所需的图案形状、所用加入装置等而不同，当使用加热板时，为例如在150～240℃下烘焙10～30分钟，当使用烘箱时，为例如在150～240℃下烘焙30～90分钟。此外，烘焙时，可以采用加热处理2次或以上的分步烘焙法等。
这样，即可在基板上形成目标层间绝缘膜。
发明效果
本发明的形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物可以形成分辨率高，能够充分厚膜化，且兼备优良特性的层间绝缘膜。
本发明的层间绝缘膜透明性、耐热性、抗热变色性、密合性、耐溶剂性等各种物性优异，可非常适用于包括TFT型液晶显示元件的各种液晶显示元件、磁头元件、集成电路元件、固体摄像元件等电子部件。
此外，根据本发明层间绝缘膜的形成方法，可以以高成品收率简便地形成具有优良特性的层间绝缘膜。
实施例
以下通过展示实施例对本发明进行更具体的说明，但本发明不局限于以下的实施例。
合成例1
将装有干冰/甲醇系回流器的烧瓶用氮气换气后，加入自由基聚合引发剂2，2’-偶氮二异丁腈4g、有机溶剂二甘醇二甲醚100g和二甘醇单甲醚50g，搅拌至自由基聚合引发剂溶解。继续加入甲基丙烯酸15g、六氢酞酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙酯)15g、甲基丙烯酸三环癸烷基酯40g、苯乙烯15g和甲基丙烯酸四氢糠基酯15g后，在搅拌的同时使溶液温度升至80℃，在该温度下聚合4小时。然后，将反应产物滴加至大量的甲醇中，使反应产物凝固，将凝固物用水洗涤。然后，再次溶解于与所得凝固物等重量的四氢呋喃中，用大量的甲醇使其再次凝固，这种再溶解-凝固操作共进行3次后，将所得凝固物于40℃下真空干燥48小时，得到共聚物。
该共聚物Mw为13,000。该聚合物作为“共聚物(A-1)”。
合成例2
将装有干冰/甲醇回流器的烧瓶用氮气换气后，加入自由基聚合引发剂2，2’-偶氮二-2，4-二甲基戊腈4g、有机溶剂二甘醇二乙醚100g和乳酸乙酯150g，搅拌至自由基聚合引发剂溶解。继续加入甲基丙烯酸10g、六氢酞酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙酯)15g、甲基丙烯酸三环癸烷基酯40g、苯乙烯15g和甲基丙烯酸四氢糠基酯20g后，在搅拌的同时使溶液温度升至80℃，在该温度下聚合4小时。然后，将反应产物滴加至大量的甲醇中，使反应产物凝固，将凝固物用水洗涤。然后，再次溶解于与所得凝固物等重量的四氢呋喃中，用大量的甲醇使其再次凝固，这种再溶解-凝固操作共进行3次后，将所得凝固物于40℃下真空干燥48小时，得到共聚物。
该共聚物Mw为15,000。该聚合物作为“共聚物(A-2)”。
合成例3
将装有干冰/甲醇回流器的烧瓶用氮气换气后，加入自由基聚合引发剂2，2’-偶氮二异丁腈4g、有机溶剂双丙酮醇150g，搅拌至自由基聚合引发剂溶解。继续加入丙烯酸20g、六氢酞酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙酯)15g、甲基丙烯酸三环癸烷基酯45g、苯乙烯15g和异戊二烯5g后，在搅拌的同时使溶液温度升至80℃，在该温度下聚合4小时。然后，将反应产物滴加至大量的甲醇中，使反应产物凝固，将凝固物用水洗涤。然后，再次溶解于与所得凝固物等重量的四氢呋喃中，用大量的甲醇使其再次凝固，这种再溶解-凝固操作共进行3次后，将所得凝固物于40℃下真空干燥48小时，得到共聚物。
该共聚物Mw为14,000。该聚合物作为“共聚物(A-3)”。
合成例4
将装有干冰/甲醇回流器的烧瓶用氮气换气后，加入自由基聚合引发剂2，2’-偶氮二-2，4-二甲基戊腈4g、有机溶剂3-乙氧基丙酸乙酯150g，搅拌至自由基聚合引发剂溶解。继续加入甲基丙烯酸15g、六氢酞酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙酯)15g、甲基丙烯酸三环癸烷基酯45g、苯乙烯15g和异戊二烯10g后，在搅拌的同时使溶液温度升至80℃，在该温度下聚合4小时。然后，将反应产物滴加至大量的甲醇中，使反应产物凝固，将凝固物用水洗涤。然后，再次溶解于与所得凝固物等重量的四氢呋喃中，用大量的甲醇使其再次凝固，这种再溶解-凝固操作共进行3次后，将所得凝固物于40℃下真空干燥48小时，得到共聚物。
该共聚物Mw为16,000。该聚合物作为“共聚物(A-4)”。
合成例5
将装有干冰/甲醇回流器的烧瓶用氮气换气后，加入自由基聚合引发剂2，2’-偶氮二异丁腈4g、有机溶剂3-甲氧基丙酸甲酯150g，搅拌至自由基聚合引发剂溶解。继续加入甲基丙烯酸20g、六氢酞酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙酯)15g、甲基丙烯酸三环癸烷基酯45g、苯乙烯15.0g和1，3-丁二烯5g后，在搅拌的同时使溶液温度升至80℃，在该温度下聚合4小时。然后，将反应产物滴加至大量的甲醇中，使反应产物凝固，将凝固物用水洗涤。然后，再次溶解于与所得凝固物等重量的四氢呋喃中，用大量的甲醇使其再次凝固，这种再溶解-凝固操作共进行3次后，将所得凝固物于40℃下真空干燥48小时，得到共聚物。
该共聚物Mw为12,000。该聚合物作为“共聚物(A-5)”。
合成例6
将装有干冰/甲醇回流器的烧瓶用氮气换气后，加入自由基聚合引发剂2，2’-偶氮二异丁腈4g、有机溶剂3-甲氧基丙酸甲酯150g，搅拌至自由基聚合引发剂溶解。继续加入甲基丙烯酸15g、六氢酞酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙酯)15g、甲基丙烯酸三环癸烷基酯45g、苯乙烯15g和1，3-丁二烯10g后，在搅拌的同时使溶液温度升至80℃，在该温度下聚合4小时。然后，将反应产物滴加至大量的甲醇中，使反应产物凝固，将凝固物用水洗涤。然后，再次溶解于与所得凝固物等重量的四氢呋喃中，用大量的甲醇使其再次凝固，这种再溶解-凝固操作共进行3次后，将所得凝固物于40℃下真空干燥48小时，得到共聚物。
该共聚物Mw为12,000。该聚合物作为“共聚物(A-6)”。
实施例1
液体状组合物的制备
将10g共聚物(A-1)溶解于10g 3-甲氧基丙酸酯中，加入(B)聚合性不饱和化合物アロニツクスM-8060 5g、(C)光聚合引发剂2，4，6-三甲基苯甲酰二苯基膦过氧化物(商品名ルシリンTPO)2.0g和2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮(商品名イルガキュア651)1.0g、(D)偶合剂3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷0.2g，溶解于3-甲氧基丙酸甲酯，使全部固体成分浓度为45重量％，然后用孔径为5μm的滤膜过滤，制得液体状组合物(S-1)。
层间绝缘膜的形成
将液体状组合物(S-1)用旋涂器涂布于玻璃基板上后，在100℃的加热板上预烘焙5分钟，形成涂膜。
接着，借助具有预定形状图案的光掩膜用波长为365nm、强度为200W/m2的紫外线对该涂膜曝光5秒钟。然后，用0.5重量％的氢氧化四甲基铵水溶液在25℃下冲洗显影2分钟后，在纯水中洗涤1分钟，除去无用的部分，得到图案状的薄膜。
接着，用波长为365nm、强度为200W/m2的紫外线对对所得图案状薄膜曝光10秒钟后，在220℃的烘箱中烘焙60分钟，使其固化，得到具有预定图案形状的膜厚度为10.5μm的层间绝缘膜。
评价
接下来，按照以下要点进行评价。评价结果与层间绝缘膜的厚度一起(以下同)列于表1。
-分辨率的评价-
所得层间绝缘膜中，能够分辩15平方μm的穿孔图案情况评价为○，不能分辨15平方μm的穿孔图案但能够分辩20平方μm的穿孔图案的情况评价为△，不能分辩20平方μm的穿孔图案的情况评价为×。
-透明性的评价-
对所得层间绝缘膜的连续膜部分，用分光光度计150-20型双光束(商品名，(株)日立制作所产)测定400nm波长的透光率进行评价，该透光率超过90％时，可称之为透明性良好。
-耐热性评价-
将所得层间绝缘膜在220℃的烘箱中加热60分钟，测定加热前后膜厚度的变化率(％)[＝(加热前的膜厚度-加热后的膜厚度)×100/加热前的膜厚度]进行评价。当该变化率为5％以内时，可称之为耐热性良好。
-耐热变色性-
将所得层间绝缘膜在220℃的烘箱中加热60分钟，对层间绝缘膜的连续部分，用分光光度计150-20型双光束(商品名，(株)日立制作所产)测定400nm波长的透光率，通过加热前后透光率的变化率(％)[＝(加热前的透光率-加热后的透光率)×100/加热前的透光率]进行评价，当该变化率为5％以内时，可称之为耐热变色性良好。
-密合性评价-
用溅射装置SH-550-C12(商品名，アルバツク(株)产)在100℃下对所得层间绝缘膜进行溅射，形成膜厚度为13000的ITO膜后，用按JIS Z-1552标准的胶带(玻璃纸胶带N.29，日东电工(株)产)在同一位置共进行3次剥离试验，进行3次ITO膜都不能从层间绝缘膜上剥离的情况评价为○，第2次或第3次被剥离的情况评价为△，1次就被剥离的情况评价为×。
-耐溶剂性的评价-
将形成层间绝缘膜的玻璃基板置于50℃的N-甲基吡咯烷酮中浸渍15分钟，通过浸渍前后层间绝缘膜的膜厚度的变化率(％)[＝(浸渍后的膜厚度-浸渍前的膜厚度)×100/浸渍前的膜厚度]进行评价。当该变化率为±5％以内时，可称之为耐溶剂性良好。
实施例2
在实施例1中，除了用0.3g 3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷替代0.2g 3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷以外，与实施例1同样地操作，制备组合物溶液(S-2)并进行评价。评价结果列于表1。
实施例3
在实施例1中，除了用10g共聚物(A-2)替代10g共聚物(A-1)，用0.5g 3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷替代0.2g 3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷以外，与实施例1同样地操作，制备组合物溶液(S-3)并进行评价。评价结果列于表1。
实施例4
在实施例1中，除了用10g共聚物(A-3)替代10g共聚物(A-1)，用0.5g 2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷替代0.2g 3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷以外，与实施例1同样地操作，制备组合物溶液(S-4)并进行评价。评价结果列于表1。
实施例5
在实施例1中，除了用10g共聚物(A-4)替代10g共聚物(A-1)，用0.5g 1，3-二乙烯基四甲基二硅氮烷替代0.2g 3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷以外，与实施例1同样地操作，制备组合物溶液(S-5)并进行评价。评价结果列于表1。
实施例6
在实施例1中，除了用10g共聚物(A-5)替代10g共聚物(A-1)，用0.5g 3-甲基丙烯酰氧基丙基三(异丙氧基)钛替代0.2g 3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷以外，与实施例1同样地操作，制备组合物溶液(S-6)并进行评价。评价结果列于表1。
实施例7
在实施例1中，除了用10g共聚物(A-6)替代10g共聚物(A-1)，用0.5g 9-十八烯基乙酰醋酸铝二异丙氧化物替代0.2g 3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷以外，与实施例1同样地操作，制备组合物溶液(S-7)并进行评价。评价结果列于表1。
比较例1
在实施例1中，除了不加入3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷以外，与实施例1同样地操作，制备组合物溶液(s-1)并进行评价。评价结果列于表1。
比较例2
在实施例3中，除了不加入3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷以外，与实施例3同样地操作，制备射线敏感性树脂组合物的液体状组合物(s-2)后，与实施例1同样地进行评价。评价结果列于表1。
                                      表1
  膜厚度(μm)   分辨率   透明性(％)   耐热性(％)   耐热变色性(％)   密合性   耐溶剂性(％)
 实施例1   10.5   ○   95   4   2   ○   +2
 实施例2   10.3   ○   96   4   2   ○   +3
 实施例3   10.2   ○   95   5   1   ○   +3
 实施例4   11.5   ○   94   4   3   ○   +2
 实施例5   9.7   ○   96   4   3   ○   +3
 实施例6   10.7   ○   91   4   3   ○   +4
 实施例7   11.1   ○   95   3   4   ○   +3
 比较例1   12.3   △   93   6   2   ×   +4
 比较例2   8.7   ○   96   7   2   ×   +4

Claims (4)

1.一种形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物，其特征在于包括(A)将(a)10～50重量％含酸性官能团的聚合性不饱和化合物、(b)20～60重量％含脂环状烃基而无酸性官能团的聚合性不饱和化合物以及(c)5～40重量％其它聚合性不饱和化合物聚合所得的碱可溶性共聚物，其中(a)+(b)+(c)＝100重量％；(B)聚合性不饱和化合物；(C)光聚合引发剂；以及(D)偶合剂。
2.一种层间绝缘膜，由权利要求1的形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物形成。
3.一种形成层间绝缘膜的方法，其特征在于至少包括按照下述顺序的(1)～(4)工序，
(1)在基板上形成权利要求1所述的形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物涂膜的工序，
(2)对该涂膜的至少一部分照射射线的工序，
(3)对照射后的涂膜进行显影的工序，
(4)对显影后的涂膜进行烘焙的工序。
4.一种液晶显示元件，其具有权利要求2所述的层间绝缘膜。
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