CN1902336A - 用于涂覆平坦基底的一侧或两侧的伸长真空系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种用于涂覆平坦基底的一侧或两侧的伸长真空系统，所述基底被所述系统移动。所述真空系统包括至少一个具有磁控管周围区域的磁控管，并且沿基底的输送方向，真空系统被能够密封的分隔壁分为连续的隔间。通过位于隔间上的真空端部能够直接排空隔间，或者通过分隔壁上的抽吸口间接排空隔间。至少一个隔间包括上方局部隔间，其位于基底上方，所述局部隔间在其至少一个外壁内包括能够密封的上方开口。本发明的目的是，制造伸长真空系统，根据不同的一侧和两侧涂覆处理的要求进行灵活应用，并且在所述系统内进行该处理，所述系统确保稳定、可区分并且过程优化的溅射气氛。通过这样的事实实现该目的，在至少其中一个上方局部隔间内能够安装水平和/或竖直部件，用于将所述上方局部隔间分为数个子隔间。

Description

用于涂覆平坦基底的一侧或两侧的伸长真空系统

技术领域

本发明涉及一种用于对平坦基底的一侧或两侧施加涂层的伸长真空系统，基底能够利用输送系统在输送平台内移动通过真空系统。真空系统包括至少一个设有磁控管周围区域的磁控管，并且被能够闭合的隔离壁沿基底的输送方向被分成连续的隔间，隔离壁上具有抽吸口，磁控管能够被位于隔间上的真空连接装置直接排空或者被隔离壁上的抽吸口间接排空。至少一个隔间包括位于基底之上的上方局部隔间，所述局部隔间在其至少其中一个外壁上包括能够闭合的上开口。

背景技术

在公开文本EP 1 179 516 A1中公开了一种涂覆系统，能够在基底通过系统的一次输运过程中对平坦基底的两侧进行涂覆涂层。在基底上方和下方同时设置的靶利用输送系统通过涂覆系统，能够在子隔间内对两侧基底表面进行同时涂覆。同时，尽管涂覆空间被突出进来的隔板分成几个子隔间，涂覆过程仍然可以仅在具有相同或类似气氛的子隔间内进行操作。

对于处理气氛彼此显著不同的涂覆系统的同时操作，目前尚没有普遍获知将涂覆系统进一步细分为数个分别排空的子隔间，也没有获知将系统分隔为涂覆子隔间和排出子隔间。在欧洲专利EP 783 174大概介绍了这种涂覆系统。其实质特征是，在基底输送方向具有大量彼此相邻的子隔间，其一同构成真空腔室，并且彼此通过通道相连，该通道形成用于平坦基底的输送平台。通常，邻接的涂覆子隔间每个都具有阴极，涂覆子隔间被至少一个排出子隔间隔开。排出子隔间和涂覆子隔间之间的侧隔离壁包括抽吸口，通过抽吸口，利用相连的真空泵直接排空涂覆子隔间。

当将两个相邻的涂覆子隔间被仅一个排出子隔间隔开时，从输送方向看，该位置的真空泵从而将前后的涂覆子隔间排空。由此，在排出子隔间反方向的两股气流彼此相遇，导致产生涡流，并且对于排出过程有不利影响，而且真空泵的性能价值下降。

如果利用不同的溅射气氛操作不同的涂覆子隔间，需要在排出子隔间旁边设置与真空泵相连的其它子隔间，这些子隔间用作压力工段或者用于气体隔开。在这种情况下，由于其它需要的子隔间，涂覆系统被延长，导致纵向很长的系统，当彼此相邻设置多个不同的溅射气氛、溅射动力和/或阴极材料时，系统具有大的排出体积。

在该系统的其它发展中，其在专利说明书DE 197 33 940中有述，利用横向于输送方向设置的横向隔离壁，与涂覆子隔间相比，排出子隔间被缩短，并且在中心被分开，因此，通过横向隔离壁内的适当凹槽和对应设置的挡板，根据对挡板的调节，横向隔离壁上方系列布置的真空泵将在前的或者在后的涂覆子隔间排空。通过调节挡板，泵的不对称(交替)分布产生了压力梯度，从而在相邻的、间接被排空的涂覆子隔间内溅射条件产生变化。

还在这种布置中，涂覆子隔间通常在排出子隔间后，因此两个子隔间表现出不同的尺寸。相应的，对于每类子隔间具有不同尺寸的开口形成在每个子隔间的上壁内，该上壁或者保持真空泵或者保持盖。在每个盖上可安装包括屏幕、和介质提供和排出装置的阴极，可连同盖一起除去阴极，盖包括它的阴极包围物。同时，已经证明，由于每个涂覆系统中各子隔间的不同尺寸，因此不能改变所述子隔间的序列是很有利的。

在至少一个位于要被分开的涂覆子隔间和与之相邻的排出子隔间之间的一个涂覆子隔间内，省略阴极及其阴极环境，以便实现用于操作具有不同溅射条件的系统的气体隔开。此外，挡板这样放置在相邻的排出子隔间内，两个泵将位于其间的分离子隔间排空。结果，并且如上所述，由于下一列泵中的每个第二个泵排空气体隔开之前和之后的涂覆子隔间，在挨着用于气体隔开的子隔间定位的涂覆子隔间内的泵动力显著减小，这导致两子隔间间的溅射条件相背离。

发明内容

因此，本发明的任务是提供一种伸长的涂覆系统，其被灵活设计成，对于系统内的处理循环，用于不同的一侧和两侧涂覆处理需求，从而确保一个稳定的、可区分的并且处理被最优化的溅射气氛。

本发明这样解决该任务，在其中一个上方局部隔间内安装至少水平和/或竖直的部件，用于将上方局部隔间细分成多个子隔间。

与本发明相应，对于其中一个可能的功能，例如用于涂覆、排出或气体隔开的子隔间，所述局部隔间表现出没有固定的状态。而且，通过安装或拆解这些水平和竖直部件，特别是通过可闭合的上部开口，每个局部隔间的设置被启动，用于在单个系统内可以变化的这些功能中的一个，而不会使系统的成本提高，综合转换的时间延长。

对于真空系统的灵活设计选择，由于上述的水平和竖直部件能够拆卸，本发明的任务能满足特定的要求，使用者自己可不仅条件相应的设备还可调节开口的相应闭合，而且通过各子隔间的可变分离，单个系统可被调节而满足他的不同技术要求。

同时，对应于计划的涂覆结果，彼此相随的处理子隔间的顺序几乎可以自由选择，而不会被与系统相关的条件所固定。这样，通过将局部隔间不定的细分为例如两个子隔间，特别是泵和用于气体隔开的子隔间可以被增加到一定的程度。

所述的不定的细分特别有优势，因为它满足了稳定、可区分并且过程最优化的溅射气氛的要求。这样因此，例如，两个相邻子隔间中仅一个被通过闭合隔离壁上的抽吸口而被排空。此外，还防止真空泵中抽吸动力降低，否则会引起通过彼此相对的局部隔间的两股气流彼此相遇并且产生涡流而脱离彼此相对的局部隔间。在隔间内可以具有不同的处理气氛和对特定部件进行涂覆，而且可以维持稳定性，该稳定性与本发明的任务的重要方面相关。

相应于本发明特别有利的实施例，可以在输送平台下方设置由分隔壁形成的至少一个其它的下部隔间，所述下部隔间在至少其中一个外壁上具有可闭合的下部开口，在每个分隔壁上具有可闭合的抽吸口。

在每个子隔间内，移动经过系统的平坦基底将输送平台上方的空间与输送平台下方的空间分开，由此，输送平台作为基底在其中移动的平台。为了在两侧进行基底涂覆，因此在输送平台下面可形成涂覆空间。通过这样的事实，即，特别是如果该空间能够对应本发明的其它设计，而也具有安装的水平和/或竖直部件，以这种方式形成的两个空间子隔间被如此设计，使得以同等的方式作为上方局部隔间进行变化，为以上述方式进行的下侧涂覆提供稳定的、可区分的并且处理最优化的溅射气氛以及可以变化的涂覆参数。

因此，真空泵或者可以与下方局部隔间连接，下方局部隔间独立于在基底之上定位的上方局部隔间设备，或者配备有至少一个磁控管，由此，以这种方式配备的子隔间的基底下方空间对于排空真空系统或者对于在完整循环内的下侧涂覆及由此进行的两侧涂覆都是有用的。

在标准安装中，如果包括磁控管周围区域的磁控管通过上方和/或下方外壁上的开口进行安装，并且真空连接装置位于侧面的外壁的开口内，已经证明这是很实用的。但是，可以完全取代开口的这种分配，或者取代各个局部隔间的这种开口分配，结果是磁控管能够安装在真空系统的侧面。

从输送方向看，对于特定的功能，或者对于至少同等的功能，例如气体隔开，如果涂覆系统的特定子隔间安装在输送平台的上方和下方，这被证明特别有利，由此，下方局部隔间与在输送平台之上和它相对的上方局部隔间，具有相同或至少类似的水平和/或竖直部件的设置。

通过这样的事实，上方开口和下方开口，无论它们位于上方、下方还是侧面的外壁内，都能被盖闭合，并且至少一个包括磁控管周围区域的磁控管能够被安装在盖上，和/或真空连接装置位于适当的位置，或者盖可以仅用作闭合装置，可以将单一的系统转化为最广泛用途的涂覆结构。而且，对应于本发明的另一个实施例，如果盖具有彼此相同的尺寸并且因而能够被彼此替换，这一优点能够进一步发扬。这样，通过更换盖，即可容易地改变单独的局部隔间的设备。

通过适当设置真空连接件、磁控管和闭合盖，以及通过相应选择涂覆参数或者分开不同涂覆条件下的子隔间，和通过适当的输送系统，这种类型的不同真空腔室可以实现这样的涂覆处理，其中，下侧的基底能够以同时地且独立于基底上侧的方式被涂覆。

然而，盖的可替代性和一致尺寸无需要求其开口也具有相同的尺寸。通过有效的实施例，不同设计中的开口也可被具有相同尺寸的盖封闭，但是本文中没有通过提供改进的阐述来进行更详细的说明。

另一方面，如果所有局部隔间的上方开口具有相同的尺寸，如在本发明的特别设置版本中遇到的，包括安装部件的盖能够彼此替换，而不需要进一步转换，这又提高了与本发明任务相应的涂覆系统的可变性。

同样，从对应于本发明的真空系统的更高程度通用性方面来看，是否为一个或多个真空泵的连接、一个或多个磁控管或仅为了闭合开口来提供特定的盖，或者是否通用的盖方案通过相应的添加或转换以允许这三种应用形式，都是自由的。

既然真空系统的宽度和开口的尺寸允许，以垂直于输送方向的顺序，在上方和下方外壁的开口内布置数个真空泵或者真空泵的连接装置，这是可能的。是否由数个或仅一个盖支撑成行的数个连接装置，这取决于系统的尺寸和连接装置所需的空间要求。

与本发明相应的其它实施例中，上方和/或下方局部隔间的至少侧面外壁具有真空泵。这使得一个同等的可变系统，即使例如结构环境不允许系统在其下侧配备磁控管或真空泵连接装置，仍能够进行工作。在这种情况下，通过侧面的真空泵连接装置，能够实现局部隔间或者子隔间的排空，并且下侧涂覆可以例如通过以特定方式从基底下面的上方开口的盖所悬挂的磁控管实现。

对应于结构环境和可能的技术要求，闭合上方开口也是可能的。特别是，作为构造选择，考虑可用于操作和维护的各个外壁前面的自由空间。

特别有利的实施例中，用于局部隔间的水平和/或竖直划分的部件是平坦的。这是因为，特别在这种情况中，至少一个水平部件可能位于具有水平支撑表面的保持装置上，该保持装置出现在局部隔间的至少两个相对壁上，即，侧面的外壁和/或分隔壁。由于真空系统的压力比，对于将局部隔间细分为本发明的子隔间，无需特别的密封系统。

在相邻子隔间的涂覆参数没有彼此太严重偏离的情况下，对于所述子隔间的大概的可能功能，将水平部件安装到四周的壁上并且将其松动地定位在保持件上的常用安装技术精度，对于有效细分局部隔间是足够的。在这个方案中，仅用水平部件的重量进行固定

而且，如果具有至少一个水平部件，与本发明的另一个实施例对应，利用接合件或者插入装置固定竖直部件，所述接合装置或者插入装置在水平部件和上方或者下方外壁之间延伸，该上方或者下方外壁与水平部件直接相对，以这种方式能够实现局部隔间的特别迅速和简单的竖直细分。

在本发明的另一个有利实施例中，在盖上具有固定部件，所述盖封闭与水平部件相对的上方或者下方外壁内的上方或下方开口。将开口封闭后，这些固定部件将竖直部件固定在其位置上。通过水平部件上的接合件，布置所述的竖直部件，这是特别有利的，但是，另外也能够在其它位置，由此利用综合的密封系统，无需发生利用竖直部件形成的局部隔间的细分，常用安装精度可能就足够了。在这个方案中，通过放置在盖上，即可简单固定竖直部件。

对应于本发明其它优选实施例，遇到用于气体隔开的子隔间的定位，因此以这种方式水平部件定位在至少一个局部隔间内，使得朝向围绕输送平台将局部隔间的子隔间分开。

将该空间分开使得气体隔开装置定位在两个局部涂覆腔室之间，该两个腔室在不同的溅射气氛下操作，由此连接这两个涂覆腔室的输送平台也被排空。如果包围输送平台的空间也被水平部件与其它局部隔间分开，该水平部件在输送平台下面的下方局部隔间内，在紧邻基底的环境内产生通道，其用作流动阻挡，并进而防止相邻局部隔间的气氛补偿。

而且，分开输送空间也使得泵子隔间在基底上方和下方，以这种方式，能够进行不同的操作。由于真空泵和磁控管的可变连接选择，磁控管的位置使得在传统的同等涂覆系统内彼此相邻定位的两个涂覆子隔间能够承担涂覆任务，各涂覆子隔间在本发明对应的系统的腔室内上下定位，因此允许减小系统的伸长情况。

在对应于本发明的另一个实施例中，如果至少一个局部隔间的水平和/或竖直部件具有额外的能够闭合的抽吸口，证明这是特别有利的。在这种构造中，总是需要这样，即，该子隔间是通过相邻子隔间被间接排空的子隔间，或者输送平台被水平部件分开，并且位于该子隔间下方或上方的另一个子隔间作为将气体隔开的装置。

作为优选的特征，如果腔室分隔壁内的抽吸口的尺寸和/或水平和/和竖直部件内的其它抽吸口的尺寸被设计成可精细调节的，可能进行精密调节的排空管理。例如，如果抽吸口的尺寸被设计成能够自动调节，除了本发明的真空系统的灵活转换外，在涂覆过程中也可以使溅射参数最优化。

附图说明

现在根据实施例来详细说明本发明，在附图中：

图1为示意图，示出本发明涂覆系统的纵向部分；

图2为本发明涂覆系统的一部分的简化纵向剖面图。

标号代表的部件

1  基底

2  排空隔间

3  涂覆隔间；        3a，b，c  第一、第二、第三涂覆隔间

4  分隔壁

5  输送平台

6  闸门

7  上方外壁

8  下方外壁

9  侧面外壁

10  上方开口

11  盖；                            11a  侧面的盖

12  抽吸口

13  输送方向

14  密封件

15  磁控管

16  真空泵或真空连接装置

17  水平部件

18  上方局部隔间

19  下方局部隔间

20  竖直部件

21  子隔间

22  输送辊

23  下方开口

24  保持件

25  固定部件

26  连接件

具体实施方式

图1中所示的延长的真空系统用于在通过该系统的一次循环过程中对平坦基底1进行双侧涂覆。真空系统由四个排空隔间2和三个涂覆隔间3组成，由分隔壁4将其彼此隔开。在输送平台5内利用未示出的输送系统将基底1输送通过涂覆系统，由此，进出涂覆系统以及从一个隔间进入下一个隔间的通道由闸门6实现，该闸门位于隔间的分隔壁4内。

在本实施例中，在上方外壁7及下方外壁8内的所有局部隔间具有上方开口和下方开口10、23，这些开口可以由尺寸相同的盖11紧密封闭。排空隔间3还包括在盖11a内的真空连接装置16，盖11a封闭侧面外壁9内的开口，由此，在本实施例中，这些侧面的盖11a表现出与上方外壁和下方外壁7、8内开口的盖11不同的侧面几何结构。而且，在输送平台5的上面和下面的每个分隔壁4内分别设有两个抽吸口12。这些抽吸口顺序排列并且平行于基底1，而且垂直于输送方向13，能够被密封件14紧密闭合。

从输送方向看，第一涂覆隔间3a包括磁控管15，磁控管包括未示出的磁控管周围区域，磁控管位于基底1的上方(向下溅射的位置)并且安装在盖11上，盖11将上方外壁内的上方开口10封闭。第一涂覆子隔间3a被真空泵16间接排空，真空泵16在盖11a上的两个相邻的排空隔间2内连接，盖11a封闭输送平台5上方的侧面外壁9内的开口。在示出的系统构造中，在输送平台5上方，第一涂覆隔间3a的分隔壁4内的抽吸口12完全打开，而在输送平台5下方，则被紧密封闭。

在第二涂覆隔间3b内，也包括这里没有示出的磁控管周围区域的磁控管15以这种方式安装在上方的盖上，使得能够进行向上溅射操作。为此目的，磁控管15与基底1的下侧相对地放置，在第二涂覆隔间3b区间内的抽吸口12打开，用于通过真空泵16进行间接排空，真空泵16与两个相邻的排空隔间2相连。在第二涂覆隔间3b内，输送平台5上方的抽吸口12被密封件14紧密封住。

另一方面，第三涂覆隔间3c与第二涂覆隔间3b具有相同的构造。但是，第三涂覆隔间3c与第二涂覆隔间3b进行操作的溅射气氛彼此不同。为了防止相互的污染，在两个隔间之间提供气体隔开装置。为此，利用在输送平台5上方和下方的平行于基底1布置的两个水平部件17将输送平台5与排空隔间2分开。而下方的水平部件17紧密地封闭其下方且朝向输送平台5的局部隔间19，上方的水平部件17具有四个成两行排列的抽吸口12，利用与上方局部隔间18的侧面盖11a相连的真空泵16，通过抽吸口将分开的输送平台5排空。抽吸口12通向上方局部隔间18的分隔壁4内的相邻涂覆隔间3b和3c，由于上方局部隔间18起到分隔气体的功能，因此抽吸口12被紧密封住。

通过同样也作为气体分隔装置的排空隔间2，进行相邻的第二和第三涂覆隔间2的排空。为此，在下方局部隔间19内设置额外的平行于分隔壁但是竖直运行的部件20，该局部隔间19被部件20分为两个子隔间21。位于侧面的外壁9内的每个开口在两个子隔间21上方经过，密闭这些下方开口23的盖11a分别具有两个真空泵连接装置16，在每个子隔间21内具有一个。

另外的排空隔间2形成所述真空系统的连接装置，真空泵连接装置16安装在侧面的下方开口23的盖11a上。在所述实施例中，在真空泵连接装置处，真空泵16一直与侧面的外壁9相连，并且下方外壁8内的下方开口23仅由盖11密封，盖11不再支撑其它部件。类似的，但是，也可能将所有的或者个别选择的真空泵连接装置16或者真空泵16自身安装在下方的或上方开口23、10的盖11上。但是，这是特殊的系统构造，并且维修和组装空间的可用性确定了将盖11、11a、真空泵连接装置16和磁控管15安装在该空间内。

因此，图2示出包括气体分隔装置的子隔间和相邻的涂覆隔间3，隔间3内具有位于对应于本发明的真空泵系统的向上溅射位置的磁控管15，基底1在输送辊22上移动通过系统。在该实施例的变型中，仅通过系统上方外壁7内的上方开口10引入磁控管15，并且真空泵16直接(并且是独自地)安装在盖11上，盖11封闭上方外壁7或下方外壁8的上方和下方开口10、23。为了将这种设计实施例的泵动力调节到图1中示出的那样，其中，两个真空泵16(每侧的外壁9处各有一个)相连，两个真空泵16每个均位于垂直于输送方向13的一排泵内，在选择的视图内无法看到一排泵，在图示方向，泵是彼此顺序排列的。与下方局部隔间19内的气体分隔装置的布置相对应，在本实施例变形中，通向相邻的涂覆隔间3的抽吸口12在子隔间21中被密封件14封住。

平的水平部件17位于角形保持件24上，保持件24位于分隔壁4上。竖直部件20与水平部件17在上方局部隔间18内的大概中心位置，通过连接件26相连接，连接件26由固定部件25固定在上方的盖11的竖直位置。下方局部隔间19内的水平部件17具有两个抽吸口12，通过该抽吸口，将输送平台5排空。

Claims (16)

1.一种用于涂覆平坦基底的一侧或两侧的伸长真空系统，所述基底能够在输送平台上被输送系统移动所述真空系统，其中，真空系统包括至少一个具有磁控管周围区域的磁控管，并且沿基底的输送方向，真空系统被能够密封的分隔壁分为连续的隔间，所述分隔壁包括抽吸口，通过位于隔间上的真空连接装置能够直接排空基底，或者通过分隔壁上的抽吸口间接排空基底，其中，至少一个隔间包括上方局部隔间，其位于基底上方，所述局部隔间在其至少一个外壁内包括能够密封的上方开口，其特征在于，

在至少其中一个上方局部隔间(18)内能够安装水平和/或竖直部件(17，20)，用于将所述上方局部隔间(18)分为数个子隔间(21)。

2.根据权利要求1所述的伸长真空系统，其特征在于，在输送平台(5)的下方还设有由分隔壁(4)限定形成的下方局部隔间(19)，所述隔间(19)在其至少一个外壁(7，8，9)内具有能够被封闭的下方开口(23)以及位于每个分隔壁(4)内的能够被封闭的抽吸口(12)。

3.根据权利要求2所述的伸长真空系统，其特征在于，水平和/或竖直部件(17，20)能够安装在下方局部隔间(19)内，用于将所述下方局部隔间(19)分为数个子隔间(21)。

4.根据权利要求2或3所述的伸长真空系统，其特征在于，下方局部隔间(19)具有的结构与输送平台的上方局部隔间(18)的输送平台周围的结构相映，所述下方局部隔间(19)与上方局部隔间(18)相对。

5.根据权利要求1到4中任一项所述的伸长真空系统，其特征在于，上方和下方开口(10，23)能够被盖(11，11a)密封，并且至少一个磁控管(15)安装在盖(11，11a)上，和/或具有真空连接件(16)。

6.根据权利要求5所述的伸长真空系统，其特征在于，盖(11，11a)具有彼此相同的尺寸。

7.根据权利要求1到6中任一项所述的伸长真空系统，其特征在于，所有局部隔间(18，19)的上方开口(10)和下方开口(23)具有相同的尺寸。

8.根据权利要求1到7中任一项所述的伸长真空系统，其特征在于，上方和/或下方局部隔间(18，19)的侧面的外壁(9)内的上方开口(10)或下方开口(23)中的至少一个被设计成作为真空连接件(16)。

9.根据权利要求1到8中任一项所述的伸长真空系统，其特征在于，用于细分上方和/或下方局部隔间(18，19)的水平和/或竖直部件(17，20)是平的。

10.根据权利要求1到9中任一项所述的伸长真空系统，其特征在于，至少一个水平的部件(17)能够被放置在保持件(24)上，所述保持件具有水平的支撑表面，并且位于局部隔间(18，19)的至少两个相对的壁上。

11.根据权利要求1到10中任一项所述的伸长真空系统，其特征在于，竖直部件(20)由连接件(26)固定在至少一个水平部件(17)上，并且，竖直部件(20)在水平部件(17)和与水平部件(17)直接相对的上方或下方外壁(7，8)之间延伸。

12.根据权利要求1到10中任一项所述的伸长真空系统，其特征在于，至少一个水平部件(17)具有用于保持竖直部件(20)的插入装置，并且竖直部件(20)在水平部件(17)和与水平部件(17)直接相对的上方或下方外壁(7，8)之间延伸。

13.根据权利要求11或12所述的伸长真空系统，其特征在于，在盖(11)上设有固定部件(25)，所述盖(11)密封位于上方或下方外壁(7，8)内的上方或下方开口(10，23)，所述上方或下方外壁(7，8)与水平部件(17)相对，该固定部件在上方或下方开口(10，23)被封闭后将竖直部件(20)固定。

14.根据权利要求1到13中任一项所述的伸长真空系统，其特征在于，在至少一个上方和/或下方局部隔间(18，19)内，如此定位水平部件(17)，使得朝向输送平台(5)周围的空间，将对应局部隔间(18，19)的子隔间(21)隔开。

15.根据权利要求1到14中任一项所述的伸长真空系统，其特征在于，至少一个局部隔间(18，19)的水平和/或竖直部件(17，23)具有能够被密封的另外的抽吸口(12)。

16.根据权利要求1到15中任一项所述的伸长真空系统，其特征在于，上方和/或下方局部隔间(18，19)的分隔壁(14)内的抽吸口(12)的尺寸，与水平和/或竖直部件(17，23)内的所述另外的抽吸口(12)的尺寸被设计成是能够调节的。

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