CN1740378A - 有机物蒸镀装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种将基片直立为约垂直的状态下蒸镀有机物而形成有机薄膜的有机物蒸镀装置,以此不仅可以适用于大型基片,而且可以形成厚度均匀的有机薄膜。本发明所提供的有机物蒸镀装置,包含:室,用于形成壳体并使基片相对地面保持在70°至110°角度;有机物存入部,由用于接收需要蒸镀所述基片上有机物的至少一个有机物存入处组成;有机物喷嘴部,用于喷射需要蒸镀到所述基片上的有机物;连接管道,用于连接所述有机物喷嘴部和有机物存入部;移送装置,用于在所述有机物存入部、有机物喷嘴部和连接管道之中至少可以将所述有机物喷嘴部按垂直方向移动。
Description
技术领域
本发明涉及一种形成用于有机半导体器件等有机薄膜的有机物蒸镀装置,尤其涉及将基片直立为约垂直的状态下蒸镀有机物而形成有机薄膜的一种有机物蒸镀装置,以此可以适用于大型基片,并可以形成厚度均匀的有机薄膜。
背景技术
一般,包含有机电致发光器件(OLED,Organic light Emitting Device)等的有机半导体器件的有机薄膜形成方法大致分为:在真空中蒸发低分子有机物质来形成有机薄膜的方法;在溶剂里溶解高分子有机物质之后,利用旋转涂层(spin coating)、浸渍涂层(dip coating)、油墨辊镀敷(ductor plating)、喷墨涂布(ink jet printing)等工序形成有机薄膜的方法。
所述方法之中,在真空中由低分子有机物质制作薄膜时,将具有所要形成形状开口部的荫罩板(shadow mask pattern)调整到基片的前面,并通过向所述基片上蒸镀有机物质制作有机薄膜。
如上所述的由低分子有机物质制造有机薄膜的方法,包含利用点状有机蒸镀源的方法和利用线状有机蒸镀源的方法等。
但是,在大型基片上形成有机薄膜时,若利用如上所述的点状或线状的有机蒸镀源,则所述基片和蒸发源之间的距离共同增加。而所述基片和蒸发源之间距离的增加,将成为在所述基片上形成的有机薄膜的均匀性下降的原因。
此外,若所述基片和蒸发源之间的距离增加,则从所述蒸发源蒸发的有机物会被蒸镀到所述基片以外的真空室中,从而增加有机物的损失。并且,若考虑所述有机物为高价有机物,则存在制造成本增加的问题。
此外,为了确保有机薄膜的均匀性,可以通过在所述荫罩板和蒸发源之间形成一定角度的方式来形成有机薄膜。此时,形成所述荫罩板和蒸发源之间的一定角度时会因所述荫罩板而产生影子效果,因而很难获得所希望形状的有机薄膜。
此外,由于蒸发源和喷嘴呈为一体,因而会产生基片和掩模(maskpattern)的热变形。
此外,基片为大型基片时由于基片的下垂现象,从而基片的中央部和边缘部之间的薄膜不均匀。
此外,现有的有机物蒸镀装置为了均匀蒸镀有机物而采用移动基片的方法,但是这样移动基片,会要求有非常大的室(chamber)。
此外,在使用现有的有机物蒸镀装置时,由于各构成因素的间隙中进入有机粒子,所以发生有机物泄漏。若因这种有机物泄漏而污染加热器,则会使所述加热器短路。
当所述加热器发生短路而替换所述加热器时,由于所述加热器与所述有机蒸镀源成为一体,所以不仅替换困难,而且替换的工作时间较长。
发明内容
本发明为了解决如上所述的现有技术中所存在的问题而提出,其目的在于提供一种将基片直立为约垂直的状态下蒸镀有机物而形成有机薄膜的有机物蒸镀装置,以此不仅可以适用于大型基片,而且还可以形成厚度均匀的有机薄膜。
此外,本发明的另一目的在于提供一种在将基片直立为约垂直的状态下蒸镀有机物来形成有机薄膜的有机物蒸镀装置,以此不仅可以适用于在大型基片上形成厚度均匀的有机薄膜,同时将有机物存入部和有机物喷嘴部分开而使基片和掩模图案的变形最小。
此外,本发明的另一目的在于提供一种具有可独立拆卸的加热器、与飞溅防止膜形成一体的喷嘴的有机物蒸镀装置。
为了实现所述目的,依据本发明所提供的有机物蒸镀装置,包含:室(chamber),用于形成壳体并使基片相对地面保持在70°至110°角度;有机物存入部,由用于接收需要蒸镀到所述基片上的有机物的至少一个有机物存入处组成;有机物喷嘴部,用于喷射需要蒸镀到所述基片上的有机物;连接管道,用于连接所述有机物喷嘴部和有机物存入部;移送装置,用于在所述有机物存入部、有机物喷嘴部和连接管道之中至少将所述有机物喷嘴部按垂直方向移动。
所述有机物存入部可以位于所述室的内部或外部。
所述有机物喷嘴部最好还具有隔壁。
最好还包含位于所述有机物喷嘴部的有机物喷射方向的前端部的用于测量蒸镀所述基片的有机物蒸镀率的测量装置,所述测量装置最好与所述有机物喷嘴部呈为一体,并与所述有机物喷嘴部一起按垂直方向移动。
此外,依据本发明所提供的有机物蒸镀装置,包含:室(chamber),用于形成壳体并使基片相对地面保持在70°至110°角度;至少一个有机物存入部,由用于接收需要蒸镀到所述基片上的有机物的至少一个有机物存入处组成;两个以上的有机物喷嘴部,用于喷射需要蒸镀到所述基片上的有机物;连接管道,用于连接所述有机物喷嘴部和有机物存入部。
最好所述有机物存入部与所述有机物喷嘴部之间的比例为一对多个;或者由于所述有机物存入部为多个,因而将所述有机物喷嘴部最好与所述有机物存入部之间为一一相对应。
如上所述,依据本发明所提供的有机物蒸镀装置,可以在基片直立为约垂直的状态下蒸镀有机物而形成均匀的有机薄膜,并可以适用于大型基片,同时将有机物存入部和有机物喷嘴部分开而最大限度地减小基片和掩模图案的变形。
此外,本发明所提供的有机物蒸镀装置,具有可独立拆卸的加热器、与飞溅防止膜形成一体的喷嘴。
附图说明
图1为依据本发明一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的示意图;
图2a为依据本发明一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的示意图;
图2b为依据本发明一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的示意图;
图3为依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的示意图;
图4为依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的示意图;
图5a为依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的示意图;
图5b为依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的示意图;
图6为依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的示意图;
图7a为依据本发明又一实施方式的有机物蒸镀装置所提供的有机蒸镀源的纵向截面示意图;
图7b为表示依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的限于有机物存入部、喷嘴和加热器的示意图;
图7c为表示依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的限于外壳的示意图;
图7d为表示依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的限于冷却装置的示意图。
主要符号说明:为有机物蒸镀装置,110为室,120、200、300、400、400A、400B、500为有机蒸镀源,S为基片,M为掩模。
具体实施方式
以下,参照附图来详细说明本发明所提供的实施方式。附图中相同的参照符号表示同一构成要素。
图1为依据本发明一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的示意图。
如图1所示,依据本发明实施方式所提供的有机物蒸镀装置,包含:室110,用于形成所述有机物蒸镀装置壳体;有机蒸镀源120,用于将有机粒子喷射到需要蒸镀有机物的基片S上;有机蒸镀源移送装置130,可以按垂直方向移动所述有机蒸镀源120。
所述室110中蒸镀有机物的基片S相对地面保持约垂直,最好保持在70°至110°之间的角度。并且,所述室110最好为真空室。
所述有机蒸镀源120,包含:有机物存入部121,用于接收需要蒸镀到所述基片S上的有机物;有机物喷嘴部122,用于将从所述有机物存入部121蒸发的有机物喷射到所述基片S上;连接管道123,用于连接所述有机物存入部121和有机物喷嘴部122,并成为蒸发所述有机物的移动路径;测量装置124,用于测量蒸镀于所述基片S上的有机物蒸镀率和厚度。
所述有机蒸镀源移送装置130具有移动单元,该移动单元在所述有机蒸镀源120之中至少可以移动所述有机物喷嘴部122。此时,所述有机蒸镀源移送装置130是适用于保持真空的所述室110内使用的垂直移送装置,还可以具有至少能调节所述有机蒸镀源120之中所述有机物喷嘴部122移动速度的移送速度调节机构(未图示)。
附图中的参照符号M是掩模(mask pattern),用于决定蒸镀在所述基片S上的有机物的形状。
图2a和图2b为依据本发明一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的示意图,只限于示出蒸镀有机物的基片和有机蒸镀源。
如图2a和图2b所示,依据本发明一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的有机蒸镀源120,包含:有机物存入部121,由用于存入需要蒸镀到所述基片S上的有机物的至少一个有机物存入处121a组成;有机物喷嘴部122,用于将有机物喷射到所述基片S上;连接管道123,用于连接所述有机物喷嘴部122和有机物存入部121;测量装置124,用于测量蒸镀于所述基片S上的有机物蒸镀率和厚度。
所述有机物存入部121由用于存入需要蒸镀到所述基片S上的有机物的至少一个有机物存入处121a组成。所述有机物存入部121是加热所述有机物存入处121a以使有机物蒸发为有机粒子的部分,该有机物存入部121一般位于所述室110的内部,但本发明所提供的有机物存入部121也可以位于所述室110的外部。即,所述有机物存入部121可以位于室110的内部或外部。
所述有机物喷嘴部122用于将从所述有机物存入部121蒸发的有机粒子喷射到所述基片S上。虽然在附图中没有示出,该有机物喷嘴部122包含防止所述有机粒子被凝缩的加热器和使有机粒子喷射均匀的喷嘴。并且,所述有机物喷嘴部122还可以包含隔壁(baffle),以此用于从所述有机物存入部121蒸发的有机物之中,将没有完全按粒子状态蒸发而保持多个有机粒子凝固成块状的有机物弄碎成有机粒子状态,以使喷射到所述基片S上的有机粒子的大小为均匀。
所述连接管道123用于连接所述有机物存入部121和有机物喷嘴部122,并将从有机物存入部121蒸发的有机粒子移送到所述有机物喷嘴部122。所述连接管道123被构成为能够控制温度,以防止从所述有机物存入部121蒸发的有机粒子凝缩。并且,为了最大限度地减少所述有机粒子的凝缩,也可以在两个以上的范围进行个别控制。而当所述有机物存入部121位于所述室110的外部时,连接所述有机物存入部121和有机物喷嘴部121的连接管道123被连接于所述室110的外部。还有所述连接管道123为了使所述有机物喷嘴部122能按垂直方向移动,可以由喷水管的形状组成。
所述测量装置124位于所述有机物喷嘴部122的有机物喷射方向的前端部,并且和所述有机物喷头122形成为一体,以用于测量蒸镀到所述基片S上的有机物的蒸镀率和厚度。为了在所述基片S上形成有机薄膜而移动所述有机物喷嘴部122时,所述测量装置124与所述有机物喷嘴部122一起移动,并测量被蒸镀到所述基片S上的有机物的蒸镀率,以控制所述有机物存入部121内的有机物蒸发量。
利用如上所述的有机物蒸镀装置的有机薄膜形成方法如下所述。
首先,在所述有机物蒸镀装置的室110内安装基片S,将基片S安装为与地面保持约垂直,最好与地面保持在70°至110°之间的角度。
其次,将位于所述室110内部或外部的由用于接收有机物的至少一个所述有机物存入处组成的有机物存入部121进行加热,使所述有机物以有机粒子状态蒸发。
所蒸发的有机粒子经过连接所述有机物存入部121和有机物喷嘴部122的连接管道123移动到所述有机物喷嘴部122,并通过所述有机物喷嘴部122被喷射到所述基片S上。
此时,从所述有机物存入部121蒸发的有机物中,将没有完全按粒子状态蒸发而保持多个有机粒子凝固成块状的有机物撞击所述有机物喷嘴部122的隔壁,并被弄碎成有机粒子状态,致使喷射到所述基片S上的有机粒子大小为均匀。
此外,通过辅助加热器加热连接所述有机物存入部121与有机物喷嘴部122的连接管道123和有机物喷嘴部122,使所蒸发的有机粒子不会凝缩。
此外,通过所述有机蒸镀源移送装置130在所述有机蒸镀源120之中至少移动所述有机物喷嘴部122,使所述有机粒子均匀喷射在所述基片S上,从而可以在所述基片S上形成均匀的有机薄膜。
另外,图3为依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的示意图,只限于示出蒸镀有机物的基片和有机蒸镀源。
如图3所示,依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置与图1、图2a和图2b所示出的有机物蒸镀装置相类似。但是,所述有机物蒸镀装置的有机蒸镀源200由多个有机物存入部210和多个有机物喷嘴部220组成的结构上不尽相同。
即,依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的有机蒸镀源200,该组成包含:多个有机物存入部210,由用于存入需要蒸镀到所述基片S上的有机物的至少一个有机物存入处组成,并位于所述有机物蒸镀装置的室内部或外部;分别与所述有机物存入部210对应的多个有机物喷嘴部220;多个连接管道230,用于连接所述各有机物喷嘴部220和有机物存入部210;测量装置240,设置在所述各有机物喷嘴部220的有机物喷射方向的前端部,以用于测量蒸镀于所述基片S上的有机物蒸镀率。
如上所述的有机物蒸镀装置的有机蒸镀源200,由于具有多个有机物存入部210和多个有机物喷嘴部220,从而即使不具备用于移动所述有机物喷嘴部220的移动单元,也能在约垂直直立的大型基片上蒸镀有机物,而若具有所述移动单元,则更能均匀地蒸镀有机物。
图4为依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的示意图,只限于示出蒸镀有机物的基片和有机蒸镀源。
如图4所示,依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置与图1、图2a和图2b所示出的有机物蒸镀装置相类似。但是,所述有机物蒸镀装置的有机蒸镀源300由至少一个有机物存入部310和与所述有机物存入部310中的任意一个相对应的多个有机物喷嘴部320组成的结构上互不相同。
即,依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的有机蒸镀源300,该组成包含:有机物存入部310,由用于存入需要蒸镀到基片上的有机物的至少一个有机物存入处组成,并且位于所述有机物蒸镀装置的内部或外部;多个有机物喷嘴部320,用于在所述基片上喷射有机粒子;多个连接管道330,用于连接所述各有机物喷嘴部320和有机物存入部310;测量装置340,设置在所述各有机物喷嘴部320的有机物喷射方向的前端部,用于测量蒸镀于基片上的有机物蒸镀率。
如上所述的有机物蒸镀装置,一个有机物存入处对应两个以上的有机物喷嘴部。
即,一个有机物存入处对应多个有机物喷嘴部,并在所述的约垂直直立的基片上蒸镀有机物而形成有机薄膜。
如上所述,图1至图4中示出的依据本发明实施方式所提供的有机物蒸镀装置,由于将基片直立为垂直的状态下喷射有机粒子而形成有机薄膜,所以防止当基片为大型基片时基片的下垂形状,因此可以适用于大型基片。
此外,由于分离有机物存入部和有机物喷嘴部,所以可以防止所述基片和掩模因热变形,并且可以在所述基片上形成均匀分布有机粒子的有机薄膜。
此外,向所述多个有机物存入部所存入的有机物里可以主入使用不同物质的添加物,以用于改善所述有机薄膜特性。
此外,针对目前使用纯金属掩模(fine metal mask)而用于形成所述有机薄膜的掩模趋势,由于有机物约垂直地喷射到所述基片S上,因而具有能确保均匀覆盖度的优点。
此外,由于通过所述有机蒸镀源移送装置130移动所述有机蒸镀源120、200、300来将有机物蒸镀到所述基片S,从而与现有的没有有机蒸镀源移送装置而通过利用移动基片S的有机物蒸镀装置来蒸镀有机物的方式相比,可以将室110的大小缩小为约75%以内。
另外,图5a和图5b是依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的示意图。其中,图5a是依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的有机蒸镀源的纵向截面图,图5b是依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的有机蒸镀源的横向截面图。
如图5a和图5b所示,依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的有机蒸镀源400,由有机物存入部410、有机物导向通道420、加热器430、内部热反射板440、外部冷却板450、有机物喷嘴部460和测量装置470组成。
所述有机物存入部410用于存入需要在所述基片S上形成有机薄膜的有机物材料,所述有机物存入部410最好由被划分为至少一个单元410a的坩埚构成。
所述有机物导向通道420用于将从所述有机物存入部410蒸发的有机粒子移送到所述有机物喷嘴部460,并决定所述有机粒子的移动路径。更详细地说,由于所述有机粒子从所述有机物存入部410向上蒸发,而且为了在直立成约垂直的所述基片S上蒸镀有机物,必须将所述有机粒子的最终移动路径呈约水平方向,因而将所述有机物导向通道420的末端与地面保持在-20°至20°的角度。即,引导所述有机粒子的最终移动路径,使其与地面保持在-20°至20°的角度。并且,所述有机物导向通道420的中间部分按一定倾斜角度,使从所述有机物存入部410蒸发的有机物中的部分块(cluster)状有机物撞击导向通道的内壁而碎成有机粒子状态,从而使所述块状的有机物顺利地均匀混合于所述有机物导向通道420的内部,以防止有机物凝固成块而蒸镀到所述基片S上。
所述加热器430设置在所述有机物存入部410和有机物导向通道420的外部,用于加热所述有机物存入部410和有机物导向通道420。即,加热所述有机物存入部410使所述有机物蒸发为有机粒子状态,并加热所蒸发的有机粒子来防止该有机粒子在所述有机物导向通道420内部被凝缩。
所述内部热反射板440,设置在相对所述加热器430的外部,用于增加所述有机蒸镀源400的热效率;并且,为了有效维持所述有机蒸镀源400内部的热容量而构成为多段结构。
所述外部冷却板450位于所述内部热反射板440的外部,用于防止所述有机蒸镀源400内部的热量传导到外部。所述外部冷却板450利用制冷剂来冷却内部热反射板440。
所述有机物喷嘴部460所起的作用为:将从所述有机物存入部410蒸发的通过所述有机物导向通道420而流入的有机粒子喷射到直立成约垂直的基片S上,并决定所述有机粒子在所述基片S上蒸镀、分布的形状。并且,所述有机物喷嘴部460最好被形成喷射有机粒子时能调节喷射角度的形状。由于根据所述有机物喷嘴部460的开口形状可以调节被喷射的有机粒子形状,从而可以控制所述有机物存入部410内的有机物能均匀蒸发。
所述测量装置470用于测量与地面成70°至110°角而直立的基片S上所蒸镀的有机物蒸镀率和厚度。而且,所述测量装置470位于所述有机物喷嘴部460的有机物喷射方向的前端部,并与所述有机物喷嘴部460呈一体。
另外,如图5b所示,所述有机物存入部410被划分为至少一个单元410a,而各单元410a中可以存入有机物。并且,加热器430均匀分布在所述有机物存入部410的周围。
在此,当蒸发有机物存入部410的所述有机物时,若所述有机物存入部410由一个单元构成,则因所述有机物存入部410内部的温度分布差导致随位置产生不同的有机物蒸发率。这种由位置引起的蒸发率差异虽然会降低添加物注入的均匀性和有机薄膜的均匀性,但通过将所述有机物存入部410划分为多个单元410a,可以将所述有机物存入部410内的有机物蒸发率为均匀。
下面将描述利用包含如上所述的依据本发明又一实施方式所提供的有机蒸镀源的有机物蒸镀装置形成有机薄膜的方法。
首先,在所述有机物蒸镀装置的室110内安装基片S为与地面保持约垂直,最好与地面保持在70°至110°的角度。
其次,通过所述加热器430加热用于接收所述有机蒸镀源400的有机物的所述有机物存入部410。
此时,通过所述加热器430加热被所述有机物存入部410坩埚内的各单元所接收的有机物,使其蒸发为有机粒子状态。
所蒸发的有机粒子通过所述有机物导向通道420而流入到所述有机物喷嘴部460。此时,所述有机粒子的移动路径由所述有机物导向通道420的形状而决定。由于所述有机物导向通道420的末端为与地面保持在-20°至20°之间的角度,因此对于所述有机蒸镀源400内的所述有机粒子,其最终移动路径将与地面保持在-20°至20°的角度。并且,所述有机物导向通道420为:将从所述有机物存入部410蒸发的有机物中没有完全蒸发为粒子状态而保持多个有机粒子凝固成块状的有机物撞击到该有机物导向通道420的内壁,并弄碎成有机粒子状态,以使喷射到所述基片S上的有机粒子的大小为均匀。并且,所述有机物导向通道420外部的加热器430,用于使所述蒸发的有机粒子不会在所述有机物导向通道420内凝缩。
流入到所述有机物喷嘴部460的有机粒子,通过所述有机物喷嘴部460蒸镀到所述基片S上而形成有机薄膜。此时,所述有机蒸镀源400通过所述有机蒸镀源移送装置130按垂直方向移动,并将有机粒子蒸镀到与地面保持在70°至110°角度的所述基片S而以形成有机薄膜。并且,所述有机粒子由于其最终移动路径与地面保持-20°至20°之间的角度,因此通过所述有机物喷嘴部460将所述有机粒子喷射到所述基片S上时,所述有机粒子以与地面成-20°至20°的角度被喷射。并且,当所述有机粒子被喷射到所述基片S上时,可以通过所述有机物喷嘴部460的开口形状调节蒸镀到所述基片S上的有机粒子的形状。
另外,设置在所述有机物喷嘴部460的有机物喷射方向前端部的所述测量装置470,在所述基片S上蒸镀有机物时测量蒸镀到所述基片S上的有机物蒸镀率和蒸镀厚度。因此,在形成有机薄膜的期间,通过利用所述测量装置470来控制有机粒子的蒸镀率和蒸镀厚度,并以此可以实现均匀有机薄膜厚度的再现性。
图6为依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的示意图。
如图6所示,依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置如图1中所示,包含多个有机蒸镀源120和用于垂直移动所述各有机蒸镀源的有机蒸镀源移送装置而组成。
作为一例,互不相同的多个蒸镀源由第一有机蒸镀源400A和第二有机蒸镀源400B组成,所述第一有机蒸镀源400A和第二有机蒸镀源400B含有相同有机物,并相互隔离所定间隔而移动,从而可以在基片上蒸镀均匀的有机薄膜。尤其在利用大型基片蒸镀有机薄膜时,更为有利。
或者,所述互不相同的多个蒸镀源由第一有机蒸镀源400A和第二有机蒸镀源400B组成,所述第一有机蒸镀源400A和第二有机蒸镀源400B之中的任意一个有机蒸镀源,例如第一有机蒸镀源400A作为将有机薄膜原材料的有机物喷射到所述基片S上的有机蒸镀源,而第二有机蒸镀源400B作为将用于改善所述有机薄膜特性的添加物包含到所述有机薄膜的有机蒸镀源。
此时,所述第一有机蒸镀源400A和第二有机蒸镀源400B,为了在有机薄膜中均匀包含有机物,在所述基片S上蒸镀物质之前可以在一定范围内调节喷射角度,用以相互混合物质。
此外,所述第一有机蒸镀源400A和第二有机蒸镀源400B的喷嘴的喷射方向前端部,设置用于测量各有机物的蒸镀率和蒸镀厚度的测量装置。因此,在所述基片S上形成含有添加物的有机薄膜期间,根据该测量装置可以控制蒸镀率和有机物的蒸镀厚度,并可以控制有机薄膜中所含的添加物含量。
如上所述,如图5a和图5b以及图6中所示,依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置,通过所述内部热反射板440和外部冷却板450防止热量向除所述有机喷嘴460以外的外部释放,因而可以最大限度地减小波及所述基片S和掩模图案M的热影响。即,可以防止由热引起的所述基片S和掩模图案M的变形。
图7a至图7d为依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的有机蒸镀源的示意图。其中,图7a为依据本发明又一实施方式的有机物蒸镀装置所提供的有机蒸镀源的纵向截面示意图,图7b为表示依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的限于有机物存入部、喷嘴和加热器的示意图,图7c为表示依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的外壳示意图,图7d为表示依据本发明又一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的限于冷却装置的示意图。
如图7a至图7d所示,依据本发明一实施方式所提供的有机物蒸镀装置的所述有机蒸镀源500,该组成包含:一部分开口的有机物存入部510,用于存入有机物;与所述有机物存入部510的开口部分连接的喷嘴部520,用于喷射有机物;外壳530,具有覆盖所述有机物存入部510形状;加热器,设在所述有机物存入部510和所述外壳530之间。
所述有机物存入部510用于存入需要蒸镀到所述基片S上的有机薄膜原材料的有机物,一般由坩埚组成。并且,所述有机物存入部510可以由热传导性好的石墨(graphite)或其等价物构成,而本发明并不局限于该材质。
所述喷嘴部520为将从所述有机物存入部510蒸发的有机粒子喷射到约垂直直立的基片S上,并决定所述有机粒子在所述基片S上蒸镀、分布的形状。在此时,所述喷嘴部520由有机物喷嘴部521和飞溅防止膜525组成为一体,所述有机物喷嘴部521用于将从所述有机物存入部510蒸发的有机粒子喷射到所述基片S上,所述飞溅防止膜525用于防止未从所述有机物存入部510蒸发的有机粒子以块(cluster)形状飞溅出来的有机物。并且,所述喷嘴部520可以由热传导性良好的石墨(graphite)或其等价物构成,而本发明并不局限于该材质。并且,所述喷嘴部520可以根据开口形状来调节所喷射的有机粒子的形态,从而可以控制所述有机物存入部510内的有机物均匀蒸发。
所述外壳(housing)530由覆盖所述有机物存入部510的形状构成,用于将所述有机物存入部510与外部环境隔离。
所述加热器540设置在所述有机物存入部510和所述外壳530之间,用于加热所述有机物存入部510的有机物,使其可以蒸发。在此,所述加热器540由可以使所述有机物蒸发而作为热源的热线541以及用于防止所述热线541下垂并容纳热线的一种肋骨形状热线支持体545所组成。换言之,所述加热器540形成为由热线541和热线支持体545组成的一种加热隧道(heatertunnel)的结构,而所述加热隧道(heater tunnel)被形成覆盖所述有机物存入部510的形状。据此,由于所述加热器540没有与所述有机蒸镀源500中的其它构成要素、尤其是与述有机物存入部510形成为一体或被其它构成要素安装的形式而构成,因而可以进行独立的拆卸和替换。
此外,所述有机蒸镀源500还可以进一步包含安装在所述外壳530内壁的内部热反射板550。所述内部热反射板550用于反射所述加热器540产生的热量,并增加所述加热器540的热效率。
此外,所述有机蒸镀源500还可以进一步包含安装在所述喷嘴部520的朝基片S方向外面的隔热单元560。所述隔热单元560用来防止通过所述喷嘴部520释放热量而影响所述基片S。
此外,所述有机蒸镀源500还可以进一步包含设置在所述外壳530外壁的冷却装置570。所述冷却装置570用于防止所述加热器540所产生的热量通过所述外壳530释放到外部。
另外,虽然图上未示出,但所述有机蒸镀源500还可以进一步包含用于测量蒸镀于所述基片S上的有机物的蒸镀率和厚度的测量装置。
如上所述,按照图7a至图7d所示的所述有机物蒸镀装置的有机蒸镀源500,由于其组成结构为:所述有机物存入部510设置于加热隧道(heatertunnel)结构的所述加热器540之中,所述有机物存入部510被开口的部分插入喷嘴部520,所述加热器540被插入到所述外壳530;并且,所述有机物存入部510、喷嘴部520和加热器540形成容易拆卸和组装。
下面将描述利用具有如上所述的有机蒸镀源500的有机物蒸镀装置形成有机薄膜的方法。
首先,在所述有机物蒸镀装置的室110内安装基片S为与地面保持约垂直,最好与地面保持在70°至110°的角度。
其次,通过所述有机蒸镀源500所述加热器540加热有机物存入部510,而该有机物存入部510用于接收的蒸镀在所述基片上的有机物。此时,通过所述加热器540加热所述有机物存入部510所接受的有机物,并蒸发为有机粒子状态。
所蒸发的有机粒子流入到所述喷嘴部520,并通过所述喷嘴部520喷射而蒸镀到所述基片S上。此时,蒸镀到所述基片S上的有机粒子根据所述掩模图案M决定其蒸镀形状。
此时,通过所述移送装置130移送所述有机蒸镀源500,并在所述基片S上蒸镀有机物,可以使蒸镀的有机物更加均匀。
另外,由于所述喷嘴部520的由有机物喷嘴部521和飞溅防止膜525组成为一体,从而可以防止未从所述有机物存入部510蒸发为有机粒子而以块状飞溅出来的有机物。
此外,由于所述喷嘴部520由热传导性良好的石墨(graphite)等物质构成,因而即使不设置另外的加热装置也能防止通过所述喷嘴部520喷射的有机粒子被凝缩。
此外,在所述基片S上蒸镀所述有机粒子时,根据所述喷嘴部520的有机物喷嘴部521开口形状来调节蒸镀在所述基片S上的有机粒子形态。
另外,由于有机蒸镀源还具有测量装置(未图示),因而在所述基片S上蒸镀所述有机物的期间可以测量所述基片S上所蒸镀的有机物的蒸镀率和蒸镀厚度。因此,在形成有机薄膜期间,利用所述测量装置580可以控制有机粒子的蒸镀率和蒸镀厚度,从而可以实现均匀有机薄膜厚度的再现性。
上面参照本发明的优选实施方式进行了描述,但属于本技术领域的专业人员应该理解,在不脱离权利要求所记载的本发明的思想和领域的条件下,可以对本发明进行各种修改和变更。
Claims (9)
1、一种有机物蒸镀装置,其特征在于包含:
室,用于形成壳体并使基片相对地面保持在70°至110°角度;
有机物存入部,由用于接收需要蒸镀到所述基片上的有机物的至少一个有机物存入处组成;
有机物喷嘴部,用于喷射需要蒸镀到所述基片上的有机物;
连接管道,用于连接所述有机物喷嘴部和有机物存入部;
移送装置,用于在所述有机物存入部、有机物喷嘴部和连接管道之中至少可以将所述有机物喷嘴部按垂直方向移动。
2、根据权利要求1所述的装置,其特征在于所述有机物存入部可以位于所述室的内部或外部。
3、根据权利要求1所述的装置,其特征在于所述有机物喷嘴部还具有隔壁。
4、根据权利要求1所述的装置,其特征在于还包含位于所述有机物喷嘴部的有机物喷射方向前端部的用于测量蒸镀所述基片上的有机物蒸镀率的测量装置。
5、根据权利要求4所述的装置,其特征在于所述测量装置与所述有机物喷嘴部呈为一体,并与所述有机物喷嘴部一起按垂直方向移动。
6、一种有机物蒸镀装置,其特征在于包含:
室,用于形成壳体并使基片相对地面保持在70°至110°角度;
至少一个有机物存入部,由用于接收需要蒸镀到所述基片上的有机物的至少一个有机物存入处组成;
两个以上的有机物喷嘴部,用于喷射需要蒸镀到所述基片上的有机物;
连接管道,用于连接所述有机物喷嘴部和有机物存入部。
7、根据权利要求6所述的装置,其特征在于一个所述有机物存入部对应于多个所述有机物喷嘴部。
8、根据权利要求6所述的装置,其特征在于所述有机物存入部为多个,而所述有机物喷嘴部与所述有机物存入部一一相对应。
9、根据权利要求6所述的装置,其特征在于还包含位于所述有机物喷嘴部的有机物喷射方向前端部的用于测量蒸镀所述基片上有机物蒸镀率的测量装置。
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