CN1736924A - 用于遮蔽物的夹持装置 - Google Patents

Abstract

一种夹持装置(12)，用于在涂敷一基材特别是玻璃基材的装置的涂敷间室(2)中安装至少一遮蔽物(9)，该夹持装置的设计使得由夹持装置(12)所支撑的一遮蔽物(9)可以通过所述夹持装置(12)的移动至少从涂敷间室(2)中的第一位置移动至第二位置。该夹持装置(12)包括设备(13)，该设备可以使遮蔽物(9)在从第一位置到第二位置的路径上避开阻碍物。特别地，在遮蔽物由第一到第二位置的移动过程中，所述遮蔽物(9)被可回转地安装在夹持装置(12)上。

Description

用于遮蔽物的夹持装置

技术领域

本发明涉及在用以涂敷基材，特别是玻璃基材的装置的涂敷间室中的用于安装至少一遮蔽物的一种夹持装置，该夹持装置的设计使得通过该夹持装置的运动，由其所支撑的遮蔽物可至少从涂敷间室中的第一位置移动至第二位置。

背景技术

在涂敷流水线例如玻璃涂敷流水线的涂敷间室内安装遮蔽物是公知技术；该遮蔽物可实现间室特定区域的必要屏蔽且有利于对玻璃基材的选择性地或均匀地涂敷。所述遮蔽物尤其适用于玻璃涂敷流水线的阴极区域。这种设计不仅适用于具有平面阴极体的流水线，而且适用于具有旋转阴极体的流水线。

在涂敷间室中通常在阴极以上的区域设有一进入孔，以便维护和清洁时将遮蔽物从涂敷间室中移开。通过所述进入孔可更换所述阴极。如有必要，所述进入孔还为涂敷流水线的其他构件特别是遮蔽物提供通路。

但是，当从进入孔进行观察时，所述遮蔽物的至少一部分通常位于阴极下面，即在阴极和基材之间的空间中。所述部分可以与安装在其上的阴极形成干涉边缘。因此，固定不变的安装或附于一框架的遮蔽物具有仅在阴极体被移开后才能被移走的缺点。换言之，只有在将阴极从涂敷间室移开时或移开之后才可能接触部分包围阴极的该遮蔽物。由于需要附加的安装步骤和时间损失，上述情况降低了涂敷流水线的效率。

使用所谓的悬臂阴极尤其存在问题，因为该阴极通过接受壁被横向安装，当涂敷间室被打开后，所述阴极还保持在接受壁中。这种情况下，在更换遮蔽物之前必须先要移开一个目标或阴极是特别耗费时间的。

发明内容

相对于上述背景技术，本发明的目的是使遮蔽物从一涂敷流水线移开更加便利。本发明尤其适用于移开至少部分环绕阴极的遮蔽物。

上述目的可通过具备权利要求1所述特征的一种遮蔽物夹持装置实现。

本发明涉及在用以涂敷一基材特别是一玻璃基材的装置的一涂敷间室中的用于安装至少一遮蔽物的一种夹持装置，所述夹持装置的设计使得通过该夹持装置的运动，由其所支撑的一遮蔽物可至少从涂敷间室中的一操作位置(第一位置)移开。该遮蔽物从涂敷间室被移到涂敷间室外的第二位置。该夹持装置具有这样的措施，即，当将遮蔽物从涂敷间室中所述操作位置移开时，可以使该遮蔽物免受阻碍。

可移动的夹持装置允许从涂敷间室中移开与其相连的遮蔽物。该夹持装置优选地被构造得使其一部分延伸进入所述进入孔区域并且与用于密封进入孔的封头法兰相连接或不相连接。在后一种情况下，当法兰被提升离开该开口时，所述遮蔽物从其工作位置被移开。

由于在基材侧即在朝向远离进入孔一侧还经常需要遮蔽物提供局部屏蔽，因此从进入孔观察，遮蔽物的一部分位于一个阴极的下面。当遮蔽物处于工作位置，如果一种传统的夹持装置被线性地从间室中拉出，该遮蔽物的这部分将被安装在其上的阴极阻挡，即与阴极相碰撞。

使用根据本发明的夹持装置可以在遮蔽物从间室中被移开时，避免遮蔽物与阴极、间室壁及可能安装在间室中的其他涂敷流水线构件之间的任何接触。因此，可以确保在不从间室移出阴极的情况下在撤出遮蔽物时，遮蔽物和阴极都不会被损害。虽然阴极被遮蔽物部分地包围，但是由于夹持装置避免了遮蔽物与位于其路径中的障碍相接触，因此可以防止对遮蔽物的损害或由其造成的干扰。

一旦遮蔽物从涂敷间室被移出，在维修或清洁之前即可容易地将这些遮蔽物从相应的支撑件拆下。在抽出遮蔽物之前，不必费时地移开阴极。因此，在组装工作和时间方面的节省有利于提高涂敷流水线的利用效率。

优选地，所述装置的设计使得当遮蔽物被从第一位置移至第二位置时，该遮蔽物可以执行至少一相对夹持装置的附加移动。

当遮蔽物从涂敷间室内抽出后，在遮蔽物上迭加的附加移动可为旋转运动或者平动。该附加运动可使得遮蔽物在从工作位置到进入孔的过程中避开可能的(例如阴极)阻碍，在工作位置该遮蔽物与阴极可形成一干涉边缘。

特别地，该装置的构造使得遮蔽物由第一位置移至第二位置的路径中可以在涂敷间室内改变其定向。这意味着遮蔽物可以相对其初始工作位置倾斜。当遮蔽物经过一个障碍物时，它可以通过有控制地和选择性地变化其自身定向以避免与障碍物接触。

该装置特别被构造得可允许遮蔽物相对于夹持装置回旋。这一方法使得以下的操作成为可能，例如，在将夹持装置从涂敷间室中撤出的过程中，遮蔽物经过阴极时倾斜遮蔽物，从而当遮蔽物位于操作位置时引导位于阴极后面的突出物，使其经过阴极而不与阴极发生接触。

该装置可以包括例如用以回转遮蔽物的铰接点。

特别地，遮蔽物可以被连接于夹持装置的一可回转部分。这意味着夹持装置是由两个回转部件构成。一个部件可以与用以关闭孔的封头法兰相连接，而另一部件与遮蔽物相连接。

做为选择，所述装置还可以被设置为当遮蔽物处于从第一位置到第二位置的路径中时可以执行相对夹持装置的横向位移。这意味着遮蔽物可以通过在夹持装置上侧向移动避免受到阻碍，该侧向移动通常是远离障碍物的且与由第一位置到第二位置的移动方向呈直角。在众多配置中选择哪一种配置是由间室中构件的布局决定的。

该装置优选地被构造以使得遮蔽物定向和/或横向位移需根据从第一位置到第二位置路径上的遮蔽物的位置决定。依靠遮蔽物的位置，特别是遮蔽物与进入孔之间的距离(换言之，该遮蔽物有多高)和其回转或转移的角度之间的关系，可以在向第二位置移动的每个阶段避免与障碍物碰撞。可以采用各种恰当调节的方法和规避装置以确定遮蔽物的位置。

通过机械作用可以改变遮蔽物的方位和/或横向移动，例如特别是通过重力作用或弹簧力的作用来实现。例如，简单地从一支撑面，例如一冷却单元的表面上，提起遮蔽物可以引起遮蔽物从阴极回转开。为此，全部所需要的就是选定遮蔽物的重心，这样，当夹持装置被提升时，以一个恰当的转距作用在遮蔽物上并引起该遮蔽物以预期的角度绕支点回转。这样的布置在生产和操作中尤其简便和经济且不需要外部能量和外部控制。

改变遮蔽物的定向和/或横向移动的另一种选择就是通过电力实现。

优选地，在遮蔽物由第一位置向第二位置移动中其定向的改变和/或横向位移都是以自作用的方式实现的。例如，通过从一个支撑面上提升遮蔽物并使其受到重力的作用，或者通过处于路径上一特定点的一个弹簧的自动激活，或者通过为遮蔽物提供一种引导装置，或者通过当遮蔽物经过一个特定区域时一个开关的自动激活以及通过任何本领域技术人员熟悉的其他方法来实现上述改变和位移。

遮蔽物定位的改变和/或横向移动特别是由遮蔽物从第一位置到第二位置的移动引起的。当经过一个障碍时，该遮蔽物的运动自由受到限制。

优选地，在遮蔽物由第一位置向第二位置运动中其定向的改变和/或横向位移都是自动实现的。其中，术语“自动地”是指不需要用户干涉而发生的任何变化。这样就避免了由于人员错误或疏忽造成的任何损失。

所述第一位置典型地是涂敷间室中的一个操作位置，同时是涂敷工作中遮蔽物的期望位置。

所述第二位置典型地是提供可基本自由接触遮蔽物的一维护位置。该位置可以位于间室内部或外部。所述第二位置可以是邻近涂敷间室进入孔或者间室外部的一个位置。

特别是在遮蔽物由第一位置到第二位置的移动中，该夹持装置执行一个基本线性的移动。如果夹持装置安装在例如用以关闭孔的法兰上，则为打开孔而垂直提升法兰将引起支撑件的基本线性移动。干涉边缘因此被明确地限定，同时遮蔽物可以自动地执行相对于夹持装置的正确的移动以避免碰撞。

当位于第一位置，该遮蔽物可以至少部分地包围一个安装在涂敷间室中的阴极。具体而言，遮蔽物在阴极后突出并从而形成干涉边缘；但是，由于遮蔽物相对夹持装置的附加移动(如在本发明的装置中所提供)，当遮蔽物被移开时，干涉边缘将被消除。

当被安装在第一位置时，所述遮蔽物优选地与一冷却单元接触。涂敷过程中产生的热量可以被适当的冷却单元消散。冷却单元典型地是一个水基冷却单元。该遮蔽物的一部分可以被支撑在一冷却面上以便形成可能的最佳热接触。例如可以通过盖体重量或者如果涂敷流水线被抽真空则由不同的压力来实现上述接触。因此，可以提供恰当的向下压力。为了获得相对均一且可以调解的接触压力，还可以使用弹簧实现。

当遮蔽物从第一位置向第二位置移动时，遮蔽物优选地与冷却单元分离。理论上，水基冷却单元可以永久地与遮蔽物连接，这种情况下，冷却单元必须与遮蔽物一起从涂敷间室中移开。但是，假设冷却单元仅与遮蔽物接触，冷却单元则可以被留在涂敷间室中。在本实施例中，因为遮蔽物只需要用简单的铰链销固定而不需要如传统设备中使用大量螺栓与冷却单元连接，所以可以为了清洁的目的迅速更换遮蔽物。

附图说明

通过下面对具体实施例的描述，本发明的其他特征和优点将更为明显。

图1示出了由涂敷流水线一部分剖开的垂直剖视图，该涂敷流水线具有各种处于工作位置的构件；

图2示出了涂敷间室打开时的涂敷流水线。

具体实施方式

图1示出了部分的涂敷流水线1。该部分具有一个带有侧壁3和一个上壁区域4的涂敷间室2。该上壁区域被一进入孔5穿透，从该进入孔5可进入所述涂敷间室2。具体而言，所述进入孔5为更换阴极体8和维护涂敷流水线1的其他构件特别是遮蔽物9提供进入路径。

如图1所示，当涂敷流水线1在操作中时，进入孔5被封头法兰6密封。利用多个密封件7例如密封环可保证涂敷流水线2的气密闭合，所述密封环被容纳在凹槽中。

在实施例中，两个制造成旋转阴极的阴极体被设置在涂敷间室2中。所述阴极体8基本是圆柱状的。但是，显然还可以在涂敷间室中用平面阴极代替旋转阴极。

在所示截面图中，遮蔽物9在竖直的x-y平面内转动成一角度。遮蔽物的一部分9a与y轴平行，一个邻近部分9b朝向目标8倾斜，一部分9c平行x轴朝向中心线M伸出。这样的布置意味着目标8部分地被相关遮蔽物9包围。

每一个阴极体8在平行x轴的方向横向地被遮蔽物9的9a、9b遮蔽。另外，阴极8在朝向基材的向下方向(也就是说在y方向)被遮蔽物9的9c小幅度地遮蔽。从上方即从进入孔5可观察到，当处于工作状态时，遮蔽物9的末梢部分9c位于一个阴极体8的后面，作为其结果，形成一个突出端10，该突出端延伸出阴极8的干涉边缘11，所述干涉边缘11平行于y轴。

当处于工作位置，遮蔽物9通过一法兰9d与一水基冷却单元14接触。涂敷过程中产生的热量可以被冷却单元14消散。通过稳定的向下压力可以在遮蔽物9和冷却单元14之间形成良好的热接触，例如可以通过法兰的重量或不同的压力(如果涂敷间室2被抽空)来实现上述接触。

图2示出了通过移开封头法兰6打开涂敷间室2过程中的涂敷流水线1。封头法兰6可以沿箭头B指示的方向被升高或降低。

支撑件12与封头法兰6相连接。相应地，当封头法兰6被垂直提升时，支撑件12与其一起垂直向上运动。

当封头法兰6和支撑12向上运动时，遮蔽物9被提升离开接触面并朝向孔5运动，所述遮蔽物9在处于操作位置时停驻在冷却单元14的接触面上。

显示在图1中的遮蔽物部分9c的突出端10朝向中心线M延伸越过阴极8的干涉边缘，并且如果封头法兰6和遮蔽物9之间的连接是完全刚性的，则突出物10可能在向上运动的过程中与阴极体8发生碰撞。与阴极体8的碰撞或仅仅是接触会妨碍遮蔽物9从涂敷间室9移出，还可能引起损害。

因此，夹持装置12设有一接头，例如一枢轴13。支撑件12的一部分在其上端与法兰连接，同时支撑件12的其他部件12a与遮蔽物9刚性地连接。部件12a位于遮蔽物9的9a与9d形成的一个角度中。

夹持装置12的两部件通过一铰接点彼此连接，因而彼此可相对回转。为此，可以在支撑件12的下端设置一枢轴13，该枢轴13与位于支撑件12的其他部件12a中的相应轴承衬(未示出)相互作用。在图中，枢轴垂直于x-y平面运转。

如前所述的，当封头法兰6被提起时，遮蔽物9被提升离开冷却单元14的接触面。该组件的设计使得包括遮蔽物9和支撑件12的部件12a在内的组合物的重心相对枢轴13朝向中心线M移动。因此，当遮蔽物被提升时，受到重力作用的组件9、12a相对枢轴横向移动并在组件上形成转矩。结果是组件9、12a向下摆动。在图2中，用箭头S指示回转方向。因此，遮蔽物9充分地朝向外部并远离x-y平面上的中心线M和阴极8的方向摆动，以消除与阴极的重叠部分10。结果是遮蔽物9可以在不发生接触的情况下经过阴极8。转动的程度被进一步计算以便包含遮蔽物9和部件12a的组件可以被引导穿过孔5而不与上壁4的边缘4a发生接触。这些举措允许从涂敷间室2中安全移出遮蔽物9，而不必首先移开阴极体8。

在所描述的例子中，部件12a是由重力引起旋转的。然而，作为被选方案，弹簧力或其他机械的或电子的方式可以被用于产生遮蔽物9相对支撑件12上部的一个受迫的、机械的或至少自动的运动，以便避免与阴极8碰撞。例如，可以引入一个控制系统，该控制系统将回转运动S协调为直移运动B的一个函数，从而使得遮蔽物9可以被引导至进入孔5而不与阴极体8或涂敷流水线1的组件碰撞。通过这种方法，回转运动S可以被协调作为平移运动B的一个函数，该方法在于，例如，控制S，使其作为枢轴13的y坐标的函数，优选地为指定的y坐标而分配特定的旋转角。支撑件12的移动B可迫使遮蔽物9绕枢轴13旋转。换言之，回转运动S被运动B自动地实现。这意味着，在将遮蔽物9从涂敷间室2移出时，可以大幅度排除对涂敷流水线1的构件的人为错误和损害。控制系统和回转运动本身都可以机械地或电动地实现。

在涂敷过程中在遮蔽物9产生的热量可以被冷却单元14消散。如图2所示，当遮蔽物9被移开时水基冷却单元14可以保留在涂敷间室中。在实施例中，当遮蔽物9从冷却单元14的接触面提起分离时，该遮蔽物9与冷却元件分开。通过一个很高的均衡的向下压力可以确保冷却单元14和遮蔽物9之间(尤其是冷却单元14和遮蔽物9的9d部分之间)的良好热接触。优选地，支撑件12的长度是可调节的。为了调节向下的压力，支撑件12可另外设置多个弹簧，以在遮蔽物9d部分上产生均匀的压力。

但是理论上讲，水基冷却单元14也可以稳固地与遮蔽物9连接，在这种情况下，该冷却单元与遮蔽物一同从涂敷间室2中移开。

通过所示涂敷流水线，可以为了清洁或维护的目的而迅速更换遮蔽物9(尤其是不需要移开阴极体8)。

Claims (20)

1.一种夹持装置(12)，用于在涂敷一基材特别是一玻璃基材的装置的一涂敷间室(2)中安装至少一遮蔽物(9)，该夹持装置的设计使得该夹持装置(12)所支撑的一遮蔽物(9)通过所述夹持装置(12)的移动从涂敷间室，至少从涂敷间室(2)中的一操作位置，移出至涂敷间室外的一位置，其特征在于，所述夹持装置(12)包括设备(13)，该设备(13)使遮蔽物(9)在从被涂敷间室移开时避开阻碍物。

2.根据权利要求1所述的夹持装置(12)，其特征在于，设备(13)的设计使得当遮蔽物(9)被从涂敷间室(2)中的所述操作位置移动至涂敷间室外的所述位置时，遮蔽物(9)执行至少一个相对夹持装置(12)的附加移动。

3.根据权利要求1或2所述的夹持装置(12)，其特征在于，所述设备(13)的设计使得当遮蔽物(9)从涂敷间室(2)中的所述操作位置移动至涂敷间室外的所述位置时，遮蔽物(9)在涂敷间室(2)中改变其方位。

4.根据前述权利要求中的任意一项所述的夹持装置(12)，其特征在于，所述设备(13)的设计允许遮蔽物(9)相对夹持装置(12)回转。

5.根据权利要求4所述的夹持装置(12)，其特征在于，所述设备(13)包括一允许遮蔽物(9)的回转的铰链接合(13)。

6.根据权利要求5所述的夹持装置(12)，其特征在于，所述遮蔽物(9)被安装在夹持装置(12)的回转部分(12a)上。

7.根据前述权利要求中的任意一项所述的夹持装置(12)，其特征在于，所述回转部分(12a)的设计使得当遮蔽物(9)从涂敷间室(2)中的所述操作位置被移动至涂敷间室外的所述位置时，该遮蔽物(9)执行相对夹持装置(12)的横向移动。

8.根据前述权利要求中的任意一项所述的夹持装置(12)，其特征在于，所述设备(13)的设计使得当遮蔽物(9)从涂敷间室(2)中的所述操作位置被移动至涂敷间室外的所述位置时，遮蔽物(9)的方位和/或横向移动取决于遮蔽物(9)在涂敷间室中的位置。

9.根据前述权利要求3至8之一所述的夹持装置(12)，其特征在于，所述遮蔽物(9)定位的变化和/或横向移动通过机械作用产生，特别通过重力或弹簧力的作用实现。

10.根据权利要求3至8之一所述的夹持装置(12)，其特征在于，遮蔽物(9)的改变定位和/或横向移动通过电力作用实现。

11.根据前述权利要求3至10之一所述的夹持装置(12)，其特征在于，当遮蔽物(9)从涂敷间室(2)中的所述操作位置被移动至涂敷间室外的所述位置时，遮蔽物(9)的改变定位和/或横向移动以自作用的形式实现。

12.根据前述权利要求3至11之一所述的夹持装置(12)，其特征在于，当遮蔽物(9)从涂敷间室(2)中的所述操作位置被移动至涂敷间室外的所述位置时，遮蔽物(9)的改变定位和/或横向移动是受迫的。

13.根据前述权利要求3至12之一所述的夹持装置(12)，其特征在于，当遮蔽物(9)被从涂敷间室(2)中的所述操作位置移动至涂敷间室外的所述位置时，遮蔽物(9)的改变定位和/或横向移动的产生是自动的。

14.根据前述权利要求之一所述的夹持装置(12)，其特征在于，所述操作位置是遮蔽物(9)在涂敷间室(2)中进行涂敷操作的期望位置。

15.根据前述权利要求之一所述的夹持装置(12)，其特征在于，所述涂敷间室外的位置是一维护位置，该维护位置提供基本上自由接触遮蔽物(9)的通路。

16.根据权利要求15所述的夹持装置(12)，其特征在于，所述维护位置是邻近涂敷间室(2)的进入孔(5)的一个位置和/或涂敷间室(2)外部的一个位置。

17.根据前述权利要求之一所述的夹持装置(12)，其特征在于，当遮蔽物(9)从涂敷间室(2)中的所述操作位置被移动至涂敷间室外的所述位置时，夹持装置(12)执行基本线性的运动。

18.根据前述权利要求之一所述的夹持装置(12)，其特征在于，当遮蔽物(9)位于所述操作位置时，该遮蔽物至少部分地包围安装在涂敷间室(2)内的一个阴极(8)。

19.根据前述权利要求之一所述的夹持装置(12)，其特征在于，当遮蔽物(9)被安装在所述操作位置时，该遮蔽物(9)与冷却单元(14)相接触。

20.根据权利要求19所述的夹持装置(12)，其特征在于，当遮蔽物(9)从涂敷间室(2)中的所述操作位置被移动到维护位置时，所述遮蔽物从冷却单元(14)脱离。

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