CN1521566A - 图案模拟方法及其程序和存储其程序的媒体及其装置 - Google Patents

图案模拟方法及其程序和存储其程序的媒体及其装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种能容易地发现分划板数据及曝光用数据的设计错误的图案模拟方法。分划板数据是将在玻璃基板上形成的全部图案分割成多个区域的每个分割区域的分划板图案。曝光用数据表示将分划板图案拍摄在玻璃基板的哪个位置上。利用分划板数据及曝光用数据在玻璃基板上形成基板图案之际,对玻璃基板上每次拍摄的曝光区域作OR运算。根据OR运算模拟玻璃基板上的曝光图案。利用分划板数据及曝光用数据能容易地检查在玻璃基板上形成基板图案之际的玻璃基板上的未曝光的遮光区域。

Description

图案模拟方法及其程序和存储其程序的媒体及其装置
技术领域
本发明有关对在基板上被曝光的曝光图案进行模拟的图案模拟方法、其程序、及其装置。
背景技术
通常,液晶显示装置有扫描线、信号线等布线、象素电极等电极、或薄膜晶体管(Thin Film Transistor:TFT)等开关元件。而且这些布线、电极、及开关元件各自通过反复以下的工序而形成,即成膜工序中,在基板上形成导电体或电介质等薄膜;涂布工序中,在成膜的薄膜上涂布光刻胶;曝光工序中借助有规定图案的分划板(reticle)使涂布的光刻胶曝光;显象工序中,使曝光过的光刻胶显象;腐蚀工序中,除去消除该光刻胶后露出的薄膜。
另外,近些年,随着液晶显示装置画面的增大,包括在玻璃基板上曝光的TFT阵列图案在内的液晶显示屏的大小比曝光设备的掩膜尺寸大,所以采用将基板分割成多个区域通过依次对应的掩膜对各区域的光刻胶曝光的分区曝光处理方法。而用该分区曝光处理方法、在被曝光的区域间有被称为多次曝光区域的具有3-10μm宽的分割线上的区域。该分割线上的区域被多次曝光。
而且作为分区曝光处理用的光掩模的分划板通常采用计算机设计(Computer Aided Design CAD)系统设计。而作为该分区曝光处理方法的分划板图案的设计步骤为,将液晶显示装置的液晶显示屏大小的图案设计成满足设计标准后,再将这一图案分割成合乎分划板的大小、及该分划板的张数。这时,分割这一图案的分割数沿不影响特性的部位形成。
还有,该液晶显示面板的分区曝光设计数据存在CAD系统服务器的存储媒体中。而且,按照这些设计数据,形成与液晶显示屏及分割线的设计图案相对应的分划板图案,通过追加覆盖称为遮光带的遮光区域的遮光带图案,从而光掩模完成。
而且,使用这一光掩模(分划板)数据和称为曝光用数据的座标数据,使基板上多个液晶显示图案曝光。曝光用数据包括表示分划板曝光区域的范围及成为基准的中心点的数据、及被曝光的基板上的座标数据等,将分划板上指定的范围曝光在基板上指定的区域(例如,特开2002-367890号公报,特别是参照第2-4页及图1-10)。
但是上述分区曝光方式的曝光处理中,在曝光用数据输入搞错时,由于利用该错误的曝光用数据进行错误处理,有时能发现该差错,但有时靠对基板上基板图案被曝光形成后的图案检查才会发现。
另外,在着手分割分划板的工作时搞错,基板上邻接的曝光区域的边线不一致的场合,在该基板上形成的基板图案中产生断线或短路的部分,该基板图案就不合格。尤其是为了让人难以看到基板上的分割线,将这一分割线做成之字形,在该分割线上设置缓冲区域时,存在不容易发现基板上形成的基板图案不良的问题。
本发明系鉴于上述问题而作,其目的在于提供一种能容易地发现分划板数据及曝光用数据设计错误的图案模拟方法、其程序、及其装置。
发明内容
本发明是一种利用分划板数据和曝光用数据对基板上曝光形成的基板图案进行模拟的图案模拟方法,所述分划板数据用于表示将想在基板上形成的全体图案分成多个区域的每个区域的分划板图案、所述曝光用数据用于表示将所述分划板图案拍摄在所述基板的哪个位置上,根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际,对与该基板上的每一次拍摄被曝光的多个区域相当的图案作OR运算或AND运算,根据上述的OR运算或AND运算,对所述基板上的一次以上被曝光的区域的图案进行模拟。
最终,利用分划板数据及曝光用数据在基板上形成基板图案之际,能识别该基板上未曝光的区域。
另外,利用所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际生成预想的预想图案,对一这预想图案和利用所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际与曝光图案相当的图案进行运算,模拟该基板上被曝光区域的图案,生成表示这一运算时的差分的差分图案,将这一差分图案重迭在所述预想图案上,或对它们进行运算,利用所述分划板数据及曝光用数据,对在所述基板上形成的所述基板图案模拟。
其结果,利用分划板数据及曝光用数据在基板上形成基板图案之际,识别该基板上未曝光的部分,或与基板上重复曝光部分相当的图案。
附图说明
图1为表示本发明图案模拟方法第1实施形态的流程图。
图2为表示用上述图案模拟方法的分划板的说明图。
图3为表示利用上述图案模拟方法形成的基板图案的说明图。
图4为利用上述图案模拟方法对使部分基板曝光的状态进行模拟的说明图。
图5为利用上述图案模拟方法对再使部分基板曝光的状态进行模拟的说明图。
图6为利用上述图案模拟方法对使基板曝光的状态进行模拟的说明图。
图7为表示本发明第2实施形态的图案模拟方法的流程图。
图8为利用上述图案模拟方法对使部分基板曝光的状态进行模拟的说明图。
图9为利用上述图案模拟方法对还使部分基板曝光的状态进行模拟的说明图。
图10为利用本发明第3实施形态的图案模拟方法对使部分基板曝光的状态进行模拟的说明图。
图11为利用上述图案模拟方法对还使部分基板曝光的状态进行模拟的说明图。
图12为表示本发明第4实施形态的图案模拟方法的流程图。
图13为表示利用上述图案模拟法生成的预想图案的说明图。
图14为表示用上述图案模拟方法的分划板的说明图。
图15为表示用上述图案模拟方法每次拍摄的曝光图案的说明图。
图16为表示利用上述图案模拟方法的差分图案的说明图。
图17为表示将上述差分图案作AND运算及OR运算后的结果的说明图。
图18为表示将预想图案重叠在上述差分图案作AND运算及OR运算后的结果上的状态的说明图。
图19为表示在上述预想图案上加上AND运算结果,删除(减去)OR运算结果后的状态的说明图。
图20为表示利用本发明第5实施形态的图案模拟方法生成的预想图案的说明图。
图21为表示用上述图案模拟方法的分划板的说明图。
图22为表示用上述图案模拟方法的每次拍摄的曝光图案的说明图。
图23为表示用上述图案模拟方法的差分图案的说明图。
图24为表示对上述差分图案作AND运算及OR运算后的结果的说明图。
图25为表示在预想图案上加上上述的AND运算后的结果,从预想图案上删除(减去)OR运算结果后的状态的说明图。
图26为表示用本发明第6实施形态的图案模拟方法生成的预想图案的说明图。
图27为表示用上述图案模拟方法的每次拍摄的曝光图案的说明图。
图28为表示用上述图案模拟方法仅在有效区域的差分图案的说明图。
图29为表示对上述差分图案作AND运算及OR运算结果的说明图。
图30为表示在预想图案上加上上述AND运算结果,并从预想图案上删除(减去)OR运算结果后的状态的说明图。
符号说明
1分划板图案
7作为基板的玻璃基板
11分划板数据
12曝光用数据
21预想图案
22差分图案
具体实施方式
以下参照附图1至6说明本发明第1实施形态。
在图1至图6中,分划板(reticle)图案1例如包括4块,第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5及第4分划板6。而且,该分划板图案1为将玻璃基板7上形成的液晶显示屏8分区曝光显象或腐蚀用的光掩模。
本发明中玻璃基板7例如形成400mm×500mm的矩形平板状,该玻璃基板7上的液晶显示屏8为对角线10.4英寸分辨率XGA(1024×768象素),例如在该玻璃基板7上形成4块。上述液晶显示屏8的区域至少由导电体层及电介质层中的一层构成。由此,一张玻璃基板7的曝光次数为拍摄16次。
第1分划板3如图2所示,有对液晶屏8的左上部曝光的图案。第2分划板4有对液晶屏8的右上部曝光的图案。还有,第3分划板5有对液晶屏8的左下部曝光的图案。再有,第4分划板6有对液晶屏8的右下部曝光的图案。
而与这些第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6有关的电子数据作为分划板数据11。该分划板数据11是由将想在玻璃基板7上形成的全部图案分成多个区域的分划板图案组成的CAD数据。
还有,表示将这些分划板图案拍摄在玻璃基板7上哪个位置的曝光用数据12包括表示分割成格子状的第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5及第4分划板6的曝光区域的数据、及利用上述第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、第4分划板6表示对玻璃基板7上的某处曝光的数据。而且,该曝光用数据12每次曝光输入或若是重复相同曝光则只输入坐标的移动量。还有,该曝光用数据12作为矩阵输入数据是每单一拍摄都分解输入的数据。
另外,曝光用数据12中也包括与每个成为分划板图案1的分割线的所有层(レイヤ)相等的分割线9有关的数据。还有,曝光用数据12保存在图中未示出的服务器的曝光用数据文件中,用图中未示出的曝光设备使玻璃基板7上规定位置的分划板图案曝光。
这些曝光用数据12和分划板数据11的构成为能用图案模拟用计算机读取。该计算机中包括按照曝光用数据12及分划板数据11,对利用曝光设备在玻璃基板7上曝光形成的基板图案(全体曝光图案)14进行模拟的图案模拟程序。
以下,说明利用上述计算机进行模拟的图案版面布置的生成方法。
首先,作为必要的规格,决定组件外形,作为液晶单元构成的单元尺寸、液晶单元的画面尺寸、画面周围的边框部分的尺寸、OLB安装尺寸、沿X方向及Y方向配置的IC的输出数及其尺寸等的产品规格、生产线及该生产线固有的制约条件等。
接着,设想要在该玻璃基板7上形成的概要的TFT阵列基板的全体图案,根据该概要的TFT阵列基板的全体图案和曝光设备的性能,考虑到能用相同的分划板反复完成拍摄决定分划板图案1的分割线9。
此后,根据这一设定好的分割线9利用CAD详细生成每一个分划板图案、同时,用遮光带图案覆盖分划板图案以外的区域,使得不需要的区域不曝光。
再依拍摄次序排列完成后的分划板图案,利用实际的图案,用CAD方式构成详细的TFT阵列基板上的全体图案。采用如此生成的详细的阵列基板上的全体图案,识别表示与分划板图案1有关的分划板数据11及该分划板图案1的第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、第4分划板6的关系的曝光用数据,判断时分如所规定地构成分划板图案之后,再将分划板数据11及曝光用数据12分别保存在服务器的分划板数据用文件及曝光用数据文件中。
以下,说明利用该计算机的图案模拟方法。
首先,将曝光用数据12从曝光用数据文件读入计算机(步骤<1>)。
又将保存在服务器的其它存储区的分划板数据11读入计算机(步骤<2>)。
然后,根据这些曝光用数据12及分划板数据11起动图案模拟程序,在利用这些曝光用数据12及分划板数据11在玻璃基板7上形成基板图案之际,生成与该玻璃基板上每次拍摄被曝光的区域相当的曝光图案13(步骤<3>)。
这里,参照图4至图6说明这一步骤<3>和下一步骤<4>的处理。
利用模拟计算机首先如图4所示,在利用第1分划板3对玻璃基板7的左上部露光时,对与光照在该玻璃基板7上的区域相当的第1曝光区域15进行模拟在监视器上显示。
利用计算机,再如图5所示,在显示该第1曝光区域15后,利用第2分划板4对玻璃基板7的上方中央偏左处曝光之际,在监视器上显示与光是照射该玻璃基板7上的区域相当的第2曝光区域16。
这时,上述第1曝光区域15及第2曝光区域16的形状,与将第1分划板3及第2分划板4的各自的遮光图案反转后的图案描画在玻璃基板7上的图案相似。
在实际的光刻过程中,上述第1曝光区域15和第2曝光区域16重叠的部分利用第1分划板3及第2分划板4的曝光,只要是光至少照射过一次光刻胶的区域,该区域通过显象就消失。
因而,对在使上述第1分划板3及第2分划板4反转之际与所形成的图案相当的曝光图案13作OR运算,利用上述的第1分划板3及第2分划板4中任一个一次以上的拍摄通过计算机模拟与光照射并曝光的图案相当的全部曝光图案14在监视器上显示(步骤<4>)。
这一OR运算实际上不必做计算,只要在与使第1分划板3反转的图案相当的曝光区域13上,重叠利用计算机模拟与使第2分划板4反转的图案相当的曝光图案13再在监视器上显示便可。
同样在显示与上述图案相当的第1曝光区域15及第2曝光区域16之后,用计算机通过模拟在利用第3分划板5对玻璃基板7的左上部曝光之际在监视器上显示与光照射在该玻璃基板7上的区域相当的第3曝光区域17。
再在显示与这些图案相当的第1曝光区域15、第2曝光区域16及第3曝光区域17后,用计算机通过模拟在监视器上显示在利用第4分划板6对玻璃基板7的左上部曝光之际,与光照射在该玻璃基板7上的区域相当的第4曝光区域18。
这时,对与使第3分划板5及第4分划板6反转的图案相当的曝光图案13进行OR运算,通过用计算机模拟第3曝光区域17及第4曝光区域18使其重叠在第1曝光区域15及第2曝光区域16上,在监视器上显示。
此后,重复步骤<3>及步骤<4>,如图6所示,通过用计算机模拟与通过分划板图案1使玻璃基板7曝光的状态相当的全液晶屏8,以在监视器上显示。
接着,在对该玻璃基板7上全部拍摄取和之后,NOT运算与该玻璃基板7上形成的图案相当的全部曝光图案14,使该图案反转(步骤<5>)。
再在监视器上显示利用该NOT运算在反转的玻璃基板7上一次都没有曝光的区域,即利用显象或腐蚀与残留区域相当的遮光区域图案(步骤<6>)。
如上所述,按照上述第1实施形态利用计算机模拟,根据分划板数据11及曝光用数据12使分划板图案反转对与所形成的图案相当的曝光图案13作OR运算,利用该分划板图案1的第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6的各分划板,将与所曝光的区域相当的图案第1曝光区域15、第2曝光区域16、第3曝光区域17及第4曝光区域18的各个区域重叠作为全部曝光图案14在监视器上显示。再在取分划板图案1的第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6各个的玻璃基板7上的与全部拍摄相当的图案之和后,通过NOT运算使与该玻璃基板7上形成的图案相当的全部曝光图案14反转,在监视器上显示与玻璃基板7上一次都未曝光的区域相当的遮光区域图案。
最终,根据分划板数据11及曝光用数据12能容易地检查在玻璃基板7上形成基板图案时产生的遮光区域图案。因而,根据上述分划板数据11及曝光用数据12实际上在曝光后不检查玻璃基板7,就能容易地发现上述分划板数据11及曝光用数据12的设计错误。
由此,因为能在短时间内方便地对在分区曝光玻璃基板7上形成的液晶屏8之际采用的分划板图案1进行检查,所以该分划板图案1设计容易。于是,能提高包括该玻璃基板7的液晶显示装置的生产性之同时,还能很容易地提高该液晶显示装置的合格率。
还有,上述第1实施形态中,OR运算使分划板图案1反转时与所形成的图案相当的拍摄曝光图案13作为全部曝光图案14,通过对该全体曝光图案14NOT运算而反转,在监视器上显示与玻璃基板7上遮光区域相当的图案,但由于这一NOT运算花时间,所以OR运算使分划板图案1反转时与所形成的图案相当的拍摄曝光图案13,分别利用该分划板图案1的第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5及第4分划板6将与所曝光的区域相当的第1曝光区域15、第2曝光区域16、第3曝光区域17及第4曝光区域18重叠仅通过在监视器上显示全部曝光图案14,就能在根据分划板数据11及曝光用数据12在玻璃基板7上形成基板图案之际,在监视器上显示与玻璃基板7上至少一次被曝光的区域相当的全部曝光图案14。
其结果与该玻璃基板7上至少一次曝光的全部曝光区域14以外的区域相当的图案为与该玻璃基板7上未曝光的区域相当的图案,故能方便地确认该玻璃基板7上未曝光的区域,所以起到和上述第1实施形态同样的作用效果。另外,将玻璃基板7上的分划板图案1的分割线9做成在每一个全部层上都相等,但在每层上上述分割线9也可改变。
以下参照图7至图9说明本发明第2实施形态。
图7至图9所示的图案模拟方法基本上和图1至图6所示的图案模拟方法相同,但根据分划板数据11及曝光用数据12,在使与分划板图案1的各个第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5及第4分划板6相当的图案反转时,对与玻璃基板7上相邻区域形成的图案相当的曝光图案13作AND运算,利用上述各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6能模拟与未曝光的玻璃基板7上的遮光区域相当的图案。
具体为将曝光用数据12从曝光用数据文件读入计算机之同时(步骤<11>),将分划板数据11读入计算机后(步骤<12>),根据上述的分划板数据11及曝光用数据12生成与玻璃基板7上形成的基板图案相当的图案、及与该玻璃基板7上所曝光的区域相当的曝光图案13(步骤<13>)。
这里,参照图8及图9说明这一步骤<13>的处理。
利用计算机模拟,先如图8所示,在利用第1分划板3曝光玻璃基板7上的左上部之际,将该玻璃基板7上光照的第1曝光区域15作为与使第1分划板3的遮光图案反转的图案相当的曝光图案13在监视器上显示。
此后,如图9所示,利用第2分划板4对玻璃基板7上左上部曝光时,将与该玻璃基板7上光照的区域相当的第2曝光区域16作为与使第2分划板4的遮光图案反转的图案相当的曝光图案13在监视器上显示。
这时,与用第1分划板3曝光后利用第2分划板4曝光结果相当的图案变成和对第1曝光区域15及第2曝光区域16作AND运算的结果相同。这是因为光只要照射一次玻璃基板7上的光刻胶就消失的缘故,所以该玻璃基板7上残存光一次都未照射过的遮光区域。
其结果,通过预先准备数次拍摄各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6生成的拍摄曝光图案13,依次作AND运算(步骤<14>),从而能够显示利用上述各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6模拟未曝光的区域(步骤<15>)。
因而,这一图7至图9所示的图案模拟方法根据分划板数据11及曝光用数据12,通过AND运算与使各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板材、及第4分划板6反转的图案相当的曝光图案13,从而能模拟显示利用上述第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6与未曝光的玻璃基板7上的遮光区域相当的图案,所以能起到与图1至图6所示的图案模拟方法同样的作用效果。
还有,上述第2实施形态中,在使各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6反转时对与所形成的玻璃基板7上相邻区域的曝光区域13相当的图案作AND运算,模拟表示利用上述的第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6与所形成的玻璃基板7上的遮光区域相当的图案,但也可以如图10及图11所示的第3实施形态那样,优先拍摄玻璃基板7上不相邻的区域,将利用各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6与所形成的曝光图案13有关的数据作为曝光用数据12,也能将多次拍摄汇总作AND运算。
即,在曝光时不产生重叠的拍摄不必做AND运算,所以如图10所示,设在同时使玻璃基板7上的各液晶屏8的第1分划板3的曝光部分曝光后,同时使该玻璃基板7的各液晶屏8的第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6的曝光部分依次曝光,依次同时执行利用上述的第1分划板3与所形成的图案相当的第1曝光区域15和利用第2分划板4与所形成的图案相当的第2曝光区域16的AND运算、该第2曝光区域16和由第3分划板5与所形成的图案相当的第3曝光区域17的AND运算、及该第3曝光区域17和由第4分划板6所形成的图案相当的第4曝光区域18的AND运算。
最终,将利用上述的各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6的拍摄汇总作为一次拍摄,用合计4次拍摄的AND运算就足够,所以,即使是一般地做这种运算的验证工具,特别是现在主流的分级式验证工具等大规模的图案,因能减少运算次数所以可缩短运算时间。
再在利用上述各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6将玻璃基板7上使水平方向及垂直方向正交十字地分割曝光时,因为在利用上述各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6与所形成的图案相当的各第1曝光区域15、第2曝光区域16、第3曝光区域17、及第4曝光区域18中位于对角位置的曝光区域彼此之间都在一点上相接,所以在这一点上的多次曝光部分不存在曝光图案13时,利用位于对角位置的各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6的拍摄也能同时进行。
其结果是,第1分划板3及第4分划板6、第2分划板4和第3分划板5能在同一拍摄中完成,故第1曝光区域15及第4曝光区域18和第2曝光区域16及第3曝光区域17只要作AND运算就可。尤其在作为液晶显示装置的阵列基板用的玻璃基板7的场合,由于能分成4种以内的拍摄,所以无论该玻璃基板7上的分割线9是怎样的形状都能用4次以内的拍摄次数运算。
还有,上述实施形态中,对分割后形成4块液晶屏8的大型液晶用的玻璃基板7进行了说明,但是,如是手机等用的小型液晶显示装置用的玻璃基板7,则该玻璃基板7上的液晶屏8内不存在分割线9时也能与其对应使用。
以下,参照图12至图19说明本发明第4实施形态。
这一图12至图19所示的图案模拟方法基本上和图1至图6所示的图案模拟方法相同,但根据分划板数据11及曝光用数据12在玻璃基板7上形成基板图案之际生成所预想的预想图案21,对该预想图案21、及与想要在玻璃基板7上形成的曝光图案相当的曝光图案13作运算,利用计算机模拟与该玻璃基板7上曝光的区域相当的全部曝光图案14在监视器上显示。
具体为,将曝光用数据12从曝光用数据文件读入计算机中同时(步骤<21>),将分划板数据11读入模拟计算机后(步骤<22>),根据上述分划板数据11及曝光用数据12在玻璃基板7上形成基板图案之际生成与所预想的预想曝光图案相当的图13所示的预想图案21(步骤<23>)。
此后,利用计算机,根据上述分划板数据11及曝光用数据12在玻璃基板7上形成基板图案之际,利用该玻璃基板7上的图14所示的第1分划板3及第2分划板4与曝光形成的图案相当的图15所示的曝光图案13(步骤<24>)。
然后,对与在步骤<24>生成的每次拍摄的图案相当的曝光图案13、和在步骤<23>生成的预想图象作ANDNOT运算,如图16所示,生成表示它们的差分的差分图案22(步骤<25>)。
这时,图案23与存在于上述差分图案22中的拍摄曝光图案13、并不存在于预想图案21的图案相当,图案24与存在于上述差分图案22的拍摄曝光图案13、并不存在于预想图案21的图案相当。这里,图案23与不存在预想图案21的图案相当,但是是与光一次都没有照射不曝光的区域相当的图案。另外,图案24是存在预想图案21的图案,与光至少照射一次以上曝光的区域相当的图案。
由此,如图17所示,对差分图案22中的图案23彼此之间作AND运算,模拟显示光一次都没有照射的区域(步骤<26>),同时对上述差分图案22中的图案24彼此之间作OR运算,模拟显示光至少照射一次的区域(步骤<27>)。
此后,如图18所示,将预想图案21重迭在步骤<26>的AND运算结果及步骤<27>的OR运算的结果的各个结果上并将其显示(步骤<28>)。
以这一状态,如图19所示,将步骤<26>的AND运算结果加在预想图案21上之同时,从预想图案21删除(减去)步骤<27>的OR运算的结果,加工将上述的AND运算及OR运算的结果重叠在预想图案21上使其显示的数据(步骤<29>)。
最终,根据分划板数据11及曝光用数据12利用第1分划板3及第2分划板4能模拟显示在玻璃基板7上形成基板图案之际的、该玻璃基板7上至少一次被光照射曝光的全部曝光图案14(步骤<30>)。
因而,这一图12至图19所示的图案模拟方法根据分划板数据11及曝光用数据12,在玻璃基板7上形成基板图案之际生成所预想的预想图案21,通过计算这一预想图案21、如与用第1分划板3及第2分划板4曝光的图案相当的拍摄曝光图案13,从而利用上述各第1分划板3及第2分划板4模拟显示曝光一次以上的玻璃基板7上的全部曝光图案14,所以能起到与图1至图6所示的图案模拟方法同样的作用效果。
再有,根据分划板数据11及曝光用数据12预先生成的预想图案21实际上全部曝光图案14与玻璃基板7上所曝光的图案越相似,则在最终工序的ANDNOT运算、AND运算及OR运算的运算处理量就越少。由此,尽量使这一预想图案21近似于与实际的图案相当的全部曝光图案14而生成,则能减少处理的数据量,能更加迅速并确实地发现分划板数据11及曝光用数据12的设计错误,能用更短的时间对分划板图案1进行检查。这时,一般大画面液晶显示装置描画屏幕尺寸或基板尺寸的图案,此后配合分划板图案1的大小,分割利用这一分划板图案1曝光的部分,因预想图案21与实际的图案相当的全体曝光图案14近似,所以更加有效。
还有,上述第4实施形态中,用两张分划板即第1分划板3及第2分划板4分割曝光玻璃基板7,但是,如图20至图25所示的第5实施形态那样,即使在利用4张分划板即第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6将玻璃基板十字分割曝光的场合,也能起到和上述第4实施形态同样的作用效果。
具体如图20所示,预先形成预想图案21之同时,根据图21所示的各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6如图22所示生成与模拟用的基板尺寸图案相当的全部曝光图案20。此后,如图23所示,对利用这一预想图案和第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6与所形成的图案相当的曝光图案13作AND NOT运算生成差分图案22。还有,上述的差分图案22与图案23彼此之间作AND运算,同时,对上述的差分图案22与图案24彼此之间作OR运算,生成图24示出的图案。然后,将上述的AND运算结果及OR运算结果加在预想图案21上,又从该预想图案21上删除(减去)OR运算结果,则如图25所示,在监视器上模拟显示利用第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6在玻璃基板7上至少被曝光一次的全部曝光图案14。
另外,上述第5实施形态中,根据各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6生成与模拟用基板尺寸的图案相当的曝光图案13,在与玻璃基板7上的全部区域相当的区域中对上述曝光图案13和预想图案21作AND NOT运算,但是如图26至图30所示的第6实施形态那样,利用各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6对于预想图案21仅作与被光照射曝光的玻璃基板7上有效区域相当区域的AND NOT运算,也能起到和上述第5实施形态同样的作用效果。
具体为预先形成图26所示的预想图案21,同时如图27所示根据各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6生成与模拟用的基板尺寸图案相当的曝光图案13。此后,如图28所示,利用预想图案21和各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6仅对与被光照射的曝光图案13中的有效区域相当的图案作AND NOT运算生成差分图案22。而且,如图29所示,对上述差分图案22的图案23彼此之间作AND运算之同时,对上述差分图案22的图案24彼此之间作OR运算,将上述的AND运算结果及OR运算的结果在预想图案21上显示。而且如图30所示,将AND运算结果加在这一预想图案21上,同时,在这一预想图案21上删除(减去)OR运算结果,用分别利用第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6的拍摄模拟显示玻璃基板7上至少被曝光一次的全部曝光图案14。
因而,利用各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6对于预想图案21只对与光照射的有效区域的图案相当的曝光图案13作ANDNOT运算生成差分图案22,减去成为ANDNOT运算对象的区域,能减少处理数据量,所以能更高速地生成差分图案22。由此,能更加迅速并确实地发现分划板数据11及曝光用数据12的设计错误,故能用更短的时间对分划板图案1进行检查。
再有,上述第4至第6实施形态中,在将对差分图案22的图案23彼此之间作AND运算后的结果加在预想图案21上之同时,从预想图案21上删除(减去)对上述差分图案22的图案24彼此之间作OR运算的结果,加工将上述AND运算和OR运算的结果重叠在预想图案21上后的数据,模拟显示与玻璃基板7上至少被曝光一次的图案相当的全部曝光图案14,但是不加工预想图案21,仅通过将对差分图案22的图案23彼此之间作AND运算结果和对上述的差分图案22的图案24彼此之间作OR运算的结果的各个结果重叠在预想图案21上并显示,能确认玻璃基板7上全部曝光图案14。
具体为将对差分图案22的图案23彼此之间作AND运算结果作为追加图案原样地重叠在预想图案21上显示,同时,不是将对差分图案22的图案24之间作OR运算结果作为删除(减去)图案而实际上删除(相减),通过做监视器上看不到的处理,将上述AND运算及OR运算的结果重叠在预想图案21上显示。
最终,因为能确认与玻璃基板7上至少被曝光一次以上的图案相当的全部曝光图案14,所以能获得和上述第4至第6实施形态同样的效果,同时,由于没有对差分图案22的追加图案及删除(相减)图案在数据上的加工,所以能更高速显示与玻璃基板7上的图案相当的全部曝光图案,能容易地完成上述数据的处理。
再有,也可以利用各第1分划板3、第2分划板4、第3分划板5、及第4分划板6的拍摄将表示与玻璃基板7上所曝光的图案相当的曝光图案13的模拟结果和预想图案21之间的差分图案22重叠在预想图案21上显示,或者也可以将上述差分图案22相对于预想图案21加工后显示。这时,需要按照玻璃基板7上的基板尺寸进行运算,所以处理时间长,但因能高速地显示,故也能起到和上述第4至第6实施形态同样的效果。
根据本发明,利用分划板数据及曝光用数据在基板上形成基板图案之际对与该基板上每次拍摄都曝光的多个区域相当的图案作OR运算或AND运算后,按照上述OR运算或AND运算,通过模拟基板上至少被曝光一次的区域的图案,利用分划板数据及曝光用数据在基板上形成基板图案之际,因能识别并容易理解该基板上未曝光的区域,所以能容易发现上述分划板数据及曝光用数据的设计错误。
另外,利用分划板数据及曝光用数据在基板上形成基板图案之际,生成预想的预想图案后,运算这一预想图案和利用分划板数据及曝光用数据在基板上形成基板图案之际的曝光图案,模拟基板上被曝光区域的图案,或生成表示这一运算时的差分的差分图案,将该差分图案叠在预想图案上,或对它们运算,通过模拟利用分划板数据及曝光用数据在基板上形成的基板图案,从而在利用分划板数据及曝光用数据在基板上形成基板图案之际能识别该基板上未曝光的部分、或该基板上曝光的重叠部分并方便地检查,所以能容易地发现上述分划板数据及曝光用数据的设计错误。

Claims (18)

1.一种图案模拟方法,是对根据分划板数据和曝光用数据模拟在基板上曝光形成的基板图案进行模拟的图案模拟方法,所述分划板数据用于表示将想要在所述基板上形成的全部图案分割成多个区域的每个分割区域的分划板图案,所述曝光用数据用于表示将所述分划板图案拍摄在所述基板的哪个位置上,其特征在于,
在利用所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际,对与该基板上的每次拍摄曝光的多个区域相当的图案作OR运算,
根据这一OR运算,模拟所述基板被曝光一次以上的区域的图案。
2.如权利要求1所述的图案模拟方法,其特征在于,
利用分划板数据及曝光用数据在基板上形成基板图案之际,对与该基板上被曝光的区域相当的图案作NOT运算,
根据该NOT运算,模拟所述基板上未曝光区域的图案。
3.一种图案模拟方法,是对根据分划板数据和曝光用数据模拟在基板上曝光形成的基板图案的图案模拟方法,所述分划板数据用于表示将想要在所述基板上形成的全部图案分割成多个区域的每个分割区域的分划板图案,所述曝光用数据用于表示将所述分划板图案拍摄在所述基板的哪个位置上,其特征在于,
利用所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际,对与该基板上相邻区域的每次拍摄被曝光的多个区域相当的图案作AND运算,
根据这一AND运算,模拟所述基板上被多次曝光的区域的图案。
4.如权利要求3所述的图案模拟方法,其特征在于,
曝光用数据具有使对基板上不相邻的区域的拍摄优先,使以分划板图案为依据的基板图案在所述基板上曝光的数据。
5.一种图案模拟方法,是对根据分划板数据和曝光用数据模拟在所述基板上曝光形成的基板图案的图案模拟方法,所述分划板数据用于表示将想要在所述基板上形成的全部图案分割成多个区域的每个分割区域的分划板图案,所述曝光用数据用于表示将所述分划板图案拍摄在所述基板的哪个位置上,其特征在于,
根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际生成预想的预想图案,
对这一预想图案以及、与根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际的曝光图案相当的图案作计算,对该基板上曝光的区域的图案作模拟。
6.如权利要求5所述的图案模拟方法,其特征在于,
对预想图案和与根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际的曝光图案相当的图案作运算,生成表示其差分的差分图案,
对该差分图案和与根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际的曝光图案相当的图案进行运算,同时计算所述预想图案与所述差分图案,
根据所述分划板数据及曝光用数据对所述基板上形成的基板图案进行模拟。
7.一种图案模拟方法,是利用分划板数据和曝光用数据模拟在所述基板上曝光形成的基板图案的图案模拟方法,所述分划板数据用于表示将想要在所述基板上形成的全部图案分割成多个区域的每个分割区域的分划板图案,所述曝光用数据用于表示将所述分划板图案拍摄在所述基板的哪个位置上,其特征在于,
利用所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际生成预想的预想图案,
对该预想图案和与根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际的曝光图案相当的图案进行运算,并生成表示其差分的差分图案,
将一差分图案重叠在所述预想图案上,根据所述分划板数据及曝光用数据模拟在所述基板上形成的所述基板图案。
8.一种图案模拟方法,是对根据分划板数据及曝光用数据模拟在基板上曝光形成的基板图案的图案模拟方法,所述分划板数据用于表示将想要在所述基板上形成的全部图案分割成多个区域的每个分割区域的分划板图案,所述曝光用数据用于表示将所述的分划板图案拍摄在所述基板的哪个位置上,其特征在于,
在根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际生成预想的预想图案,
对该预想图案,和与根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际的曝光图案相当的图案作运算并生成表示其差分的差分图案,
对该差分图案和所述预想图案进行运算,模拟根据所述分划板数据及曝光用数据生成的所述基板图案。
9.一种图案模拟程序,是对根据分划板数据及曝光用数据在所述基板上曝光形成的基板图案进行模拟的计算机可读取的图案模拟程序,所述分划板数据用于表示将想要在所述基板上形成的全部图案分割成多个区域的每个分割区域的分划板图案,所述曝光用数据用于表示将所述分划板图案拍摄在所述基板的哪个位置上,其特征在于,包括
根据所述分划板数据和曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际,对该基板上的与每次拍摄被曝光的多个区域相当的图案进行OR运算的步骤、以及
根据所述OR运算,模拟所述基板上的至少被曝光一次的区域的图案的步骤。
10.如权利要求9所述的图案模拟程序,其特征在于,包括
根据分划板数据及曝光用数据在基板上生成基板图案之际,对与该基板上被曝光区域相当的图案进行NOT运算的步骤、及
根据所述NOT运算,模拟所述基板上未被曝光区域的图案的步骤。
11.一种图案模拟程序,是根据分划板数据及曝光用数据,对在所述基板上被曝光形成的基板图案进行模拟的计算机可读取的图案模拟程序,所述分划板数据用于表示将想要在所述基板上形成的全部图案分割成多个区域的每个分割区域的分划板图案,所述曝光用数据用于表示将所述分划板图案拍摄在所述基板的哪个位置上,其特征在于,
根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际,对与该基板上的相邻区域的每次拍摄曝光的多个区域相当的图案作AND运算的步骤、及
根据所述AND运算,模拟所述基板上被多次曝光区域的图案的步骤。
12.如权利要求11所述的图案模拟程序,其特征在于,
曝光用数据具有使对基板上不相邻的区域的拍摄优先,使以分划板图案为依据的基板图案在所述基板上曝光的数据。
13.一种图案模拟程序,是根据分划板数据及曝光用数据,对在基板上曝光形成的基板图案进行模拟的计算机可读取的图案模拟程序,所述分划板数据用于表示将想要在所述基板上形成的全部图案分割成多个区域的每个分割区域的分划板图案,所述曝光用数据用于表示将所述分划板图案拍摄在所述基板的哪个位置上,其特征在于,具备
根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际生成预想的预想图案的步骤、
对所述预想图案、和与根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际的曝光图案相当的图案作运算的步骤、以及
根据所述运算,对所述基板上被曝光的区域的图案进行模拟的步骤。
14.如权利要求13所述的图案模拟程序,其特征在于,包括
在对预想图案和根据分划板数据及曝光用数据在基板上形成基板图案之际的曝光图案进行运算时生成表示其差分的差分图案的步骤、
对该差分图案、和与根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际的曝光图案相当的图案进行运算的步骤、
对所述预想图案的差分图案进行运算的步骤、以及
根据所述各运算,对利用所述分划板数据及曝光用数据模拟在所述基板上形成的基板图案进行模拟的步骤。
15.一种图案模拟程序,是根据分划板数据及曝光用数据,对在所述基板上曝光形成的基板图案进行模拟的计算机可读取的图案模拟程序,所述分划板数据用于表示将想要在所述基板上形成的全部图案分割成多个区域的每个分割区域的分划板图案,所述曝光用数据用于表示将所述分划板图案拍摄在所述基板的哪个位置上,其特征在于,包括
根据分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际生成预想的预想图案的步骤、
对所述预想图案,和与根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际的曝光图案相当的图案进行运算的步骤、
根据所述运算,生成与所述预想图案和根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案时的曝光图案之间的差分相当的差分图案的步骤、以及
将所述差分图案重叠在所述预想图案上,模拟与根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成的所述基板图案相当的图案的步骤。
16.一种图案模拟程序,是利用分划板数据及曝光用数据,对在基板上被曝光的基板图案进行模拟的计算机可读取的图案模拟程序,所述分划板数据用于表示将想要在所述基板上形成的全部图案分割成多个区域的每个分割区域的分划板图案,所述曝光用数据用于表示将所述分划板图案拍摄在所述基板的哪个位置上,其特征在于,包括
根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际生成预想的预想图案的步骤、
对该预想图案、和与根据所述分划板数据及曝光用数据与在所述基板上形成所述基板图案之际的曝光图案相当的图案进行运算的步骤、
根据该运算,生成所述预想图案和根据所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案时的曝光图案之间的差分相当的差分图案的步骤、
对该差分图案和所述预想图案进行运算的步骤、以及
根据该运算,利用所述分划板数据及曝光用数据对在所述基板上形成的所述基板图案进行模拟的步骤。
17.一种记录图案模拟程序的媒体,其特征在于,如权利要求9至16中任何一项所述的图案模拟程序可读取地记录在计算机中。
18.一种图案模拟装置,其特征在于,
根据权利要求9至16中任何一项所述的图案模拟程序,对在基板上形成的基板图案进行模拟。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107807497A (zh) * 2017-11-27 2018-03-16 北京华大九天软件有限公司 一种面板版图设计中的曝光模拟方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7191113B2 (en) * 2002-12-17 2007-03-13 International Business Machines Corporation Method and system for short-circuit current modeling in CMOS integrated circuits
US7269804B2 (en) * 2004-04-02 2007-09-11 Advanced Micro Devices, Inc. System and method for integrated circuit device design and manufacture using optical rule checking to screen resolution enhancement techniques
KR100817065B1 (ko) 2006-10-02 2008-03-27 삼성전자주식회사 미세패턴의 설계방법 및 그 장치
KR100818999B1 (ko) * 2006-10-09 2008-04-02 삼성전자주식회사 마스크 제작 방법
NL2007477A (en) * 2010-10-22 2012-04-24 Asml Netherlands Bv Method of optimizing a lithographic process, device manufacturing method, lithographic apparatus, computer program product and simulation apparatus.
US9547743B2 (en) * 2015-02-25 2017-01-17 Kabushiki Kaisha Toshiba Manufacturing method for a semiconductor device, pattern generating method and nontransitory computer readable medium storing a pattern generating program
US10176284B2 (en) * 2016-09-30 2019-01-08 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Semiconductor circuit design and manufacture method

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5495417A (en) * 1990-08-14 1996-02-27 Kabushiki Kaisha Toshiba System for automatically producing different semiconductor products in different quantities through a plurality of processes along a production line
US6453452B1 (en) * 1997-12-12 2002-09-17 Numerical Technologies, Inc. Method and apparatus for data hierarchy maintenance in a system for mask description
US6578188B1 (en) * 1997-09-17 2003-06-10 Numerical Technologies, Inc. Method and apparatus for a network-based mask defect printability analysis system
JP2000232057A (ja) * 1999-02-10 2000-08-22 Hitachi Ltd レジストパターンのシミュレーション方法およびパターン形成方法
JP4057733B2 (ja) * 1999-02-22 2008-03-05 株式会社東芝 転写パターンのシミュレーション方法
JP2002244273A (ja) * 2001-02-13 2002-08-30 Ricoh Opt Ind Co Ltd 濃度分布マスクとその製造方法
JP4748343B2 (ja) * 2001-04-26 2011-08-17 大日本印刷株式会社 ウエーハ転写検証方法
JP2002367890A (ja) 2001-06-06 2002-12-20 Toshiba Corp パターンレイアウト方法、その装置およびパターンレイアウトプログラムを記憶した媒体
JP2003022952A (ja) * 2001-07-06 2003-01-24 Toshiba Corp 描画データ作成システム、描画データ作成方法、描画データ作成プログラム、レチクルの製造方法及び半導体装置の製造方法
US6966047B1 (en) * 2002-04-09 2005-11-15 Kla-Tencor Technologies Corporation Capturing designer intent in reticle inspection
US6775818B2 (en) * 2002-08-20 2004-08-10 Lsi Logic Corporation Device parameter and gate performance simulation based on wafer image prediction

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107807497A (zh) * 2017-11-27 2018-03-16 北京华大九天软件有限公司 一种面板版图设计中的曝光模拟方法
CN107807497B (zh) * 2017-11-27 2020-11-17 北京华大九天软件有限公司 一种面板版图设计中的曝光模拟方法

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