CN1299473A - 液晶显示器及其制造方法 - Google Patents
液晶显示器及其制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1299473A CN1299473A CN99805749A CN99805749A CN1299473A CN 1299473 A CN1299473 A CN 1299473A CN 99805749 A CN99805749 A CN 99805749A CN 99805749 A CN99805749 A CN 99805749A CN 1299473 A CN1299473 A CN 1299473A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- substrate
- liner
- transparency electrode
- voltage
- lcd
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
本发明的目的是提供一种液晶显示器的制造方法。它能在STN型和TFT型液晶显示器中电极之间没有电极的部分(即黑色矩阵部分)配置衬垫,在整个基板范围内获得均匀的液晶盒厚度,从而高成品率地制成对比度高和显示均匀性好的液晶显示器,而且减小喷涂时间。步骤包括:在第一基板和第二基板的一个上喷涂衬垫,第一基板具有至少形成图形的透明电极,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,将液晶注入两块基板之间的空隙中,并包括,在基板上喷涂带正或负电荷的衬垫时,将基板与具有不大于1010欧姆厘米体电阻的接地导电工作台紧密接触,对透明电极施加极性与衬垫电荷极性相同的200至5000伏的电压,进行喷涂。
Description
技术领域
本发明涉及一种液晶显示器的制造方法以及液晶显示器。
背景
液晶显示器已被广泛应用于个人电脑、便携式电子装置或诸如此类装置。如图36所示,液晶显示器通常包括夹在两块基板1之间的液晶层7。在基板上形成滤色片4、黑色矩阵(black matrix)5、透明电极3、定位(alignment)层9等等。
如图37所示,TFT(薄膜晶体管)型液晶显示器包括夹在基板1a和基板1b之间的液晶层7。基板1a包括玻璃基板1,在其上面形成了透明电极3、滤色片4、导电黑色矩阵5、保护层(overcoat layer)6、定位层9等等。基板1b包括上面形成了透明电极3、绝缘膜23、半导体膜16、栅极13、定位层9的玻璃基板1。上述的透明电极3分别包括源极14a、漏极14等。
在这些液晶显示器中,正是衬垫调节了两个基板之间的距离并把液晶层的厚度维持在一个适当的值。
按照常规的液晶显示器制造方法,由于衬垫是随机而均匀地喷涂在其上面形成有像素电极的基板上的,所以它们甚至被安置在像素电极(即液晶显示器的显示部分)上,如图36和37所示。衬垫一般用合成树脂、玻璃或诸如此类材料形成。若将衬垫安置在像素电极上,由于消偏振(depolarizing)作用,衬垫部分就出现光泄漏。而且,由于在衬垫表面上干扰液晶定位,会出现亮度缺陷(bright defect),由此降低了对比度与色调,使显示质量劣化。
为了解决上述问题,衬垫应仅安置在相邻电极之间的部分上,而不是显示部分上,即应安置在仅被黑色矩阵(即遮光层)覆盖的部分上。配置黑色矩阵的目的是为了提高液晶显示器的显示对比度,或者对于TFT型液晶显示器,配置黑色矩阵的目的是为了防止外部光线引起的元件误操作。
作为一种把衬垫只安排在TFT型液晶显示器的黑色矩阵部分(即不是液晶显示器的像素电极的部分)上的技术,日本专利公开公报平-4-256925揭示了一种在喷涂衬垫时将栅极电位保持成与漏极电位相同的方法。另外,日本专利公开公报平-5-53121揭示了一种在喷涂衬垫时对布线电极施加一电压的方法。此外,日本专利公开公报平-5-61052揭示了一种对布线电极施加一正电压、使衬垫带负电并用干燥法喷涂所得衬垫。
上述文献中所述的发明使用上面形成有薄膜晶体管(TFT)的基板,并通过对这些薄膜晶体管的电路施加电压来控制衬垫的位置。
然而,这些发明具有如下问题,即通过对这些薄膜晶体管的电路施加电压来控制衬垫的位置可能导致元件被这种电压损坏,从而使液晶显示器发生故障。
另一个问题是由于黑色矩阵的位置位于透明电极之间,所以这些技术不能用于STN型液晶显示器。
另一方面,作为一种在STN型液晶显示器的条形透明电极(在基板上平行施加许多线形透明电极而制成)之间的空隙喷涂(spray)衬垫的技术,日本专利公开公报平04-204417中揭示了一种制造液晶显示器的方法。该方法包括在喷涂衬垫时对其施加正电或负电,并对基板上的线形透明电极施加极性相同的电压。
这种制造方法是想通过对线形透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压,使衬垫与电极之间产生斥力,从而在电极之间的地方喷涂衬垫。然而,仅对线形透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压不能明显降低透明电极之间的电位,但会产生图9所示的状态。因此,不能形成适于喷涂衬垫的电场,这样喷涂衬垫的精确性会很低。因此,不能将液晶显示器产品的对比度提高到一个令人满意的程度。
发明概述
因此,本发明的目的是提供一种液晶显示器的制造方法。该制造方法能解决上述问题,并能在STN型和TFT型液晶显示器中电极之间没有电极的部分(即黑色矩阵部分)配置衬垫,还能均匀地配置衬垫,在整个基板范围内获得均匀的液晶盒(cell)厚度,从而高成品率地制成对比度高和显示均匀性好的液晶显示器,而且用这种方法制造液晶显示器时还可减少喷涂时间。
在第一方面中,本发明提供一种液晶显示器的制造方法。该方法包括如下步骤:
将衬垫喷涂在第一基板和第二基板的至少一个上,第一基板具有至少形成图形的透明电极,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,
并把液晶注入两块基板之间的空隙内,
其特征在于在基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫,并使该基板与体电阻不超过1010欧姆厘米的接地导电工作台(stage)紧密接触,
然后对透明电极施加与衬垫电荷极性具有相同极性的200伏至5千伏的电压。
在第二方面中,本发明提供一种液晶显示器的制造方法。该方法包括如下步骤:
将衬垫喷涂在第一基板和第二基板的至少一个上,第一基板至少具有形成图形的条形透明电极、导电黑色矩阵和保护层,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,
并把液晶注入两块基板之间的空隙内,
其特征在于在基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫,对导电黑色矩阵施加电压(V1),对透明电极施加电压(V2),
电压V1和V2都是正电压,并当衬垫电荷极性为正时,满足V1<V2的关系,
或者电压V1和V2都是负电压,并当衬垫电荷极性为负时,满足V1>V2的关系。
在第三方面中,本发明提供一种液晶显示器的制造方法。该方法包括如下步骤:
将衬垫喷涂在第一基板和第二基板中的至少一个之上,第一基板具有至少形成图形的透明电极、定位层和一个或多个显示区,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,
并把液晶注入两块基板之间的空隙内,
其特征在于在基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫,该基板与一个尺寸小于基板的接地导电工作台紧密接触,使其周边部分脱离上述导电工作台,
对基板上的透明电极施加与衬垫电荷具有相同极性的电压。
在第四方面中,本发明提供一种液晶显示器的制造方法。该方法包括如下步骤:
将衬垫喷涂在第一基板和第二基板中的至少一个上,第一基板具有至少形成图形的透明电极和定位层,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,
并把液晶注入两块基板之间的空隙内,
且从要喷涂衬垫的基板上除去水,使基板与接地导电工作台紧密接触,然后在对基板上的透明电极施加与衬垫电荷具有相同极性的电压时喷涂衬垫。
在第五方面中,本发明提供一种液晶显示器的制造方法。该方法包括如下步骤:
将衬垫喷涂在第一基板和第二基板中的至少一个上,第一基板具有至少形成图形的透明电极和定位层,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,
并把液晶注入两块基板之间的空隙内,
且使基板与接地导电工作台紧密接触,然后在对基板上的透明电极施加与衬垫电荷具有相同极性的电压时喷涂衬垫,
喷涂衬垫之前和期间基板显示的性能使得当对基板上的透明电极施加1千伏电压时,基板上透明电极和导电工作台之间流过的电流不大于10-6安培。
在第六方面中,本发明提供一种液晶显示器的制造方法。该方法包括如下步骤:
将衬垫喷涂在第一基板和第二基板中的至少一个上,第一基板具有至少形成图形的透明电极和定位层,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,
并把液晶注入两块基板之间的空隙内,
其特征在于在基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫,使基板与接地导电工作台紧密接触,
对基板上的透明电极施加与衬垫电荷具有相同极性的电压,
然后将施电压装置的端接线与透明电极断开,
并在基板上还有电荷时喷涂衬垫。
在第七方面中,本发明提供一种液晶显示器的制造方法。该方法包括如下步骤:
将衬垫喷涂在第一基板和第二基板中的至少一个上,第一基板具有至少形成图形的透明电极和定位层,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,
并把液晶注入两块基板之间的空隙内,
其特征在于在基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫,使基板与接地导电工作台紧密接触,
对基板上的透明电极施加与衬垫电荷具有相同极性的电压,同时将施加电压的状态保持一段时间,
然后在保持施加电压的状态下喷涂衬垫。
在第八方面中,本发明提供一种液晶显示器的制造方法。该方法包括如下步骤:
将衬垫喷涂在具有至少形成图形的透明电极、导电黑色矩阵、保护层和定位层的第一基板上,
把液晶注入第一基板和第二基板之间的空隙内,第二基板包括上面形成的薄膜晶体管,且配置于第一基板上方并与之相对,
其特征在于第一基板具有在相应导电黑色矩阵区范围之上和之内透明电极中形成的没有透明电极的蚀刻区,
在基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫,对导电黑色矩阵施加电压(V1),对透明电极施加电压(V2),
电压V1和V2都是正电压,并当衬垫电荷极性为正时,满足V1<V2的关系,
或者电压V1和V2都是负电压,并当衬垫电荷极性为负时,满足V1>V2的关系。
在第九方面中,本发明提供一种液晶显示器的制造方法。该方法包括如下步骤:
将衬垫喷涂在具有至少形成图形的透明电极、黑色矩阵、保护层和定位层的第一基板上,
把液晶注入第一基板和第二基板之间的空隙内,第二基板包括上面形成的薄膜晶体管,且配置于第一基板上方并与之相对,
其特征在于第一基板具有在相应导电黑色矩阵区范围之上和之内透明电极中形成的没有透明电极的蚀刻区,
在第一基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫时,第一基板与体电阻不超过1010欧姆厘米的接地导电工作台紧密接触,
然后对透明电极施加与衬垫电荷极性具有相同极性的200伏至5千伏的电压。
在第十方面中,本发明提供一种液晶显示器的制造方法。该方法包括如下步骤:
在具有至少形成图形的透明电极的第一基板上喷涂衬垫,
把液晶注入第一基板和第二基板之间的空隙内,第二基板包括上面形成的薄膜晶体管,且配置于第一基板上方并与之相对,
其特征在于第一基板具有不与周围透明电极连接但在第一或第二基板的相应导电黑色矩阵区范围内透明电极中形成的隔离、电浮置的透明电极,
在第一基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫时,第一基板与体电阻不超过1010欧姆厘米的接地导电工作台紧密接触,
对第一基板上的透明电极而不是隔离透明电极施加与衬垫电荷具有相同极性的电压。
在第十一方面中,本发明提供一种制造本发明第一、第二、第三、第四、第五、第六、第七、第八、第九或第十方面中液晶显示器的方法,
其特征在于以气体为介质通过用树脂或金属制成的管道进行喷涂,使衬垫带正电荷或负电荷。
在第十二方面中,本发明提供一种制造本发明第一、第二、第三、第四、第五、第六、第七、第八、第九、第十或第十一方面中液晶显示器的方法,
其特征在于用加热法将衬垫固定在基板表面上。
在第十三方面中,本发明提供用本发明第一、第二、第三、第四、第五、第六、第七、第八、第九、第十、第十一或第十二方面中的制造方法制成的液晶显示器。
附图简介
图1是表示工作台接地时基板上等电位表面的示意性剖视图。
图2是表明本发明一个方面的液晶显示器制造方法的示意图。
图3是用于本发明一个方面的液晶显示器制造方法的基板的示意性俯视图。在该基板上没有形成假电极(dummy electrode)。
图4是用于本发明一个方面的液晶显示器制造方法的基板的示意性俯视图。在该基板上形成了假电极,且透明电极与假电极不相连接。
图5是用于本发明一个方面的液晶显示器制造方法的基板的示意性俯视图。在该基板上形成了假电极,且透明电极与假电极相连接。
图6是表明当对透明电极和黑色矩阵分别施加相同极性的不同电压时从仅在保护层上形成透明电极的基板方向观察到的电力线的示意图。
图7是表明当对透明电极、假电极和黑色矩阵分别施加相同极性的不同电压时从在保护层上形成透明电极和假电极的基板方向观察到的电力线的示意图。
图8是表明在液晶显示器的常规制造方法中基板上等电位表面的示意性剖视图。
图9是表示工作台没有接地时基板上等电位表面的示意性剖视图。
图10是表示液晶显示器的制造方法中基板与工作台之间关系的示意性剖视图。
图11是表示液晶显示器的制造方法中基板与工作台之间关系的示意性剖视图。
图12是表示本发明一个方面的液晶显示器制造方法中常规共用电极基板上的黑色矩阵的画框(picture frame)状态的示意性平面图和剖视图。
图13是表示本发明一个方面的液晶显示器制造方法中基板上等电位表面的示意性剖视图。
图14是表示通过基板表面上的湿气漏电到工作台边缘的示意性侧视图。
图15是表示工作台接地时基板上等电位表面的示意性侧视图。
图16是表示基板表面被湿气覆盖时基板上等电位表面的示意性侧视图。
图17是表示本发明一个方面的液晶显示器制造方法中漏电检测系统的示意性侧视图。该系统包括位于透明电极和导电工作台之间的静电计。
图18是表明如何通过使基板与接地导电工作台紧密接触、对要喷涂衬垫的基板上形成的图形透明电极施加与衬垫电荷相同极性的电压、然后在对图形透明电极施加与衬垫电荷相同极性的电压的同时从透明电极上除去施加电压装置的端接线来保持适于衬垫喷涂电场的示意性侧视图。
图19是表明如何通过在喷涂衬垫步骤之前对接地工作台上透明电极施加电压并使其通过喷涂器和导电工作台(台)来省略喷涂器中的电压施加步骤和减少生产节拍时间(tact time)的示意性侧视图。
图20是表示上面形成有蚀刻面的本发明第一基板的一个实施方式的示意性平面图。
图21是表示上面形成有蚀刻面的本发明第一基板的另一个实施方式的示意性平面图。
图22是表示上面形成有蚀刻面的本发明第一基板的又一个实施方式的示意性平面图。
图23是表示上面形成有蚀刻面的本发明第一基板的再一个实施方式的示意性平面图。
图24是表示本发明一个方面的液晶显示器的制造方法的示意性剖视图。
图25是表示上面形成有绝缘的透明电极的本发明第一基板的一个实施方式的示意性平面图。
图26是表示上面形成有绝缘的透明电极的本发明第一基板的另一个实施方式的示意性平面图。
图27是表示上面形成有绝缘的透明电极的本发明第一基板的又一个实施方式的示意性平面图。
图28是表示上面形成有绝缘的透明电极的本发明第一基板的再一个实施方式的示意性平面图。
图29是用于本发明一个方面的液晶显示器制造方法实施过程中的衬垫喷涂器的示意性剖视图。
图30是用于本发明一个方面的液晶显示器制造方法实施过程中的衬垫喷涂器的示意性剖视图。
图31是用于本发明一个方面的液晶显示器制造方法实施过程中的衬垫喷涂器的示意性剖视图。
图32是用于本发明一个方面的液晶显示器制造方法实施过程中的衬垫喷涂器的示意性剖视图。
图33是表示喷涂在图23所示基板上衬垫的平面图。
图34是用于本发明一个方面的液晶显示器制造方法实施过程中的衬垫喷涂器的示意性剖视图。
图35是表示喷涂在图28所示基板上衬垫的平面图。
图36是表示液晶显示器的常规制造方法的示意图。
图37是表示TFT型液晶显示器的常规制造方法的示意图。
附图标记的说明
1-绝缘基板(玻璃基板)
1a-第一基板
1b-第二基板
2-偏振器
3-显示电极(线形透明电极,像素电极)
3a-绝缘的透明电极
4-滤色片
5-黑色矩阵(导电的黑色矩阵)
6-保护层(overcoat layer)
7-液晶
8-衬垫
9-定位层
10-室
12-施加电压装置(直流电源)
13-栅电极
14-漏极
14a-源电极
15-导电工作台(台)
16-半导体层
17-管线
18-静电计
19-衬垫计量进料器
20-分隔线
21-假电极
22-蚀刻区
23-绝缘层
24-蚀刻面
26-黑色矩阵图框
28-假电极区
29-显示像素(黑色矩阵窗口)
30-显示区
31-等电位线(等电位表面)
下面详细描述本发明
本发明第一方面的液晶显示器(下文中也简称为LCD)的制造方法包括如下步骤:将衬垫喷涂在第一基板和第二基板中的至少一个上,第一基板具有至少形成图形的条形透明电极,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,并把液晶注入两块基板之间的空隙内,在基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫,并使该基板与体电阻不超过1010欧姆厘米的接地导电工作台紧密接触,并对透明电极施加与衬垫电荷极性具有相同极性的200伏至5千伏的电压。
本发明第一方面的液晶显示器的制造方法通过将衬垫喷涂在第一基板和第二基板中的至少一个上,第一基板具有至少形成图形的透明电极,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,并把液晶注入两块基板之间的空隙内来用于制造LCD。
上述的透明电极没有特别的限制,例如可以是线形透明电极。上述形成图形的透明电极没有特别的限制,例如可以是由基板上形成的平行排列的线形透明电极构成的条形电极。这些条形电极是用作液晶显示器中所谓显示电极的条形电极。液晶显示器中的显示区是包括透明电极形成区及其附近的显示区。
可用于本发明第一方面的LCD制造方法中的基板可以是任何一种上面至少形成图形(对图形的形状没有特别的限制)的透明电极,例如是基板型的或薄膜型的。因此,可以列举具有黑色矩阵、滤色片、保护层、形成图形的透明电极和定位层的滤色器片基板以及具有黑色矩阵、保护层、形成图形的透明电极和定位层的基板。然而,使用金属基板时,必须配置绝缘层,以使其表面上形成的电极不会短路。
因此,当本发明第一方面的LCD制造方法用于制造STN型LCD时,该方法可用于共用电极(common electrode)的基板或段电极(segment electrode)的基板,条件是它们至少具有形成图形的透明电极。
上述的衬垫没有特别的限制,但包括金属颗粒、合成树脂颗粒、无机颗粒、含有分散在其中的颜料的不透明合成树脂颗粒、染色颗粒、加热或光照时产生粘性的颗粒、以及表面镀有金属的金属、合成树脂或无机颗粒。衬垫用于调节液晶显示器中液晶盒的厚度。
当本发明第一方面的LCD制造方法应用于制造TFT型LCD时,例如通过蚀刻在滤色器基板(共用电极基板)的黑色矩阵正下方的地方形成无透明电极区,然后用本发明第一方面的LCD制造方法在具有这种区域的基板上放置衬垫。虽然常规TFT型液晶显示器中的共用电极基板包括固态电极,但通过对各自的电极施加相同的电压可以按与常规TFT型液晶显示器中相同的方式制造(drive even)具有蚀刻透明电极的电极基板。
本发明第一方面的LCD制造方法按如下步骤进行:在基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫时,使该基板与体电阻不超过1010欧姆厘米的接地导电工作台(也简称为工作台)紧密接触,并对透明电极施加与衬垫电荷极性具有相同极性的200伏至5千伏的电压。
如图1所示,通过使该基板与体电阻不超过1010欧姆厘米的接地导电工作台紧密接触,降低了透明电极间各个间隙中的电位,并形成适于衬垫配置的电场。
上述导电工作台的体电阻必须不能超过1010欧姆厘米。该基板可能仅在某些区域内与导电工作台紧密接触。
对上述透明电极施加的电压值为200伏至5千伏。这个值一般可以对衬垫电荷产生足够的排斥力。因此,可以使衬垫精确定位。优选的电压为1.5千伏至5千伏。电压的种类没有具体限定。例如,直流电压和脉冲电压都适用。
衬垫的喷涂方法可以是干法或湿法。然而考虑到在湿气影响下透明电极间可能漏电,优选的是干喷涂法。
作为在上述干喷涂法中使衬垫带电的方法,例如可以列举包括使衬垫与管线壁重复接触的带电方法。在这种带电方法中,通过用压缩空气或压缩氮气之类的介质使衬垫通过管道可以获得稳定的电荷。在这种方法中,从衬垫荷电和防止湿气粘附到基板表面上的角度考虑,介质气体较好应是干的,即湿气含量应尽可能低。
上述管道可由金属或树脂制成,可根据衬垫电荷极性和电荷数量进行适当选择。
金属管道没有特别的限制,但包括由单种材料(镍、铜、铝或钛)制成的管道和由合金(如不锈钢)制成的管道。管道内壁可有例如通过电镀形成的金属镀层(如金或铬)
树脂管道没有具体的限制,但包括由特氟隆、聚氯乙烯、尼龙等制成的管道。当使用由高绝缘树脂(如特氟隆)制成的管道时,这种树脂管道较好镀有金属或把金属线或管插入管道中,并把金属镀层或金属线或管接地。这是因为电荷的进入和排出受衬垫与管道的接触影响,如果管道不接地,树脂管道上的电荷会积聚,从而不能获得稳定的荷电。
为了调节衬垫上电荷的数量,可以串联不同材料结构的管道。
本发明第二方面的制造液晶显示器的方法包括如下步骤:将衬垫喷涂在第一基板和第二基板中的至少一个上,第一基板具有至少形成图形的透明电极、导电黑色矩阵和保护层,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,并把液晶注入两块基板之间的空隙内,在基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫,对导电黑色矩阵施加电压(V1),对透明电极施加电压(V2),电压V1和V2都是正电压,并当衬垫电荷极性为正时,满足V1<V2的关系,或者电压V1和V2都是负电压,并当衬垫电荷极性为负时,满足V1>V2的关系。
上述的透明电极、基板、衬垫和衬垫荷电方法与本发明第一方面中相同。如本发明第一方面中所述,本发明第二方面的LCD制造方法可用于制造TFT型液晶显示器。
上述的导电黑色矩阵(也称为黑色矩阵)提供像帧型显示区。像帧条件由没有导电黑色矩阵的各个区构成。
上述的导电黑色矩阵可以是任何的导电黑色矩阵,没有特别的限制。因此,它例如包括由铬、铝或炭黑制成的黑色矩阵。然而从导电性的角度来考虑,通常使用由金属(较好是铬)制成的导电黑色矩阵。如图2所示,在导电黑色矩阵上配置绝缘保护层。配置保护层的目的是为了防止线形透明电极和导电黑色矩阵之间的短路,只要这种保护层是透明和绝缘的,它没有特别的限制。它例如可由丙烯酸酯树脂制成。
当基板是具有滤色片的基板时,上述的保护层也用于平整滤色片层。这种滤色片层一般例如由色素分散法或染色法形成。
通过对上述导电黑色矩阵施加电压(V1)和对透明电极施加电压(V2),可以按图1所示的方式形成图2所示的适于衬垫定位控制的电场,而不论基板是否与体电阻不超过1010欧姆厘米的接地导电工作台紧密接触。
当衬垫的电荷是正电荷时,两种电压都选择为正电压,且满足V1<V2的条件,从而对透明电极产生强的排斥力而在黑色矩阵位置上产生弱的排斥力,而衬垫可配置在黑色矩阵的部位(当衬垫电荷为负电荷时,情况相同)。
上述V1和V2应与衬垫电荷具有相同极性的原因是高精确度地控制衬垫的配置位置需要千伏级的排斥力。如果V1和V2的极性不同,透明电极与黑色矩阵之间的电位差将达千伏(千伏)级,由于保护层只有2-5微米厚,透明电极和黑色矩阵间会形成短路,结果不能形成适于衬垫定位的电场。
因此,V1和V2间的电位差较好不大于100伏。即使这种电位差小于等于100伏,它也是排斥期的电位差。因此,能实现所需的衬垫定位控制。
因此,当喷涂衬垫的电荷极性为正性(+)时,选择施加在导电黑色矩阵上的电压(V1)和施加在透明电极上的电压(V2),使其满足V1<V2的关系。
如果这样,黑色矩阵部位出现的排斥力会小于透明电极上出现的排斥力,且把衬垫配置在黑色矩阵上,即配置在相邻形成图形的透明电极之间的各个空隙中。
当喷涂衬垫的电荷极性为负性(-)时,选择施加在导电黑色矩阵上的电压(V1)和施加在透明电极上的电压(V2),使其满足V1>V2的关系。
当喷涂衬垫的电荷极性是正电性(+)时,上述V1和V2为正电压;且当喷涂衬垫的电荷极性是负电性(-)时,上述V1和V2为负电压。因此,用与衬垫电荷相同的极性产生V1和V2间的电位差,而不用与衬垫电荷相反的极性或用相对于地电势的正(+)极性和负(-)极性产生上述的电位差。
用与衬垫电荷相同的极性产生V1和V2间电位差的原因如下:
当用与衬垫电荷相反的极性或用相对于地电势的正(+)极性和负(-)极性产生V1和V2间的电位差时,衬垫首先受到重力的影响,从而增加其下落速度。
相反,当用与衬垫电荷相同的极性产生V1和V2间的电位差时,受产生的排斥力的影响会抑制衬垫的下落速度。当V1和V2间的电位差保持相同时,较慢的下落速度使衬垫的定位更精确。
更具体地,例如当衬垫的电荷极性是负(-)极性且V1和V2间产生50伏的电位差时,该50伏的电位差不是+25伏和-25伏间产生的电位差,而是与衬垫电荷具有相同极性的-1000伏和-1050伏间产生的电位差。在下落的开始阶段,即当远离基板时,衬垫仅受电压-1000伏和-1050伏间产生的平均电场E1的影响,因为在这个阶段还没有电位差的明显影响。因此,具有电荷量Q的衬垫仅受由电场E1产生的下落方向上的吸引力或排斥力(F1=QE1)的影响。然后当衬垫接近基板时,衬垫的下落路线受-1000伏和-1050伏间电位差的影响而弯曲(F2=QE2)。
因此,通过选择产生V1和V2间电位差的电压值,可以改变落入电位差E2中的衬垫速度。这样,通过调节电压值V1和V2以及它们之间的电位差,即使用小的电位差也可以控制衬垫的定位。本发明第二方面的关键在于通过在基板上形成与衬垫电荷极性相同的电排斥力场强制调节衬垫的下落速度来实现衬垫的高精度定位,而不是象现有技术中那样仅基于由极性引起的吸引力/排斥力那种思路。
V1和V2间的电位差较好不大于100伏。如上所述,电位V1和V2的极性与衬垫的电荷极性相同。因此,即使当电位差小于等于100伏时,也能实现衬垫的定位控制。由于保护层是厚度为2-5微米,当电位差超过100伏时,可能会被击穿,从而降低成品率。
当极性为正(+)或负(-)时,衬垫的电荷量较好为3-50μC/g。这种衬垫电荷量范围不是指衬垫电荷量的分散,而是指平均衬垫电荷量在上述范围内。当衬垫的电荷量小于3μC/g,衬垫不能产生足够的弯曲,因此在某些情况下不能获得高水平的定位。相反如果衬垫的电荷量大于50μC/g,电场中施加的排斥力会太大,从而不能使足够数目的衬垫落在基板上,结果需要更长的时间喷涂衬垫。由于衬垫显示某种程度的衬垫电荷量的分散,所以定位精确度也会降低。
衬垫的电荷量例如可用E-SPART型分析仪(Hosokawa Micron的产品)进行测量。
在本发明的第一和第二方面中,基板较好有假电极。
图3-5分别是表示一种基板的的平面图,由一块这种基板制造两个显示面。图4或图5中所示的基板配置了一个环绕各个显示面的假电极。一般来说,形成假电极的目的是为了防止定位层被由制造步骤中静电产生的火花所破坏。
图3中没有假电极。图4中有假电极,但透明电极没有与假电极连接。图5中有假电极,且它与透明电极连接。
按这种方式(图4或图5)使用具有假电极的基板,可以防止各个显示区最外面区域中衬垫数目的减少,从而使液晶盒的总间隙保持均匀。
当没有形成假隙(dummy gap)时,由于如下原因可能减少各个显示区最外面区域中的衬垫数目。如图6所示,在形成透明电极的显示区中心部位中,产生排斥力的电场是均匀的。因此,配置在每两个透明电极之间的衬垫数目是稳定的。然而在显示区的边缘(外面)处,不存在排斥力,从而使边缘附近的衬垫易于被排斥到显示区以外。因此,最外层区中的衬垫数目会减少。
而且与没有施加电压的情况相比,在显示区中心部分定位的衬垫数目会较少,特别是电荷量大的颗粒会被排斥到基板以外。
然而如图7所示,如果对设置显示区以外的假电极施加与显示区中透明电极相似的电压时,与整个显示区中相同的电场延伸到假电极区中。因此,假电极区中的衬垫数目不会明显减少,衬垫均匀地配置在整个显示区中。因此,当用这种基板制造液晶显示器时,整个显示区内的液晶盒间隙会均匀,从而确保高的显示均匀度,并达到高对比度的显示。在图6和图7中,省略了下面的保护层、黑色矩阵等。
当透明电极与假电极连接时,对透明电极施加相同的电压,从而可以均匀地配置衬垫。
当透明电极与假电极不连接时,对透明电极施加的电压较好与对假电极施加的电压不同。
原因如下:例如当显示区与假电极分开时,衬垫会漏入它们的间隙中。因此,在这种情况下,必须对假电极施加比显示区中更强的电压,从而使产生的排斥力通过排斥作用把衬垫赶回到显示区的外围区域中。
透明电极与假电极的连接方式包括,但不限于每个透明电极的一端与假电极连接的方式、每个透明电极的两端与假电极连接的方式、排列一行的透明电极一端与另一端与假电极交替连接的方式。总之,各种透明电极与假电极按每一种可能的方式连接。
本发明第三方面中的液晶显示器的制造方法包括将衬垫喷涂在第一基板和第二基板的至少一个上,第一基板具有至少形成图形的透明电极、定位层和一个或多个显示区,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,并把液晶注入两块基板之间的空隙内,在基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫,该基板与一个尺寸小于基板的接地导电工作台紧密接触,使其周边部分脱离上述导电工作台,对基板上的透明电极施加与衬垫电荷具有相同极性的电压。
上述的透明电极、基板、衬垫和衬垫荷电法与本发明第一方面中所述的相同。如本发明第一方面中所述,本发明第三方面中所述的液晶显示器制造方法可用于制造TFT型液晶显示器。
喷涂衬垫时当荷电的衬垫具有与施加在透明电极上电压相同的极性时,如衬垫电荷极性为正(+)极性,且施加在透明电极的电压为正极性(+)(如图8所示,其中没有画出滤色器、保护层等)时,分散在基板上的衬垫总数比透明电极上没有施加电压的情况要少,且被稳定化。
然而,在没有透明电极的基板边缘部分,没有排斥力作用,从而基板边缘附近出现的衬垫被排斥到基板以外的地方。因此,在显示区边缘附近出现的衬垫数目就会不够,从而液晶显示器在其边缘上具有较小的液晶盒厚度,结果导致显示不均匀。
在制造STN型液晶显示器的过程中,当喷涂带电荷的衬垫时,如果没有将具有至少形成图形的透明电极和定位层并具有显示区的基板进行接地或者没有将这种基板与未接地的导电工作台紧密接触(如图9所示),由对形成图形的透明电极施加与荷电衬垫相同极性的电压引起的电极间的电位不会降低,而基板上形成的电场接近于均匀(如图9中表示为某些电位的等位表面)。因此,不能获得足够的电位分布,且不能进行选择性的衬垫配置。
另一方面,在喷涂带电荷的衬垫时,通过使包含至少形成图形的条形透明电极和定位层的基板与接地的导电工作台紧密接触,并对基板上的透明电极施加与带电荷衬垫相同极性的电压,可以用排斥力把衬垫配置到透明电极之间的空隙中。在这种情况下,对与接地导电工作台紧密接触的基板的配置可以形成适于衬垫配置的电场。
换句话说,当对透明电极施加+正压时,由于接地的工作台总是保持零电位,所以每对相邻透明电极间空隙中的电位比透明电极的电位低得多,从而形成适于衬垫配置的电场(图1中表示为某些电位的等位表面)。即当带电荷的衬垫与透明电极上施加的电压具有相同极性时,在每对相邻透明电极间的空隙中形成电力线(虽然图9和图1中没有画出),并在电力线和基板排斥力的共同作用下把带电荷的衬垫配置到透明电极间的每个空隙中(定位层等未画出)。
上述的工作台需要有不超过1010欧姆厘米的体电阻,在基板的某一百分数面积内基板可以与工作台紧密接触。
此时,当对衬垫施加排斥力时,观察到显示区边缘附近衬垫数目减少的现象。上述的排斥力是通过对形成图形的透明电极施加电压形成电场而引起的。
在制造液晶显示器时,会经过一个对其施加某些负载的步骤。在这一步骤中,如果衬垫的数目在基板的某些部分中不规则或不均匀,则在这个部分中每个衬垫的负载会不同,从而使衬垫发生不同的扭曲,单元厚度发生变化,并使制成的液晶显示器的显示不均匀。
这种在显示区边缘附近衬垫数目发生变化的原因是当对形成图形的透明电极施加与衬垫电荷具有相同极性的电压以把衬垫配置在它们的空隙中时,一种力(排斥力)作用把这些应落入显示区的衬垫排斥到显示区以外的地方。特别如图1、8和9所示,在显示区边缘附近中,由于显示区以外的基板区内没有排斥力,这些将配置到显示区边缘部分的衬垫偏离到显示区以外的地方。
因此,如图10所示,由于对基板内的透明电极施加与衬垫电荷具有相同极性的电压,一个排斥力作用在显示区内的衬垫上,而处于地电位的导电工作台对带电荷的衬垫施加吸引力。因此,基板内的排斥力和导电工作台的吸引力都作用于基板的边缘,这两种作用使衬垫偏离基板。
根据本发明的第三方面,通过在基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫时,使该基板与一个尺寸小于基板的接地导电工作台紧密接触,从而使其周边部分脱离上述导电工作台,并对基板上的透明电极施加与衬垫电荷具有相同极性的电压,这样减弱了由导电工作台引起的基板边缘部分上的接地作用,且衬垫有点被透明电极的电位所吸引,结果避免了图11所示的现象。因此,与导电工作台的尺寸大于基板尺寸的情况相比,可以防止减少配置在基板边缘上的衬垫数目。
接地导电工作台的体电阻较好地不大于1×1010欧姆厘米。当它的体电阻大于1×1010欧姆厘米时,整个基板需要接近于透明电极的电位,从而使衬垫的定位精确度降低。
基板周边部分离开导电工作台的情况就是基板超过导电工作台的情况,如图11所示。
如果有一个绝缘的电极,衬垫会集中地分散在这一部分中。因此,当对基板上形成的透明电极施加与衬垫电荷相同极性的电压时,较好的是对所有透明电极施加电压,从而不会产生绝缘的电极。
对透明电极施加的电压较好地为几百伏到几千伏。如果施加的电压太低,则难以控制衬垫的下落路线。如果施加的电压太高并使用黑色矩阵时,在某些情况下会在透明电极和黑色矩阵间发生短路。
需喷涂衬垫的基板可以是上面形成有黑色矩阵的基板,上述的黑色矩阵可以是绝缘的黑色矩阵或导电的黑色矩阵。在任何情况下,都可获得上述的相同良好效果。
上述的黑色矩阵没有特别的限制,但包括本文中已经提及的黑色矩阵。
然而,黑色矩阵较好是导电的黑色矩阵,上述的导电工作台较好包括一个或多个尺寸小于基板上各个显示区框形边缘的部分。在这种情况下,可以更可靠地防止配置在基板边缘区中衬垫数目的减少。
图12是表示本发明的液晶显示器制造方法中常规共用电极基板上的黑色矩阵像帧状态的示意性平面图和剖视图。如图12所示,第一基板和配置在第一基板正上方的第二基板中至少一个是用于制造液晶显示器的滤色器基板,并在上面形成黑色矩阵。黑色矩阵标定显示区中网络形式的像素。另外,图12中设置了分隔线。分隔线以外的区域构成假电极区。该假电极区包括配置在基板上显示区以外的假电极。上述的分隔线用作排列后切割第一和第二基板的基线。
在某些情况下,在假电极部位或上述黑色矩阵像帧状态区以外的部位还留有作为实心掩膜的黑色矩阵。在这种情况下,如图12中的剖视图所示,黑色矩阵的位置与包含透明电极的区域的位置几乎相同。
在具有这种构造的用于制造液晶显示器的滤色器基板中,即使使用比形成导电黑色矩阵的区域更小的导电工作台也会使接地导电工作台的作用扩大到整个黑色矩阵区域,从而降低导电黑色矩阵的电位。因此,导电黑色矩阵区可传递导电工作台的作用。
因此,即使当导电工作台小于基板时,也会在存在导电黑色矩阵的区域内形成适于衬垫定位的电场。
在那种情况下,由于导电黑色矩阵像帧以外的区域没有接地,基板玻璃部分的电位受施加在透明电极上电压的影响,并在此方向上逐渐增加,使该电位接近于透明电极的电位。导电黑色矩阵的像帧区以外的区域没有接地的情况例如相当于导电黑色矩阵被分隔线划分的情况或相当于导电黑色矩阵像帧以外没有导电黑色矩阵部分的情况。
这种情况下如果将显示区中的电位与显示区以外的电位相比,由于对透明电极施加高电压,所以在显示区中存在高电位,而在各对相邻透明电极间存在低电位。
另一方面,如图13所示,在显示区以外形成假电极时,假电极和基板的玻璃部分都有高电位。因此,只要涉及整个基板,在显示区以外形成高电位区,和在显示区内形成低电位区。
因此,显示区以外的高电位区用作抵抗排斥力的壁,并阻止显示区内的衬垫偏离显示区,从而使显示区内的衬垫数目变得均匀,使液晶显示器产品具有均匀的液晶盒厚度和均匀的显示性能。
即使当喷涂衬垫的基板是复式印刷型(即上面形成有许多显示区)时,如果黑色矩阵是导电的,通过提供许多导电工作台可以在所有显示区中产生上述相同的作用。上述每个导电工作台的尺寸使其位于每个显示区的黑色矩阵像帧区的边缘之内。
在上述情况下,可提供相应于许多显示区的许多分离的导电工作台,或通过提供一个带槽的导电工作台来形成许多分开的导电工作台。
在上述导电工作台和基板的接触面较好不小于显示区的30%。
当按上述方法形成了导电黑色矩阵时,即使配置尺寸小于矩阵区的导电工作台,也在整个显示区内形成适于衬垫定位的电场。这是因为导电黑色矩阵具有导电工作台的作用。
然而如果导电工作台与显示区(黑色矩阵区)的接触面太小,接地作用可能被减弱。因此,为了在显示区中形成适于衬垫配置的电场,导电工作台与基板间的接触面较好应不小于基板上显示区的30%。如果该接触面小于30%,接地作用就会减弱,适于衬垫配置的电场会被破坏,且难于在每个显示区的边缘中实现衬垫的定位。
本发明第四方面的液晶显示器制造方法包括包括如下步骤:将衬垫喷涂在第一基板和第二基板中的至少一个上,第一基板具有至少形成图形的透明电极和定位层,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,并把液晶注入两块基板之间的空隙内,且从要喷涂衬垫的基板上除去水,使基板与接地导电工作台紧密接触,在对基板上的透明电极施加与衬垫电荷具有相同极性的电压时喷涂衬垫。
上述的透明电极、基板、衬垫和衬垫荷电方法与本发明第一方面中所述的相同。如本发明的第一方面所述,本发明第四方面的液晶显示器制造方法可用于制造TFT型液晶显示器。
如本发明的第三方面所述,在制造STN型液晶显示器的过程中,喷涂带电荷的衬垫时,例如通过使包含至少形成图形的透明电极和定位层的基板与接地的导电工作台紧密接触,并对基板上的透明电极施加与带电荷衬垫相同极性的电压,可以用排斥力把衬垫配置到每两个透明电极之间的空隙中。在这种情况下,通过使基板与接地导电工作台紧密接触可以形成适于衬垫配置的电场,如图1所示。
上述的工作台需要有不超过1010欧姆厘米的体电阻,在基板的某一百分数面积内基板可以与工作台紧密接触。
在STN型液晶显示器的情况下,一般在摩擦步骤后喷涂衬垫。由于在磨擦步骤中用绕在一个鼓上的布状合成树脂等摩擦定位层表面,因此布中的纤维物质会粘合到基板上,从而在摩擦步骤后要用水洗涤基板。这种水例如用气刀吹掉。然而在这种情况下,基板没有充分干燥。
即使是完全干燥的基板,随着时间的流逝,一些湿气会粘附到基板上,因为空气中存在水份。在这种情况下,粘附的湿气量会随温度和/或其它因素的变化而变化。
在通过对透明电极施加电压进行选择性配置衬垫时,对透明电极施加几百到几千伏的高电压。因此,当按图1所示的状态在上述粘附有湿气的基板配置衬垫时,由于存在湿气,通过在没有形成定位层(暴露出电极)或虽然形成定位层但它很薄(如图14所示)的基板表面上的湿气,微电流泄漏到工作台边缘。
发生漏电时,由于静电诱导作用,用于配置衬垫的电场由图1所示的状态变化到导电工作台本身的电位增加到接近于电极电位的状态,从而使电极间的电位不会降低。结果产生接近于图15所示的状态,因此不能获得有效的电位分布,且不再可能进行选择性衬垫配置。
另外,如果基板表面上覆盖了湿气,即使基板边缘与工作台边缘相互绝缘,但电极间隙电阻会减少。因此,虽然在干燥状态下获得图1所示的电位分布,但在湿气存在的电位分布变成图16所示的情况。这种电位分布基本上是均匀的,但降低了衬垫配置的选择性。
即使在相同的施压条件和相同的喷涂条件下喷涂衬垫,也会产生不同的衬垫配置状态,这是因为粘附在基板上的湿气随环境湿度和温度等因素的影响,从而使用于衬垫配置的电场发生变化。
一般来说,制造液晶显示器时的温度和湿度可控制到一定的程度。然而会受季节性变化的影响。粘附的湿气量例如也会随摩擦后水洗到喷涂的时间或干燥程度而变化。因此,这种粘附湿气量随环境的差异、工艺步骤等的变化引起衬垫配置状态的变化,从而引起液晶显示器产品的显示性能的变化。
另外,虽然可以把粘附湿气量稳定在某一值,但没有说基板上湿气量越小,就越容易形成适于衬垫配置的电场。因此,通过提供从喷涂湿气的基板上除去湿气来稳定地形成适于衬垫配置的电场的步骤,可以提高衬垫定位控制的选择性和稳定地制造对比度和显示均匀度优异的液晶显示器。
从要喷涂衬垫的基板上除去湿气的步骤可通过在喷涂前加热基板的方法进行;也可以在喷涂过程中通过加热基板而进行;另外,还可以通过在喷涂前加热基板和喷涂过程中加热基板进行。
基板的加热例如可用烘箱、加热板等或通过红外加热进行。只要能升高基板的温度,加热方法没有特别的限制。当基板的温度升高时,粘附的湿气减少,从而使基板的表面电阻增加;因此,不再发生漏电,可以进行稳定和高精确度的衬垫配置。
上述加热基板时的加热温度较好不低于50℃。如果低于50℃,湿气的除去作用就较低。90℃以上的加热温度是更优选的。加热基板的作用视加热温度和加热时间而变化。因此,必须根据环境湿度和粘附湿气量适当地选择加热方法和加热温度。
如果加热到喷涂衬垫的时间太长,在某些情况下冷却后湿气会重新粘附到基板上,当然这种情况取决于环境温度。因此,较好的是在加热后马上喷涂衬垫。
然而,需要一定的时间进行冷却,因为热的基板放在工作台上时,在某些情况下基板可能在冷却过程中发生变形,从而由于不能与工作台充分接触而损害衬垫的配置状态。
例如通过将工作台保持在加热板似的状态或在喷涂室中配置红外加热器,可以进行上述喷涂过程中的基板加热。
上述从要喷涂衬垫的基板上除去湿气的步骤也可通过在基板的上表面和下表面上吹干燥的气体进行。通过在基板的上下表面上充分地吹干燥的气体,可以减少粘附的湿气。干燥气体较好是尽可能接近于绝对干燥条件的气体。
上述干燥气体的温度较好不低于室温。如果在低于室温的温度下吹气,所用的气体即使在干燥的状态下也会从基板上吸取热量,从而使基板的温度下降,结果冷凝产生的湿气可能粘附到基板上。
干燥的氮气、干燥的空气等可用作这种干燥的气体。
上述从要喷涂衬垫的基板上除去湿气的步骤也可以通过用溶剂取代湿气的方法进行。例如用溶剂擦基板的背面和边缘部分可以减少漏电到工作台上。湿气也可以通过把基板浸在溶剂中然后干燥加以除去。另外通过用溶剂取代湿气,然后加热干燥,可以减少干燥时间,也可以缩短生产过程中的节拍时间。上述的溶剂没有特别的限制,但与水混溶且沸点较低的溶剂是优选的,如丙酮。
上述从要喷涂衬垫的基板上除去湿气的步骤也可通过让基板放置在真空中或在真空中加热来进行。因此,通过将基板置于真空中以及更有效地在真空中加热基板,可除去湿气。为了将基板置于真空中,例如可使用真空干燥器。
为了确定在上述步骤中从基板上除去了湿气,可以如图17所示在透明电极和导电工作台之间配置一个静电计。且对于上述目的,优选的标准是当在上述除湿步骤后对透明电极施加1千伏的电压时,流过透明电极和导电工作台的电流不超过10-6安培。
为了配置上述的静电计,可以使用施加电压的电极或可配置分开的电极。上述的电极可以具有任何形状,如针形或平板形,电极材料可以是任何导电材料。例如,用于试验目的的接触探针可用作上述电极。
上述的电极不能配置成为基板插入喷涂机的障碍。例如通过提供能使基板或电极进行上下运动的机构,可有利于将基板插入喷涂机中。
如果基板的表面上有粘附的湿气,对上述的透明电极施加电压时会产生微电流,从而不能形成适于衬垫配置的电场。因此,如果对电极施加1千伏的电压时流过透明电极和导电工作台间的电流超过10-6安培,就难以形成适于衬垫配置的电场,从而降低了衬垫配置的选择性。当上述的电流不超过10-6安培时,形成适于衬垫配置的电场,且衬垫能进行高选择性的定位控制。
如上所述,如对透明电极施加1千伏电压,透明电极和导电工作台间流过的电流大于10-6安培,则难以产生衬垫配置的合适电场,从而降低衬垫配置的选择性。然后,利用较大电流引起由电压降造成透明电极电压降低的事实,可采用基板电压测量来替代静电计。这时,将具有足够高的输入阻抗的电压表以与静电计相同的方式安排用来确认电压表的测量电压在测量误差精度内等于所加的电压。
应该指出,衬垫配置中不一定对透明电极施加1千伏的电压。流过透明电极与导电工作台间的电流不大于10-6安培只是一个尺度,用以证实湿气业已除去。
在实施在黑色矩阵处配置衬垫并对透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压的液晶显示器制造方法中,存在的问题是,即使采用相同的条件和相同的基板,黑色矩阵处衬垫配置的百分数总是随时间和情况而变化。对其原因作深入研究后发现,在环境(空气)中湿气的影响下,黑色矩阵处衬垫配置的选择性在改变。因此,通过从喷涂衬垫于其上的基板除去湿气的步骤,可改善绝缘性能,消除透明电极的漏电流,为衬垫配置形成稳定的电场。结果可以高的成品率和精度在黑色矩阵处配置衬垫。
按照本发明第五方面的液晶显示器的制造方法,将衬垫喷涂在第一基板和第二基板中的至少一个上,第一基板具有至少形成图形的透明电极和定位层,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,并将液晶注入两块基板之间的空隙中,且使基板与接地导电工作台紧密接触,然后对基板上的透明电极施加与衬垫电荷具有相同极性的电压时喷涂衬垫,其中喷涂衬垫之前和期间基板显示的性能使得当对基板上的透明电极施加1千伏电压时,基板上透明电极和导电工作台之间流过的电流不大于10-6安培。
上述的透明电极、基板、衬垫以及衬垫荷电法均与本发明第一方面所述的相同。如本发明第一方面中所述,本发明第五方面的液晶显示器制造方法可用于制造TFT型液晶显示器。
如在本发明第四方面中所说明,对基板的湿气附着随环境中的湿度和温度而变。因此,即使在相同的电压施加条件和相同喷涂条件下喷涂衬垫,在衬垫配置中被利用的电场也改变,因而导致不同状态的衬垫配置。
因此,通过将基板与接地导电工作台紧密接触,并通过对基板电极施加与衬垫电荷极性相同的电压以高精度和稳定的方式在电极间隙中喷涂衬垫,必须检查和控制基板上的湿气。
如前所述,在透明电极和导电工作台间提供静电计之类来检查基板上的湿气状态,如图17所示。
在上述方式中用静电计之类的检查方法,包括对要喷涂衬垫于其上的基板上的透明电极施加电压并测量流过透明电极和导电工作台间的电流。这时,如果在湿度等下基板处于润湿的状态下,则从透明电极流向工作台的漏电流大,而如果基板处于干燥状态下,则漏电流弱。
因此,为在喷涂之前和喷涂期间检查粘附在基板上的湿气量,对透明电极施加1千伏的电压并用静电计之类检查流过透明电极和导电工作台之间的电流。当流过透明电极和导电工作台之间的微电流被控制在不大于10-6安培时,衬垫的定位是稳定的。
施加到透明电极用于衬底配置的电压不一定等于1千伏。使用1千伏的唯一目的是为了检查湿气量,以证实在这一电压下流过透明电极和导电工作台间的电流不大于10-6安培。
通过控制使得基板与接地导电工作台紧密接触,并对基板上透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压,温度与相对湿度分别在室温(18℃至28℃)范围内和不大于50%,从而将流过透明电极和导电工作台之间的电流限制在不大于10-6安培的状态下喷涂衬垫,来较佳地实现上述的液晶显示器的制造方法。
此外,在贮存上述基板时,较好的是将基板保持在室温(18℃至28℃)和相对湿度不大于50%的环境中。
当相对湿度虽不超过50%,但温度低于室温(18℃)时,温度比工作环境过分地低可引起湿气的冷凝。当相对湿度虽不超过50%,但温度高于室温(28℃)时,该环境不适合作工作环境。此外,当相对湿度超过50%时,空气中湿气过大使湿气恒定地附着在基板上,导致难以实现高精度的衬垫配置。
在通过对透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压实现包括在黑色矩阵处配置衬垫的液晶显示器的制造方法中,当对衬垫要喷涂于其上的基板上的湿气得到控制,从而导致用于衬垫配置的电场稳定形成时,就可以高产品率和高精度地在黑色矩阵处配置衬垫。
按照本发明第六方面的液晶显示器的制造方法,将衬垫喷涂在第一基板和第二基板中的至少一个上,第一基板具有至少形成图形的透明电极和定位层,第二基板置于第一基板上方并与之相对,并将液晶注入两块基板之间的空隙中,其中将在基板上喷涂带正或负电荷的衬垫,使基板与接地导电工作台紧密接触,对基板上的透明电极施加与衬垫电荷具有相同极性的电压,然后将电压施加装置的端接与透明电极断开,并在基板上留有电荷时喷涂衬垫。
上述的透明电极、基板、衬垫以及衬垫荷电法均与本发明第一方面所述的相同。如在本发明第一方面所说明的,本发明第六方面的液晶显示器的制造方法可适用于制造TFT型液晶显示器。
如有关本发明第三方面的说明,在制造STN型液晶显示器喷涂带电荷衬垫中,通过将具有至少形成图形的透明电极和定位层的基板与接地导电工作台紧密接触并对基板上的透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压,借助斥力可将衬垫配置于两个透明电极之间的各个间隙中。在这种情况中,通过将基板与接地导电工作台紧密接触可形成适合于衬垫配置的电场,如图1所示。
要求上述工作台具有不大于1010欧姆厘米的体电阻,可将上述基板至少与工作台一定比例的表面积紧密接触。如果体电阻高于上述值,则整个基板的电位接近于透明电极的电位,结果定位精度变坏。
当将基板与接地导电工作台紧密接触,并对衬垫将喷涂于其上的基板上的形成图形的透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压时,如图18所示,就形成适合于衬垫配置的电场。然后从透明电极去掉施压装置的端接线,这样每个透明电极上积累有电荷并保留一段时间。
因此,适合于衬垫配置的电场在一段时间中得以保持。在这种状态下喷涂衬垫,就将衬垫配置于各个相邻透明电极之间。
这时,需要从透明电极移开施压装置的端接线,同时对形成图形的透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压。如果中断施加电压而不除去端接线,则电荷将经由施压装置流走,结果再也得不到适于衬垫配置的任何电场。
上述与基板一起移动的工作台(也称为台桌子(table))可以是平板形的或者是薄膜或片状的,如铝箔,只要在施加电压时接地就可。
对形成图形的透明电极施加与衬垫电荷极性相同极性的电压,较好的是施加一段时间。较长的施压时间导致增大了电荷积累,从而在移去施压装置的端接线后延长作用时间。
当进行衬垫喷涂时同时施加例如2千伏的电压,证实在这种电压下配置是合适的,较好的是在采用本发明第七方面的方法中施加稍高的电压,如2.5千伏。
这是因为,由于电荷随时间而衰减,因此需要考虑这种衰减。
此外,接地导电工作台是可移动的。因而,通过将基板与接地导电工作台紧密接触,对基板上的透明电极施加与带正或负电荷的衬垫相同极性的电压,从透明电极上断开施压装置的端接线,使导电工作台和基板保持紧密接触地移向喷涂机,并对接地导电工作台施加电压,就能形成适合于衬垫配置的电场,从而将衬垫配置到透明电极间的间隙中。
通过移开施压装置的端接线,同时对基板上透明电极依然施加与衬垫电荷极性相同的电压,电荷就保留在基板上并保持适合于衬垫配置的电场。这时,只要保持基板和工作台紧密接触,不管“台子加基板”在移动后定位在接地的位置或绝缘的位置,所形成的电场得以保持以保证适合于衬垫定位。
因此,如图19所示,可省略喷涂机内施加电压的步骤,并且在衬垫喷涂和将台子与透明电极一起送到喷涂机之前省略了对接地导电工作台上的透明电极施加电压的节拍时间。换句话说,当在喷涂机内对前一块基板进行衬垫喷涂期间可以完成对要喷涂衬垫的下一块基板的电压施加步骤,因而可以高效率地生产出显示部分没有衬垫的高对比度液晶显示器。
本发明第七方面的液晶显示的制造方法包括,将衬垫喷涂在第一基板和第二基板中的至少一个上,第一基板具有至少形成图形的透明电极和定位层,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,并将液晶注入两块基板之间的空隙中,其中,在基板上喷涂带正或负电荷的衬垫,使基板与接地导电工作台紧密接触,对基板上的透明电极施加与衬垫电荷具有相同的电压,同时将电压施加状态保持一段时间,然后在保持施加电压的状态下喷涂衬垫。
上述透明电极、基板、衬垫以及衬垫荷电法与上述本发明第一方面所述的相同。如本发明第一方面所说明的,本发明第七方面的液晶显示器的制造方法适用于制造TFT型液晶显示器。
如有关本发明第三方面的说明,在制造STN型液晶显示器中喷涂带电荷衬垫中,通过将具有至少形成图形的透明电极和定位层的基板与接地导电工作台紧密接触并对基板上的透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压,借助排斥力可将衬垫配置于两个透明电极之间的各个间隙中。在这种情况中,通过将基板与接触导电工作台紧接触可形成适合于衬垫配置的电场,如图1所示。
要求上述工作台具有不大于1010欧姆厘米的体电阻,可将上述基板至少与工作台一定比例的表面积紧密接触。如果体电阻高于上述值,则整个基板的电位接近于透明电极的电位,结果定位精度变坏。
在基板置于接地导电工作台上的状态下对基板上的透明电极施加电压,基板在静电方式下实现与导电工作台的紧密接触。
在这种情况下可以假定,在施加电压时刻基板和导电工作台之间出现空气层,从而不能达到完善的紧密接触。
这里,本来是通过基板与导电工作台紧密接触形成适合于衬垫配置的电场,因此当在基板与导电工作台之间出现绝缘层的空气层时,各相邻透明电极间的电位将不下降到足够的程度,因而衬垫定位精度趋于变坏。
在对透明电极施加电压期间,导电工作台和基板相互静电地吸引。这种静电力逐渐消除空气,导电工作台与基板间达到高度紧密接触的状态,稳定地形成适合于衬垫配置的电场。
这种情况下,施加电压的状态较好的是保持至少5秒钟,这样充分消除了导电台和基板间的空气,结果稳定地保证了较高的衬垫定位精度的水平。
本发明第八方面的液晶显示器的制造方法包括,将衬垫喷涂在具有至少形成图形的透明电极、导电黑色矩阵、保持层和定位层的第一基板上,将液晶注入第一基板和第二基板之间的空隙中,第二基板包括上面的薄膜晶体管,且配置于第一基板上方并与之相对,其中第一基板具有在相应黑色矩阵区范围之上和之内透明电极中形成的没有透明电极的蚀刻区,在第一基板上喷涂带正或负电荷的衬垫,对导电黑色矩阵施加电压(V1),对透明电极施加电压(V2),电压V1和V2都是正电压,并当衬垫电荷极性为正时满足V1<V2的关系,或者电压V1和V2都是负电压,并当衬垫电荷极性为负时满足V1>V2的关系。
上述透明电极、基板、衬垫以及衬垫荷电法与本发明第一方面所述的相同。
上述导电黑色矩阵和保护层与本发明第二方面所述的相同。
在上述第一基板上,在相应的黑色矩阵范围之上和之内每个透明电极内形成没有透明电极的蚀刻区,如图20所示。
图20至23每个示出第一基板的示意图,基板上形成这种蚀刻区。
图20至23所示的蚀刻区是通过在对应的导电黑色矩阵区范围之上或之内以预定的图形蚀刻透明电极而成的。
蚀刻区可以是在以水平方向或与之垂直方向排列的对应的线形导电黑色矩阵部分之上或之内,或在黑色矩阵的十字部分的范围之上或之内。它们的形状不受限制,但可以是线形、矩形(图20至23)、圆形、十字形(图21)或条形(图22)。蚀刻区的出现频度也无特别限制。因而可以在水平和/或垂直方向上在每个点距、每个像素距和/或每几个像素距上出现。
TFT型液晶显示器中,具有滤色片的第一基板通常用作公共电极,形成透明电极作为固态电极。第一基板中电压加到固态电极,用第二基板上形成的薄膜晶体管和透明电极实现各个像素的电压控制。
因此,即使当用蚀刻在固态电极上形成蚀刻区,电压也以十分传统的方式加到组装的液晶显示器中,因而对显示器性能不施加不利的影响。
按照本发明第八方面,在对第一基板喷涂带正或负电荷衬垫中,对黑色矩阵施加电压(V1),对透明电极加电压(V2)。
对于电压种类,适用本发明第一方面所述的相同说明。
借助对导电黑色矩阵加电压(V1)和对透明电极加电压(V2),能形成适合于衬垫配置的电场,类似于图1所示的情况如图2所示,而不需要配置基板与具有体电阻不超过1010欧姆厘米的导电工作台紧密接触。
当例如衬垫电荷为正时,所加的两个电压都用正电压,且V1<V1,由此,在透明电极之上产生较强的推斥力而在黑色矩阵位置之上为较弱的推斥力,从而衬垫可配置于黑色矩阵处(在负衬垫电荷时情况相同)。
V1和V2与衬垫电荷极性应该相同的理由如下。对于以高精度落入位置的衬垫来说,要求1千伏左右的推斥力。如果这里V1和V2不同极性,则透明电极和黑色矩阵间的电位差为约1千伏。由于保护层薄到2至5μm,因此透明电极和黑色矩阵间会出现短路,从而不再形成适合于衬垫定位的任何电场。因此,V1和V2间的电位差较佳地为100伏以内。即使当电位差如此之小,即不大于100伏时也能成功地实现衬垫位置控制,因为这是推斥力状态下的电位差。
至于V1和V2间的关系,适用本发明第二方面所述的相同说明。
本发明第九方面的液晶显示器的制造方法包括,将衬垫喷涂在具有至少形成图形的透明电极、黑色矩阵、保护层和定位层的第一基板上,将液晶注入第一基板和第二基板之间的空隙中,第二基板包括上面形成的晶体管,且配置于第一基板上方并与之相对,其中,第一基板具有在相应的导电黑色矩阵区范围之上与之内的透明电极中形成的没有透明电极的蚀刻区,在第一基板上喷涂带正或负电荷的衬垫时,第一基板与体电阻不超过1010欧姆厘米的接地导电工作台紧密接触,然后对透明电极施加与衬垫电荷极性具有相同的200伏至5千伏的电压。
上述透明电极、基板、衬垫以及衬垫荷电法与本发明第一方面中所述的相同。保护层与本发明第二方面中所述的相同。
通过将基板与具有体电阻不大于1010欧姆厘米的接地导电工作台紧密接触,各透明电极间的电位降低,如图2所示,以与图1所示相同的方式形成适合于衬垫配置的电场,结果衬垫被置于经蚀刻的区中(线间区中)。
加到上述透明电极的电压是200伏至5千伏。低于200伏时不能产生为获得衬垫定位足够的电位差。超过5千伏时在透明电极和导电黑色矩阵间易发生短路。
至于电压种类,适用本发明第一方面中所述的相同说明。
在按照本发明第九方面喷涂带电荷衬垫中,形成在透明电极上的电场对衬垫的电荷极性施加一个推斥力,从而喷涂在第一基板上的这些衬垫容易向外逸出。因此配置在第一基板外周上的衬垫数趋于减小。
透明电极一般只形成于第一基板显示区中。然而本发明第八和第九方面中,较可取的透明电极被形成于显示区的外面,以及与显示区中相同的电压加在透明电极上。这样,仅在显示区的外面出现衬垫数的减小,而在显示区内均匀地配置衬垫。
本发明第十方面的液晶显示器的制造方法包括,在具有至少形成图形的透明电极的第一基板上喷涂衬垫,将液晶注入第一基板和第二基板的空隙中,第二基板包括上面形成的薄膜晶体管,且配置于第一基板上方并与之相对,其中,第一基板具有不与周围透明电极连接但在第一或第二基板的相应的导电黑色矩阵区范围内透明电极中形成的隔离的、电浮置的透明电极,在第一基板上喷涂带正或负电荷的衬垫时,第一基板与体电阻不超过1010欧姆厘米的接地导电工作台紧密接触,对第一基板的透明电极而不是隔离透明电极施加与衬垫电荷具有相同极性的电压。
在构成TFT型液晶显示器的第一基板中,通常的做法是在玻璃基板和黑色矩阵上形成滤色片,然后在滤色片上形成绝缘材料的保护层,再在其上形成透明电极和定位层(未图示),如图2所示。在下面的说明中,第一基板如具有上述结构那样地进行分析。
上述的透明电极,基板、衬垫以及衬垫荷电法与本发明第一方面中所述的相同。对黑色矩阵在光阻塞作用条件方面没有特别的限制。它可由铬、铝、碳黑或色素做成。
保护层与本发明第二方面中所述的相同。
在上述第一基板上的透明电极内,以位于对应的黑色矩阵形成区的范围内的方式形成不与周围电极相连的隔离的、电浮置的透明电极,如图24所示。
图25至28中每一个是具有这种隔离的透明电极形成于其上的第一基板示意图。
如图25至28所示,在预期的透明电极区的周围以蚀刻预定的宽度形成这些隔离的透明电极。通过如此蚀刻形成的蚀刻区其宽度(相应的透明电极和隔离的透明电极之间的距离)不小于3μm较好,不小于5μm更好。如果蚀刻区宽度小于3μm,则对应的透明电极与隔离的透明电极之间易发生短路。
隔离透明电极形成的位置可以在以水平方向或垂直于它的方向排列的对应的线形黑色矩阵形成区的范围内,或者在对应的黑色矩阵形成十字部分的范围内。并不限制它们的形状,但可以是线形、矩形(图25至28)、圆形、十字形(图26)或条形(图27)。隔离透明电极的出现频度也无特别限制。因此可沿水平和/或垂直方向上每一点距、每一像素距和/或每几个像素距上出现。
在本发明第十方面的TFT液晶显示器中,和本发明第八方面中说明的一样,即使用蚀刻在固态电极内形成隔离透明电极,电压也以与现有技术相同的方式施加到组装成的液晶显示器的显示区而对显示器性能不产生不利的影响。
将具有上述模式的透明电极和隔离透明电极的第一基板与具有体电阻不大于1010欧姆厘米的接地导电工作台紧密接触,并对第一基板上透明电极而不是隔离透明电极施加极性与衬垫电荷极性相同的电压下进行衬垫喷涂。
通过将基板与具有体电阻不大于1010欧姆厘米的接地导电工作台紧密接触,各透明电极之间的电位得以降低,如图24所示,并以与图1所示的相同方式形成适合于衬底定位的电场,衬垫被配置在隔离透明电极上。
衬垫配置所需的电压约为200伏至5千伏为好,尽管它与衬垫直径和/或衬垫上的电荷有关。超过5千伏时,当黑色矩阵导电时,透明电极和导电黑色矩阵之间,甚至透明电极和隔离透明电极之间容易发生短路,导致成品率下降。低于200伏时,在喷除步骤中落下的衬垫在它们进行所必须的转动之前就到达基板表面,从而降低了衬垫定位精度。
衬垫上的电荷量可与本发明第二方面中所述的相同。
喷涂带电荷衬垫中,在透明电极之上形成的电荷对衬垫电荷极性起着推斥力的作用,从而在第一基板外周之上所喷涂的那些衬垫容易地逸出到外面。因此,配置在第一基板外周上的衬垫数显出下降的倾向。
虽然一般说来,透明电极只形成在显示区内,但在本发明第十方面的实践中较好的是透明电极也形成到显示区的外面,并且对显示区外面的透明电极施加与加到显示区相同的电压。在这样的安排下,只在显示区外面出现衬垫数的减少,而在显示区中衬垫得到均匀配置。
本发明第十一方面的液晶显示器的制造方法是如在本发明第一、第二、第三、第四、第五、第六、第七、第八、第九或第十方面中所确定的方法,包括,以气体为介质通过用树脂或金属制造的管道进行喷涂,使衬垫带正或负电荷,其中,要喷涂的每一衬垫上的电荷量比湿法喷涂的量要多,因而改善了基板上衬垫定位的精度。
本发明第十二方面的液晶显示器的制造方法是如在本发明第一、第二、第三、第四、第五、第六、第七、第八、第九、第十或第十一方面中所确定的方法,包括用加热法将衬垫固定在基板表面上。
通过使用例如靠加热呈现粘性的衬垫固定于基板表面,有可能防止配置后的移动,因此生产出高质量液晶显示器,其液晶盒厚度均匀而没有显示不均匀性。
作为使衬垫靠加热显现粘性的方法,有用热塑树脂层覆盖衬垫的方法、在衬垫表面上导入反应基的方法。也能借助某些或其他装置用光辐照衬垫呈现粘性。
本发明第十三方面的液晶显示器是一种用本发明第一、第二、第三、第四、第五、第六、第七、第八、第九、第十、第十一或第十二方面的液晶显示器制造方法制成的液晶显示器。其液晶盒厚度均匀并具有高质量显示性能特性而没有任何的显示不均匀性。
实现本发明的最佳模式
下列例子进一步详细本发明。然而它们决不限制本发明的范围。例1
制备STN型液晶显示器的段电极基板(360×460mm玻璃基板,其上形成图形的线形透明电极;ITO(氧化铟锡)电极宽度80μm,电极间间隔20μm,玻璃厚度0.7mm)作为基板。
该基板上形成0.05μm厚聚酰亚胺定位层,该层将经受摩擦处理。
该基板是用于制造两个最终基板的典型式样,即上面形成两个显示区。所有线形透明电极(ITO电极)在显示区外相互连接并与电压施加装置相连,从而直流电压可加到基板上的ITO电极。电压施加装置可随意调整电压值和电压极性。
采用的喷涂机是由日清工程公司(Engineering Co.)生产的干法喷涂机,如图29所示。在接地导电的铝工作台上铺有与工作台紧密接触的具有不大于107欧姆厘米面电阻的抗静电垫子,基板置于其上并与之紧密接触。此外,配备电压施加装置,带有加电压用的连接端线,并将导线接到喷涂室,从而可将电压加到基板。
准备微珠BBS-PH(商标;积水精细化学公司(Sekisui Fine Chemical)的产品;粒子尺寸6.8μm)作为衬垫。
然后,对基板上所有ITO电极施加-2.5千伏的电压。在这种状态下,用压力为1.75kg/cm2的压缩空气使衬垫通过不锈钢管(从而带上负电荷)并喷涂到基板上。事先要确认衬垫带负电荷。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫位于电极间间隙中。因此发现衬垫在黑色矩阵位置中。
其后,切断载有衬垫基板的导体部分,接着进行常规的步骤,密封、叠层、基板切割、液晶注入等,得到液晶显示器。例2
制备STN型液晶显示器的共用电极基板(玻璃基板带有图形形成的的线形透明电极;由金属铬制成的黑色矩阵以及滤色片;每个RGB像素的孔径尺寸=80×280μm,黑色矩阵线宽=35μm,丙烯酸树脂保护层=3.0μm,ITO电极线宽=290μm,电极间距离=25μm,玻璃厚度0.7mm)作为基板。
该基板上形成0.05μm厚的聚酰亚胺定位层,该层将经受摩擦处理。
基板电极具有如图3所示的结构。
采用这一基板以循着与例1相同的步骤进行,只是对ITO电极施加-2.0千伏的电压。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫位于电极间间隙中。因此发现衬垫在黑色矩阵位置处。例3
循着例1的步骤以相同方式进行,只是去除抗静电垫子,将基板直接置于导电的铝工作台上。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫位于电极间间隙中。因此发现衬垫在黑色矩阵位置处。比较例1
重复例1的步骤,只是在导电的铝工作台上放塑料针,并将基板放在塑料针上,这样通过空气使基板与工作台绝缘。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫也位于显示电极位置中。因此,衬垫几乎是随机地配置。比较例2
循着例1的步骤以相同方式进行,只是加到所有ITO电极的电压为-1.0千伏。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫也位于显示电极位置中。因此,衬垫几乎是随机地配置。例4
制备如图3所示的STN型液晶显示器的无假电极的共用电极基板(玻璃基板,带有形成图形的线形透明电极、金属铬制成的黑色矩阵以及色素分散型滤色片;每个RGB像素孔径尺寸=80×285μm,RGB层厚度=1.5μm,金属铬黑色矩阵线宽度=20μm,丙烯酸树脂保护层=3.0μm,ITO电极线宽度=290μm,电极间距离=15μm,玻璃厚度=0.7mm),作为基板。
该基板上形成0.05μm厚的聚酰亚胺定位层,该层将经受摩擦处理。
所有ITO电极端头(在一侧上)与具有许多针状电极的电压施加工具相连,电压施加工具与电压施加装置相连。因此直流电压可加到基板上的ITO电极。
通过部分地刮开显示区外的ITO电极层和保护层使黑色矩阵部分暴露,并将该暴露部分与另一电压施加装置相连接,从而直流电压也可加到黑色矩阵部分。两个电压施加装置各自可任意调节电压值和电压极性。
基板置于喷涂室内,以与比较例1相同的方式处于与工作台绝缘的状态。
准备微珠BBS-PH(商标名;积水精细化学公司产品;粒子尺寸5.3μm)作为衬垫。
然后对基板上所有ITO电极加-2.5千伏的电压,对黑色矩阵部分加-2.48千伏的电压,它们之间有电位差20伏。在这种状态下,用1.75kg/cm2压力的压缩空气使衬垫通过不锈钢管(从而衬垫带上负电荷(一))并喷涂到基板上。要事先确认衬垫带负电荷。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫已配置于黑色矩阵处。例5
以与例4中所用的相同方式构成基板,只是在保护层上形成线形透明电极和假电极,且线形透明电极与假电极相连,如图5所示,用分开的电压施加装置对假电极和黑色矩阵部分加电压。黑色矩阵构成得使能以例4的相同方式对其加电压。
对假电极部分加电压,对线形透明电极也加相同的电压。加到假电极部分的电压是-2.50千伏而加到黑色矩阵部分的是-2.48千伏,与例4中相同。其后循着例4的步骤进行。
在光学显微镜观察已配置衬垫的基板,表明衬垫已均匀地配置在整个显示区上的黑色矩阵处,甚至它的边缘区。衬垫配置在显示区边缘部分的状态与例4相比有所改善。
然后用此基板以常规工艺做成液晶显示器。如此做成的液晶显示器通过在屏上显示观察表明对比度高且整个显示区无显示不均匀性。例6
以与例2相同方式构成基板,只是其上形成线形透明电极和假电极,并采用如图5所示将线形透明电极与假电极相连,并按例2的步骤进行。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫已配置在整个显示区的黑色矩阵处,特别是衬垫也已经均匀地配置在显示区边缘部分的位置处。衬垫配置在显示区边缘部分的状态与例4相比有所改善。
然后用此基板以常规工艺做成液晶显示器。如此做成的液晶显示器通过在屏上显示观察表明对比度高且整个显示区无显示不均匀性。例7
以循着例2相同的步骤进行,只是施加-6.0千伏电压。在ITO电极和黑色矩阵之间发生放电从而短路。例8
在例4步骤中,对ITO电极加-2.0千伏电压,并对黑色矩阵加+100伏电压。在ITD电极和黑色矩阵之间发生放电从而短路。例9
以循着例1相同的步骤进行,只是假电极以图5所示的方式形成,并将线形透明电极与假电极相连。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫已配置在整个显示区的黑色矩阵处,特别是衬垫也已均匀地配置在显示区边缘部分的位置处。衬垫配置在显示区边缘部分的状态与例1相比有所改善。
然后用此基板以常规工艺假成液晶显示器。如此做成的液晶显示器通过在屏上显示观察表明对比度高且整个显示区无显示不均匀性。例10
以循着例2相同的步骤进行,只是基板具有其上形成线形透明电极和假电极,但线形透明电极不与假电极相连,用含有条形电极的电压施加装置对所有透明电极加-2.0千伏电压,用另一电压施加装置对假电极加-2.03千伏电压。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫已配置在整个显示区的黑色矩阵处,特别是衬垫也已均匀地配置在显示区边缘部分的位置处。例11
制备STN型液晶显示器的共用电极基板(玻璃基板带有图形形成的的线形透明电极、树脂制成的黑色矩阵以及滤色片;每个RGB像素的孔径尺寸=80×280μm,黑色矩阵线宽=35μm,丙烯酸树脂保护层=3.0μm,ITO电极线宽=290μm,电极间距离=25μm,玻璃厚度0.7mm)作为基板。
该基板上形成0.05μm厚的聚酰亚胺定位层,该层将经受摩擦处理。
该基板是用于制造两个最终基板的典型式样,即上面形成两个显示区。
形成ITO电极,边界距基板每一边缘线约10mm,如图5所示,假电极与电压施加装置相连,故在对假电极施加电压下,直流电压可加到基板上所有ITO电极。
采用的喷涂机是日清工程公司的DISPA-MR(商标)型喷涂机,如图30所示。导电工作台的形状和大小几乎与基板上ITO电极区相同,因此其大小为每一边缘在对应的基板边缘内约10mm,如图11所示,将这种工作台置入喷涂机内。与电压施加装置相连用于施加电压的连接端线装在喷涂机内,将导线接入喷涂机,故电压可加到基板。
准备微珠BB-PH(商标,积水精细化学公司的产品;粒子大小7.25μm)作为衬垫。
然后通过对假电极加电压,将-2.0千伏电压加到基板上所有ITO电极。在这种情况下,用压缩氮气将衬垫通过不锈钢管(由此衬垫带上负电荷(-))喷涂到基板上。要事先确认衬垫带负电荷。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫被配置在电极间间隙中,即在黑色短阵处。
其后,用此基板以常规工艺做成液晶显示器。如此做成的液晶显示器表明具有高对比度,因为与用现有液晶显示器制造方法的衬垫喷涂情况不同,衬垫不出现在像素位置处。由于衬垫配置在整个显示区内,其显示性能表征为良好的显示均匀性。例12
以循着例11相同的步骤进行,只是所用的黑色矩阵是线宽35μm的金属铬黑色矩阵,所用导电工作台是由两个分开的部分构成,分别对应于基板上两个显示区,这两个分开部分的每一个在离相关的显示区的黑色矩阵的每个画框边缘5mm的内面。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明已将衬垫配置在电极间间隙中,即黑色矩阵处。
其后,用该基板以常规工艺做成液晶显示器。如此做成的液晶显示器表明具有高对比度,因为与用现有液晶显示器制造方法的衬垫喷涂情况不同,衬垫不出现在像素位置处。由于衬垫配置在整个显示区内,其显示性能表征为良好的显示均匀性。例13
以循着例11相同的步骤进行,只是所用的导电工作台比基板大50mm。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫已配置在电极间间隙中,即黑色矩阵处,但是几乎没有衬垫配置到显示区外周上的30mm内。
其后用该基板以常规工艺做成液晶显示器,如此做成的显示器表明具有高对比度并在显示区的中心部分有良好的显示性能。然而在显示区的外周部分由于衬垫缺乏,液晶盒厚度下降,因而看到显示不均匀性。例14
以循着例12相同的步骤进行,只是所用的导电工作台的尺寸是显示区的40%、30%或20%。
在光学显微镜下观察每一种已配置衬垫的基板,然后以常规工艺做成液晶显示器。
当导电工作台尺寸为显示区的40%时,衬垫被配置在电极间间隙中,即在黑色矩阵处,同例12,做成的液晶显示器由于在像素位置处没有衬垫表明具有高对比度,并由于衬垫配置在整个显示区内,液晶显示器表征为良好的显示均匀性。
当导电工作台尺寸为显示区的30%时,也有一些衬垫配置在像素位置处。然而用它做成的液晶显示器,对比度很少受到配置在像素位置处的少量衬垫的影响,显示器显现高对比度。当导电工作台尺寸为显示区的20%时,衬垫被随机地配置到显示区内,用它做成的液晶显示器在对比度上没有改善。例15
制备STN型液晶显示器的共用电极基板(玻璃基板,带有形成图形的线型透明电极、金属铬黑色矩阵以及滤色片;每个RGB像素的孔径尺寸=80×280μm,金属铬黑色矩阵线宽=35μm,丙烯酸树脂保护层=3.0μm,ITO电极线宽=290μm,电极间距离=25μm,玻璃厚度0.7mm)作为基板。
该基板上形成0.05μm厚的聚酰亚胺定位层,该层将经受摩擦处理。然后用纯净水喷淋清洗后用空气刀(air knife)吹干。
如图5所示形成ITO电极,从而通过对显示区外面的位置加电压就可将电压加到所有线形透明电极。然后在喷涂衬垫后切断导体部分以获得共用电极基板,这与常规工艺没有本质上的差别。
使用的喷涂机是日清工程公司制造的干法喷涂机,如图31所示。与电压施加装置连接用于加电压的连接端线设在喷涂机内,金属线导体穿入喷涂机从而可对基板提供电压。
准备微珠BBP(商标;积水精细化学公司产品;粒子尺寸7.25μm)作为衬垫。
然后如同现有衬垫喷涂的加热/干燥步骤,以上述方式将准备的滤色片基板在炉子中90℃加热3分钟除湿气加以干燥。干燥后,将基板置于接地导电不锈钢工作台上并与之紧密接触,在确认基板没有弯曲后,将直流电源连接线在显示区外面位置上与ITO电极相连。然后加+2.00千伏电压,接着用压缩氮气将衬垫通过不锈钢管(由此衬垫带正电荷(+))并喷涂在基板上。要事先确认衬垫带正电荷。
衬垫喷涂的工作环境是在室温(23℃)和相对湿度70%。当加热后对基板上透明电极加1千伏电压,流过透明电极和工作台之间的电流将在10-12安培的量级上。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫已配置在各相邻ITO电极之间的间隙中。因而在任何显示像素位置处没发现衬垫。
其后,用此基板以常规工艺做成液晶显示器。如此做成的显示器由于没有衬垫在像素内(衬垫引起光泄漏)因此显现高对比度和良好的显示特性。例16
以循着例15相同步骤进行,只是省略在衬垫喷涂之前的加热/干燥的步骤。对基板上透明电极施加1千伏电压下检查流过透明电极和工作台之间的电流,发现在10-5安培量级上。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫不仅已配置在ITO电极间隙内,而且充分地配置在ITD电极上即配置在显示像素处。
其后,用此基板以常规工艺做成液晶显示器。由于衬垫(引起光泄漏)的影响,如此做成的液晶显示器与例15的相比,质量低下。例17
以循着例15相同步骤进行,只是在40℃温度下加热基片30分钟。在对基板上透明电极施加1千伏情况下检查流过透明电极和工作台之间的电流,发现在10-5安培量级上。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫不仅已配置在ITO电极间隙内,而且也配置在ITO电极上,即配置在显示像素处。
其后,用此基板以常规工艺做成液晶显示器。由于衬垫(引起光泄漏)影响的结果,如此做成的液晶显示器与例15的相比,质量低下。例18
以循着例15的相同步骤进行,只是在衬垫喷涂之前执行下面所述的步骤代替加热/干燥基板的步骤。
在喷涂室内备有热板,其上置放薄铝板并与热板的顶面紧密接触。将铝板接地,将热板加热,使铝板表面保持在150℃。然后将基板置于铝板上并与铝板紧密接触,对透明电极部分加+2.0千伏电压,3分钟以与例15相同方式进行衬垫喷涂。在对基板上透明电极施加1千伏电压的情况下检查流过透明电极和工作台之间的电流,发现在10-11安培量级上。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫已经成形地配置在ITO电极间隙内。从而在任何显示像素位置处没有发现衬垫。
基后,用此基板以常规工艺做成液晶显示器。由于没有衬垫(引起光泄漏),故如此做成的液晶显示器显现高对比度和良好的显示特性。例19
以循着例15相同步骤进行,只是在衬垫喷涂之前对基板从上和从下吹温度为45℃的干燥氮气来代替加热/干燥基板的步骤。在对基板上透明电极施加1千伏电压的情况下检查流过透明电极和工作台之间的电流,发现在10-10安培量级上。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫已线形地配置在ITO电极间隙内。从而在任何显示像素位置处没有发现衬垫。
其后,用此基板以常规工艺做成液晶显示器。由于没有衬垫(引起光泄漏),故如此做成的液晶显示器显现高对比度和良好的显示特性。例20
以循着例15相同步骤进行,只是在衬垫喷涂之前将基板浸入丙酮,然后用空气刀除去基板上的丙酮来代替加热/干燥基板的步骤。在对基板上透明电极施加1千伏电压情况下检查流过透明电极和工作台之间的电流,发现在10-7安培量级上。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫已线形地配置在ITO电极间隙内。从而在任何显示像素位置内没有发现衬垫。
其后,用此基板以常规工艺做成液晶显示器。由于没有衬垫(引起光泄漏),故如此做成的液晶显示器显现高对比度和良好的显示特性。例21
以循着例15相同步骤进行,只是在衬垫喷涂之前将基板放入真空干燥箱并在1Pa真空状态下保持5小时,然后对线形透明电极施加电压并立即进行衬垫喷涂,来代替加热/干燥基板的步骤。在对基板上透明电极施加1千伏电压的状态下检查流过透明电极和工作台之间的电流,发现在10-11A左右。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫已线形地配置在ITO电极间隙内。从而在任何显示像素位置处没有发现衬垫。
其后,用此基板以常规工艺做成液晶显示器。由于没有衬垫(引起光泄漏),故如此做成的液晶显示器显现高对比度和良好的显示特性。例22
以循着例15相同步骤进行,只是贮存基板的环境和衬垫喷涂的工作环境都控制在室温(23℃)和相对湿度为40%,并省略衬垫喷涂前的加热/干燥步骤。在对基板上透明电极施加1千伏电压状态下检查流过透明电极和工作台之间的电流,发现在10-7安培的量级上。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫已线形地配置在ITO电极间隙中。从而在任何显示像素位置处没有发现衬垫。
其后,用此基板以常规工艺做成液晶显示器,由于没有衬垫(引起光泄漏),故如此做成的液晶显示器现高对比度和良好的显示特性。例23
以循着例15相同步骤进行,只是贮存基板的环境和衬垫喷涂的工作环境都控制在室温(23℃)和相对湿度为85%,并省略衬垫喷涂前的加热/干燥步骤。在对基板上透明电极施加1千伏电压状态下检查流过透明电极和工作台之间的电流,发现在10-5安培的量级上。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫不仅已配置在ITO电极间隙内,而且还大量地配置在ITO电极上即显示像素位置处。
其后,用此基板以常规工艺做成液晶显示器。由于衬垫的影响(引起光泄漏),如此做成的液晶显示器在对比度方面劣于例15的液晶显示器。例24
基板事先被贮存在室温(23℃)和20%相对温度的环境中,随后立即循着例15的步骤进行。省略在衬垫喷涂之前的加热/干燥步骤,并控制衬垫喷涂的工作环境为室温(23℃)和50%的相对湿度。在对基板上透明电极施加1千伏电压的状态下检查流过透明电极和工作台之间的电流,发现在10-8安培的量级上。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫已线形地配置在ITO电极间隙中。从而在任何显示像素位置处没有发现衬垫。
其后,用此基板以常规工艺做成液晶显示器。由于没有衬垫(引起光泄漏),故如此做成的液晶显示器显现高对比度和良好的显示特性。例25
基板事先被贮存在室温(8℃)和10%相对湿度的环境中,随后立即循着例15的步骤进行。省略衬垫喷涂前的加热/干燥步骤,并控制衬垫喷涂的工作环境为室温(23℃)和相对湿度50%。在对基板上透明电极施加1千伏电压状态下检查流过透明电极和工作台之间的电流,发现在10-5安培的量级上。
在光学显微镜观察已配置衬垫的基板,表明衬垫不仅配置在ITO电极间隙内,而且还大量地配置在ITO电极上即显示像素位置处。
其后,用此基板以常规工艺做成液晶显示器。由于衬垫的影响(引起光泄漏),故如此做成的液晶显示器在对比度方面劣于例15的液晶显示器。例26
制备STN型液晶显示器的共用电极基板(玻璃基板,带有形成图形的线形透明电极、金属铬黑色矩阵以及滤色片;每个RGB像素的孔径尺寸=80×280μm,金属铬黑色矩阵线宽=25μm,丙烯酸树脂保护层=3.0μm,ITO电极宽度=290μm,电极间距离=15μm,玻璃厚度0.7mm)作为基板。
该基板上形成0.05μm厚的聚酰亚胺定位层,该层将经受摩擦处理。
基板上所有透明电极(ITO电极,条形电极)在假电极区内被连接到电压施加装置,故直流电压可加到基板上所有ITO电极。电压施加装置可随意调节电压值和电压极性。
喷涂机采用日清工程公司的DISPA-MR(商标,干法喷涂机)。将基板与接地的不锈钢导电工作台紧密接触。用于施加电压的电压施加装置(直流电源)的端接线设在喷涂机中,将导线引入喷涂机并与基板上的假电极相连,故可对基板上所有ITO电极供给电压。
准备微珠BB-PH(商标;积水精细化学公司的产品;粒子尺寸7.25μm)作为衬垫。
然后,将-2.3千伏电压加到基板上所有ITO电极,1分钟。
此后,断开电压施加装置的端接线,用压缩空气使衬垫通过不锈钢管道(由此衬垫带上负电荷(-))并喷涂在基板上。事先要确认衬垫带负电荷。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明几乎已将全部衬垫配置在电极间间隙内即黑色矩阵位置处。例27
在例26中,用铝箔与基板的整个背侧紧密接触,在接地的不锈钢板上,电压施加装置的端接线与基板上的假电极连接,对所有ITO电极加上-2.5千伏电压,1分钟。
此外,断开电压施加装置的端接线,相互紧密接触的基板和铝箔被移到喷涂室中的接地不锈钢工作台上,以与例26相同方式进行衬垫喷涂。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明几将全部衬垫配置在电极间间隔内即黑色矩阵位置处。例28
在例26中,用铝箔与基板的整个背侧紧密接触,在接地的不锈钢板上,电压施加装置的端接线与基板上的假电极连接,对所有ITO电极加上-2.5千伏电压,1分钟。
此后,断开电压施加紧装置的端接线,相互紧密接触的基板和铝箔被移到喷涂室中的绝缘台上(由氯乙烯树脂形成),以与例26相同方式进行衬垫喷涂。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明几乎已将全部衬垫配置在电极间间隙内即黑色矩阵位置处。例29
制备STN型液晶显示器的共用电极基板(玻璃基板,带有形成图形的线形透明电极、金属铬黑色矩阵以及滤色片;每个RGB像素的孔径尺寸=80×280μm,金属铬黑色矩阵线宽=25μm,丙烯酸树脂保护层=3.0μm,ITO电极宽度=290μm,电极间距离=15μm,玻璃厚度0.7mm)作为基板。
该基板上形成0.05μm厚的聚酰亚胺定位层,该层将经受摩擦处理。
基板上所有透明电极(ITO电极、条形电极)在假电极内被连接到电压施加装置,故直流电压可加到基板上所有ITO电极。电压施加装置可随意调节电压值和电压极性。
喷涂机采用日清工程公司的DISPA-MR(商标,干法喷涂机)。将基板与接地的不锈钢工作台紧密接触。用于施加电压的电压施加装置(直流电源)的端接线设在喷涂机中,将导线引入喷涂机并与基板上的假电极相连,故可对基板上所有ITO电极供给电压。
准备微球BB-PH(商标,积水精细化学公司的产品;粒子尺寸7.25μ)作为衬垫。
然后,将-2.0千伏电压加到基板上所有ITO电极1分钟。
在施加电压后立即(施加电压持续时间为零)或施加电压1秒、3秒、5秒、10秒或60秒钟后,用压缩空气使衬垫通过不锈钢管道(由此衬垫带上负电荷(-))并喷涂在基板上。事先要确认衬垫带负荷。在衬垫喷涂期间对所有ITO电极连续地施加-2.0千伏电压。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,用下面的配置百分率来评估衬垫配置的状态。[配置百分率(%)]=[配置在每一定像素数的黑色矩阵处的衬垫数]/[每一定含像素数的总衬垫数]
所得的结果示于表1。
表1
例30
喷涂前施加电压的持续时间(秒) | 0 | 1 | 3 | 5 | 10 | 60 |
配置百分数(%) | 92 | 94 | 95 | 98 | >99 | >99 |
制备滤色片基板(玻璃基板,上面形成图形线形透明电极、金属铬黑色矩阵和色素分散型滤色片层;每个RGB像素的孔径尺寸=80×280μm,金属铬黑色矩阵线宽度=35μm,色素分散型滤色片层厚度=约1.5μm,丙烯酸树脂保护层=3.0μm,玻璃厚度0.7mm)作为第一基板。
然后,沿水平方向在对应的形成在中央的黑色矩阵区之上或之内形成尺寸为25μm×100μm的矩形蚀刻区,如图23所示。
该基板上形成0.05μm厚的聚酰亚胺定位层,该层将经受摩擦处理。
在滤色片基板上显示区外面的位置处连接透明电极和电压施加装置,进而部分地刮擦透明电极层和保护层使暴露部分铬黑色矩阵,并将黑色矩阵部分也连接到另一电压施加装置,从而可将直流电压加上去。两个电压施加装置都可随意调节电压值和电压极性。
喷涂机采用日清工程公司的干式喷涂机,如图32所示。将基板置于接地的不锈钢导电工作台上并与之紧密接触。与各自电压施加装置相连的用于施加电压的端接线设在喷涂机中,导线引入喷涂机,从而可对基板供电压。
准备微珠SP(商标;积水精细化学公司的产品;粒子尺寸5.25μm)作为衬垫。
然后,对基板上透明电极施加-1.5千伏电压,并对黑色矩阵部分施加-1.48千伏电压(透明电极为相对-,黑色矩阵部分为相对+)。在这种状态下,用压缩空气使衬垫通过不锈钢管(由此衬垫带上负电荷)并喷涂在基板上。事先要确认衬垫带负电荷。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的基板,表明衬垫只配置在蚀刻区内,如图33所示。
其后,用此基板以常规工艺做成液晶显示器。通过屏观察,由于显示区中没有衬垫,故如此做成的TFT型液晶显示器显现高的对比度。例31
采用与例30中相同的基板,由电压施加装置对透明电极施加-2.0千伏电压,但电压施加装置的端接线不连接到黑色矩阵部分。其他方面按例30的步骤进行。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的第一基板,表明衬垫只配置在蚀刻区内。例32
以循着例31相同步骤进行,只是具有阻值不大于107欧姆厘米的抗静电垫子铺在喷涂机中的不锈钢导电工作台上并与工作台紧密接触,第一基板紧密接触地置于垫子上。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的第一基板,表明衬垫只配置在蚀刻区内。例33
以循着例30的相同步骤进行,只是具有阻值不大于107欧姆厘米的抗静电垫子铺在喷涂机中的不锈钢导电工作台上并与工作台紧密接触,第一基板紧密接触地置于垫子上。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的第一基板,表明衬垫只配置在蚀刻区内。比较例3
以循着例30的步骤作了尝试,对透明电极施加-1.5千伏电压,对黑色矩阵部分施加-1.3千伏电压。然而在透明电极和导电黑色矩阵之间出现短路,结果不能实现施加电压。例34
制备滤色片基板(玻璃基板,上面形成图形线形透明电极、金属铬黑色矩阵以及滤色片;每个RGB像素的孔径尺寸=80×280μm,沿条子方向上金属铬黑色矩阵线宽度=25μm,垂直于条子方向上黑色矩阵线宽度=35μm),作为第一基板。
然后,通过在每一35μm宽导电黑色矩阵线的范围内并离其边界7μm处形成5μm宽的蚀刻线,这样在对应于黑色矩阵的十字部分的透明电极的那些位置上形成尺寸为11μm×40μm的多个矩形绝缘的透明电极。
该基板上形成0.05μm厚的聚酰亚胺定位层,该层将经受摩擦处理。
在滤色片上显示区外面的位置上,透明电极与电压施加装置相连,从而将透明电极而不是绝缘的透明电极与电压施加装置相连,直流电压可加到透明电极上。电压施加装置可随意地调节电压值和电压极性。
喷涂机采用日清工程公司的干式喷涂机,如图34所示。将基板置于接地的不锈钢导电台上并与之紧密接触。与电压施加装置相连用于施加电压的端接线设在喷涂机中,且将导线引入喷涂机内,从而将电压加到基板。
准备微珠CB(商标;积水精细化学公司的产品;粒子尺寸5.7μm)作为衬垫。
对基板上的透明电极而不是绝缘的透明电极加+1.8千伏电压。在这种状态下,用压缩空气将衬垫通过管道(由此衬垫带上正电荷)喷涂到基板上。事先要确认衬垫带正电荷。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的第一基极,表明如图35所示,衬垫只配置在形成绝缘透明电极的那些位置上。
其后,用此基板以常规工艺做成液晶显示器。通过屏观察,由于显示区内没有衬垫,故如此做成的TFT型液晶显示器显现高的对比度。
由于对密封材料加压力并在固化工艺中加热的结果,衬垫粘到定位层,没有观察到它们的移位等。例35
以循着例34相同步骤进行,只是将具有电阻值不大于107欧姆厘米的抗静电垫子置于喷涂室内的不锈钢导电工作台上并与之紧密接触,其上紧密接触地置放第一基板。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的第一基板,表明衬垫只配置在形成绝缘透明电极的那些位置上。比较例4
以循着例34相同步骤进行,只是在工作台上竖立一些由树脂(包括荧光树脂)做成的针,将第一基板置于其上,从而使整个第一基板离开工作台,由空气加以绝缘。
在光学显微镜下观察已配置衬垫的第一基板,表明衬垫不仅配置在黑色矩阵位置处,而且还大量且几乎随机地配置在透明电极上。
上述按照本发明的液晶显示器的制造方法和包括基板(基板上具有形成图形的透明电极)的液晶显示器的制造方法,使得能够将衬垫仅配置在无电极的极间空隙内即黑色矩阵位置上,能以遍及整个显示区的模式配置衬垫,并能以省略在喷涂室内的基板上透明电极施加电压的步骤来减小生产节拍时间。
因此能够以减小生产节拍时间的稳定方式制造液晶显示器,所述液晶显示器没有引起光泄漏的衬垫、具有高对比度、保持均匀液晶盒厚度以及具有高质量显示性能特性而无显示不均匀性。
即使是TFT液晶显示器的情况,也能制造高对比度而无衬垫引起的光泄漏的液晶显示器。
按上述构成的本发明的液晶显示器,具有无衬垫引起的光泄漏、具有高的对比度、具有均匀的液晶盒厚度以及具有高质量显示性能特性而无显示不均匀性。
Claims (32)
1.一种液晶显示器的制造方法,包括步骤:
将衬垫喷涂在第一基板和第二基板的至少一个上,第一基板具有至少形成图形的透明电极,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,
并把液晶注入两块基板之间的空隙中,
其特征在于,在基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫,并使该基板与体电阻不超过1010欧姆厘米的接地导电工作台紧密接触,并对透明电极施加与衬垫电荷极性相同的200伏至5千伏的电压。
2.如权利要求1所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,对透明电极施加与衬垫电荷极性具有相同极性的1.5千伏至5千伏的电压。
3.一种液晶显示器的制造方法,包括步骤:
将衬垫喷涂在第一基板和第二基板的至少一个上,第一基板至少具有形成图形的透明电极、导电黑色矩阵和保护层,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,
并把液晶注入两块基板之间的空隙中,
其特征在于,在基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫,对导电黑色矩阵施加电压(V1),对透明电极施加电压(V2),
电压V1和V2都是正电压,并当衬垫电荷极性为正时,满足V1<V2的关系,
或者电压V1和V2都是负电压,并当衬垫电荷极性为负时,满足V1>V2的关系。
4.如权利要求3所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,所述V1和V2之间的电位差不大于100伏。
5.如权利要求1、2、3或4所述的所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,
基板具有假电极,
在对透明电极施加电压时也对假电极施加电压。
6.如权利要求5所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,通过将假电极与透明电极连接以及对假电极的施加电压来影响对透明电极的电压施加。
7.如权利要求5或6所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,施加于假电极的电压不同于施加于透明电极的电压。
8.一种液晶显示器的制造方法,包括步骤:
将衬垫喷涂在第一基板和第二基板中的至少一个之上,第一基板具至少形成图形透明电极、定位层和一个或多个显示区,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,
并把液晶注入两块基板之间的空隙中,
其特征在于,在基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫,该基板与一个尺寸小于基板的接地导电工作台紧密接触,使其周边部分脱离上述导电工作台,
对基板上的透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压。
9.如权利要求8所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,
衬垫将喷涂于其上的基板具有形成于其上的黑色矩阵,
所述黑色矩阵是导电的,并且所述导电的工作台包含一个或多个部分,每个部分在尺寸上小于基板每个显示区的黑色矩阵的画框周边。
10.如权利要求8或9所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,导电工作台和基板之间的接触面积不小于显示面积部分的30%。
11.一种液晶显示器的制造方法,包括步骤:
将衬垫喷涂在第一基板和第二基板中的至少一个上,第一基板具有至少形成图形的透明电极和定位层,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,
并把液晶注入两块基板之间的空隙中,
其特征在于,还包括下述步骤:
从要喷涂衬垫的基板上除去湿气,
使基板与接地工作台紧密接触,然后在对基板上的透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压时喷涂衬垫。
12.如权利要求11所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,在喷涂衬垫之前通过加热来达到除去湿气。
13.如权利要求11或12所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,在喷涂衬垫期间通过加热来达到除去湿气。
14.如权利要求11、12或13所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,在喷涂衬垫之前对基板吹干燥气体来达到除去湿气。
15.如权利要求11、12、13或14所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,在喷涂衬垫之前通过用溶剂置换湿气来达到除去湿气。
16.如权利要求11、12、13、14、15或16所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,在喷涂衬垫之前通过将基板置于真空中或通过在真空状态下加热基板来达到除去湿气。
17.如权利要求12或13所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,在不低于50℃的温度下来实现基板的加热。
18.如权利要求11、12、13、14、15、16或17所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,在完成除湿步骤后,对基板上的透明电极施加1千伏的电压,在基板上透明电极和导电工作台之间流过的电流不大于10-6安培。
19.一种液晶显示器的制造方法,包括步骤:
将衬垫喷涂在第一基板和第二基板中的至少一个上,第一基板具有至少形成图形的透明电极和定位层,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,
并将液晶注入两块基板之间的空隙中,
其特征在于,还包括下述步骤:
使基板与接地导电工作台紧密接触,然后在对基板上的透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压时喷涂衬垫,
喷涂衬垫之前和喷涂衬垫期间基板显示的性能使得当对基板的透明电极施加1千伏电压时,基板上透明电极和导电工作台之间流过的电流不大于10-6安培。
20.如权利要求19所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,
将基板置于与导电工作台紧密接触,并当对基本上透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压时进行喷涂是在状态受控下实现的,从而其温度在室温范围内,即18℃至28℃,其相对湿度不大于50%。
21.如权利要求20所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,使基板保持在这样的环境中:温度在室温范围内,即18℃至28℃,相对湿度不大于50%。
22.一种液晶显示器的制造方法,包括步骤:
将衬垫喷涂在第一基板和第二基板中至少一个上,第一基板具有至少形成图形透明电极和定位层,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,
并把液晶注入两块基块之间的空隙中,
其特征在于,在基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫时,使基板与接地导电工作台紧密接触,
对基板上的透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压,
然后将施加电压装置的端接线与透明电极断开,
并在基板上还有电荷时喷涂衬垫。
23.如权利要求22所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,
接地的导电工作台是可移动的,
并在将带正或负电荷的衬垫喷涂到基板时,将基板与导电工作台紧密接触,然后对基板上的透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压,
将施加电压装置的端接线与透明电极断开,
将与基板紧密接触的导电工作台移向衬垫喷涂器,
然后进行衬垫喷涂。
24.一种液晶显示器的制造方法,包括步骤:
将衬垫涂在第一基板第二基板中的至少一个上,第一基板具有至少形成图形透明电极和定位层,第二基板配置于第一基板上方并与之相对,
并把液晶注入两块基板之间的空隙中,
其特征在于,在基板上喷涂带正或负电荷的衬垫时,使基板与接地导电工作台紧密接触,
对基板上的透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压,同时将施加电压的状态保持一段时间,
然后在保持施加电压的状态下喷涂衬垫。
25.如权利要求24所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,在保持电压施加状态下喷涂衬垫之前,至少保持电压施加状态5分钟。
26.一种液晶显示器的制造方法,包括步骤:
将衬垫喷涂在具有至少形成图形的透明电极、导电黑色矩阵、保护层和定位层的第一基板上,把液晶注入第一基板和第二基板之间的空隙中,第二基板包括上面形成的薄膜晶体管,且配置于第一基板上方并与之相对,
其特征在于,第一基板具有在相应的导电黑色矩阵区范围之上和之内透明电极中形成的没有透明电极的蚀刻区,
在第一基板上喷涂带正或负电荷的衬垫,对黑色矩阵施加电压(V1),对透明电极施加电压(V2),
电压V1和V2都是正电压,并当衬垫电荷极性为负时满足V1>V2的关系,
或者电压V1和V2都是负电压,并当衬垫电荷极性为负时满足V1>V2的关系。
27.如权利要求26所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于V1和V2之间的电位差不大于100伏。
28.一种液晶显示器的制造方法,包括步骤:
将衬垫喷涂在具有至少形成图形的透明电极,黑色矩阵、保护层和定位层的第一基板上,
把液晶注入第一基板和第二基板之间的空隙中,第二基板包括上面形成的薄膜晶体管,且配置于第一基板上方并与之相对,
其特征在于,第一基板具有在对应的黑色矩阵区范围之上和之内透明电极中形成的没有透明电极的蚀刻区,
在第一基板上喷涂带正电荷或负电荷的衬垫时,第一基板与体电阻不超过1010欧姆厘米的接地导电工作台紧密接触,
并对透明电极施加与衬垫电荷极性相同的200伏至5千伏的电压。
29.一种液晶显示器的制造方法,包括步骤:
在具有至少形成图形的透明电极的第一基板上喷涂衬垫,把液晶注入第一基板和第二基板之间的空隙中,第二基板包括上面形成的薄膜晶体管,且配置于第一基板上方并与之相对,
其特征在于,第一基板具有不与周围透明电极连接但在第一或第二基板对应的导电黑色矩阵区范围内透明电极中形成的隔离的、电浮置的透明电极,
在第一基板上喷涂带正或负电荷的衬垫时,第一基板与体电阻不超过1010欧姆厘米的接地导电工作台紧密接触,
对第一基板上的透明电极而不是隔离透明电极施加与衬垫电荷极性相同的电压。
30.如权利要求1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、21、22、23、24、25、26、27、28或29所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,以气体为介质通过用树脂或金属制成的管道进行喷涂,使衬垫带正或负电荷。
31.如权利要求1、2、3、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、21、22、23、24、25、26、27、28、29或30所述的液晶显示器的制造方法,其特征在于,通过加热将衬垫固定在基板表面上。
32.一种液晶显示器,其特征在于,通过如权利要求1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、21、22、23、24、25、26、27、28、29、30或31所述的液晶显示器制造方法加以制成。
Applications Claiming Priority (14)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP50749/1998 | 1998-03-03 | ||
JP5074998 | 1998-03-03 | ||
JP5968698 | 1998-03-11 | ||
JP59686/1998 | 1998-03-11 | ||
JP12339898 | 1998-05-06 | ||
JP123396/1998 | 1998-05-06 | ||
JP12339798 | 1998-05-06 | ||
JP12339698 | 1998-05-06 | ||
JP123398/1998 | 1998-05-06 | ||
JP123397/1998 | 1998-05-06 | ||
JP16863498 | 1998-06-16 | ||
JP168634/1998 | 1998-06-16 | ||
JP32768898 | 1998-11-18 | ||
JP327688/1998 | 1998-11-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1299473A true CN1299473A (zh) | 2001-06-13 |
CN1150426C CN1150426C (zh) | 2004-05-19 |
Family
ID=27564753
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB998057495A Expired - Fee Related CN1150426C (zh) | 1998-03-03 | 1999-03-03 | 液晶显示器及其制造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6639644B1 (zh) |
EP (1) | EP1074876A4 (zh) |
JP (1) | JP3504614B2 (zh) |
KR (1) | KR20010041464A (zh) |
CN (1) | CN1150426C (zh) |
CA (1) | CA2322408A1 (zh) |
WO (1) | WO1999045428A1 (zh) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100397172C (zh) * | 2002-03-08 | 2008-06-25 | 夏普公司 | 液晶显示装置 |
CN100470324C (zh) * | 2007-10-23 | 2009-03-18 | 深圳市瑞福达液晶显示技术有限公司 | 黑膜液晶显示屏及其制盒工艺 |
CN100498475C (zh) * | 2006-04-20 | 2009-06-10 | 乐金显示有限公司 | 液晶显示器件及其制造方法与制造装置 |
CN103149607A (zh) * | 2013-03-01 | 2013-06-12 | 西安交通大学 | 一种基于模板电诱导成形的微透镜阵列制造方法 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3628997B2 (ja) * | 2000-11-27 | 2005-03-16 | セイコーエプソン株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 |
KR100698042B1 (ko) * | 2002-07-29 | 2007-03-23 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자 및 그 제조방법 |
KR101044502B1 (ko) * | 2003-12-26 | 2011-06-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계방식 액정표시소자의 단락검사방법 |
WO2006003619A1 (en) * | 2004-07-02 | 2006-01-12 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | A thin film transistor, method of producing same and active matrix display |
JP4697524B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2011-06-08 | ソニー株式会社 | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
KR20070105516A (ko) * | 2006-04-26 | 2007-10-31 | 삼성전자주식회사 | 멀티 디스플레이용 lcd패널 |
US7724344B2 (en) * | 2007-08-13 | 2010-05-25 | Tpo Displays Corp. | Method and system for a liquid crystal display |
KR101182229B1 (ko) * | 2010-01-08 | 2012-09-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 패널 및 그의 형성 방법 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63285517A (ja) * | 1987-05-18 | 1988-11-22 | Toshiba Corp | 液晶表示器の製造方法 |
US4971829A (en) * | 1987-06-08 | 1990-11-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Spraying process for corona charges spacer material and attracting the same to plate having an electrical potential |
JPH02308223A (ja) * | 1989-05-24 | 1990-12-21 | Seiko Epson Corp | 液晶電気光学素子の製造方法 |
JPH03293328A (ja) * | 1990-04-10 | 1991-12-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示パネルの製造方法 |
JPH04204417A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示パネルの製造方法 |
JPH0667184A (ja) * | 1992-08-20 | 1994-03-11 | Sony Corp | 帯電式スペーサ粒子散布方法 |
JPH06148654A (ja) * | 1992-11-10 | 1994-05-27 | Sharp Corp | 液晶スペーサーの散布装置 |
JPH09146102A (ja) * | 1995-11-15 | 1997-06-06 | Samsung Electron Devices Co Ltd | 液晶表示素子とその製造方法 |
JPH09203904A (ja) * | 1995-11-22 | 1997-08-05 | Sekisui Finechem Co Ltd | 液晶表示素子用スペーサーの散布方法 |
EP1028349A1 (en) * | 1997-10-27 | 2000-08-16 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Apparatus for spraying microparticles and spraying method using the apparatus, and method for manufacturing liquid crystal display |
-
1999
- 1999-03-03 US US09/623,376 patent/US6639644B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-03-03 EP EP99907853A patent/EP1074876A4/en not_active Withdrawn
- 1999-03-03 KR KR1020007009619A patent/KR20010041464A/ko active IP Right Grant
- 1999-03-03 WO PCT/JP1999/001020 patent/WO1999045428A1/ja active IP Right Grant
- 1999-03-03 CA CA002322408A patent/CA2322408A1/en not_active Abandoned
- 1999-03-03 JP JP2000534909A patent/JP3504614B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-03-03 CN CNB998057495A patent/CN1150426C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100397172C (zh) * | 2002-03-08 | 2008-06-25 | 夏普公司 | 液晶显示装置 |
CN100498475C (zh) * | 2006-04-20 | 2009-06-10 | 乐金显示有限公司 | 液晶显示器件及其制造方法与制造装置 |
CN100470324C (zh) * | 2007-10-23 | 2009-03-18 | 深圳市瑞福达液晶显示技术有限公司 | 黑膜液晶显示屏及其制盒工艺 |
CN103149607A (zh) * | 2013-03-01 | 2013-06-12 | 西安交通大学 | 一种基于模板电诱导成形的微透镜阵列制造方法 |
CN103149607B (zh) * | 2013-03-01 | 2015-08-05 | 西安交通大学 | 一种基于模板电诱导成形的微透镜阵列制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1150426C (zh) | 2004-05-19 |
JP3504614B2 (ja) | 2004-03-08 |
EP1074876A4 (en) | 2004-06-30 |
CA2322408A1 (en) | 1999-09-10 |
KR20010041464A (ko) | 2001-05-25 |
US6639644B1 (en) | 2003-10-28 |
WO1999045428A1 (fr) | 1999-09-10 |
EP1074876A1 (en) | 2001-02-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1150426C (zh) | 液晶显示器及其制造方法 | |
CN1310065C (zh) | 液晶显示装置 | |
CN1315000C (zh) | 散射细小微粒的方法、制造液晶显示器的方法、用于散射细小微粒的设备,以及液晶显示器 | |
CN1156729C (zh) | 液晶显示器及其制造方法 | |
CN1153239C (zh) | 电子发射装置及包括此电子发射装置的成像装置 | |
CN1072388C (zh) | 制造电子源的方法 | |
CN1224137C (zh) | 测量电阻用的连接器和用于电路板的电阻测量装置以及测量方法 | |
CN1252775C (zh) | 电子发射元件、电子源、图象显示装置、以及它们的制造方法 | |
CN1806368A (zh) | 各向异性导电连接器装置及其制造方法以及电路装置的检查装置 | |
CN1230925C (zh) | 有机薄膜晶体管 | |
CN100339914C (zh) | 银合金材料、电路基板、电子装置及电路基板的制造方法 | |
CN1132800A (zh) | 等离子体加工方法和等离子体加工装置 | |
CN1573476A (zh) | 高质量和超大屏幕液晶显示设备及其生产方法 | |
CN1306538C (zh) | 图像显示器件及其制造方法和制造装置 | |
CN1913076A (zh) | 电子发射器件、使用它的电子源和显示设备及其制造方法 | |
CN1378657A (zh) | 液晶元件、液晶显示装置及其制造方法 | |
CN1765032A (zh) | 各向异性导电连接器、导电膏组分、探针部件、以及晶片检查装置和晶片检查方法 | |
CN1728320A (zh) | 电子释放元件的制造方法、信息显示重放装置 | |
CN1394294A (zh) | 液晶显示装置及其制造方法 | |
CN1225719C (zh) | 电路基板、使用该基板的tft阵列基板及液晶显示装置 | |
CN1776919A (zh) | 有机电致发光装置 | |
CN1926437A (zh) | 电路基板的检查装置和电路基板的检查方法 | |
CN1506731A (zh) | 用于附着起偏振片的设备 | |
CN100343967C (zh) | 测试平板显示器的探针及其制造方法 | |
CN1118853C (zh) | 图像显示设备 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C19 | Lapse of patent right due to non-payment of the annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |