CN1260801C - 基板搬运装置和基板处理装置 - Google Patents

Abstract

第2和第3的内部基板搬运装置(120)、(130)具有沿着水平搬运路径并对称配置的一对基板搬运部(120a)、(120b)、(130a)、(130b)，基板搬运部具备：具有保持基板(G)周缘的保持部件(111a)、(111b)的搬运臂部件(122a)、(122b)；调节搬运臂部件相互间隔的臂间隔调节机构(123)；以及在基板搬运方向使臂间隔调节机构滑动的臂滑动机构(125)。采用非搬运时缩小搬运臂部件(122a)、(122b)的相互间隔，让第2内部基板搬运装置(120)退避到抗蚀剂涂布装置(CT)(23a)与减压干燥装置(VD)(23b)之间的办法减小装置的底面占有面积。

Description

基板搬运装置和基板处理装置

技术领域

本发明是关于一种在液晶显示装置(LCD)的制造中，搬运大型玻璃基板的基板搬运装置，和具备该基板搬运装置的基板处理装置。

背景技术

LCD的光刻工艺中，在LCD用玻璃基板(以下，称为「LCD基板」或「基板」)上形成抗蚀剂膜，使抗蚀剂膜曝光、显影、形成规定的电路图形。

抗蚀剂膜是采用所谓旋涂法在基板上涂布形成的。用旋涂法，以大体水平姿势把基板吸附保持在抗蚀剂涂布单元的旋盘并向基板中央供给抗蚀剂液，借助于旋盘转动基板，使抗蚀剂液扩展到整个基板上面。接着，把基板从抗蚀剂涂布单元搬运到抗蚀济除去单元(边缘去除器)，在抗蚀剂除去单元中，从基板的周缘部分除去不用的抗蚀剂膜。进而，把基板搬运到加热单元，将其加热到规定的温度，挥发抗蚀剂膜中的溶剂，使抗蚀剂膜稳定。

从抗蚀剂涂布单元向抗蚀剂除去单元的基板搬运，用专用的基板搬运装置来进行。基板搬运装置具备用于保持基板周缘的一对搬运臂。抗蚀剂涂布单元与抗蚀剂除去单元的间隔设定为在搬运臂不搬运基板的非基板搬运时搬运臂能退避的距离。

近来，以制造大屏幕液晶TV等为目的，出现了一边超过1m这样的的大型LCD基板的处理对象。具体点说，基板尺寸从850×1000mm扩大到1000×1200mm。这样，为了搬运这样超大型的基板，就需要扩大基板搬运装置的搬运臂的宽度和间隔。

如果扩大搬运臂的宽度和间隔，使得搬运臂不与搬运路线内的部件干涉，就需要扩大从抗蚀剂涂布单元到抗蚀剂除去单元之间的距离(形成抗蚀剂涂布或抗蚀剂涂布处理中的基板搬运装置的中间待机空间)，但是，如扩大抗蚀剂涂布/抗蚀剂除去单元相互间距离的话，会产生装置大型化、装置在洁化室内的占用面积(覆盖范围)有进一步增大的问题。另一方面，因为LCD制造用的净化室已巨大化到极限点附近，所以需求方强烈要求不要让装置的底面占用面积比现有的装置还要大。

并且，作为LCD制造上的问题，在最终产品的画面上，存在成为图像缺陷的所谓「复制痕迹」。所谓「复制痕迹」，就是涂布抗蚀剂后的基板背面接触真空吸附垫圈等支持部件时，由于接触产生的热影响使抗蚀剂膜厚局部变动，在与该膜厚变动部位对应的区域发生的图像缺陷。复制痕迹的问题，在例如美国专利USP6,306,455B1公报中已详细说明。为了防止发生这样的复制痕迹，不许基板搬运装置的搬运臂(真空吸附垫圈等)接触基板背面的中央部分(相当于液晶显示画面的部分)，必须使搬运臂只接触离基板外周缘15mm以内的狭窄范围。可是，由于将接触支持部位限定于基板周缘部分、和随基板大型化而有搬运臂刚性不足的倾向，传递时和搬运中，基板在搬运臂上面晃动，容易偏离位置。因此，需求方期望安全可靠地搬运大型基板。

发明内容

本发明的目的在于提供一种不增大装置的底面占有面积(覆盖范围)，并且，不会发生复制痕迹，能够安全可靠地搬运大型LCD基板的基板搬运装置和配备该装置的基板处理装置。

作为本发明的第1观点，基板搬运部的特征是具备：具有形状与矩形基板的周缘形状对应的2根搬运臂部件；安装于所述搬运臂部件上，与矩形基板的周缘背面抵接并保持该矩形基板的保持部；可动地支持所述2根搬运臂部件，改变所述2根搬运臂部件相互间隔的臂间隔调节机构；可动地支持所述臂间隔调节机构，沿所述水平搬运路径移动所述臂间隔调节机构的臂滑动机构，

对所述臂间隔调节机构进行调节，以便在搬运时，使所述2根搬运臂部件的相互间隔适合于所述矩形基板的大小，在非搬运时，把所述2根搬运臂部件的相互间隔缩小到比搬运时的相互间隔还窄。

作为本发明的第2观点，基板处理装置具备：搬运矩形基板的水平搬运路径；沿所述水平搬运路径设置，对矩形基板施加第1处理的第1处理部；沿所述水平搬运路径设置，对矩形基板施加与第1处理不同的第2处理部；具有沿着所述水平搬运路径对称地对向配置的一对基板搬运部，在所述第1处理部与第2处理部之间，借助于所述一对基板搬运部水平地保持矩形基板，沿所述水平搬运路径搬运，其特征是，

所述基板搬运部具备：具有形状与矩形基板的周缘形状对应的2根搬运臂部件；安装于所述搬运臂部件上，与矩形基板的周缘背面抵接，保持该矩形基板的保持部；可动地支持所述2根搬运臂部件，改变所述2根搬运臂部件相互间隔的臂间隔调节机构；可动地支持所述臂间隔调节机构，沿所述水平搬运路径移动所述臂间隔调节机构的臂滑动机构，

对所述臂间隔调节机构进行调节，以便在搬运时，所述2根搬运臂部件的相互间隔适合于所述矩形基板的大小，在非搬运时，把所述2根搬运臂部件的相互间隔缩小到比搬运时的相互间隔还要窄，

所述臂滑动机构，使在非搬运时相互间隔缩小后的所述2条搬运臂部件退避到所述第1处理部与所述第2处理部之间。

倘若采用本发明的基板搬运装置和基板处理装置，由于能够在基板搬运方向调整2根搬运臂部件的相互间隔，就能在非基板搬运时缩小其间隔，使2根搬运臂部件退避到规定位置。因此可以缩小搬运臂部件退避需要的空间，可以减少装置全体的底面占有面积。并且，使用这种基板搬运装置的场合，当改变搬运的基板大小时，能够配合基板大小，容易地调整搬运臂部件的相互间隔。因此，不用如现有的那样，每次基板大小变化时，为了使搬运臂部件的相互间隔为规定的间隔，进行操作者改变安装位置这样的烦杂处理。

作为本发明的第3观点，基板搬运装置的特征是，具备：具有形状与矩形基板的周缘形状对应的搬运臂部件；安装于所述搬运臂部件上，与矩形基板的周缘背面抵接并保持该矩形基板的保持部；可动地支持所述搬运臂部件，在与所述搬运路径垂直的方向移动所述搬运臂部件，使所述搬运臂部件相对基板进退的臂位置调节机构；可动地支持所述臂位置调节机构，沿所述水平搬运路径移动所述臂位置调节机构的臂滑动机构，

对所述臂位置调节机构进行调节，以便在搬运时，使一侧的搬运臂部件与另一侧的搬运臂部件的相互间隔适合于所述矩形基板的大小，在非搬运时，把所述搬运臂部件的相互间隔缩小到比搬运时的相互间隔还窄。

作为本发明的第4观点，基板处理装置具备：搬运矩形基板的水平搬运路径；沿所述水平搬运路径设置，对矩形基板施加第1处理的第1处理部；沿所述水平搬运路径设置，对矩形基板施加与第1处理不同的第2处理的第2处理部；具有沿着所述水平搬运路径对称地对向配置的一对基板搬运部，在所述第1处理部与第2处理部之间，借助于所述一对基板搬运部水平地保持矩形基板，并沿所述水平搬运路径搬运的基板搬运装置，其特征是，

所述基板搬运部具备：具有形状与矩形基板的周缘形状对应的搬运臂部件；安装于所述搬运臂部件上，与矩形基板的周缘背面抵接并保持该矩形基板的保持部；可动地支持所述搬运臂部件，在与所述搬运路径垂直的方向移动所述搬运臂部件，使所述搬运臂部件相对基板进退的臂位置调节机构；可动地支持所述臂位置调节机构，并沿所述水平搬运路径移动所述臂位置调节机构的臂滑动机构，

对所述臂位置调节机构进行调节，以便在搬运时，使一侧的所述搬运臂部件与另一侧的搬运臂部件的相互间隔适合于所述矩形基板的大小，在非搬运时，把所述搬运臂部件的相互间隔扩大到比搬运时的相互间隔还大，从所述水平搬运路径上退避所述搬运臂部件。

倘若采用第3和第4观点的基板搬运装置和基板处理装置，由于能够在与基板搬运方向垂直的方向使搬运臂部件退避，能缩短第1处理部和第2处理部的间隔，由此能缩小装置底面占用面积。这样的基板搬运装置适用于，例如，与基板搬运方向垂直的方向的空间，在第1处理部中比第2处理部宽的场合。

作为本发明的第5观点，基板处理装置具备：搬运矩形基板的水平搬运路径；沿所述水平搬运路径设置，对矩形基板施加第1处理的第1处理部；沿所述水平搬运路径设置，对矩形基板施加与第1处理不同的第2处理的第2处理部；沿所述水平搬运路径设置，对矩形基板施加与第1处理和第2处理不同的第3处理的第3处理部；具有沿着所述水平搬运路径对称地对向配置的一对第1基板搬运部，在所述第1处理部与第2处理部之间，借助于所述一对第1基板搬运部水平地保持矩形基板，并沿所述水平搬运路径搬运的第1基板搬运装置；以及具有沿着所述水平搬运路径对称对向配置的一对第2基板搬运部，在所述第2处理部与第3处理部之间，借助于所述一对第2基板搬运部水平地保持矩形基板，并沿所述水平搬运路径搬运的第2基板搬运装置，其特征是

所述第1基板搬运部具备：具有形状与矩形基板的周缘形状对应的第1搬运臂部件；安装于所述第1搬运臂部件上，与矩形基板的周缘背面抵接并保持该矩形基板的保持部；可动地支持所述第1搬运臂部件，在与所述搬运路径垂直的方向移动所述第1搬运臂部件，使所述第1搬运臂部件相对基板进退的臂位置调节机构；可动地支持所述臂位置调节机构，沿所述水平搬运路径移动所述臂位置调节机构的臂滑动机构，

所述第2基板搬运部具备：具有形状与矩形基板的周缘形状对应的2根第2搬运臂部件，安装于所述第2搬运臂部件上，与矩形基板的周缘背面抵接并保持该矩形基板的保持部；可动地支持所述第2搬运臂部件，改变所述第2搬运臂部件的相互间隔的臂间隔调节机构；可动地支持所述臂间隔调节机构，沿所述水平搬运路径移动所述臂间隔调节机构的第2臂滑动机构，

对所述臂位置调节机构进行调节，以便在搬运时，使一侧的第1搬运臂部件与另一侧的第1搬运臂部件的相互间隔适合于所述矩形基板的大小，在非搬运时，把所述第1搬运臂部件的相互间隔扩大到比搬运时的相互间隔还大，使所述第1搬运臂部件从所述水平搬运路径退避，

对所述臂间隔调节机构进行调节，以便在搬运时，使所述2条搬运臂部件的相互间隔适合于所述矩形基板的大小，在非搬运时，把所述2条搬运臂部件的相互间隔缩小到比搬运时的相互间隔还窄，使第2搬运臂部件退避到所述第2处理部与第3处理部之间。

附图说明

图1是抗蚀剂涂布和显影处理系统的概略平面图。

图2是表示抗蚀剂涂布和显影处理系统的第1热处理单元部的概略侧视图。

图3是表示抗蚀剂涂布和显影处理系统的第2热处理单元部的概略侧视图。

图4是表示抗蚀剂涂布和显影处理系统的第3热处理单元部的概略侧视图。

图5是表示抗蚀剂涂布处理单元的内部透视平面图。

图6是表示抗蚀剂涂布处理单元的入口一侧(基板传递部)的概略侧视图。

图7是表示第1内部基板搬运装置的基板搬运部的方块平面图。

图8是保持部件的放大剖面图。

图9是表示第2内部基板搬运装置的基板搬运部的方块平面图。

图10A是臂间隔调节机构的平面图，图10B是臂间隔调节机构的侧视图。

具体实施方式

以下，参照附图详细说明本发明的实施例。这里，以将本发明适用于进行以下一连串处理的抗蚀剂涂布处理单元的场合为例，即在液晶显示装置(LCD)用基板(以下，称为「LCD基板」或「基板」)上涂布抗蚀剂液，涂布形成抗蚀剂膜，然后在减压下保持抗蚀剂膜进行干燥处理，接着，除去LCD基板周缘所形成的抗蚀剂膜不用部分的一连串处理，对具备该抗蚀剂涂布处理单元、一贯进行从清洗LCD基板、进而抗蚀剂涂布处理、直到显影处理的抗蚀剂涂布和显影处理装置进行说明。图1是表示抗蚀剂涂布和显影处理系统的概略构成的平面图。

抗蚀剂涂布和显影处理系统100具备：载置收容多个基板G的晶片盒C的盒式装置(搬入搬出部)1；具备多个处理单元用于对基板G施行包括抗蚀剂涂布和显影的一连串处理的处理装置(处理部)2；以及用于在与曝光装置4之间进行基板G传递的接口装置(接口部)3，并在处理装置2的两端分别配置盒式装置1和接口装置3。另外，图1中，把抗蚀剂涂布和显影处理系统100的长度方向设为X方向，把在平面上与X方向垂直的方向设为Y方向。

盒式装置1具备：可在Y方向并列载置晶片盒C的载置台9，和在与处理装置2之间用于进行基板G搬入搬出的搬运装置11，在该载置台9与外部之间进行晶片盒C搬运。并且，搬运装置11具有基板搬运捡拾器11a，可以在沿着作为晶片盒C排列方向的Y方向设置的搬运路径10上移动，借助于基板搬运捡拾器11a，在晶片盒C与处理装置2之间进行基板G的搬入搬出。

处理装置2具有基本上在X方向延伸的基板G搬运用平行的2条搬运路线A、B，沿搬运路线A从盒式装置1一侧向接口装置3，排列着擦洗清洗处理单元(SCR)21、第1热处理单元部26、抗蚀剂涂布处理单元23和第2热处理单元部27。并且，沿着搬运路线B从接口装置3向着盒式装置1排列着第2热处理单元部27、显影处理单元(DEV)24、i线UV照射单元(i-UV)25和第3热处理单元部28。

在擦洗清洗处理单元(SCR)21的上游一部分上设有受激准分子UV照射单元(e-UV)22。设置受激准分子UV照射单元(e-UV)22，用于在擦洗清洗之前除去基板G的有机物，设置i线UV照射单元(i-UV)25，用于进行显影的脱色处理。

就擦洗清洗处理单元(SCR)21来说，在其中一边大体水平姿态搬运基板G一边进行清洗处理和干燥处理。同样，对于显影处理单元(DEV)24，在其中一边大体水平姿态搬运基板G一边进行显影处理、冲洗处理、以及干燥处理。就这些擦洗清洗处理单元(SCR)21和显影处理单元(DEV)24来说，基板G的搬运例如由滚轮搬运或传送带搬运来进行，在相对置的短边设置基板G的搬入口和搬出口。并且，向i线UV照射单元(i-UV)25搬运基板G，通过与显影处理单元(DEV)24的搬运机构同样的机构连续进行。

在抗蚀剂涂布单元23中按以下顺序配置有：通过向大约水平保持的基板G滴下抗蚀剂液，以规定转速转动基板G的办法，使抗蚀剂液扩展到整个基板G上并形成抗蚀剂膜的抗蚀剂涂布装置(CT)23a；使基板G上形成的抗蚀剂膜减压干燥的减压干燥装置(VD)23b；通过可搜索基板G四周的溶剂喷出头除去粘附于基板G周缘的多余抗蚀剂的周缘抗蚀剂除去装置(ER)23c。

抗蚀剂涂布单元23的内部，与设于后述的热处理单元部件(TB)32的传递单元(PASS)65和设于热处理单元部件(TB)34的传递单元(PASS)69连通着。从传递单元(PASS)65往抗蚀剂涂布装置(CT)23a的基板搬运用第1内部基板搬运装置110(参照图5)来进行，从抗蚀剂涂布装置(CT)23a往减压干燥装置(VD)23b的基板搬运用第2内部基板搬运装置120来进行，从减压干燥装置(VD)23b往周缘抗蚀剂除去装置(ER)23c的基板搬运用第3内部基板搬运装置130来进行，从周缘抗蚀剂除去装置(ER)23c往传递单元(PASS)69的基板搬运用第4内部基板搬运装置140来进行。

第1热处理单元部26具有给基板G施加热处理的热处理单元层叠构成的2个热处理单元部件(TB)31、32，热处理单元部件(TB)31设于擦洗清洗处理单元(SCR)1一侧，热处理单元部件(TB)32设于抗蚀剂涂布单元23一侧。这2个热处理单元部件(TB)31、32之间设有第1搬运装置33。

如图2所示，第1热处理单元部26的热处理单元部件(TB)31具有从下起顺序将进行基板G传递的传递单元(PASS)61、对基板G进行脱水烘焙处理的2个脱水烘焙单元(DHP)62和63、对基板G施行疏水化处理的附着处理单元(AD)64层叠成四级的构成。并且，热处理单元部件(TB)32具有从下起顺序将进行基板G传递的路径单元(PASS)65、冷却基板G的2个冷却单元(COL)66和67、对基板G施行疏水化处理的附着处理单元(AD)68层叠成四级的构成。

第1搬运装置33，通过传递单元(PASS)6进行清洗处理单元(SCR)21来的基板G的接收，在上述热处理单元间进行基板G的搬入/搬出，以及通过传递单元(PASS)65向抗蚀剂涂布单元23传递基板G。

第1搬运装置33具有：上下延伸的导轨91、沿着导轨91升降的升降部件92、在升降部件92上可旋转地设置的支承件93、在支承件93上可前进后退地设置并保持基板G的基板保持臂94。而且，升降部件92的升降由电机95实行，支承件93的旋转由电机96实行，基板保持臂94的前后移动由电机97实行。这样第1搬运装置33是可以上下移动、前后移动、旋转运动的，对热处理单元部件(TB)31、32的任一单元都能进行访问。

第2热处理单元部27具有将对基板G施加热处理的热处理单元层叠构成的2个热处理单元部件(TB)34和35，热处理单元部件(TB)34设于抗蚀剂涂布单元23一侧，热处理单元部件(TB)5设于显影处理单元(DEV)24一侧。而且，这2个热处理单元部件(TB)34和35之间，设有第2搬运装置36。

如图3所示，第2热处理单元部27的热处理单元部(TB)34形成从下起顺序将进行基板G传递的传递单元(PASS)69和对基板G进行预烘焙处理的3个预烘焙单元(PREBAKE)70、71、及72层叠成4级的构成。并且，热处理单元部件(TB)35形成从下起顺序将进行基板G传递的传递单元(PASS)73、冷却基板G的冷却单元(COL)74、对基板G进行预烘焙处理的2个预烘焙单元(PREBAKE)75及76层叠成4级的构成。

第2搬运装置36，通过传递单元(PASS)69接收抗蚀剂涂布单元23来的基板G，在上述热处理单元间搬入/搬出基板G，通过传递单元(PASS)73向显影处理单元(DEV)24传递基板G，以及对作为后述接口装置3的基板传递部的扩展·冷却台(EXT·COL)传递和接收基板G。另外，第2搬运装置36具有与第1搬运装置33相同构造，对热处理单元部件(TB)34和35的任一单元都能进行访问。

第3热处理单元部28具有对基板G施加热处理的热处理单元层叠构成的2个热处理单元部件(TB)37和38，热处理单元部件(TB)37设于显影处理单元(DEV)24一侧，热处理单元部件(TB)38设于盒式装置1一侧。这2个热处理单元部件(TB)37与38之间，设有第3搬运装置39。

如图4所示，第3热处理单元部28的热处理单元部件(TB)37，具有从下起顺序将进行基板G传递的传递单元(PASS)77、对基板G进行后烘焙处理的3个后烘焙单元(POBAKE)78、79、80层叠成四级的构成。并且，热处理单元部件(TB)38，具有从下起顺序将后烘焙单元(POBAKE)81、进行基板G的传递和冷却的传递·冷却单元(PASS·COL)82、对基板G进行后烘焙处理的2个后烘焙单元(POBAKE)83及84层叠成四级的构成。

第3搬运装置39接到通过传递单元(PASS)77的i线UV照射单元(i-UV)25来的基板G，在上述热处理单元间搬入/搬出基板G，通过传递冷却单元(PASS·COL)82向盒式装置1传递基板G。另外，第3搬运装置39也具有与第1搬运装置33相同构造，对热处理单元部件(TB)37和38的任一单元都能访问。

在处理装置2中，为了构成如上的2列搬运路线A、B，而且基本上为处理顺序配置各处理单元和搬运装置，在这些搬运路线A-B间设置空间40。而且，在该空间40可往复移动地设置梭(基板载置部件)41。将该梭41构成为可以保持基板G，通过梭41，在搬运路线A-B间进行基板G的传递。借助于上述第1到第3搬运装置33、36、39，实行基板G相对于梭41的传递。

接口装置3具有：在处理装置2与曝光装置4之间进行基板G搬入/搬出的搬运装置42；配置缓冲盒的缓冲台(BUF)43；作为具备冷却功能的基板传递部的扩展·冷却台(EXT·COL)42，邻接于搬运装置42设置上下层叠字幕摄影机(TTTLER)和周边曝光装置(EE)的外部装置部件45。搬运装置42具备基板搬运臂42a，用该基板搬运臂42a，在处理装置2与曝光装置4之间实行基板G的搬入/搬出。

这样构成的抗蚀剂涂布和显影处理系统100中，首先，将盒式装置1的载置台9上配置的晶片盒C内的基板G，用搬运装置11直接搬入处理装置2的受激准分子UV照射单元(e-UV)22，进行擦洗前处理。其次，用例如多个滚轮16的滚轮搬运将基板G搬入擦洗清洗处理单元(SCR)21，进行擦洗清洗处理。擦洗清洗处理后，基板G例如用滚轮搬运，搬出到属于第1热处理单元部26的热处理单元部件(TB)31的传递单元(PASS)61。

最初，将配置于传递单元(PASS)61的基板G，搬运到热处理单元部件(TB)31的脱水烘焙单元(DHP)62和63的任一个中进行加热处理。其次将基板G搬运到热处理单元部件(TB)32的冷却单元(COL)66和67的任一个中进行冷却以后，为了提高抗蚀剂的固着性，搬运到热处理单元部件(TB)31的附着处理单元(AD)64或热处理单元部件(TB)32的附着处理单元(AD)68，于是由HMDS进行附着性处理(疏水化处理)。然后，将基板G搬运到冷却单元(COL)66和67的任一个内加以冷却，进而搬运到热处理单元部件(TB)32的传递单元(PASS)65。进行这样的一连串处理之际的基板G的搬运处理，全都由第1搬运装置33实行。

将配置于传递单元(PASS)65的基板G，由第1内部基板搬运装置110(参照图5)搬入抗蚀剂涂布单元23内。首先将基板G搬入抗蚀剂涂布装置(CT)23a中，在那里给基板G旋涂抗蚀剂液。其次，用第2内部基板搬运装置120(参照图5)将基板G搬运到减压干燥装置(VD)2b中，在那里减压干燥。

接着用第3内部基板搬运装置130(参照图5)将基板G搬运到周缘抗蚀剂除去装置(ER)23c，在那里从基板G周缘除去多余的抗蚀剂。而且，除去周缘抗蚀剂结束后，用第4内部基板搬运装置140(参照图5)将基板G从抗蚀剂涂布单元23搬出来，传递给属于第2热处理单元部27的热处理单元部件(TB)34的传递单元(PASS)69。

配置于传递单元(PASS)69的基板G，借助于第2搬运装置36，搬运到热处理单元部件(TB)34的预烘焙单元(PREBAKE)70、71、72和热处理单元部件(TB)35的预烘焙单元(PREBAKE)75、76的任一个中并进行预烘焙处理，然后搬运到热处理单元部件(TB)35的冷却单元(COL)74，冷却到规定温度。而且，进而借助于第2搬运装置36，搬运到热处理单元部件(TB)35的传递单元(PASS)73。

然后，用第2搬运装置36将基板G送往接口装置3的扩展·冷却台(EXT·COL)44，通过接口装置3的搬运装置42搬运到外部装置部件45的周边曝光装置(EE)，进行曝光用于除去周边抗蚀剂，接着用搬运装置42搬运到曝光装置4，在那里使基板G上的抗蚀剂膜曝光，形成规定的图形。根据情况有时把基板G收容到缓冲台(BUF)43上的缓冲盒内后，搬运到曝光装置4。

曝光结束后，用接口装置3的搬运装置42将基板G搬入外部装置部件45的上层的字幕摄影机(TTTLER)并为基板G记录规定信息以后，载置在扩展·冷却台(EXT·COL)44上。用第2搬运装置36将基板G从扩展·冷却台(EXT·COL)44搬往属于第2热处理单元部27的热处理单元部件(TB)35的传递单元(PASS)73。

采用使从传递单元(PASS)73延伸到显影处理单元(DEV)24的搬动机构，例如滚轮搬运机构工作的办法，将基板G从传递单元(PASS)73搬入显影处理单元(DEV)24，在那里施行显影处理。显影处理中，首先给基板G涂布显影液，形成显影液的坑，在以规定速度规定时间搬运基板G期间进行显影反应。接着，停止基板G的搬运，通过把基板G变成倾斜姿势，使LCD基板上的显影液落下，进而将纯水喷到基板G上，使显影反应停止。进而，以大体水平姿势一边搬运基板G，一边向基板G供应纯水进行冲洗，以便不留下显影液残渣，而后，对基板G吹出干燥空气使基板G干燥。

这样的显影处理结束后，用连接的搬运机构，将基板G从显影处理单元(DEV)24搬运到i线UV照射单元(i-UV)25，在那里对基板G施行脱色处理。然后，借助于i线UV照射单元(i-UV)25内的滚轮搬运机构16(滚子传送台)，将基板G搬出到属于第3热处理单元部28的热处理单元部件(TB)37的传递单元(PASS)77。

用第3搬运装置39将配置于传递单元(PASS)77的基板G搬运到热处理单元部件(TB)37的后烘焙单元(POBAKE)78、79、80和热处理单元部件(TB)38的后烘焙单元(POBAKE)81、82、83的任一个单元进行后烘焙处理以后，搬运到热处理单元部件(TB)38的传递·冷却单元(PASS·COL)82并冷却到规定温度以后，通过盒式装置1的搬运装置11，收容在盒式装置1的规定晶片盒C里。

接着，详细说明有关抗蚀剂涂布单元23的构造及其内部的基板G搬运形态、传递单元(PASS)65与抗蚀剂涂布单元23之间的基板G搬运形态、以及抗蚀剂涂布单元23与传递单元(PASS)65之间的LCD基板搬运形态。

图5是表示抗蚀剂涂布单元23与传递单元(PASS)65和传递单元(PASS)69的概略构造的示意平面图。

传递单元(PASS)65具有载置基板G的工作台101和上下贯穿工作台101的方式在规定位置设置的升降销102，并在从传递单元(PASS)65直到抗蚀剂涂布装置(CT)23a的区域，设置搬运基板G的第1内部基板搬运装置110。第1内部基板搬运装置110具备一对基板搬运部110a和110b。一对基板搬运部110a和110b，夹着工作台101上的基板G，大体对称地对置配置。

抗蚀剂涂布装置(CT)23a具有保持基板G并旋转自如且升降自如的旋盘51和围绕旋盘51上保持的基板G而配置的涂布杯50。就旋盘51来说，例如，适合使用真空吸附保持基板G的方式。

减压干燥装置(VD)23b具有载置基板G升降自如的工作台55和内部收容工作台55上载置基板G的减压室52。工作台55的表面上，在规定位置设有支持销(图未示出)，形成以点支持LCD基板。减压室52由下部容器和上盖构成在上盖上升打开减压室52的状态将基板G搬入工作台55，或从工作台搬出基板G。

周缘抗蚀剂除去装置(ER)23c具有载置基板G的工作台54和沿工作台54上载置的基板G各边可直线性移动的除去头53。除去头53，一边单向行走一边喷出一定量的溶剂，溶解附着于基板G周缘的抗蚀剂，从而吸引回收这样溶解的抗蚀剂和喷出的溶剂。这样，溶解的抗蚀剂就不会向基板G内部扩展。

在抗蚀剂涂布处理单元23内部，设置从抗蚀剂涂布装置(CT)23a向减压干燥装置(VD)23b搬运基板G的第2内部基板搬运装置120和从减压干燥装置(VD)23b向周缘抗蚀剂除去装置(ER)23c搬运基板G的第3内部基板搬运装置130。第2内部基板搬运装置120在非基板搬运时退避到抗蚀剂涂布装置(CT)23a与减压干燥装置(VD)23b之间，第3内部基板搬运装置130在非基板搬运时则退避到减压干燥装置(VD)23b与周缘抗蚀剂除去装置(ER)23c之间。

如图6所示，将基板G在传递箱65内搬运到滚轮台16上，换乘并停留在入口侧工作台101上。接着，用升降汽缸103使多个销102上升，通过工作台101的孔101a使支杆102从工作台101突出。用销102将基板G抬高到工作台101上方规定高度位置。

接着，第1内部基板搬运装置110从左右把一对基板搬运部110a、110b伸到基板G正下方，使销102下降。这样，将基板G从支杆102转移到一对基板搬运部110a、110b上。借助于第1内部基板搬运装置110沿X方向搬运基板G。

另外，与入口侧传递箱65同样，在出口侧传递箱69的工作台103下游一侧也可以设置滚轮台16。将基板G从第4内部基板搬运装置140传递给工作台103以后，由滚轮台16搬出。

图7是详细表示第1内部基板搬运装置110的一方基板搬运部110a的平面图。另外，另一方基板搬运部110b和第4内部基板搬运装置140的一对基板搬运部140a、140b，实质上与一方的基板搬运部110a结构相同，因而省略其说明。

基板搬运部110a具有：配备保持LCD基板周缘的保持部件111a和111b的搬运臂112；在Y方向使搬运臂112移动的臂位置调节机构113；在X方向(基板搬运方向)使臂位置调节机构113移动的臂移动机构115。

搬运臂112具备：保持基板搬运方向(X方向)前方一侧基板周缘部的前方臂部件112a；保持基板搬运方向(X方向)后方一侧基板周缘部的后方臂部件112b；能滑动地连结这些前后臂部件112a、112b的连结部件112c；在Y方向使这些前后臂部件112a、112b前进或后退的臂位置调节机构113。

前后臂部件112a、112b，在水平面上投影的形状分别为大体L字形，L字杆一端用臂连结部件112c互相连结起来。即，将搬运臂112组装成，使其全体水平面投影形状为大体U字形，保持相当于半个基板G的X方向周缘部和Y方向周缘部。

前后一对搬运臂112a、112b上多个地方安装2种保持部件111a、111b。第1保持部件111a分别从两搬运臂112a、112b的L字状杆大约中点向内侧突出安装，合计4个。这些第1保持部件111a具备如后述吸附于基板G背面的吸附垫圈203(参照图8)。第2保持部件111b在两搬运臂112a、112b的L字状杆端部附近和在弯曲部附近分别安装4个，进而在臂位置调节机构113长度方向中央安装1个，合计9个。这些第2保持部件111b只是简单地支持基板G。

这样，一侧的基板搬运部110a具备4个第1保持部件111a和9个第2保持部件111b。因此，就全部第1内部基板搬运装置110而言，应该具备合计8个第1保持部件111a和合计18个第2保持部件111b。

臂位置调节机构113有：具有Y方向延伸的支杆207和与该支杆207嵌合并在Y方向可滑动的滑块208的无杆汽缸116；具有在Y方向延伸的导轨210；与该210嵌合并在Y方向可滑动的滑块211；保持无杆汽缸116和导轨210的基台114。

滑块208是采用从Y方向的基板G侧或其相反侧将空气导入其内部的办法，在Y方向可滑动的。采用将滑块208的上面跟臂连结部件112C连结并使滑块208在Y方向滑动的办法，可相对于工作台101上载置的基板G使搬运臂112进退。支杆207的端部固定在端子部件209a、209b，该端子部件209a、209b固定在基台114上。

并且滑块211的上面也与连结部件112c连结。滑块211自身不具有自行的功能但使滑块208滑动时，由于嵌合于导轨210的滑块211跟滑块208并行移动，这样能提高搬运臂112的动作稳定性。在导轨210的Y方向端，固定有端子部件212a和212b。

基台114上，安装着一对制动器214a、214b，用于防止使搬运臂112向Y方向滑动时的滑动过度，并且进行搬运臂112在Y方向端的定位。并且，在臂连结部件112c上设有与制动器214a、214b抵接的制动承受器215。与滑块208一起滑动搬运臂112时，通过制动承受器215抵接制动器214a或制动器214b，在Y方向端分别定位搬运臂112。

在传递单元(PASS)65与传递单元(PASS)69之间，设有在X方向延伸的导轨217。臂移动机构115具有与该导轨217嵌合的连结部件218和在X方向使连结部件218滑动的X方向搬运机构219。基台114连结到连结部件218，因此能够在X方向使臂位置调节机构113滑动，即可在X方向使滑动搬运臂112滑动。作为X方向搬运机构219，可采用气缸、传送带搬运装置、滚珠丝杠搬运装置等。

图7中，用实线表示从第1搬运装置33把基板G搬入进入一侧工作台101时的搬运臂112的退避位置，并且，用双点划线表示使搬运臂112向进入一侧工作台101前进的位置。这样就第1内部基板搬运装置110来说，由于能使搬运臂112退避到传递单元(PASS)65内的Y方向端所以能缩小传递单元(PASS)65与抗蚀剂涂布装置(CT)23a的间隔，减少抗蚀剂涂布处理单元23的覆盖范围(foot-print)。特别是，基板G是大型的场合，显著呈现减少覆盖范围的效果。第1内部基板搬运装置110，由于传递单元(PASS)65的这种实质上处理基板G所需要的面积同抗蚀剂涂布装置(CT)23a等相比较狭窄，所以适用于容易确保Y方向空间的场合。另外，1000mm×1200mm尺寸基板G的重量约为3kg，第1内部基板搬运装置110的搬运速度是1000～1500mm/秒左右。

图8是表示第1保持部件111a的更详细构造剖面图。

第1保持部件111a具有：有内部空间201a的筒状部件201；用于给搬运臂112安装筒状部件201的安装部件202；安装于筒状部件201上端的吸附垫圈203；在筒状部件201上固定吸附垫圈203的垫圈固定部件204。在筒状部件201的下端设有与真空泵(图未示出)连通的减压管路205，能使筒状部件201的内部空间201a减压。吸附垫圈203的上面形成孔部203a，当使筒状部件201的内部空间201a内减压的时候，该孔部203a吸附基板G，在吸附垫圈203上面吸附并保持基板G。

一旦将基板G吸附于吸附垫圈203上面，由于基板G只由周缘部分(自基板外周端起15mm以内)保持，整体上挠曲成凹形。吸附垫圈203由耐磨耗性和耐腐蚀性优良的软质材料，例如氟橡胶(氟化橡胶的商品名)这样的柔软材料构成。因此，按照基板G的弯曲方向，使吸附垫圈203倾动/另外，如果使用不能倾动的吸附垫圈，则基板G弯曲时往往在吸附垫圈的上面与基板G之间出现间隔而不能保持基板G。可是，使用第1保持部件111a，则有可以切实保持挠曲成凹形基板的优点。

第2内部基板搬运装置120具有在Y方向大体对称对置配置的一对基板搬运部120a、120b，第3内部基板搬运装置130具有在Y方向大体对称对置配置的一对基板搬运部130a、130b，第2内部基板搬运装置120和第3内部基板搬运装置130实质上构成相同，因而以下，代表两者只说明第2内部基板搬运装置120。

图9是详细表示第2内部基板搬运装置120的一方基板搬运部120a的平面图。另外，另一方基板搬运部120b和第3内部基板搬运装置130的一对基板搬运部130a、130b，实质上与一方的基板搬运部120a构成相同，因而省略其说明。

基板搬运部120a具有：具备用于保持基板周缘的2种保持部件111a、111b的左右一对搬运臂部件122a、122b；分别使这些搬运臂部件122a、122b在X方向滑动的臂间隔调节机构123；使臂间隔调节机构123在X方向滑动的臂滑动机构125。

左右一对搬运臂部件122a、122b分别作成大约L字型的形状。使右侧的搬运臂部件122a保持基板G的X方向前方一侧周缘，使左侧的搬运臂部件122b保持基板G的X方向后方一侧周缘。安装于两搬运臂部件122a、122b的第1保持部件111a和第2保持部件111b，实质上跟安装于上述第1内部基板搬运装置110的保持部件相同。第1保持部件111a是从两搬运臂部件122a、122b的L字状杆大约中点向内侧突出并分别安装的，合计4个。这些第1保持部件111a具备吸附垫圈203。第2保持部件111b是在两搬运臂部件122a、122b的L字状杆端部附近安装2个和弯曲部附近安装4个，进而在臂间隔调节机构123的长度方向中央安装1个，合计7个。这些第2保持部件111b只单纯地支持基板G。

这样，一侧的基板搬运部120a具备4个的第1保持部件111a和7个的第2保持部件111b。因此，第2内部基板搬运装置120整个中，具备合计8个的第1保持部件111a和合计14个的第2保持部件111b。

臂间隔调节机构123具有：具有在X方向延伸的杆221a和嵌合到杆221a并在X方向可滑动的滑块222a的第1无杆汽缸126a；具有在X方向延伸的杆221b和嵌合到杆221b并在X方向可滑动滑块222b的第2无杆汽缸126b；在X方向延伸的导轨223；与该导轨223嵌合并在X方向可滑动的2个滑块224a、224b；连结滑块222a与滑块224a的连结部件225a；连结滑块222b与滑块224b的连结部件225b；保持第1无杆汽缸126a与第2无杆汽缸126b和导轨223的基台124。基台124上只安装1个第2保持部件111b。该第2保持部件111b，支持基板周缘部分一边的中点。

滑块222a、222b是，通过从基板搬运方向(X方向)的前方一侧后方一侧把空气导入其内部，在X方向可滑动的。另一方面，滑块224a、224b自身不具有自行移动的功能。可是因为这些滑块224a、224b分别通过连结部件225a、225b与滑块222a、222b连结起来，分别可与滑块222a、222b一起滑动。

将搬运臂部件122a跟滑块224a连结，而且，将搬运臂部件122b跟滑块224b连结起来。调节滑块222a与滑块222b间的距离，即与调节搬运臂部件122a、122b间的距离相同。通过使嵌合于导轨223的滑块224a、224b，分别与滑块222a、222b并行移动可提高搬运臂部件122a、122b的动作稳定性。

在基台124上装有：用于防止向X方向扰动搬运臂部件122a、122b时行走过度，并进行搬运臂部件122a、122b在X方向端定位的外侧制动器228a；用于回避搬运臂部件122a、122b之间的冲突，并进行搬运臂部件122a、122b在内侧定位的内侧制动器228b。并且，在滑块222a、222b上，分别装有跟这些外侧和内侧制动器228a、228b抵接的制动承受器229a、229b。

臂滑动机构125具有嵌合于导轨217上的连结部件231和使连结部件231沿X方向滑动的X方向搬运机构232。将基台124连结到连结部件231，由此使臂间隔调节机构123沿X方向滑动，即可使搬运臂部件122a、122b沿X方向滑动。就X方向搬运机构232来说可以使用气缸、带式搬运装置、滚珠丝杠装置等。

另外，对第1、第2、第3和第4的内部基板搬运装置110、120、130、和140的各部件而言，采用强度与比重比大的铝合金是理想的。特别是，搬运臂112a、112b、122a、122b有必要降低挠性，因而需要从材质和构造两个方面增加刚性，而且需要设计成轻量。顺便说说，本实施例的第2和第3的内部基板搬运装置120、130的搬运臂部件122a、122b，使用外径30mm×壁厚1.5mm的铝合金管，L字杆的X方向长度和Y方向长度分别为500～600mm左右。并且，第1和第4内部基板搬运装置110、140的搬运臂部件112a、112b，使用外径30mm×壁厚1.5mm的铝合金管，L字杆的Y方向长度为400～500mm左右。

并且，第1和第2保持部件，采用槽式切口嵌入的C字形状零件，借助于螺栓连接安装到搬运臂部件112a、112b、122a、122b上是理想的。采用这种C字形状零件的话，就能够在搬运臂112a、112b、122a、122b上容易地装卸第1和第2保持部件，同时可以自由变更其安装位置。

图9中，用实线表示搬运臂部件122a、122b在基板搬运时的状态，即，扩大两搬运臂部件122a、122b的相互间隔，搬运臂部件122a、122b能够保持基板G的状态(基板搬运状态)，并且用虚线表示缩小两搬运臂部件122a、122b的相互间隔(宽度)并使搬运臂部件122a、122b退避的状态(非搬运状态)。

如前所述，非搬运时，因为搬运臂部件122a、122b退避到抗蚀剂涂布装置(CT)23a与减压干燥装置(VD)23b之间，这时由于将搬运臂部件122a、122b的相互间隔(宽度)保持得比基板搬运时窄，就能够缩小抗蚀剂涂布装置(CT)23a与减压干燥装置(VD)23b之间的距离。这样，因为能够缩小第2内部基板搬运装置120的退避空间，就能减少抗蚀剂涂布单元23的覆盖范围，进而能缩小抗蚀剂涂布和显影处理系统100的覆盖范围。这种缩小覆盖范围的效果，在大型基板G的场合，将更显著呈现。

第3内部基板搬运装置130具有跟第2内部基板搬运装置120实质上相同的构造，因而能够缩小作为其退避空间的减压干燥装置(VD)23b与周缘抗蚀剂除去装置(ER)23c之间的距离。

传递单元(PASS)69具有载置基板G的工作台103和设于规定位置以便上下贯通工作台103的升降销104，在从周缘抗蚀剂除去装置(ER)23c到传递单元(PASS)69的区域，设置搬运基板G的第4内部基板搬运装置140。该第4内部基板搬运装置140具有跟前面说明的第1内部基板搬运装置110相同的构造，其搬运臂可以退避到传递单元(PASS)69的Y方向一端。这样能够缩小周缘抗蚀剂除去装置(ER)23c和传递单元(PASS)69之间的距离，减少覆盖范围。

从传递单元(PASS)65经过抗蚀济涂布单元23往传递单元(PASS)69搬运基板G的程序，例如，实行如下。即，在第1内部基板搬运装置110的搬运臂112退避到Y方向一端的状态，第1搬运装置33把基板G搬入传递单元(PASS)65内。接着，升降销102上升，其上升途中，升降销102从第1搬运装置33接收基板G。然后在不马上搬运基板G的场合，下降升降销102，把基板G放置在工作台101上。

升降销102支持基板G，而且，使基板G位于比搬运臂112高的位置以后，臂位置调节机构113动作，向基板G一侧滑动搬运臂112，使构成保持部件111a、111b的筒状部件201的内部空间201a减压，然后使升降销102下降。这样在升降销102的下降途中将基板G传递给设于搬运臂112的保持部件111a、111b，基板G被吸附保持在吸附垫圈203上。

在使第2内部基板搬运装置120退避到抗蚀剂涂布装置(CT)23a与减压干燥装置(VD)23b之间的状态，让第1内部基板搬运装置110的臂移动机构115动作，把基板G搬运到抗蚀剂涂布装置(CT)23a的旋盘51上方。而且，旋盘51上升时，在其上升途中，将基板G从搬运臂112传递给旋盘51。另外，在即将把基板G传递给旋盘之前，解除构成保持部件111a、111b的筒状部件201内部空间201a内的减压状态，不让基板G落下来，而且使基板G容易离开吸附垫圈203。

如果将基板G传递给了旋盘51，使臂位置调节机构113动作，搬运臂112往Y方向端退避，进面使臂移动机构115动作，使第1内部基板搬运装置110往传递单元(PASS)65一侧滑动，借助于第1搬运装置33，把下一个基板G搬入传递单元(PASS)65前，使搬运臂112待机。

使保持基板G的旋盘51下降到规定位置，以便于基板G的周围被涂布杯50围绕例如，在基板G静止的状态，向基板G的大约中心涂布规定量抗蚀剂液，然后以规定的转速转动旋盘51使抗蚀剂液扩展到整个基板G上，形成抗蚀剂膜。

上升旋盘51在规定的高度保持形成抗蚀剂膜的基板G以后，将第2内部基板搬运装置120滑动到抗蚀剂涂布装置(CT)23a的位置。由于旋盘51形成其保持基板G的平板下面中心部由支持棒支持的构造，因此如果使第2内部基板搬运装置120滑动，使搬运臂122a、122b通过该支持棒旁边，则搬运臂122a、122b就不会与旋盘51冲突。

其次，驱动臂间隔调节机构123，扩大搬运臂122a、122b间的距离，并且让减压管路205工作，使得保持部件111a、111b变成能够吸附基板G的状态，让旋盘51下降。这样在旋盘51下降途中，基板G从旋盘51被传递给第2内部基板搬运装置120的保持部件111a、111b。

在使设于减压干燥装置(VD)23b的减压室52的上盖上升的状态下，使保持基板G的第2内部基板搬运装置120向减压干燥装置(VD)23b滑动以后上升工作台55时，工作台55上升途中基板G从搬运臂122a、122b被传递给工作台55。然后，滑动滑块222a、222b，缩小搬运臂122a、122b间的距离，把第2内部基板搬运装置120移动到抗蚀剂涂布装置(CT)23a与减压干燥装置(VD)23b之间，等待下一次处理。

在减压干燥装置(VD)23b中，让第2内部基板搬运装置120退避以后，减压室52保持密封状态，进而通过减压其内部，蒸发包含在基板G上形成的抗蚀剂膜内的一部分溶剂，使抗蚀剂膜干燥。减压干燥装置(VD)23b中的处理结束以后，让减压室52成为开放状态，升高工作台55直到规定的高度。

用与刚才利用第2内部基板搬运装置120把基板G从抗蚀剂涂布装置(CT)23a搬运到减压干燥装置(CD)23b的程序同样的程序，利用第3内部基板搬运装置130，把基板G从减压干燥装置(VD)23b向周缘抗蚀剂除去装置(ER)23c搬运。如果基板G保持在周缘抗蚀剂除去装置(ER)23c的工作台54上，使第3内部基板搬运装置130向减压干燥装置(VD)23b与周缘抗蚀剂除去装置(ER)23c之间的退避空间移动在周缘抗蚀剂除去装置(ER)23c中，沿着基板G的边移动去除器53，除去附着于基板G周缘的多余抗蚀剂。

在周缘抗蚀剂除去装置(ER)23c中的规定处理结束以后，使工作台54上升到规定高度，并且，使第4内部基板搬运装置140向周缘抗蚀剂除去装置(ER)23c滑动，访问工作台54，以便其搬运臂能够从工作台54接收LCD基板。在该状态下通过降低工作台54，将基板G传递给第4内部基板搬运装置140的搬运臂。

采用使保持基板G的第4内部基板搬运装置140向传递单元(PASS)69滑动，升高设于传递单元(PASS)69的升降销104的办法，把基板G从第4内部基板搬运装置140的搬运臂传递给升降销104。采用使第2搬运装置36访问升降销104所保持的基板G下侧，下降升降销104的办法，将基板G传递给第2搬运装置36，例如向进行预烘焙处理的3个预烘焙单元(PREBAKE)70、71、72的任一单元搬运。

以上，说完了本发明的实施例，但本发明并不限于这些实施例。例如，对第1内部基板搬运装置110中的臂位置调节机构113来说，作为驱动滑块208的机构，可以使用滚珠丝杠或转动传送带。

并且，对第2内部基板搬运装置120中的臂间隔调节机构123来说也可以使用转动传送带。

图10A是表示使用转动传送带的臂间隔调节机构123A概略构成的平面图，图10B是其侧视图。臂间隔调节机构123A具有：离开规定距离配置的传动轮301a、301b；悬挂在这两个传动轮301a、301b间的传送带302；转动传动轮301a的电机303；以及固定在传送带302上的臂保持部件304a、304b。臂保持部件304a、304b上分别装有搬运臂部件122a、122b。

传动轮301b随着传送带302的转动而转动传动轮。因为臂保持部件304a、304b分别固定在传送带302的上侧和下侧，若转动电机303使得臂保持部件304a向传动轮301a 301b之间的中心位置移动，则臂保持部件304b也向传动轮301a 301b之间的中心位置移动，这样，能缩小搬运臂部件122a、122b的相互间隔。与此相反，若转动电机303使得臂保特部件304a向传动轮301a一侧移动，因臂保持部件304b向传动轮301b一侧移动，则会扩大搬运臂部件122a、122b的相互间隔。

另外，为了提高搬运臂部件122a、122b滑动时的稳定性，跟前面所示的臂间隔调节机构123同样，理想的是还将搬运臂部件122a、122b跟导轨(图未示出)嵌合。

上述说明中，虽然提出LCD基板作为基板加以说明，但是基板不限于此，例如，也可以是半导体晶片、陶瓷基板、各种玻璃基板、树脂基板，并且对基板实施的处理，也如上述实施例一样，不限于抗蚀剂膜的形成处理。

按照本发明，可以缩小一对搬运臂部件的前后间隔(X方向间隔；基板搬运方向的间隔)，因而可将第2内部基板搬运装置收存于与现有同样的退避空间内。对于第3内部基板搬运装置也同样。这样，不增大退避空间，能够搬运比现有还要大型的基板，而且能够抑制装置底面占有面积增大。

按照本发明，由于可以改变对置的一对搬运臂的左右间隔(Y方向间隔：与基板搬运方向垂直方向的间隔)，所以使是改变基板尺寸的场合，也可以根据基板的大小(通常场合是基板的短边长度)调整搬运臂的左右间隔，可在入口一侧工作台使第1内部基板搬运装置退避到搬运路径的两侧。在出口一侧工作台的第4内部基板搬运装置中也同样。由此，也能缩小起运地与搬运目的地的间隔，因而能够抑制装置底座占有面积。

Claims (14)

1.一种基板搬运装置，具有沿着水平搬运路径对称地对向配置的一对基板搬运部，借助于这一对基板搬运部水平地保持矩形基板并沿着所述水平搬运路径搬运，其特征是，

所述基板搬运部具备：

具有形状与矩形基板的周缘形状对应的2根搬运臂部件；

安装于所述搬运臂部件上，与矩形基板的周缘背面抵接并保持该矩形基板的保持部；

可动地支持所述2根搬运臂部件，改变所述2根搬运臂部件相互间隔的臂间隔调节机构；以及

可动地支持所述臂间隔调节机构，沿着所述水平搬运路径移动所述臂间隔调节机构的臂滑动机构，

所述臂间隔调节机构要这样调节，以便在搬运时，使所述2根搬运臂部件的相互间隔适合所述矩形基板的大小，在非搬运时，使所述2根搬运臂部件的相互间隔缩小到比搬运时的相互间隔还窄。

2.按照权利要求1所述的装置，其特征是，

所述臂间隔调节机构具有与所述2根搬运臂部件一对一地对应设置，在基板搬运方向可滑动地分别支持所述2根搬运臂部件的一对滑块，

通过调节所述一对滑块的相互间隔，调节所述2根搬运臂部件的相互间隔。

3.按照权利要求1或2所述的装置，其特征是，

所述2根搬运臂部件是各自的水平面投影形状为L字形状，由所述臂间隔调节机构连结组合的水平面投影形状为U字形状。

4.按照权利要求1所述的装置，其特征是，

所述保持部可装卸地安装在所述搬运臂部件上。

5.按照权利要求1所述的装置，其特征是，

所述保持部与距矩形基板外周端15mm以内的基板周缘背面接触，支持该基板。

6.按照权利要求1、4或5之中任一项所述的装置，其特征是，

所述保持部具备；

借助于真空吸引，吸附于基板背面，保持该基板的多个第1保持部件，以及与基板背面抵接，保持该基板的多个第2保持部件。

7.按照权利要求6所述的装置，其特征是，

所述第1保持部件从所述搬运臂部件的杆长度的中点向内侧突出地安装。

8.按照权利要求1所述的装置，其特征是，

所述保持部具有与基板周缘接触并保持基板的垫圈，

所述垫圈对应于保持基板时的基板挠曲而倾斜自如。

9.一种基板处理装置，具备：

搬运矩形基板的水平搬运路径；

沿所述水平搬运路径设置，对矩形基板施加第1处理的第1处理部；

沿所述水平搬运路径设置，对矩形基板施加与所述第1处理不同的第2处理的第2处理部；以及

具有沿着所述水平搬运路径对称地对向配置的一对基板搬运部，在所述第1处理部与第2处理部之间，借助于所述一对基板搬运部水平地保持矩形基板，并沿所述水平搬运路径搬运的基板搬运装置，其特征是，

所述基板搬运部具备：

具有形状与矩形基板的周缘形状对应的2根搬运臂部件；

安装于所述搬运臂部件上，与矩形基板的周缘背面抵接，保持该矩形基板的保持部；

可动地支持所述2根搬运臂部件，改变所述2根搬运臂部件相互间隔的臂间隔调节机构；以及

可动地支持所述臂间隔调节机构，沿所述水平搬运路径移动所述臂间隔调节机构的臂滑动机构，

所述臂间隔调节机构要这样调节，以便在搬运时，所述2根搬运臂部件的相互间隔适合所述矩形基板的大小，在非搬运时，把所述2根搬运臂部件的相互间隔缩小到比搬运时的相互间隔还要窄，

所述臂滑动机构使在非搬运时缩小了相互间隔后的所述2条搬运臂部件退避到所述第1处理部与所述第2处理部之间。

10.按照权利要求9所述的装置，其特征是，

所述第1处理部具有用旋涂法在矩形基板上涂布抗蚀剂的抗蚀剂涂布单元，

所述第2处理部至少具有下述单元之一，对在所述抗蚀剂涂布处理单元内形成抗蚀剂膜后的基板进行减压干燥处理的干燥处理单元和从所述基板周缘除去抗蚀剂膜的周缘抗蚀剂除去单元。

11.一种基板搬运装置，具有沿着水平搬运路径对称地对向配置的一对基板搬运部，借助于这一对基板搬运部水平地保持矩形基板，并沿着所述水平搬运路径搬运，其特征是，

所述基板搬运部具备：

具有形状与矩形基板的周缘形状对应的搬运臂部件；

安装于所述搬运臂部件上，与矩形基板的周缘背面抵接，保持该矩形基板的保持部；

可动地支持所述搬运臂部件，在与所述搬运路径垂直的方向移动所述搬运臂部件，使所述搬运臂部件相对基板进退的臂位置调节机构；

可动地支持所述臂位置调节机构，沿所述水平搬运路径移动所述臂位置调节机构的臂滑动机构，

所述臂位置调节机构要进行调节，以便在搬运时，使一侧的搬运臂部件与另一侧的搬运臂部件的相互间隔适合所述矩形基板的大小，在非搬运时，把所述搬运臂部件的相互间隔扩大到比搬运时的相互间隔还要大。

12.按照权利要求11所述的装置，其特征是，

所述保持部具有与基板周缘接触并保持基板的垫圈，

所述垫圈对应于保持基板时的基板挠曲而倾斜自如。

13.一种基板处理装置，具备：

搬运矩形基板的水平搬运路径；

沿所述水平搬运路径设置，对矩形基板施加第1处理的第1处理部；

沿所述水平搬运路径设置，对矩形基板施加与所述第1处理不同的第2处理的第2处理部；

具有沿着所述水平搬运路径对称地对向配置的一对基板搬运部，在所述第1处理部与第2处理部之间，借助于所述一对基板搬运部水平地保持矩形基板，并沿所述水平搬运路径搬运的基板搬运装置，其特征是，

所述基板搬运部具备：

具有形状与矩形基板的周缘形状对应的搬运臂部件；

安装于所述搬运臂部件上，与矩形基板的周缘背面抵接并保持该矩形基板的保持部；

可动地支持所述搬运臂部件，在与所述搬运路径垂直的方向移动所述搬运臂部件，使所述搬运臂部件相对基板进退的臂位置调节机构；以及

可动地支持所述臂位置调节机构，沿所述水平搬运路径移动所述臂位置调节机构的臂滑动机构，

所述臂位置调节机构要进行调节，以便在搬运时，使一侧的所述搬运臂部件与另一侧的搬运臂部件的相互间隔适合所述矩形基板的大小，在非搬运时，把所述搬运臂部件的相互间隔扩大到比搬运时的相互间隔还大，使所述搬运臂部件从所述水平搬运路径退避。

14.一种基板处理装置，具备：

搬运矩形基板的水平搬运路径；

沿所述水平搬运路径设置，对矩形基板施加第1处理的第1处理部；

沿所述水平搬运路径设置，对矩形基板施加与所述第1处理不同的第2处理的第2处理部；

沿所述水平搬运路径设置，对矩形基板施加与所述第1处理和第2处理不同的第3处理的第3处理部；

具有沿着所述水平搬运路径对称地对向配置的一对第1基板搬运部，在所述第1处理部与所述第2处理部之间，借助于所述一对第1基板搬运部水平地保持矩形基板，并沿所述水平搬运路径搬运的第1基板搬运装置；以及

具有沿着所述水平搬运路径对称地对向配置的一对第2基板搬运部，在所述第2处理部与所述第3处理部之间，借助于所述一对第2基板搬运部水平地保持矩形基板，并沿所述水平搬运路径搬运的第2基板搬运装置，其特征是，

所述第1基板搬运部具备：

具有形状与矩形基板的周缘形状对应的第1搬运臂部件；

安装于所述第1搬运臂部件上，与矩形基板的周缘背面抵接并保持该矩形基板的保持部；

可动地支持所述第1搬运臂部件，在与所述搬运路径垂直的方向移动所述第1搬运臂部件，使所述第1搬运臂部件相对基板进退的臂位置调节机构；

可动地支持所述臂位置调节机构，沿所述水平搬运路径移动所述臂位置调节机构的臂滑动机构，

所述第2基板搬运部具备：

具有形状与矩形基板的周缘形状对应的2根第2搬运臂部件；

安装于所述第2搬运臂部件上，与矩形基板的周缘背面抵接并保持该矩形基板的保持部；

可动地支持所述第2搬运臂部件，改变所述第2搬运臂部件的相互间隔的臂间隔调节机构；

可动地支持所述臂间隔调节机构，沿所述水平搬运路径移动所述臂间隔调节机构的第2臂滑动机构，

所述臂位置调节机构要进行调节，以便在搬运时，使一侧的第1搬运臂部件与另一侧的第1搬运臂部件的相互间隔适合所述矩形基板的大小，在非搬运时，把所述第1搬运臂部件的相互间隔扩大到比搬运时的相互间隔还大，使所述第1搬运臂部件从所述水平搬运路径退避，

所述臂间隔调节机构要进行调节，以便在搬运时，使所述2条搬运臂部件的相互间隔适合所述矩形基板的大小，在非搬运时，把所述2根搬运臂部件的相互间隔缩小到比搬运时的相互间隔还窄，使第2搬运臂部件退避到所述第2处理部与第3处理部之间。

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