CN1231989A - 沉淀二氧化硅 - Google Patents

沉淀二氧化硅 Download PDF

Info

Publication number
CN1231989A
CN1231989A CN98125270A CN98125270A CN1231989A CN 1231989 A CN1231989 A CN 1231989A CN 98125270 A CN98125270 A CN 98125270A CN 98125270 A CN98125270 A CN 98125270A CN 1231989 A CN1231989 A CN 1231989A
Authority
CN
China
Prior art keywords
records
precipitated silica
index
pulverizer
lacquer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN98125270A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1199855C (zh
Inventor
穆斯塔法·瑟拉伊
约亨·舍夫勒
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Evonik Operations GmbH
Original Assignee
Degussa GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Degussa GmbH filed Critical Degussa GmbH
Publication of CN1231989A publication Critical patent/CN1231989A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1199855C publication Critical patent/CN1199855C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/187—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
    • C01B33/193—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28—Compounds of silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28—Compounds of silicon
    • C09C1/30—Silicic acid
    • C09C1/309—Combinations of treatments provided for in groups C09C1/3009 - C09C1/3081
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
    • C09C3/006—Combinations of treatments provided for in groups C09C3/04 - C09C3/12
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/42—Gloss-reducing agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/51—Particles with a specific particle size distribution
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/51—Particles with a specific particle size distribution
    • C01P2004/52—Particles with a specific particle size distribution highly monodisperse size distribution
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/80—Particles consisting of a mixture of two or more inorganic phases
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/10—Solid density
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12—Surface area
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/19—Oil-absorption capacity, e.g. DBP values
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/22—Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80—Compositional purity

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Saccharide Compounds (AREA)
  • Cosmetics (AREA)
  • Steroid Compounds (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Vending Machines For Individual Products (AREA)
  • Paper (AREA)

Abstract

本发明公开了一种沉淀二氧化硅,其具有下述物理化学参数:按照DIN 66131测得的BET表面积,m2/g 351—600按照DIN53601测得的DBP指数, % 300—360碳含量%1—8按照DIN 53194测得的压实密度,g/l 70—140按照ISO 1524测得的细度,μm 15—50用Malvern仪测量的粒度分布指数I< 1.0;上述沉淀二氧化硅可用作大漆体系中的消光剂。

Description

沉淀二氧化硅
本发明涉及一种沉淀二氧化硅，其制备方法和其作为消光剂的用途。
众所周知，合成的沉淀二氧化硅或硅胶可用作消光剂(DE-PS2414478、DE-PS1767332、DE-OS1669123、DE-AS1592865、DE-A3815670)。
二氧化硅的消光能力取决于各种因素，例如，二氧化硅的类型、粒度、粒度分布、反射指数以及大漆体系。在二氧化硅中的二次粒子的形状和粒度分布具有特殊的重要性。
除了与未消光大漆膜相比，以光泽度降低表示的效果非常明显外，用作消光剂的二氧化硅在其它大部分需求上也令人满意。因此，例如，由于引入二氧化硅，应当不会不适当地使大漆体系增稠。以相当薄的大漆可产生光滑的大漆表面。必然可避免对表面质量存在有害影响的斑点。
DE-A31 44 299描述了沉淀二氧化硅和这些沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是具有下述物理-化学性能：
按照DIN66131测得的BET表面积，m2/g 400-600
按照DIN53601测得的DBP指数，％      320-360和
按照DIN66131测得的BET表面积，m2/g 400-600
按照DIN53601测得的DBP指数，％      310-360
按照DIN53194测得的压实密度，g/l    75-120
＞63μm的“Alpine”筛渣，重量％    ＜0.1
当制备这些二氧化硅时，使用Alpine横流粉碎机或气流粉碎机将产物进行粉碎，再喷雾干燥。在该文献中还表明，这些沉淀二氧化硅是用于大漆的有价值的高效消光剂。使用这些类型的粉碎机制备的沉淀二氧化硅的缺点是表面较粗，这是由于在最后的大漆中存在大的斑点。对于公知的沉淀二氧化硅而言，在黑色烘漆中的细度(grindometer value)(按照ISO 1524)分别大于100μm和85-90μm。因而，这些沉淀二氧化硅仅在有限程度上用作消光剂。
本发明的目的是制备一种无上述缺点的沉淀二氧化硅。
本发明的目的是提供一种沉淀二氧化硅，其特征是其下述物理化学参数：
按照DIN66131测得的BET表面积，m2/g  400-600
按照DIN53601测得的DBP指数，％       300-360
按照DIN53194测得的压实密度，g/l     70-140
按照ISO1524测得的细度，μm          15-50
用Malvern仪测量的粒度分布指数Ⅰ     ＜1.0
     粒度分布指数Ⅰ=(d90-d10)/2d50
本发明的另一个目的是提供一种制备本发明的沉淀二氧化硅的方法，所述沉淀二氧化硅具有下述物理化学参数：
按照DIN66131测得的BET表面积，m2/g  400-600
按照DIN53601测得的DBP指数，％       300-360
按照DIN53194测得的压实密度，g/l     70-140
按照ISO1524测得的细度，μm          15-50
用Malvern仪测量的粒度分布指数Ⅰ     ＜1.0
           粒度分布指数Ⅰ=(d90-d10)/2d50其特征在于，具有下述物理化学性能的沉淀二氧化硅是使用分级式粉碎机或流化床逆流粉碎机进行粉碎的，
按照DIN66131测得的BET表面积，m2/g 400-600
按照DIN53601测得的DBP指数，％      340-380
按照DIN53194测得的压实密度，g/l    180-220
＞63μm的“Alpine”筛渣，重量％    25-60。
初始二氧化硅在文献DE-A3144299中有述。
在本发明的一个实施方案(将在实施例中提到)中，可使用ZPS分级式粉碎机(ZirkoplexAlpine Aktiengesellschaft D-8900Augsburg)或AFG流化床逆流粉碎机。
在本发明的另一个方面，可以对本发明的沉淀二氧化硅粉碎后进行粒度分级以调节具体的颗粒成分。在本发明优选的实施方案中，沉淀二氧化硅的粒度分布如图1所示。
例如，可以使用ATP Turboplex精细粒度分级器(AlpineAktiengesellschaft D-8900 Augsburg)进行分级。
本发明也提供一种用聚乙烯蜡乳液包衣的沉淀二氧化硅，其特征是具有下述物理化学参数：
按照DIN66131测得的BET表面积，m2/g  351-600
按照DIN53601测得的DBP指数，％       300-360
碳含量，％                          1-8
按照DIN53194测得的压实密度，g/l     7-140
按照ISO1524测得的细度，μm          15-50
用Malvern仪测量的粒度分布指数I      ＜1.0
这种沉淀二氧化硅可这样制备：
向具有下述物理化学特性的沉淀二氧化硅中加入聚乙烯蜡乳液：
按照DIN66131测得的BET表面积，m2/g 400-600
按照DIN53601测得的DBP指数，％      340-380
按照DIN53194测得的压实密度，g/l    180-220
＞63μm的“Alpine”筛渣，重量％    25-60，
然后干燥，再使用分级式粉碎机或流化床逆流粉碎机进行粉碎。
在本发明的一个实施方案中，沉淀二氧化硅可这样制备：在剪切力的作用下，将滤饼液化，加入聚乙烯蜡乳液，喷雾干燥，然后用分级式粉碎机或流化床逆流粉碎机进行粉碎。
优选以DE-A3144299所述的沉淀二氧化硅作为本发明的二氧化硅原料。
本发明的沉淀二氧化硅具有下述优点：
本发明的沉淀二氧化硅具有突出的高消光效果，其它优点有：干燥大漆表面非常光滑、高度透明、对大漆的流变性(粘度)影响很小。
图1示出了经粒度分级的沉淀二氧化硅的粒度分布。
图2示出了本发明的沉淀二氧化硅与作为比较的DE-A3144299中的沉淀二氧化硅的颗粒粒度分布。
实施例1
将按照DE-A3144299的实施例1制备的沉淀二氧化硅在来自Alpine公司的ZPS 100 Zirkoplex分级式粉碎机中进行粉碎，改变生产量和加工参数如粒度分级器的旋转速度、粉碎生产量和粉碎气流等。表1给出了在黑烘漆中得到的实验参数、物理化学数据和油漆性能。实施例2
将按照DE-A3144299的实施例1制备的沉淀二氧化硅在来自Alpine公司的AFG 200/1流化床逆流粉碎机中中进行粉碎，改变生产量和加工参数如粒度分级器的旋转速度、粉碎生产量和粉碎气流等。表2给出了在黑烘漆中得到的实验参数、物理化学数据和油漆性能。实施例3
将按照实施例1c或实施例2c(见表1和2)制备的沉淀二氧化硅在ATP 50 Turboflex精细粒度分级器中分级以得到更细和更粗的成分。表3给出了在黑烘漆中得到的加工参数、物理化学数据和油漆试验结果。实施例4(比较例)
将按照DE-A3144299的实施例6制备的未粉碎的、喷雾干燥的二氧化硅在UP 630 Alpine横流粉碎机中粉碎。表4给出了所得产品的物理化学数据和油漆性能。实施例5(比较例)
将按照DE-A3144299的实施例9制备的未粉碎的、喷雾干燥的二氧化硅在MC 500微粉碎空气喷射粉碎机中粉碎。表4给出了所得产品的物理化学数据和油漆性能。
实施例1-3制备的沉淀二氧化硅的效果和消光效能由黑烘漆进行测试。也评价了在反射角60°和85°下的Lange光泽值和Hegman细度。
B.Lange光泽仪用于测量光泽度，其是所测消光二氧化硅消光能力的一种度量。B.Lange光泽仪使用入射和反射角60°和85°。测得的光泽度以百分数表示。该值越低，则沉淀二氧化硅的消光能力越好。结果表明，为了达到相当特定的光泽度或特定的消光作用，必须使用较少的消光剂。
细度使用细度仪测量。细度用μm值表示，它是在沉淀二氧化硅经搅拌而成为最终的可喷射大漆的混合物中发现的最大颗粒的一种度量。其与干大漆膜中斑点的产生有关，从而，使用细度仪(ISO1524)可探测不希望的斑点或喷射颗粒。
使用扫描片断法可测量大漆膜表面的质量，所述方法是由Hommelwerke公司开发的，根据DIN 4768/1、DIN 4762/1E方法，以平均粗糙度(Ra)进行量度，根据DIN 4768/1法，以平均粗糙深度(RZD)进行量度。
所使用的黑烘漆具有下述组成：
                                 重量份数
碳黑糊，粘着性(tack 1)           8.0
Jagalyd R40,60％的二甲苯溶液     50.8
Maprenal MF 800,55％的丁醇溶液   25.9
Baysilone油漆添加剂OL 17，       2.0
1％的二甲苯溶液
稀释剂                           13.3
                                 100.0
稀释剂组成：
二甲苯                      75.0
丁醇                        10.0
乙氧基丙醇                  15.0
                            100.0
用桨式搅拌器以2000rpm的速度搅拌10分钟，将4g的沉淀二氧化硅搅拌形成100g的大漆。使用二甲苯(DIN；4mm喷嘴)将混合物的粘度调节至流动时间20秒。
将这种大漆喷涂在金属片上得到约30μm厚的干层，经空气干燥，在180℃下烘烤30分钟。实施例6
在两种其它试验大漆系统中，对按照实施例1a-c制备的沉淀二氧化硅、按照DE3815670制备的沉淀二氧化硅以及市售产品(Nipsil1009)的油漆性能进行测试。CC大漆
                                            重量份数Alftalat AN 950,60％Solvesso 150/丁二醇溶液     29.30Solvesso 150                                    2.60二氧化钛Kronos 2059                             33.60Aerosil R 972                                   0.20分散液：40小时球磨KU 5,60rpm，4900g Alubite珠19mmAlftalat AN 950,60％Solvesso 150/丁二醇溶液     13.00Maprenal MF 900,100％             8.10Maprenal MF 577,50％丁醇溶液      0.80丁二醇                            2.00Solvesso 150                      2.90二甲苯                            6.70DOW CORNING PA 57                 0.60对甲苯磺酸，20％丁醇溶液          0.30总计                              100.00
使用前，将3.2g的消光剂分散于150重量份的大漆中，使用桨式搅拌器以2000rpm搅拌。DD大漆
                              重量份数CAB 381-0.5                       0.3乙酸丁酯，98％浓度                11.0乙酸乙氧基丙酯                    16.5Desmophen 800                     15.0Desmophen 1100                    20.0Mowilit,50％的乙酸乙酯溶液        3.0Baysilone-大漆添加剂              0.1二甲苯                            34.1总计                              100.00
首先，使用高速搅拌器，将0.3重量份的CAB 381-0.5小心地溶解于11.0重量份的乙酸丁酯(98.0％浓度)和16.5重量份的乙酸乙氧基丙酯中。然后，将其它组分按上面给出的次序加入，通过搅拌使混合物均质。
使用前，用桨式搅拌器使光泽大漆均匀。使用桨式搅拌器以2000rpm将消光剂(表6的用量)分散至100重量份的大漆中。在脱气15分钟后，加入50g的硬化剂Desmodur L75，用桨式搅拌器以1000rpm均质2分钟。使用具有200μm缝口的刮涂机将混合物涂敷至一个经充分预清洗的玻璃块上，和一个黑色、高度光泽、涂漆的玻璃块上。
表5和表6分别给出了CC大漆与DD大漆的试验结果。为比较起见，将DE3815670的沉淀二氧化硅及市售产品NIPSIL E 1009也一并给出。测得的数据比较可从表中获得。
表1
实施例 磨速度 分级器速度 分级器流量 生产能力       粒度(Malvem) 细度     光泽度 平光光泽度     粗糙度 粘度 涂层厚度
 rpm  rpm  m3/h  kg/h  d4.3  d10   d50   d90  μm  60°  85° RZD  Ra     s     μm
 1a  10700  11000  175  10  8.34  4.48  7.03  12.89  23  23.8  72.0  48.2  2.27  0.27     36     30
 1b  10000  10500  180  15  9.76  4.53  7.11  15.84  27  21.8  70.3  48.5  2.37  0.28     36     30
 1c  10000  9000  200  30  9.34  4.52  8.03  13.87  28  24.7  67.9  43.2     34     28
 1d  10000  10000  145  15  9.97  4.27  6.78  16.13  33  26.0  73.4  47.4     38     29
表2
实施例 分级器速度 分级器流量 生产能力       粒度(Malvcm)(μm) 细度     光泽度 平光光泽度     粗糙度 粘度 涂层厚度
  rpm  m3/h  kg/h  d4.3  d10  d50  d90    μm  60°   85°  RZD   Ra   s    μm
 2a  11000  150  20  6.49  3.74  5.95  9.7     23  16.6   66.4  49.8  2.24  0.28  36     40
 2b  11000  150  40  12.9  3.69  6.68  24.3     23  21.9   58.0  36.1  2.00  0.24  39     39
 2c  10000  150  20  11.5  4.99  8.47  17.9     27  16.6   58.8  42.2  3.24  0.42
 2d  8000  150  30  12.2  5.76  11.5  19.5     39  15.6   43.8  28.2  4.30  0.55  36     42
 2e  11000  150  30  7.6  3.55  6.1  12.44     24  21.1   55.4  34.3
表3按实施例1C制备的分级的沉淀二氧化硅
实施例 成分 速度 分级器流量 生产能力           粒度(Malvem) 细度 光泽度 平光光泽度 粗糙度 粘度 涂层厚度
rpm  m3/h  kg/h    d4.3  d10  d50  d90    μm  60°  85° RZD  Ra     s     μm
 3a 细 160000  53  4.3    7.42  4.24  6.78  11.13     22  25.3  75.7  50.4     23     30
粗    12.07  8.05  11.28  16.99     33  12.1  27.6  15.5     21     30
 3b 细 16000  66  2.0    6.84  3.95  6.30  10.11     23  26.2  74.9  48.7     23     30
粗    11.18  8.26  10.93  14.45     33  12.3  26.4  14.1     21     30
 3c 细 13000  117  6.0    7.42  4.24  6.82  11.07     22  23.1  71.9  48.8  2.13  0.28     23     30
粗    11.08  8.03  10.73  14.48     33  13.9  35.6  21.7     21     30
按实施例2C制备的分级的沉淀二氧化硅
实施例 成分 产率 分级器速度 分级器流量 生产能力             粒度(Malvem) 细度     光泽度 平光光泽度 粗糙度 粘度
％  rpm  m3/h  kg/h  d4.3  d10  d50  d90  μm  80°  85°  RZD  Ra     s
 4a 细 85  13000  2.1  6.34  3.95  6.26  10.10     29  19.8  70.3  50.7  2.2  0.27    26
粗 15  10.17  8.32  9.91  12.35     29  10.9  31.2  20.3    24
 4b 粗 66  16000  2.1  7.37  3.01  4.84  11.08     17  21.8  77.8  55.8    26
粗 34  9.38  8.45  9.28  10.4     27  10.5  36.2  25.7    24
表4
               粒度(um)           细度um          光泽度 平光光泽度
    d4.3     d10     d50     d90  60°  85°
    比较例4     18.7     6.4     14.9     35.1     ＞100  10.5  15.2  4.7
比较例5     12.8     3.4     6.2     20.7     85斑点，空气泡  18.4  62.4  44.0
表5CC大漆
按照实施例 DE3815670     1a     1b     1c  NIpSIL E 1009
23℃时DIN流出时间(s)     140     149     148     135     118
涂层厚度(μm)     23     23     24     23     23
60°反射值(DIN 67530)     36.9     36.7     36.3     37.7     44.4
85°反射值(DIN 67530)     79.3     78.9     77.7     77.5     86.5
平光光泽度     42.4     42.2     41.4     39.8     42.1
表6DD大漆
按照实施例 DE38 15 670     1a     1b     1c  NIPSIL E 1009
消光剂加入量     7.5     7.5     7.5     7.5     7.5
 23℃时DIN流出时间(s)     31     42     41     32     23
 60°反射值(DIN 67530)     19.5     30     30.2     43.7     90.4
 85°反射值(DIN 67530)     55.6     68.1     68.2     74.9     97.5
使用黄滤纸测量的Macbeth RD 918光密度值     2.12     2.31     2.17     2.16     2.3
实施例7
在多种不同的大漆体系中测量了消光效果，其中每次均在相同的条件下进行大漆的制备和涂敷。
消光效率高意味着只需较少(浓度低)的消光剂来实现具体的光泽度(以60°角测量(SiC))。未知的消光剂的消光效率是以相对形式测量的，即通过与已知的消光剂进行比较而测得，从而，可避免在光泽度测量方面的变化(取决于大漆的制备与涂敷方式)。二氧化硅的粒度分布是一个重量的物理化学参数，也是影响二氧化硅消光效率的主要影响因素。基本上，可以看出，采用相同的沉淀方法，沉淀二氧化硅的消光效率会随粒径的降低而降低(反之亦然)。沉淀二氧化硅的细成分与粗成分相比具有较低的消光效率。
下面表中显示了在各种大漆体系中，本发明的沉淀二氧化硅具有较高的消光效率：
表7：在醇酸树脂/三聚氰胺树脂大漆中的试验大漆体系：按照实施例2C的配方产品醇酸树脂/三聚氰胺树脂，它比Syloid ED 5具有更高的消光率，尽管该产品更细。进而，产品2a比Nipsil E 1009和Syloid ED3更有效。
按照实施例制备的产品 加入量 粒度d4.3 粒度d10 粒度d50 粒度d90 细度 光泽度60° 光泽度85° 平光光泽度   RZD粗糙度(A/M)   Ra粗糙度(A/M) 粘度 涂层厚度
    g  μm  μm  μm  μm  s  μm
   1+3     4  12.32  6.58  11.48  18.83  32  16.0  43.0  27.0  3.43  0.46  34  32
   1+3     4  11.85  5.99  10.90  18.70  34  16.0  46.0  30  37  32
    2     4  12.22  5.76  11.53  19.50  40  16.4  45.0  28.6  4.30  0.55  36  42
  OK52022     444 11.5010.50 4.995.55  7.208.4710.41 17.9718.46  313037  16.516.616.9  64.056.847.8  47.540.230.9  3.063.24  0.360.42  383638  373827
    1     4  13.24  6.42  12.50.  20.40  33  17.8  43.6  26.8  36  30
   1+3     4  12.32  6.58  11.48  18.83  33  17.9  50.2  32.3  3.43  0.46  33  40
 Sylold ED5     4  10.47  6.30  9.58  16.82  32  18.7  51.0  32.3  3.65  0.46  32  41
   1+3     4  8.85  4.50  8.37  13.19  25  19.8  61.9  42.1  2.80  0.35  37  32
   1+3     4  8.85  4.60  8.37  13.19  25  21.0  83.0  42.0  34  40
    11     44  11.37  5.81  10.957.10  17.12  3427  21.521.8  55.270.3  33.748.5 2.37 0.28  3536  28
 Syloid ED3     4  6.04  3.62  5.54  8.88  21  22.0  73.0  51.0  2.03  0.24  35  34
按照实施例制备的产品 加入量 粒度d4.3 粒度d10 粒度d50 粒度d90 细度 光泽度60° 光泽度85° 平光光泽度   RZD粗糙度(A/M)   Ra粗糙度(A/M) 粘度 涂层厚度
    g  μm  μm  μm μm  s μm
 Nipsil E 1009     4  7.92  4.34  8.97  12.51  27  22.0  70.0  48.0  2.44  0.28  38  32
    0K607     4  4.80  4.20  18  22.5  78.5  56.0  1.70  0.20  35  32
     2+3     4  6.84  3.95  6.26  10.10  22  22.9  74.6  61.7  2.20  0.27  35  39
      2     4  12.47  4.03  7.17  29.37  27  23.1  74.1  51.0  2.08  0.26  34  41
      1     4  8.34  4.48  7.03  12.88  23  23.8  72.0  48.2  2.27  0.27  36  30
      1     4  10.10  5.03  7.80  14.71  23  24.1  70.7  46.6  36  30
      1     4  8.52  4.84  7.57  12.94  23  24.4  71.0  46.6  38  30
      1     4  9.34  4.52  8.03  13.87  28  24.7  67.9  43.2  34  28
     1+3     4  7.42  4.24  6.82  11.07  24  25.0  73.0  48.0  2.13  0.26  38  34
表8：在DD大漆中的试验大漆体系：按照配方的DD大漆比较例：Slyloid ED3
产品 加入量g  Malvern值d4.3μm 粒度d10μm 粒度d50μm 粒度d90μm 细度(A/M)μm 光密度值 光泽度60° 光泽度85° 平光光泽度 粗糙度RZD(A/M) 粗糙度Rm(A/M) 粘度g 涂层厚度μm 大漆体系
 2b  7.65  12.93  3.69  6.68  24.35     25  2.11  25.0  66.2  41.2  2.00  0.24  n.m. ca.40  DD
 2d  8.00  12.22  5.76  11.53  19.50     40  2.16  24.7  40.3  15.6  4.30  0.55  32 ca.40  DD
 3c  8.2  7.42  4.24  6.82  11.07     22  2.12  25.0  65.6  40.6  2.13  0.26  53 ca.40  DD
 2a  8.24  6.49  3.74  5.95  9.70     24  2.11  24.5  59.7  35.2  2.24  0.28  55 ca.40  DD
 1a  8.41  8.34  4.48  7.03  12.89     25  2.08  25.0  60.9  35.9  2.27  0.27  n.m. ca.40  DD
沉淀二氧化硅 10.1 7.83 4.67 7.17 11.56 23 2.01 25.0 61.9 36.9 1.95 0.24  53 ca.40  DD
 SyioldED3 10.7 6.04 3.62 5.54 8.88 21 2.24 25.0 68.2 43.2 2.03 0.24 52 ca.40 DD
表9：在DD大漆中的试验大漆体系：按照配方的DD大漆比较例：Nipsil E1009
产品 加入量g 粘度d4.3μm 粒度d10μm 粒度d50μm 粒度d90μm 细度μm 光密度值 光泽度60° 光泽度85° 平光光泽度 粗糙度RZD(A/M) 粗糙度Ra(A/M) 粘度s 涂层厚度μm 大漆体系
 2b  7.65  12.93  3.69  6.68  24.35     25  2.11  25.0  66.2  41.2  2.00  0.24  n.m. ca.40  DD
 1a  8.41  8.34  4.48  7.03  12.89     25  2.08  25.0  60.9  35.9  2.27  0.27  n.m. ca.40  DD
 NipsllE1009  11.3  7.92  4.34  6.97  12.51     27  1.96  25.0  60.5  35.5  2.44  0.28  35 ca.40  DD
表10：在卷材涂料大漆中的试验大漆体系：按照配方的卷材涂料大漆
按照实施例制备的产品 加入量 粘度d4.3 粒度d10 粒度d50 粒度d90 细度 光泽度60° 光泽度85° 平光光泽度 粘度
    g μm μm  μm μm μm      s
    HK125    2.7  4.9  9.65  17.35  30  24.0  45.0  21.0  95
Syloid C812     2  6.40  12.50  20.80  40  27.0  44.0  17.0  90
    1     2  12.36  6.20  11.33  19.31  32  27.0  46.0  21.0  101
    1     2  14.58  6.82  13.31  23.30  40  26.0  48.0  20.0  102
 Lovel HSF     2  8.74  13.22  22.96  44  29.0  42.0  13.0  77
表11：在丙烯酸分散体(含水)中的试验大漆体系：丙烯酸分散体(含水)(MB2399-134)，来自Rohm and Haas公司比较产品：AQ75N
产品名     加入量g     细度μm 光密度值 光泽度60° 光泽度85° 平光光泽度
TS100，购自DegussaAG的市售产品     0.25     41     2.5     69.3     92.3     23.0
TS100，购自DegussaAG的市售产品     0.5     41     2.4     56.1     87.0     30.9
TS100，购目DegussaAG的市售产品     0.75     41     2.28     44.7     82.0     37.3
TS100，购自DegussaAG的市售产品     1     41     2.17     30.4     73.4     43.0
按照实施例1b的沉淀二氧化硅     1     29     2.09     31.3     53.8     22.5
AQ 75N，购自crosfield的市售产品     1     28     1.95     39.0     68.2     29.2
按照实施例1b的沉淀二氧化硅     1.5     29     1.89     18.1     35.2     17.1
TS100，购自DegussaAG的市售产品     1.5     41     1.82     18.7     59.5     40.8
AQ 75N，购自crosfield的市售产品     1.5     28     1.91     31.9     61.0     29.1
按照实施例1b的沉淀二氧化硅     2     29     1.79     12.4     25.2     12.8
TS100，购目DegussaAG的市售产品     2     41     1.8     15.3     66.0     50.7
AQ 75N，购自crosfield的市售产品     2     28     1.89     27.7     53.3     25.6
AQ 75N，购目erosfield的市售产品     2.5     28     1.87     21.3     51.5     30.2
AQ 75N，购目crosfield的市售产品     4     28     -     12.2     35.8     23.6
使用来自Malvern公司的激光束衍射仪测量粒度。测量前，在搅拌及超声波下将二氧化硅分散于水中。然后，采用泵将这种二氧化硅分散液泵入仪器的光束通道(池)中。
平光光泽(sheen)是在85°下测量的光泽度与60°下测量的光泽度的差值。
粘度是使用4mm的DIN杯测量的。大漆的流出时间(以秒计)是按照DIN53211测量的。
简写说明：
CC大漆：卷材涂料大漆
DD大漆：Desmodur Desmophen大漆
        Desmodur是一种基于异氰酸酯的硬化剂
        Desmophen是一种多元醇，作为粘合剂成分
        Desmodur/Desmophen是由Bayer AG注册的商标名
CAB    乙酸丁酸纤维素
A/M    醇酸树脂/三聚氰胺大漆实施例8用聚乙烯蜡乳液涂敷
按照DE3144299的实施例1制备沉淀二氧化硅。将蜡乳液(相对于二氧化硅，5％蜡)加至已在剪切力的作用下液化的滤饼中(固含量10.8重量％)，然后剧烈搅拌30分钟。所用蜡乳液在高压釜中制备，所述高压釜可进行蒸气加热，并具有一个分散混合器。开始引入在约100℃下的于81.0重量份水中的4.8重量份的烷基聚乙二醇醚(MarlowetCFW)。然后，加入14.2重量份的低压聚乙烯蜡，加热至130℃。在达到130℃后，将分散混合器接通，进行分散30分钟。在此期间，将温度保持在130-140℃。在关闭分散混合器后，冷却至约110℃，排出最终的乳液。
所采用的聚乙烯的特征如下：
平均分子量      1000
凝固点          100-104℃
滴点            110-117℃
密度(g/cm3)    0.93
将以这种方式用蜡涂敷的二氧化硅悬浮液在快速干燥器(如喷雾干燥机)中通过雾化干燥(如两个流体喷嘴，2.8巴大气压)。干燥后的产品在机械分级式粉碎机(ZPS 50型，购自Alpine公司)中粉碎。表12给出了物化数据：
表12
    8a     8b
 N2表面积    m2/g     373     373
 CTAB-表面积  m2/g     333     333
 DBP吸收率    g/100g     330     330
 C含量        ％     3.4     3.4
 pH     7.2     7.2
压实密度      g/l     106     87
粒度分布(Malvem)(μm)d90 26.25 12.28
 d50     14.85     8.21
 d10     6.91     4.66
表13：烷基三聚氰胺大漆
    比较例*)
    8a     8b   OK500    OK520
在23℃ DIN流出时间(秒)     31     29     30     32
细度值μm     41     26     25     28
厚度μm     30     29     29     28
 60°-反射值(DIN 67530)    11.0     17.3     19.0     21.0
 85°-反射值(DlN67530)    24.3     42.9     69.5     76.9
平光光泽度    13.3     25.6     50.5     55.9
*)Degussa市售产品
表14:DD大漆
    比较例*)
    8a     8b    OK500   OK520
在23℃DIN中流出时间(秒)     23     27     29     30
加入的消光剂量(g)     8.5     8.5     8.5     8.5
60°-反射值(DIN67530)     21.6     34.4     69.9     8.6
85°-反射值(DIN67530)     33.2     67.4     88.2     32.5
平光光泽度     11.6     33.0     18.3     23.9
光密度值Macbeth RD 918使用黄滤纸测量     2.12     2.32     2.31     1.69
*)Degussa市售产品

Claims (6)

1、沉淀二氧化硅，其特征是具有下述物理化学参数：
按照DIN66131测得的BET表面积，m2/g 400-600
按照DIN53601测得的DBP指数，％      300-360
按照DIN53194测得的压实密度，g/l    70-140
按照ISO1524测得的细度，μm         15-50
用Malvern仪测量的粒度分布指数Ⅰ    ＜1.0
       粒度分布指数Ⅰ=(d90-d10)/2d50。
2、制备根据权利要求1的沉淀二氧化硅的方法，所述沉淀二氧化硅具有下述物理化学参数：
按照DIN66131测得的BET表面积，m2/g 400-600
按照DIN53601测得的DBP指数，％      300-360
按照DIN53194测得的压实密度，g/l    70-140
按照ISO1524测得的细度，μm         15-50
用Malvern仪测量的粒度分布指数Ⅰ    ＜1.0
         粒度分布指数Ⅰ=(d90-d10)/2d50其特征在于，将具有下述物理化学性能的沉淀二氧化硅用分级式粉碎机或流化床逆流粉碎机进行粉碎，
按照DIN66131测得的BET表面积，m2/g 400-600
按照DIN53601测得的DBP指数，％      340-380
按照DIN53194测得的压实密度，g/l    180-220
＞63μm的“Alpine”筛渣，重量％     25-60。
3、一种用聚乙烯蜡乳液包衣的沉淀二氧化硅，其特征是具有下述物理化学参数：
按照DIN66131测得的BET表面积，m2/g 351-600
按照DIN53601测得的DBP指数，％      300-360
碳含量，％                         1-8
按照DIN53194测得的压实密度，g/l    70-140
按照ISO1524测得的细度，μm         15-50
用Malvern仪测量的粒度分布指数Ⅰ    ＜1.0。
4、根据权利要求3的用聚乙烯蜡乳液包衣的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于，向具有下述物理化学特性的沉淀二氧化硅中加入聚乙烯蜡乳液：
按照DIN66131测得的BET表面积，m2/g  400-600
按照DIN53601测得的DBP指数，％       340-380
按照DIN53194测得的压实密度，g/1     180-220
＞63μm的“Alpine”筛渣，重量％     25-60，然后将混合物干燥，再使用分级式粉碎机或流化床逆流粉碎机进行粉碎。
5、根据权利要求4的方法，其特征在于沉淀二氧化硅是制备的，将滤饼在剪切力作用下液化，加入聚乙烯蜡乳液，将混合物喷雾干燥，并使用分级式粉碎机或流化床逆流粉碎机进行粉碎。
6、权利要求1-3的沉淀二氧化硅作为大漆体系中的消光剂的用途。
CNB981252702A 1997-12-12 1998-12-11 沉淀二氧化硅 Expired - Lifetime CN1199855C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19755287.0 1997-12-12
DE19755287A DE19755287A1 (de) 1997-12-12 1997-12-12 Fällungskieselsäure

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2004100817521A Division CN100343343C (zh) 1997-12-12 1998-12-11 用聚乙烯蜡乳液包衣的沉淀二氧化硅及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1231989A true CN1231989A (zh) 1999-10-20
CN1199855C CN1199855C (zh) 2005-05-04

Family

ID=7851703

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2004100817521A Expired - Lifetime CN100343343C (zh) 1997-12-12 1998-12-11 用聚乙烯蜡乳液包衣的沉淀二氧化硅及其制备方法
CNB981252702A Expired - Lifetime CN1199855C (zh) 1997-12-12 1998-12-11 沉淀二氧化硅

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2004100817521A Expired - Lifetime CN100343343C (zh) 1997-12-12 1998-12-11 用聚乙烯蜡乳液包衣的沉淀二氧化硅及其制备方法

Country Status (16)

Country Link
EP (1) EP0922671B1 (zh)
JP (1) JP3787446B2 (zh)
KR (1) KR100464691B1 (zh)
CN (2) CN100343343C (zh)
AT (1) ATE251595T1 (zh)
AU (1) AU736906B2 (zh)
BR (1) BR9805386A (zh)
CA (1) CA2255456A1 (zh)
DE (2) DE19755287A1 (zh)
DK (1) DK0922671T3 (zh)
ES (1) ES2207781T3 (zh)
ID (1) ID21514A (zh)
MY (1) MY129444A (zh)
PT (1) PT922671E (zh)
TR (1) TR199802589A2 (zh)
TW (1) TW520345B (zh)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100519665C (zh) * 2002-09-06 2009-07-29 德古萨公司 基于沉淀二氧化硅的高效消光剂
CN100591728C (zh) * 2006-03-01 2010-02-24 浏阳市金马硅业有限公司 基于粉石英的高效消光剂及其制备方法和应用
CN102887513A (zh) * 2012-09-14 2013-01-23 横店集团浙江英洛华硅材料有限公司 一种沉淀法生产白炭黑的设备
CN102887514A (zh) * 2012-09-14 2013-01-23 横店集团浙江英洛华硅材料有限公司 一种白炭黑生产设备改进结构
CN102887515A (zh) * 2012-09-14 2013-01-23 横店集团浙江英洛华硅材料有限公司 白炭黑生产设备
CN112617549A (zh) * 2014-12-22 2021-04-09 艾普莫森有限公司 饮用或食用容器

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TR200402354T4 (tr) * 2000-08-23 2004-12-21 Degussa Ag Silisik asitlerin balmumlarıyla kaplanması için yöntem
DE10105750A1 (de) 2001-02-08 2002-10-10 Degussa Fällungskieselsäuren mit enger Partikelgrößenverteilung
EP1541525A1 (de) * 2002-03-30 2005-06-15 Degussa AG Pyrogene Kieselsäuren mit enger Partikelgrössenverteilung
US20080202387A1 (en) * 2005-06-08 2008-08-28 Yuanjian Lu Process For Producing Silica and Sodium Sulfite With Sodium Sulfate
CN1331744C (zh) * 2005-06-08 2007-08-15 德固赛嘉联白炭黑（南平）有限公司 一种用硫酸钠法生产白炭黑和亚硫酸钠的工艺
ZA200704237B (en) * 2006-05-26 2010-01-27 Evonic Degussa Gmbh Precipitated silicas having special surface properties
ES2555780T3 (es) * 2006-12-07 2016-01-08 Grace Gmbh & Co. Kg Agente mateante
KR101559897B1 (ko) * 2007-05-03 2015-10-13 카운실 오브 사이언티픽 엔드 인더스트리얼 리서치 미세하게 분할된 침강 실리카의 제조방법
DE102007052269A1 (de) * 2007-11-02 2009-05-07 Evonik Degussa Gmbh Fällungskieselsäuren für lagerstabile RTV-1 Siliconkautschukformulierungen ohne Stabilisator
DE102008000290A1 (de) 2008-02-13 2009-08-20 Evonik Degussa Gmbh Lagerstabile Produktsyteme für Prämixformulierungen
DE102009028255A1 (de) 2009-08-05 2011-02-10 Evonik Degussa Gmbh Mikrostrukturierte multifunktionale anorganische Coating-Additive zur Vermeidung von Fouling (Biofilmbewuchs) bei aquatischen Anwendungen
DE102009036767A1 (de) 2009-08-08 2011-02-10 Evonik Degussa Gmbh Kompositpartikel für den Einsatz in der Mundhygiene
EP2407428A3 (en) * 2010-07-12 2012-04-25 Tata Consultancy Services Limited System for optimizing and controlling particle size distribution and for scale-up of nanoparticle production in an aerosol flame reactor
EP2640779B1 (de) 2010-11-18 2015-08-05 BASF Coatings GmbH Polyurethan-beschichtungsmittel, daraus hergestellte mehrschichtlackierungen mit matter oberfläche sowie verfahren zur herstellung der mehrschichtlackierungen
DE102012210294A1 (de) 2012-06-19 2013-12-19 Evonik Industries Ag Bewuchsmindernde-Additive, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung in Beschichtungen
EP3717407A1 (de) 2018-02-23 2020-10-07 Wacker Chemie AG Hoch dispergierbare gefällte kieselsäuren
EP3877331A1 (en) * 2018-11-08 2021-09-15 Rhodia Operations Precipitated silica and process for its manufacture
CN114891391B (zh) * 2022-06-15 2023-01-03 广州市印道理印刷有限公司 一种具有哑光效果的油墨及其制备工艺
WO2024104971A1 (en) 2022-11-14 2024-05-23 Rhodia Operations Modified precipitated silica, its manufacture and use

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1767332C3 (de) * 1968-04-27 1975-10-09 Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler, 6000 Frankfurt Verfahren zur Herstellung feinstteiliger, amorpher Kieselsäuren mit hoher Struktur
US4001379A (en) * 1968-04-27 1977-01-04 Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler Process of making superfine amorphous high structural silicic acid
US4038224A (en) * 1975-04-11 1977-07-26 Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler Organically modified silicic acids and silicates for delustering lacquers
US4097302A (en) * 1976-02-17 1978-06-27 Scm Corporation Flatting agents
DE3139070A1 (de) * 1981-10-01 1983-04-21 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur verringerung des grindometerwertes von hochdispersen kieselsaeuren
DE3144299A1 (de) * 1981-11-07 1983-05-19 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Faellungskieselsaeuren mit hoher struktur und verfahren zu ihrer herstellung
DE3815670A1 (de) * 1988-05-07 1990-01-25 Degussa Feinteilige faellungskieselsaeure mit hoher struktur, verfahren zu seiner herstellung und verwendung
US5221337A (en) * 1990-02-14 1993-06-22 W. R. Grace & Co.-Conn. SiO2 flatting agent, process for its production and its use
EP0668844B1 (en) * 1992-11-12 1996-09-18 Crosfield Limited Silicas
GB9517607D0 (en) * 1995-08-29 1995-11-01 Unilever Plc Silica products and uv curable systems

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100519665C (zh) * 2002-09-06 2009-07-29 德古萨公司 基于沉淀二氧化硅的高效消光剂
CN100591728C (zh) * 2006-03-01 2010-02-24 浏阳市金马硅业有限公司 基于粉石英的高效消光剂及其制备方法和应用
CN102887513A (zh) * 2012-09-14 2013-01-23 横店集团浙江英洛华硅材料有限公司 一种沉淀法生产白炭黑的设备
CN102887514A (zh) * 2012-09-14 2013-01-23 横店集团浙江英洛华硅材料有限公司 一种白炭黑生产设备改进结构
CN102887515A (zh) * 2012-09-14 2013-01-23 横店集团浙江英洛华硅材料有限公司 白炭黑生产设备
CN112617549A (zh) * 2014-12-22 2021-04-09 艾普莫森有限公司 饮用或食用容器

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11240712A (ja) 1999-09-07
ES2207781T3 (es) 2004-06-01
MY129444A (en) 2007-04-30
DE19755287A1 (de) 1999-07-08
KR19990062978A (ko) 1999-07-26
CA2255456A1 (en) 1999-06-12
ID21514A (id) 1999-06-17
CN1644632A (zh) 2005-07-27
TW520345B (en) 2003-02-11
AU736906B2 (en) 2001-08-02
EP0922671B1 (de) 2003-10-08
CN100343343C (zh) 2007-10-17
TR199802589A2 (xx) 1999-07-21
ATE251595T1 (de) 2003-10-15
JP3787446B2 (ja) 2006-06-21
DE59809859D1 (de) 2003-11-13
CN1199855C (zh) 2005-05-04
BR9805386A (pt) 1999-12-07
PT922671E (pt) 2004-03-31
KR100464691B1 (ko) 2005-04-08
EP0922671A1 (de) 1999-06-16
DK0922671T3 (da) 2004-02-09
AU9707698A (en) 1999-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1231989A (zh) 沉淀二氧化硅
CN1097622C (zh) 薄片状氧化铝和珠光颜料及其制造方法
CN1187414C (zh) 生产压块和压制的粒状材料的方法及其应用
CN1166742C (zh) 用于使塑料、漆和建筑材料着色的无机颜料颗粒和其生产方法
CN1313544C (zh) 包含作为基本粒子的薄铝片的薄铝片颜料，其制备方法及使用该颜料的涂料和油墨
CN1255465C (zh) 二氧化硅消光剂
US6228927B1 (en) Powder coating composition
CN1863734A (zh) 高吸油性无定形二氧化硅颗粒
CN86105312A (zh) 改善有机粘土分散性的方法
CN1800491A (zh) 一种喷墨打印介质的新型涂布材料及其制备方法
DE102010029945A1 (de) Neuartige Mattierungsmittel für UV-Überdrucklacke
EP1313811B1 (en) Matt paint compositions and hydrous kaolins
DE102009045104A1 (de) Neuartige Mattierungsmittel für UV-Lacke
US6383280B1 (en) Precipitated silica
CN1796277A (zh) 含有至少两种类型颗粒的分散体
JP2003192992A (ja) 塗料用艶消し剤、およびエネルギー線硬化型塗料用組成物
CN100345914C (zh) 包含基于烷氧基化双酚的表面活性添加剂的固体颜料制剂
CN1608032A (zh) 无机氧化物
CN1167759C (zh) 纳米蒙脱土改性涂料及其制备方法和用途
CN1297613C (zh) 具有提高涂料防腐蚀性功能的表面改性纳米碳酸钙
JPH09169925A (ja) 表面改質重質炭酸カルシウムとその製造方法及び水系塗料組成物
EP2483357B1 (de) Oberflächenmodifizierte kieselsäure semi-gele
KR100508961B1 (ko) 표면처리복합분체 및 그 제조방법
KR101287991B1 (ko) 방열성 분체도료
WO2021201229A1 (ja) シリカ、塗料およびシリカの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C53 Correction of patent of invention or patent application
COR Change of bibliographic data

Free format text: CORRECT: APPLICANT; FROM: DEGUSSA TO: DEGUSSA-HUELS AG

CP03 Change of name, title or address

Address after: mAhR

Applicant after: Degussa-Yuls Co., Ltd.

Address before: Frankfurt, Germany

Applicant before: Degussa AG

C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: DEGUSSA

Free format text: FORMER OWNER: DEGUSSA-HUELS AG

Effective date: 20020607

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20020607

Address after: Dusseldorf

Applicant after: Degussa AG

Address before: mAhR

Applicant before: Degussa-Yuls Co., Ltd.

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
REG Reference to a national code

Ref country code: HK

Ref legal event code: WD

Ref document number: 1020935

Country of ref document: HK

C56 Change in the name or address of the patentee

Owner name: EVONIK DEGUSSA CO., LTD.

Free format text: FORMER NAME: DECOUCHY STOCK COMPANY

CP03 Change of name, title or address

Address after: essen

Patentee after: Evonik Degussa GmbH

Address before: Dusseldorf

Patentee before: Degussa AG

CX01 Expiry of patent term

Granted publication date: 20050504

CX01 Expiry of patent term