CN117836474A - 滚筒用三价铬镀敷装置及方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供使用三价铬镀敷液，不会产生镀材的未析出部分，能够实施析出良好、均匀且耐刷力优异的三价铬镀敷的滚筒用三价铬镀敷装置及方法。滚筒用三价铬镀敷装置具备：镀敷槽，其储存有三价铬镀敷液；夹具机构，其将被处理滚筒以能够旋转且能够通电的方式把持长度方向两端并沿水平方向收容于所述镀敷槽中；及不溶性电极，其进行规定的的通电，使所述不溶性电极以规定间隔接近所述被处理滚筒的外周面，对所述外周面实施三价铬镀敷，所述不溶性电极为围绕所述被处理滚筒的外周面的周围的围绕型不溶性电极。
Description
技术领域
本发明涉及在制造使用于例如凹版印刷的中空圆筒状的凹版滚筒(也被称为制版辊)时，对长条状的中空辊的外周表面实施使用不溶性电极的三价铬镀敷的滚筒用三价铬镀敷装置及方法。
背景技术
在凹版印刷中，对中空圆筒状的被处理滚筒形成与制版信息相应的微小的凹部(单元)而制作版面，对该单元填充墨水并转印至被印刷物。一般的凹版滚筒是以圆筒状的铁芯或铝芯(中空辊)作为基材，在该基材的外周表面上形成底层、剥离层等的多个层，在其上形成镀铜等的镀敷层。并且，在该镀铜等的镀敷层，通过激光曝光装置形成与制版信息相应的单元，然后，实施用于增加凹版滚筒的耐刷力的铬镀敷等，完成制版(版面的制作)。该一般的铬镀敷为六价铬镀敷层。
但是，由于在铬镀敷工序中使用毒性高的六价铬镀敷液，因此，除了为了谋求作业的安全而花费额外的成本之外，还存在产生公害的问题，现状是期待代替六价铬层的表面强化被覆层的出现。
作为代替从六价铬镀敷液得到的六价铬镀敷层的镀敷方法，有通过三价铬镀敷液形成铬镀敷层的三价铬镀敷方法。作为三价铬镀敷液，有例如专利文献1所示的三价铬镀敷液。
另外，本案申请人也已提案有一滚筒用镀敷装置，其具备：镀敷槽，其储存有镀敷液；夹具机构，其将被处理滚筒以能够旋转且能够通电的方式把持长度方向两端并收容于所述镀敷槽中；以及相对置的一对不溶性电极，其在所述镀敷槽内与被处理滚筒的两侧面对置地垂设且进行规定的通电，使所述一对不溶性电极以规定间隔接近所述被处理滚筒的两侧面，对所述被处理滚筒的外周表面实施镀敷，所述不溶性电极具有至少使下部部分朝内侧弯曲而成的形状，且至少所述下部部分成为梳痕状部，所述不溶性电极以另一方的所述不溶性电极的所述梳痕状部的凸部位于一方的所述不溶性电极的所述梳痕状部的凹部的位置的方式交替地相对置，能以所述不溶性电极的上端部分为转动中心而使所述不溶性电极转动，能够与所述被处理滚筒的径相应地调整所述不溶性电极相对于所述被处理滚筒的外周表面的接近距离(专利文献2)。
在专利文献2的滚筒用镀敷装置中，若是采用六价铬镀敷液的一般的铬镀敷，则能够获得满足凹版印刷所要求的表面物性、即硬度、耐磨损性及均匀电沉积性等的耐刷力优异的铬镀敷层(六价铬镀敷层)。
但是，在专利文献2的滚筒用镀敷装置中，若进行采用了三价铬镀敷液的三价铬镀敷，则如图11的照片所示，会在滚筒的中央部分产生黑色的部分。这是在滚筒的一部分产生镀材几乎未析出的状态的未析出部分的状态。如此，若利用专利文献2的滚筒用镀敷装置进行采用了三价铬镀敷液的三价铬镀敷，则有在滚筒的一部分产生未析出部分的问题。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2019-123927号公报
专利文献2：WO2015/151665
发明内容
本发明是鉴于上述以往技术的问题点而开发完成的发明，其目的在于提供使用三价铬镀敷液，不会产生镀材的未析出部分，能够实施析出良好、均匀且耐刷力优异的三价铬镀敷的滚筒用三价铬镀敷装置及方法。
用于解决课题的方案
本发明的滚筒用三价铬镀敷装置具备：镀敷槽，其储存有三价铬镀敷液；夹具机构，其将被处理滚筒以能够旋转且能够通电的方式把持长度方向两端并沿水平方向收容于所述镀敷槽中；及不溶性电极，其进行规定的通电，使所述不溶性电极以规定间隔接近所述被处理滚筒的外周面，对所述外周面实施三价铬镀敷，其中，所述不溶性电极为围绕所述被处理滚筒的外周面的周围的围绕型不溶性电极。
优选为，所述围绕型不溶性电极包含：下侧围绕型不溶性电极，其围绕沿水平方向收容于所述镀敷槽中的被处理滚筒的下侧外周面的周围；及/或上侧围绕型不溶性电极，其围绕沿水平方向收容于所述镀敷槽中的被处理滚筒的上侧外周面的周围。
优选为，所述上侧围绕型不溶性电极及/或所述下侧围绕型不溶性电极是交叉型电极。
优选为，所述围绕型不溶性电极通过气缸或电动马达，与所述被处理滚筒的滚筒径相应地接近所述外周面。
优选为，所述围绕型不溶性电极通过臂的旋转运动或将间隔变宽或变窄的动作，与所述被处理滚筒的滚筒径相应地接近所述外周面。
本发明的三价铬镀敷方法使用所述滚筒用三价铬镀敷装置，用所述三价铬镀敷液对所述被处理滚筒进行镀敷处理。
本发明的凹版滚筒的制造方法使用所述滚筒用三价铬镀敷装置，用所述三价铬镀敷液对所述被处理滚筒进行镀敷处理，来制造凹版滚筒的凹版滚筒。
发明效果
根据本发明，能够达到下述显著的效果，即，能够提供能使用三价铬镀敷液实施均匀且耐刷力优异的三价铬镀敷的滚筒用三价铬镀敷装置及方法。
附图说明
图1是表示本发明的滚筒用三价铬镀敷装置的第一实施方式的左侧视图。
图2(a)是第一实施方式的滚筒用三价铬镀敷装置的主要部分立体图，是从左侧方观察的主要部分立体图。
图2(b)是第一实施方式的滚筒用三价铬镀敷装置的主要部分立体图，是从右侧方观察的主要部分立体图。
图3是表示本发明的滚筒用三价铬镀敷装置的第二实施方式的左侧视图。
图4(a)是第二实施方式的滚筒用三价铬镀敷装置的主要部分立体图，是从左侧方观察的主要部分立体图。
图4(b)是第二实施方式的滚筒用三价铬镀敷装置的主要部分立体图，是从右侧方观察的主要部分立体图。
图5是表示本发明的滚筒用三价铬镀敷装置的第三实施方式的左侧视图。
图6(a)是第三实施方式的滚筒用三价铬镀敷装置的主要部分立体图，是从左侧方观察的主要部分立体图。
图6(b)是第三实施方式的滚筒用三价铬镀敷装置的主要部分立体图，是从右侧方观察的主要部分立体图。
图7是表示本发明的滚筒用三价铬镀敷装置的第四实施方式的左侧视图。
图8是从左侧方观察第四实施方式的滚筒用三价铬镀敷装置的立体图。
图9是从上方观察第四实施方式的滚筒用三价铬镀敷装置的俯视图。
图10(a)是第四实施方式的滚筒用三价铬镀敷装置的主要部分立体图，是从左侧方观察的主要部分立体图。
图10(b)是第四实施方式的滚筒用三价铬镀敷装置的主要部分立体图，是从右侧方观察的主要部分立体图。
图11是利用专利文献2的滚筒用镀敷装置进行采用了三价铬镀敷液的三价铬镀敷所制作的凹版滚筒的照片。
具体实施方式
以下，根据附图说明关于本发明的实施方式，但图示例仅为举例说明本发明，本发明在不超出本发明的技术思想的范围下能够进行各种变更。
在图1～图2中，作为本发明的滚筒用三价铬镀敷装置的第一方式，示出滚筒用三价铬镀敷装置10A。
滚筒用三价铬镀敷装置10A是用于对被处理滚筒12实施三价铬镀敷的镀敷装置。滚筒用三价铬镀敷装置10A具备：镀敷槽14，其储存有三价铬镀敷液；夹具机构16，其将被处理滚筒以能够旋转且能够通电的方式把持长度方向两端并沿水平方向收容于所述镀敷槽中；以及不溶性电极18，其进行规定的通电，使所述不溶性电极18以规定间隔接近所述被处理滚筒12的外周面，对所述外周面实施三价铬镀敷，所述不溶性电极18为围绕所述被处理滚筒12的外周面的周围的围绕型不溶性电极。
所述围绕型不溶性电极18的结构包含：下侧围绕型不溶性电极22，其围绕沿水平方向收容于所述镀敷槽14中的被处理滚筒12的下侧外周面20的周围；及/或上侧围绕型不溶性电极26，其围绕沿水平方向收容于所述镀敷槽14中的被处理滚筒12的上侧外周面24的周围。在图1中，显示包含下侧围绕型不溶性电极22及上侧围绕型不溶性电极26双方的例子。
需要说明的是，本发明的滚筒用三价铬镀敷装置所使用的围绕型不溶性电极包括所述围绕型不溶性电极18或后述的实施方式的围绕型不溶性电极，网眼状电极优选。这是因为，若为网眼状电极，则不仅所述围绕型不溶性电极的表面，连背面也会产生电场，因此所述围绕型不溶性电极的作为电极的表面积增加，其结果是，所述围绕型不溶性电极的电流密度减少，使用寿命变长。作为网眼状电极，优选使用专利文献2中记载那样的网眼状电极。
在滚筒用三价铬镀敷装置10A中，所述下侧围绕型不溶性电极22为交叉型电极。在本说明书中，交叉型电极是指，端部呈梳痕状部的一组不溶性电极交替地交叉的电极。即，是以一组下侧围绕型不溶性电极(22a、22b)中的另一方的所述下侧围绕型不溶性电极22b的所述梳痕状部的凸部位于一方的所述下侧围绕型不溶性电极22a的梳痕状部的凹部的位置的方式交替地相对置而交叉所构成的电极。
并且，所述围绕型不溶性电极18的所述上侧围绕型不溶性电极26利用气缸28上下移动，与所述被处理滚筒12的滚筒径相应地接近所述外周面。需要说明的是，也可以取代气缸28，利用电动马达使所述上侧围绕型不溶性电极26上下移动，与所述被处理滚筒12的滚筒径相应地接近所述外周面。
并且，所述围绕型不溶性电极18的所述下侧围绕型不溶性电极22，通过臂30a、30b的旋转运动，来调节另一方的所述下侧围绕型不溶性电极22b的所述梳痕状部的凸部进入所述下侧围绕型不溶性电极22a的梳痕状部的凹部的位置的程度，从而与所述被处理滚筒12的滚筒径相应地接近所述外周面。
以往，如专利文献2所示，电极仅位于沿水平方向设置的被处理滚筒的下侧部分，但是，在本发明中，在被处理滚筒12的上侧以覆盖于所述被处理滚筒12的方式配置电极。即，特征在于，在所述被处理滚筒12的整周范围设置电极。需要说明的是，在图示例中，上侧围绕型不溶性电极26与下侧围绕型不溶性电极22被从相同电源供给电气。另外，被处理滚筒12的直径有各种不同，但是，通过使上侧围绕型不溶性电极26与下侧围绕型不溶性电极22移动，能够适用于各种直径尺寸的被处理滚筒12。
通过采用上述结构，即使进行使用了三价铬镀敷液的三价铬镀敷，也不会有在被处理滚筒12的一部分产生未析出部分的问题，能够得到析出良好、整齐、均匀且耐刷力优异的滚筒。由于耐刷力优异，因此能够适用作为凹版滚筒。另外，与专利文献2所示的仅在下侧设置电极的结构的滚筒用镀敷装置相比，滚筒用三价铬镀敷装置10A还具有电压减少约50％的效果。
作为三价铬镀敷液，可使用如专利文献1所记载的镀敷液。尤其是六价铬具有毒性，因此优选使用三价铬的三价铬镀敷液，含有三氯化铬(CrCl3(CrCl3·6H2O)等的三价铬的三价铬镀敷液为佳。并且，如专利文献1所记载的那样，作为三氯化铬的溶液，优选不使用水而使用氯化物(氯化钙或氯化锂)的溶液，使用溶解了高浓度的卤化钙的溶液为佳。另外，将如专利文献1所记载的具有特定的分解电位的溶液作为镀敷液使用为佳。
所述被处理滚筒12沿水平方向收容于所述镀敷槽14中。即，本发明的镀敷装置为将被处理滚筒12横向收容的横式的镀敷装置。在横式的镀敷装置的情况下，若在被处理滚筒12的上侧设置电极，则被处理滚筒12向所述镀敷槽14的取出或置入会成为问题，但是，通过利用气缸28使上侧围绕型不溶性电极26上下移动，能够解决被处理滚筒12向所述镀敷槽14的取出或置入的问题。
另外，也可考虑将被处理滚筒12沿铅垂方向纵向地收容于镀敷装置的立式镀敷装置的方式，但是，即使在沿铅垂方向立起的被处理滚筒12的周围配置例如筒这样的电极，也不能整齐地进行三价铬镀敷。作为采用这样的立式镀敷装置的情况下的问题，由于镀敷液从镀敷槽的下方积存，因此，在被处理滚筒的上和下，浸渍于三价铬镀敷液的时间不同。由于三价铬镀敷液为酸性，因此，会导致被处理滚筒的表面被腐蚀或被处理滚筒的表面粗糙。
另外，若为立式镀敷装置，则在镀敷液从镀敷槽下积存的期间，会成为无电解镀敷这样的状态，因此，在镀敷液中含有Ni或Fe这种杂质的情况下，有仅浸渍于镀敷液就在被处理滚筒的表面析出杂质这样的问题。
本发明的镀敷装置是被处理滚筒12沿水平方向收容于所述镀敷槽14中的横式的镀敷装置，因此，被处理滚筒12能够在旋转的状态下放入镀敷液，因此能够避免仅滚筒的一部分表面粗糙这样的问题。
接下来，作为本发明的滚筒用三价铬镀敷装置的第二方式，在图3～图4中示出滚筒用三价铬镀敷装置10B。
滚筒用三价铬镀敷装置10B具备：镀敷槽34，其储存有三价铬镀敷液；夹具机构36，其将被处理滚筒12以能够旋转且能够通电的方式把持长度方向两端并沿水平方向收容于所述镀敷槽中；及不溶性电极38，其进行规定的通电，使所述不溶性电极38以规定间隔接近所述被处理滚筒12的外周面，对所述外周面实施三价铬镀敷，所述不溶性电极38为围绕所述被处理滚筒12的外周面的周围的围绕型不溶性电极。
在图3中，所述围绕型不溶性电极38的结构含有：下侧围绕型不溶性电极42，其围绕沿水平方向收容于所述镀敷槽34中的被处理滚筒12的下侧外周面40的周围；及上侧围绕型不溶性电极46，其围绕沿水平方向收容于所述镀敷槽14中的被处理滚筒12的上侧外周面44的周围。
在滚筒用三价铬镀敷装置10B中，所述下侧围绕型不溶性电极42为交叉型电极。
并且，所述围绕型不溶性电极38的所述上侧围绕型不溶性电极46，通过臂48a、48b的旋转动作，开闭成覆盖被处理滚筒12的上部的状态与开放状态。如此，与所述被处理滚筒12的滚筒径相应地接近所述外周面。需要说明的是，臂48a、48b被未图示的驱动源所驱动。
另外，所述围绕型不溶性电极38的所述下侧围绕型不溶性电极42(42a、42b)通过臂50a、50b的旋转运动，来调节另一方的所述下侧围绕型不溶性电极42b的所述梳痕状部的凸部进入所述下侧围绕型不溶性电极42a的梳痕状部的凹部的位置的程度，从而与所述被处理滚筒12的滚筒径相应地接近所述外周面。
通过采用上述结构，即使进行使用了三价铬镀敷液的三价铬镀敷，也不会有在被处理滚筒12的一部分产生未析出部分这样的问题，能够得到析出良好、整齐、均匀且耐刷力优异的滚筒。由于耐刷力优异，因此能够适用作为凹版滚筒。另外，与专利文献2所示的仅在下侧设置电极的结构的滚筒用镀敷装置相比，滚筒用三价铬镀敷装置10B还具有电压减少约50％的效果。
接下来，作为本发明的滚筒用三价铬镀敷装置的第三方式，在图5～图6中示出显示滚筒用三价铬镀敷装置10C。
滚筒用三价铬镀敷装置10C具备：镀敷槽54，其储存有三价铬镀敷液；夹具机构56，其将被处理滚筒12以能够旋转且能够通电的方式把持长度方向两端并沿水平方向收容于所述镀敷槽中；及不溶性电极58，其进行规定的通电，使所述不溶性电极58以规定间隔接近所述被处理滚筒12的外周面，对所述外周面实施三价铬镀敷，所述不溶性电极58为围绕所述被处理滚筒12的外周面的周围的围绕型不溶性电极。
在图5中，所述围绕型不溶性电极58的结构含有：左侧围绕型不溶性电极62，其围绕沿水平方向收容于所述镀敷槽54中的被处理滚筒12的左侧外周面60的周围；及右侧围绕型不溶性电极66，其围绕沿水平方向收容于所述镀敷槽14中的被处理滚筒12的右侧外周面64的周围。
在滚筒用三价铬镀敷装置10C中，由所述左侧围绕型不溶性电极62及所述右侧围绕型不溶性电极66构成为交叉型电极。
并且，所述围绕型不溶性电极58的所述左侧围绕型不溶性电极62及所述右侧围绕型不溶性电极66，通过臂68a、68b将间隔变宽或变窄的动作，开闭成覆盖被处理滚筒12的周围的状态与开放状态。如此，通过调节所述右侧围绕型不溶性电极66的所述梳痕状部的凸部进入所述左侧围绕型不溶性电极62的梳痕状部的凹部的位置的程度，从而与所述被处理滚筒12的滚筒径相应地接近所述外周面。需要说明的是，臂68a、68b被未图示的驱动源所驱动。
通过采用上述结构，即使进行使用了三价铬镀敷液的三价铬镀敷，也不会有在被处理滚筒12的一部分产生未析出部分这样的问题，能够得到析出良好、整齐、均匀且耐刷力优异的滚筒。由于耐刷力优异，因此能够适用作为凹版滚筒。另外，与专利文献2所示的仅在下侧设置电极的结构的滚筒用镀敷装置相比，滚筒用三价铬镀敷装置10C还具有电压减少约50％的效果。
接下来，作为本发明的滚筒用三价铬镀敷装置的第四方式，在图7～图10中示出滚筒用三价铬镀敷装置10D。
滚筒用三价铬镀敷装置10D具备：镀敷槽74，其储存有三价铬镀敷液；夹具机构76，其将被处理滚筒12以能够旋转且能够通电的方式把持长度方向两端并沿水平方向收容于所述镀敷槽中；及不溶性电极78，其进行规定的通电，使所述不溶性电极78以规定间隔接近所述被处理滚筒12的外周面，对所述外周面实施三价铬镀敷，所述不溶性电极78为围绕所述被处理滚筒12的外周面的周围的围绕型不溶性电极。
在图7中，所述围绕型不溶性电极78的结构含有：下侧围绕型不溶性电极82，其围绕沿水平方向收容于所述镀敷槽74中的被处理滚筒12的下侧外周面80的周围；及上侧围绕型不溶性电极86，其围绕沿水平方向收容于所述镀敷槽74中的被处理滚筒12的上侧外周面84的周围。
在滚筒用三价铬镀敷装置10D中，所述下侧围绕型不溶性电极82及所述上侧围绕型不溶性电极86分别成为交叉型电极。
所述围绕型不溶性电极78的所述下侧围绕型不溶性电极82，通过臂90a、90b的旋转运动，来调节另一方的所述下侧围绕型不溶性电极82b的所述梳痕状部的凸部进入所述下侧围绕型不溶性电极82a的梳痕状部的凹部的位置的程度，从而与所述被处理滚筒12的滚筒径相应地接近所述外周面。需要说明的是，臂90a、90b被未图示的驱动源所驱动。
另外，所述围绕型不溶性电极78的所述上侧围绕型不溶性电极86，通过臂92a、92b的旋转运动，来调节另一方的所述上侧围绕型不溶性电极86b的所述梳痕状部的凸部进入所述上侧围绕型不溶性电极86a的梳痕状部的凹部的位置的程度，从而与所述被处理滚筒12的滚筒径相应地接近所述外周面。需要说明的是，臂92a、92b被未图示的驱动源所驱动。
通过采用上述结构，即使进行使用了三价铬镀敷液的三价铬镀敷，也不会有在被处理滚筒12的一部分产生未析出部分这样的问题，能够得到析出良好、整齐、均匀且耐刷力优异的滚筒。由于耐刷力优异，因此能够适用作为凹版滚筒。另外，与专利文献2所示的仅在下侧设置电极的结构的滚筒用镀敷装置相比，滚筒用三价铬镀敷装置10D还具有电压减少约50％的效果。
本发明的三价铬镀敷方法是使用上述本发明的滚筒用三价铬镀敷装置10A～10D，用三价铬镀敷液对所述被处理滚筒12进行镀敷处理的三价铬镀敷方法。根据本发明的三价铬镀敷方法，即使进行使用了三价铬镀敷液的三价铬镀敷，也不会有在被处理滚筒12的一部分产生未析出部分这样的问题，能够得到析出良好、整齐、均匀且耐刷力优异的滚筒。由于耐刷力优异，因此能够适用作为凹版滚筒。
本发明的凹版滚筒的制造方法是使用上述本发明的滚筒用三价铬镀敷装置10A～10D，用所述三价铬镀敷液对所述被处理滚筒进行镀敷处理来制造凹版滚筒的凹版滚筒的制造方法。根据本发明的凹版滚筒的制造方法，即使进行使用了三价铬镀敷液的三价铬镀敷，也不会有在被处理滚筒12的一部分产生未析出部分这样的问题，能够得到析出良好、整齐、均匀且耐刷力优异的凹版滚筒。
【符号说明】
10A，10B，10C，10D：三价铬镀敷装置
12：被处理滚筒
14，34，54，74：镀敷槽
16，36，56，76：夹具机构
18，38，58，78：围绕型不溶性电极
20，40，80：下侧外周面
22，22a，22b，42，42a，42b，82，82a，82b：下侧围绕型不溶性电极
24，44，84：上侧外周面
26，46，86，86a，86b：上侧围绕型不溶性电极
28：气缸
30a，30b，48a，48b，50a，50b，68a，68b，90a，90b，92a，92b：臂
60：左侧外周面
62：左侧围绕型不溶性电极
64：右侧外周面
66：右侧围绕型不溶性电极。
权利要求书(按照条约第19条的修改)
1.(修改后)一种滚筒用三价铬镀敷装置，其具备：镀敷槽，其储存有三价铬镀敷液；夹具机构，其将被处理滚筒以能够旋转且能够通电的方式把持长度方向两端并沿水平方向收容于所述镀敷槽中；及不溶性电极，其进行规定的通电，使所述不溶性电极以规定间隔接近所述被处理滚筒的外周面，对所述外周面实施三价铬镀敷，其中，
所述不溶性电极为围绕所述被处理滚筒的外周面的周围的围绕型不溶性电极，
所述围绕型不溶性电极包含：下侧围绕型不溶性电极，其围绕沿水平方向收容于所述镀敷槽中的被处理滚筒的下侧外周面的周围；及/或上侧围绕型不溶性电极，其围绕沿水平方向收容于所述镀敷槽中的被处理滚筒的上侧外周面的周围。
2.(删除)
3.(修改后)根据权利要求1所述的滚筒用三价铬镀敷装置，其中，
所述上侧围绕型不溶性电极及/或所述下侧围绕型不溶性电极是交叉型电极。
4.根据权利要求1所述的滚筒用三价铬镀敷装置，其中，
所述围绕型不溶性电极通过气缸或电动马达，与所述被处理滚筒的滚筒径相应地接近所述外周面。
5.根据权利要求1所述的滚筒用三价铬镀敷装置，其中，
所述围绕型不溶性电极通过臂的旋转运动或将间隔变宽或变窄的动作，与所述被处理滚筒的滚筒径相应地接近所述外周面。
6.(修改后)一种三价铬镀敷方法，其使用权利要求1、3至5中任一项所述的滚筒用三价铬镀敷装置，用所述三价铬镀敷液对所述被处理滚筒进行镀敷处理。
7.(修改后)一种凹版滚筒的制造方法，其使用滚筒用三价铬镀敷装置来制造凹版滚筒，
所述滚筒用三价铬镀敷装置具备：镀敷槽，其储存有三价铬镀敷液；夹具机构，其将被处理滚筒以能够旋转且能够通电的方式把持长度方向两端并沿水平方向收容于所述镀敷槽中；及不溶性电极，其进行规定的通电，使所述不溶性电极以规定间隔接近所述被处理滚筒的外周面，对所述外周面实施三价铬镀敷，其中，
所述不溶性电极为围绕所述被处理滚筒的外周面的周围的围绕型不溶性电极，
所述凹版滚筒的制造方法使用所述滚筒用三价铬镀敷装置，用所述三价铬镀敷液对所述被处理滚筒进行镀敷处理，来制造凹版滚筒。
8.(追加)一种凹版滚筒的制造方法，其使用权利要求1、3至5中任一项所述的滚筒用三价铬镀敷装置，用所述三价铬镀敷液对所述被处理滚筒进行镀敷处理，来制造凹版滚筒。
Claims (7)
1.一种滚筒用三价铬镀敷装置，其具备：镀敷槽，其储存有三价铬镀敷液；夹具机构，其将被处理滚筒以能够旋转且能够通电的方式把持长度方向两端并沿水平方向收容于所述镀敷槽中；及不溶性电极，其进行规定的通电，使所述不溶性电极以规定间隔接近所述被处理滚筒的外周面，对所述外周面实施三价铬镀敷，其中，
所述不溶性电极为围绕所述被处理滚筒的外周面的周围的围绕型不溶性电极。
2.根据权利要求1所述的滚筒用三价铬镀敷装置，其中，
所述围绕型不溶性电极包含：下侧围绕型不溶性电极，其围绕沿水平方向收容于所述镀敷槽中的被处理滚筒的下侧外周面的周围；及/或上侧围绕型不溶性电极，其围绕沿水平方向收容于所述镀敷槽中的被处理滚筒的上侧外周面的周围。
3.根据权利要求2所述的滚筒用三价铬镀敷装置，其中，
所述上侧围绕型不溶性电极及/或所述下侧围绕型不溶性电极是交叉型电极。
4.根据权利要求1所述的滚筒用三价铬镀敷装置，其中，
所述围绕型不溶性电极通过气缸或电动马达，与所述被处理滚筒的滚筒径相应地接近所述外周面。
5.根据权利要求1所述的滚筒用三价铬镀敷装置，其中，
所述围绕型不溶性电极通过臂的旋转运动或将间隔变宽或变窄的动作，与所述被处理滚筒的滚筒径相应地接近所述外周面。
6.一种三价铬镀敷方法，其使用权利要求1至5中任一项所述的滚筒用三价铬镀敷装置，用所述三价铬镀敷液对所述被处理滚筒进行镀敷处理。
7.一种凹版滚筒的制造方法，其使用权利要求1至5中任一项所述的滚筒用三价铬镀敷装置，用所述三价铬镀敷液对所述被处理滚筒进行镀敷处理，来制造凹版滚筒。
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