TW202346657A - 滾筒用三價鉻鍍敷裝置及方法 - Google Patents
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Abstract
本發明在於提供使用三價鉻鍍敷液，不會產生鍍材的未析出部分，能夠實施析出良好、均勻且耐刷力優異之三價鉻鍍敷的滾筒用三價鉻鍍敷裝置及方法。
一種滾筒用三價鉻鍍敷裝置，係具備：儲存有三價鉻鍍敷液的鍍敷槽；夾具手段，其將被處理滾筒以能夠旋轉且能夠通電的方式把持長度方向兩端並朝水平方向上收容於前述鍍敷槽中；及不溶性電極，其進行預定的的通電，使前述不溶性電極以預定間隔接近前述被處理滾筒的外周面，對前述外周面實施三價鉻鍍敷之滾筒用鍍敷裝置，前述不溶性電極為圍繞前述被處理滾筒的外周面周圍之圍繞型不溶性電極。
Description
本發明係關於當製造使用於例如凹版印刷之中空圓筒狀的凹版滾筒(亦被稱為製版輥)時，對長條狀中空輥的外周表面實施使用不溶性電極的三價鉻鍍敷之滾筒用三價鉻鍍敷裝置及方法。
在凹版印刷，對中空圓筒狀的被處理滾筒形成因應製版資訊的微小之凹部(單元)而製作版面，對該單元填充墨水並轉印至被印刷物。一般的凹版滾筒是以圓筒狀的鐵芯或鋁芯(中空輥)作為基材，在該基材的外周表面上形成底層、剝離層等的複數層，在其上面形成鍍銅等的鍍敷層。又，在此鍍銅等的鍍敷層，藉由雷射曝光裝置形成因應製版資訊的單元，然後，實施用來增加凹版滾筒的耐刷力之鍍鉻等，完成製版(版面的製作)。此一般的鉻鍍敷為六價鉻鍍敷層。
但，由於在鍍鉻製程中使用毒性高的六價鉻鍍敷液，因此，除了為了謀求作業的安全而花費額外的成本之外，還存在公害發生的問題，現狀是期待代替六價鉻層的表面强化被覆層的出現。
作為代替從六價鉻鍍敷液得到的六價鉻鍍敷層的鍍敷方法，有藉由三價鉻鍍敷液形成鉻鍍敷層的三價鉻鍍敷方法。作為三價鉻鍍敷液，有例如專利文獻1所示的三價鉻鍍敷液。
另外，本案申請人亦已提案有一滾筒用鍍敷裝置，其具備：鍍敷槽，用以儲藏鍍敷液；夾具手段，其將被處理滾筒以能夠旋轉且能夠通電的方式把持長度方向兩端並收容於前述鍍敷槽中；及相對向的一對不溶性電極，在前述鍍敷槽內與被處理滾筒的兩側面對向地垂設且進行預定的通電，使前述一對不溶性電極以預定間隔接近前述被處理滾筒的兩側面，對前述被處理滾筒的外周表面實施鍍敷之滾筒用鍍敷裝置，前述不溶性電極是具有至少使下部部分朝內側彎曲之形狀且至少前述下部部分作成為梳痕狀部，以另一方的前述不溶性電極的前述梳痕狀部的凸部位於一方的前述不溶性電極之前述梳痕狀部的凹部之位置的方式，使該等不溶性電極交互地相對向，以前述不溶性電極的上端部分為轉動中心而能使前述不溶性電極轉動，因應前述被處理滾筒的徑可調整前述不溶性電極對前述被處理滾筒之外周表面的接近距離之滾筒用鍍敷裝置(專利文獻2)。
在專利文獻2的滾筒用鍍敷裝置，若採用的六價鉻鍍敷液之一般的鍍鉻，則能夠獲得符合凹版印刷所要求之表面物性亦即硬度、耐磨損性及均等電沉積性等的耐刷力優良之鍍鉻層(六價鉻鍍敷層)。
但，在專利文獻2的滾筒用鍍敷裝置，若進行採用三價鉻鍍敷液之三價鉻鍍敷，則如圖11的照片所示，在滾筒的中央部分產生黑色的部分。此為鍍材幾乎未析出的狀態之未析出部分產生於滾筒的一部分之狀態。如此，在專利文獻2的滾筒用鍍敷裝置，若進行採用三價鉻鍍敷液之三價鉻鍍敷，則有未析出部分產生於滾筒的一部分之問題。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2019-123927號公報
[專利文獻2]WO2015/151665
[發明所欲解決之問題]
本發明係有鑑於前述以往技術問題點而開發完成的發明，其目的在於提供使用三價鉻鍍敷液，不會產生鍍材的未析出部分，能夠實施析出良好、均勻且耐刷力優異之三價鉻鍍敷的滾筒用三價鉻鍍敷裝置及方法。
[解決問題之技術手段]
本發明的滾筒用三價鉻鍍敷裝置，係具備：鍍敷槽，其儲存三價鉻鍍敷液；夾具手段，其將被處理滾筒以能夠旋轉且能夠通電的方式把持長度方向兩端並朝水平方向上收容於前述鍍敷槽中；及不溶性電極，其進行預定的通電，使前述不溶性電極以預定間隔接近前述被處理滾筒的外周面，對前述外周面實施三價鉻鍍敷之滾筒用三價鉻鍍敷裝置，前述不溶性電極為圍繞前述被處理滾筒的外周面周圍之圍繞型不溶性電極。
前述圍繞型不溶性電極，包含圍繞在前述鍍敷槽中朝水平方向收容的被處理滾筒的下側外周面的周圍之下側圍繞型不溶性電極、及/或圍繞在前述鍍敷槽中朝水平方向收容的被處理滾筒的上側外周面的周圍之上側圍繞型不溶性電極為佳。
前述上側圍繞型不溶性電極及/或前述下側圍繞型不溶性電極係交叉型電極為佳。
前述圍繞型不溶性電極藉由汽缸或電動馬達，因應前述被處理滾筒的滾筒徑而接近前述外周面為佳。
前述圍繞型不溶性電極，藉由使臂的旋轉運動或間隔變寬或變窄，因應前述被處理滾筒的滾筒徑而接近前述外周面為佳。
本發明的三價鉻鍍敷方法，係使用前述滾筒用三價鉻鍍敷裝置，以前述三價鉻鍍敷液將前述被處理滾筒進行鍍敷處理之三價鉻鍍敷方法。
本發明的凹版滾筒的製造方法，係使用前述滾筒用三價鉻鍍敷裝置，以前述三價鉻鍍敷液將前述被處理滾筒進行鍍敷處理，藉此製造凹版滾筒之凹版滾筒的製造方法。
[發明效果]
若依據本發明，能夠達到下述顯著的效果，亦即，能夠提供使用三價鉻鍍敷液，可實施均勻且耐刷力優異之三價鉻鍍敷的滾筒用三價鉻鍍敷裝置及方法。
以下依據圖面說明關於本發明的實施形態，但圖示例僅為舉例說明本發明，本發明在不超出本發明的技術思想範圍下能夠進行各種變更。
在圖1～圖2中，作為本發明之滾筒用三價鉻鍍敷裝置的第一形態，顯示滾筒用三價鉻鍍敷裝置10A。
本發明的滾筒用三價鉻鍍敷裝置10A為用來對被處理滾筒12實施三價鉻鍍敷之鍍敷裝置。本發明的滾筒用三價鉻鍍敷裝置10A，係具備：鍍敷槽14，其儲存三價鉻鍍敷液；夾具手段16，其將被處理滾筒以能夠旋轉且能夠通電的方式把持長度方向兩端並朝水平方向上收容於前述鍍敷槽中；及不溶性電極18，其進行預定的通電，使前述不溶性電極18以預定間隔接近前述被處理滾筒12的外周面，對前述外周面實施三價鉻鍍敷之滾筒用三價鉻鍍敷裝置，前述不溶性電極18為圍繞前述被處理滾筒12的外周面周圍之圍繞型不溶性電極。
前述圍繞型不溶性電極18的結構包含：圍繞朝水平方向收容於前述鍍敷槽14的被處理滾筒12的下側外周面20周圍之下側圍繞型不溶性電極22、及/或圍繞朝水平方向收容於前述鍍敷槽14的被處理滾筒12的上側外周面24周圍之上側圍繞型不溶性電極26。在圖1中，顯示包含下側圍繞型不溶性電極22及上側圍繞型不溶性電極26雙方的例子。
再者，使用於本發明的滾筒用三價鉻鍍敷裝置之圍繞型不溶性電極係為前述圍繞型不溶性電極18或包含後述的實施形態之圍繞型不溶性電極的網眼狀電極為佳。這是因為當為網眼狀電極時，由於不僅前述圍繞型不溶性電極的表面，就連背面亦會產生電場，故，前述圍繞型不溶性電極作為電極之表面積增加，其結果，前述圍繞型不溶性電極的電流密度減少，使用壽命變長。作為網眼狀電極，使用專利文獻2中記載之網眼狀電極為佳。
在滾筒用三價鉻鍍敷裝置10A，前述下側圍繞型不溶性電極22為交叉型電極。在本說明書中，交叉型電極係指端部呈梳痕狀部的一組不溶性電極交互地交叉之電極。亦即，其為以一組下側圍繞型不溶性電極(22a、22b)中的另一方的前述下側圍繞型不溶性電極22b的前述梳痕狀部的凸部位於一方的前述下側圍繞型不溶性電極22a之梳痕狀部的凹部之位置的方式交互地相對向而交叉所構成之電極。
又，前述圍繞型不溶性電極18的前述上側圍繞型不溶性電極26藉由汽缸28上下移動，因應前述被處理滾筒12的滾筒徑接近前述外周面。再者，亦可取代汽缸28，藉由電動馬達使前述上側圍繞型不溶性電極26上下移動，因應前述被處理滾筒12的滾筒徑接近前述外周面。
又，前述圍繞型不溶性電極18之前述下側圍繞型不溶性電極22，藉由臂30a、30b的旋轉運動，調節另一方的前述下側圍繞型不溶性電極22b的前述梳痕狀部的凸部進入前述下側圍繞型不溶性電極22a的梳痕狀部的凹部的位置，因應前述被處理滾筒12之滾筒徑接近前述外周面。
以往，如專利文獻2所示，電極僅位於設定水平方向上之被處理滾筒的下側部分，但，在本發明，在被處理滾筒12的上側以覆蓋於前述被處理滾筒12的方式配置電極。亦即，在前述被處理滾筒12的全周範圍設置電極為特徵。再者，在圖示例，上側圍繞型不溶性電極26與下側圍繞型不溶性電極22從相同電源供給電氣。另外，被處理滾筒12的直徑有各種不同，但，藉由使上側圍繞型不溶性電極26與下側圍繞型不溶性電極22移動，能夠適用於各種直徑尺寸之被處理滾筒12。
藉由採用前述結構，即使進行使用了三價鉻鍍敷液之三價鉻鍍敷，也不會有在被處理滾筒12的一部分產生未析出部分的問題，能夠得到析出良好、整齊地、均等並耐刷力優異之滾筒。由於耐刷力優異，故，可適用作為凹版滾筒。另外，與專利文獻2所示之僅在下側設置電極的結構的滾筒用鍍敷裝置相比，滾筒用三價鉻鍍敷裝置10A還具有電壓減少約50%的效果。
作為三價鉻鍍敷液，可使用如專利文獻1所記載的鍍敷液。尤其是六價鉻具有毒性，所以，理想使用三價鉻的三價鉻鍍敷液，含有三氯化鉻(CrCl
3(CrCl
3· 6H
2O)等之三價鉻的三價鉻鍍敷液為佳。又，如專利文獻1所記載，作為三氯化鉻的溶液，理想為不使用水而使用氯化物(氯化鈣或氯化鋰)的溶液，使用溶解了高濃度的鹵化鈣的溶液為佳。另外，將如專利文獻1所記載之具有特定的分解電位的溶液作為鍍敷液使用為佳。
前述被處理滾筒12朝水平方向上收容於前述鍍敷槽14中。亦即，本發明的鍍敷裝置為將被處理滾筒12橫向收容之橫式鍍敷裝置。在橫式鍍敷裝置的情況，若在被處理滾筒12的上側設置電極，則，被處理滾筒12向前述鍍敷槽14的取出或置入會成為問題，但，藉由以汽缸28使上側圍繞型不溶性電極26上下移動，可解決被處理滾筒12向前述鍍敷槽14之取出或置入的問題。
另外，亦可考慮將被處理滾筒12以垂直方向為縱向地收容於鍍敷裝置之立式鍍敷裝置的態樣，但，即使在朝垂直方向立起的被處理滾筒12的周圍配置例如筒這樣的電極，也不能整齊地進行三價鉻鍍敷。作為採用這樣的立式鍍敷裝置情況的問題，由於鍍敷液從鍍敷槽的下方積存，故，在被處理滾筒的上和下，浸漬於三價鉻鍍敷液的時間不同。因三價鉻鍍敷液為酸性，所以，有被處理滾筒的表面被腐蝕或被處理滾筒的表面粗糙。
且，若作成為立式鍍敷裝置，則在鍍敷液從鍍敷槽下積存的期間，會成為無電解鍍敷這樣的狀態，因此，在鍍敷液中含有Ni或Fe這種雜質的情况下，有僅浸漬於鍍敷液就在被處理滾筒的表面析出雜質的問題。
本發明的鍍敷裝置，由於被處理滾筒12是朝水平方向上收容於前述鍍敷槽14中的橫式鍍敷裝置，故，在被處理滾筒12旋轉的狀態下能夠放入鍍敷液，所以，能夠避免僅滾筒的一部分表面粗糙的問題。
其次，在圖3～圖4，作為本發明之滾筒用三價鉻鍍敷裝置的第二形態，顯示滾筒用三價鉻鍍敷裝置10B。
本發明的滾筒用三價鉻鍍敷裝置10B，係具備：鍍敷槽34，其儲存三價鉻鍍敷液；夾具手段36，其將被處理滾筒12以能夠旋轉且能夠通電的方式把持長度方向兩端並朝水平方向上收容於前述鍍敷槽中；及不溶性電極38，其進行預定的通電，使前述不溶性電極38以預定間隔接近前述被處理滾筒12的外周面，對前述外周面實施三價鉻鍍敷之滾筒用三價鉻鍍敷裝置，前述不溶性電極38為圍繞前述被處理滾筒12的外周面周圍之圍繞型不溶性電極。
在圖3中，前述圍繞型不溶性電極38的結構含有：圍繞被處理滾筒12的下側外周面40周圍之下側圍繞型不溶性電極42，該被處理滾筒朝水平方向上被收容於前述鍍敷槽34中；及上側圍繞型不溶性電極46，其圍繞朝水平方向上被收容於前述鍍敷槽14的被處理滾筒12的上側外周面44周圍。
在滾筒用三價鉻鍍敷裝置10B，前述下側圍繞型不溶性電極42為交叉型電極。
又，前述圍繞型不溶性電極38的前述上側圍繞型不溶性電極46，藉由臂48a、48b的旋轉動作，開閉成覆蓋被處理滾筒12的上部之狀態與開放狀態。如此，因應前述被處理滾筒12的滾筒徑而接近前述外周面。再者，臂48a、48b被未圖示的驅動源所驅動。
另外，前述圍繞型不溶性電極38之前述下側圍繞型不溶性電極42(42a、42b)藉由臂50a、50b的旋轉運動，調節另一方的前述下側圍繞型不溶性電極42b的前述梳痕狀部的凸部進入前述下側圍繞型不溶性電極42a的梳痕狀部的凹部的位置，因應前述被處理滾筒12之滾筒徑而接近前述外周面。
藉由採用前述結構，即使進行使用了三價鉻鍍敷液之三價鉻鍍敷，也不會有在被處理滾筒12的一部分產生未析出部分的問題，能夠得到析出良好、整齊地、均等並耐刷力優異之滾筒。由於耐刷力優異，故，可適用作為凹版滾筒。另外，與專利文獻2所示之僅在下側設置電極的結構的滾筒用鍍敷裝置相比，滾筒用三價鉻鍍敷裝置10B還具有電壓減少約50%的效果。
其次，在圖5～圖6，作為本發明之滾筒用三價鉻鍍敷裝置的第三形態，顯示滾筒用三價鉻鍍敷裝置10C。
本發明的滾筒用三價鉻鍍敷裝置10C，係具備：鍍敷槽54，其儲存三價鉻鍍敷液；夾具手段56，其將被處理滾筒12以能夠旋轉且能夠通電的方式把持長度方向兩端並朝水平方向上收容於前述鍍敷槽中；及不溶性電極58，其進行預定的通電，使前述不溶性電極58以預定間隔接近前述被處理滾筒12的外周面，對前述外周面實施三價鉻鍍敷之滾筒用三價鉻鍍敷裝置，前述不溶性電極58為圍繞前述被處理滾筒12的外周面周圍之圍繞型不溶性電極。
在圖5中，前述圍繞型不溶性電極58的結構含有：圍繞被處理滾筒12的左側外周面60周圍之左側圍繞型不溶性電極62，該被處理滾筒朝水平方向上被收容於前述鍍敷槽54中；及右側圍繞型不溶性電極66，其圍繞朝水平方向上被收容於前述鍍敷槽14的被處理滾筒12的右側外周面64周圍。
在滾筒用三價鉻鍍敷裝置10C，前述左側圍繞型不溶性電極62及前述右側圍繞型不溶性電極66構成為交叉型電極。
又，前述圍繞型不溶性電極58的前述左側圍繞型不溶性電極62及前述右側圍繞型不溶性電極66，藉由臂68a、68b將間隔變寬或變窄之動作，開閉成覆蓋被處理滾筒12的周圍之狀態與開放狀態。如此，藉由調節前述右側圍繞型不溶性電極66的前述梳痕狀部的凸部進入前述左側圍繞型不溶性電極62的梳痕狀部的凹部的位置，因應前述被處理滾筒12之滾筒徑而接近前述外周面。再者，臂68a、68b被未圖示的驅動源所驅動。
藉由採用前述結構，即使進行使用了三價鉻鍍敷液之三價鉻鍍敷，也不會有在被處理滾筒12的一部分產生未析出部分的問題，能夠得到析出良好、整齊地、均等並耐刷力優異之滾筒。由於耐刷力優異，故，可適用作為凹版滾筒。另外，與專利文獻2所示之僅在下側設置電極的結構的滾筒用鍍敷裝置相比，滾筒用三價鉻鍍敷裝置10C還具有電壓減少約50%的效果。
其次，在圖7～圖10，作為本發明之滾筒用三價鉻鍍敷裝置的第四形態，顯示滾筒用三價鉻鍍敷裝置10D。
本發明的滾筒用三價鉻鍍敷裝置10D，係具備：鍍敷槽74，其儲存三價鉻鍍敷液；夾具手段76，其將被處理滾筒12以能夠旋轉且能夠通電的方式把持長度方向兩端並朝水平方向上收容於前述鍍敷槽中；及不溶性電極78，其進行預定的通電，使前述不溶性電極78以預定間隔接近前述被處理滾筒12的外周面，對前述外周面實施三價鉻鍍敷之滾筒用三價鉻鍍敷裝置，前述不溶性電極78為圍繞前述被處理滾筒12的外周面周圍之圍繞型不溶性電極。
在圖7中，前述圍繞型不溶性電極78的結構含有：圍繞被處理滾筒12的下側外周面80周圍之下側圍繞型不溶性電極82，該被處理滾筒朝水平方向上被收容於前述鍍敷槽74中；及上側圍繞型不溶性電極86，其圍繞朝水平方向上被收容於前述鍍敷槽74的被處理滾筒12的上側外周面84周圍。
在滾筒用三價鉻鍍敷裝置10D，前述下側圍繞型不溶性電極82及前述上側圍繞型不溶性電極86分別成為交叉型電極。
前述圍繞型不溶性電極78之前述下側圍繞型不溶性電極82，藉由臂90a、90b的旋轉運動，調節另一方的前述下側圍繞型不溶性電極82b的前述梳痕狀部的凸部進入前述下側圍繞型不溶性電極82a的梳痕狀部的凹部的位置，因應前述被處理滾筒12之滾筒徑接近前述外周面。再者，臂90a、90b被未圖示的驅動源所驅動。
另外，前述圍繞型不溶性電極78之前述上側圍繞型不溶性電極86，藉由臂92a、92b的旋轉運動，調節另一方的前述上側圍繞型不溶性電極86b的前述梳痕狀部的凸部進入前述上側圍繞型不溶性電極86a的梳痕狀部的凹部的位置，因應前述被處理滾筒12之滾筒徑接近前述外周面。再者，臂92a、92b被未圖示的驅動源所驅動。
藉由採用前述結構，即使進行使用了三價鉻鍍敷液之三價鉻鍍敷，也不會有在被處理滾筒12的一部分產生未析出部分的問題，能夠得到析出良好、整齊地、均等並耐刷力優異之滾筒。由於耐刷力優異，故，可適用作為凹版滾筒。另外，與專利文獻2所示之僅在下側設置電極的結構的滾筒用鍍敷裝置相比，滾筒用三價鉻鍍敷裝置10D還具有電壓減少約50%的效果。
本發明的三價鉻鍍敷方法，係使用前述本發明之滾筒用三價鉻鍍敷裝置10A~10D，以三價鉻鍍敷液將前述被處理滾筒12進行鍍敷處理之三價鉻鍍敷方法。若依據本發明之三價鉻鍍敷方法，即使進行使用了三價鉻鍍敷液之三價鉻鍍敷，也不會有在被處理滾筒12的一部分產生未析出部分的問題，能夠得到析出良好、整齊地、均等並耐刷力優異之滾筒。由於耐刷力優異，故，可適用作為凹版滾筒。
本發明的凹版滾筒的製造方法，係使用前述本發明之滾筒用三價鉻鍍敷裝置10A~10D，以前述三價鉻鍍敷液將前述被處理滾筒進行鍍敷處理，藉此製造凹版滾筒之凹版滾筒的製造方法。若依據本發明之凹版滾筒的製造方法，即使進行使用了三價鉻鍍敷液之三價鉻鍍敷，也不會有在被處理滾筒12的一部分產生未析出部分的問題，能夠得到析出良好、整齊地、均等並耐刷力優異之凹版滾筒。
10A,10B,10C,10D:三價鉻鍍敷裝置
12:被處理滾筒
14,34,54,74:鍍敷槽
16,36,56,76:夾具手段
18,38,58,78:圍繞型不溶性電極
20,40,80:下側外周面
22,22a,22b,42,42a,42b,82,82a,82b:下側圍繞型不溶性電極
24,44,84:上側外周面
26,46,86,86a,86b:上側圍繞型不溶性電極
28:汽缸
30a,30b,48a,48b,50a,50b,68a,68b,90a,90b,92a,92b:臂
60:左側外周面
62:左側圍繞型不溶性電極
64:右側外周面
66:右側圍繞型不溶性電極
[圖1]係顯示本發明之滾筒用三價鉻鍍敷裝置的第一實施形態的左側面圖。
[圖2(a)]係第一實施形態的滾筒用三價鉻鍍敷裝置之主要部分立體圖，從左側方觀察的主要部分立體圖。
[圖2(b)]係第一實施形態的滾筒用三價鉻鍍敷裝置之主要部分立體圖，從右側方觀察的主要部分立體圖。
[圖3]係顯示本發明之滾筒用三價鉻鍍敷裝置的第二實施形態的左側面圖。
[圖4(a)]係第二實施形態的滾筒用三價鉻鍍敷裝置之主要部分立體圖，從左側方觀察的主要部分立體圖。
[圖4(b)]係第二實施形態的滾筒用三價鉻鍍敷裝置之主要部分立體圖，從右側方觀察的主要部分立體圖。
[圖5]係顯示本發明之滾筒用三價鉻鍍敷裝置的第三實施形態的左側面圖。
[圖6(a)]係第三實施形態的滾筒用三價鉻鍍敷裝置之主要部分立體圖，從左側方觀察的主要部分立體圖。
[圖6(b)]係第三實施形態的滾筒用三價鉻鍍敷裝置之主要部分立體圖，從右側方觀察的主要部分立體圖。
[圖7]係顯示本發明之滾筒用三價鉻鍍敷裝置的第四實施形態的左側面圖。
[圖8]係從左側方觀察第四實施形態的滾筒用三價鉻鍍敷裝置之立體圖。
[圖9]係從上方觀察第四實施形態的滾筒用三價鉻鍍敷裝置之平面圖。
[圖10(a)]係第四實施形態的滾筒用三價鉻鍍敷裝置之主要部分立體圖，從左側方觀察的主要部分立體圖。
[圖10(b)]係第四實施形態的滾筒用三價鉻鍍敷裝置之主要部分立體圖，從右側方觀察的主要部分立體圖。
[圖11]係藉由專利文獻2的滾筒用鍍敷裝置，進行採用三價鉻鍍敷液之三價鉻鍍敷所製作的凹版滾筒之照片。
10A:三價鉻鍍敷裝置
12:被處理滾筒
14:鍍敷槽
16:夾具手段
18:圍繞型不溶性電極
20:下側外周面
22:下側圍繞型不溶性電極
24:上側外周面
26:上側圍繞型不溶性電極
28:汽缸
Claims (7)
- 一種滾筒用三價鉻鍍敷裝置，係具備：鍍敷槽，其儲存有三價鉻鍍敷液；夾具手段，其將被處理滾筒以能夠旋轉且能夠通電的方式把持長度方向兩端並朝水平方向上收容於前述鍍敷槽中；及不溶性電極，其進行預定的通電，使前述不溶性電極以預定間隔接近前述被處理滾筒的外周面，對前述外周面實施三價鉻鍍敷之滾筒用三價鉻鍍敷裝置， 前述不溶性電極為圍繞前述被處理滾筒的外周面周圍之圍繞型不溶性電極。
- 如請求項1的滾筒用三價鉻鍍敷裝置，其中，前述圍繞型不溶性電極包含：下側圍繞型不溶性電極，其圍繞朝水平方向收容於前述鍍敷槽中的被處理滾筒的下側外周面的周圍；及/或上側圍繞型不溶性電極，其圍繞朝水平方向收容於前述鍍敷槽中的被處理滾筒的上側外周面的周圍。
- 如請求項2的滾筒用三價鉻鍍敷裝置，其中，前述上側圍繞型不溶性電極及/或前述下側圍繞型不溶性電極係交叉型電極。
- 如請求項1的滾筒用三價鉻鍍敷裝置，其中，前述圍繞型不溶性電極藉由汽缸或電動馬達，因應前述被處理滾筒的滾筒徑而接近前述外周面。
- 如請求項1的滾筒用三價鉻鍍敷裝置，其中，前述圍繞型不溶性電極藉由臂的旋轉運動或將間隔變寬或變窄的運動，因應前述被處理滾筒的滾筒徑而接近前述外周面。
- 一種三價鉻鍍敷方法，係使用如請求項1至5中任一項之滾筒用三價鉻鍍敷裝置，以前述三價鉻鍍敷液將前述被處理滾筒進行鍍敷處理。
- 一種凹版滾筒的製造方法，係使用如請求項1至5中任一項之滾筒用三價鉻鍍敷裝置，以前述三價鉻鍍敷液將前述被處理滾筒進行鍍敷處理，藉此製造凹版滾筒。
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