JPS60169592A - ライニング金属層電着装置 - Google Patents
ライニング金属層電着装置Info
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- JPS60169592A JPS60169592A JP59236540A JP23654084A JPS60169592A JP S60169592 A JPS60169592 A JP S60169592A JP 59236540 A JP59236540 A JP 59236540A JP 23654084 A JP23654084 A JP 23654084A JP S60169592 A JPS60169592 A JP S60169592A
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 47
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 47
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 title claims description 21
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 8
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 238000003869 coulometry Methods 0.000 claims 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 2
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001474791 Proboscis Species 0.000 description 1
- 241000277331 Salmonidae Species 0.000 description 1
- 240000005499 Sasa Species 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 210000000744 eyelid Anatomy 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- LWUVWAREOOAHDW-UHFFFAOYSA-N lead silver Chemical compound [Ag].[Pb] LWUVWAREOOAHDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006166 lysate Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/08—Electroplating with moving electrolyte e.g. jet electroplating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
- C25D7/0614—Strips or foils
-
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- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
- C25D7/0614—Strips or foils
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、燕巣上の利用分野
本発明は′電解浴を通して移動する金属ストIJツブの
少くとも一方の表面上にライニング金属層を連続]ごh
作て高い電流密度で電着する装置であって、陰極「aθ
IL供給装置とじb働し、金属ストリップの移動方向に
対して横方向に延びかつ金属ストIJツブのトラバース
速度お実質的に同じ円周速度で金ノ1)ストリップと接
触して軸線のまイつりに回転する少くとも11固の嗜、
′祇ローラを1屑え、前ム己′蹴)祥浴を通して移動す
るストリップの少くとも一方のべ面に対向して少くとも
1個の陽極を前記電解浴中に設けた電着装置に関する。
少くとも一方の表面上にライニング金属層を連続]ごh
作て高い電流密度で電着する装置であって、陰極「aθ
IL供給装置とじb働し、金属ストリップの移動方向に
対して横方向に延びかつ金属ストIJツブのトラバース
速度お実質的に同じ円周速度で金ノ1)ストリップと接
触して軸線のまイつりに回転する少くとも11固の嗜、
′祇ローラを1屑え、前ム己′蹴)祥浴を通して移動す
るストリップの少くとも一方のべ面に対向して少くとも
1個の陽極を前記電解浴中に設けた電着装置に関する。
口、従来の技術
今日まで知られているこの型式の装置、特に陽極と対向
して比較的に高い速度で移動する金属シート、すなわち
、ストリップ上に非常に7(シいめ一つき層が得られる
装置1亙においては、過熱のおそれがあるために、電流
密度はどちらかといえは低くしである。
して比較的に高い速度で移動する金属シート、すなわち
、ストリップ上に非常に7(シいめ一つき層が得られる
装置1亙においては、過熱のおそれがあるために、電流
密度はどちらかといえは低くしである。
ハ1発明が解決しようとする問題点
9゛6際に、前記の既知の装置においては、1滅極′L
1υ1tが回転軸を介して導電ローラに送られ、そして
金属シートの電流密度が回転軸レベルにおいて回転軸そ
してローラずらをも過熱しその結果ひずませるような高
い電ひIC密度を発生しないで150 A、/am2を
超えてかろうじて上昇できるこ(!:1こ気(tQ)だ
。
1υ1tが回転軸を介して導電ローラに送られ、そして
金属シートの電流密度が回転軸レベルにおいて回転軸そ
してローラずらをも過熱しその結果ひずませるような高
い電ひIC密度を発生しないで150 A、/am2を
超えてかろうじて上昇できるこ(!:1こ気(tQ)だ
。
このために、ローラを損傷しかつ前記ローラと金属シー
トとの間の接触面積を減少するおそれを生じ、その結果
、このレベルにスパークが発生して金属シート上の陰極
めつき層の質に悪影響をおよほすことが避けられない。
トとの間の接触面積を減少するおそれを生じ、その結果
、このレベルにスパークが発生して金属シート上の陰極
めつき層の質に悪影響をおよほすことが避けられない。
本発明の本質的な目的の一つは、過熱才たは・−4装置
の作動韮たはめっき層の質に悪影響をおよほずその他の
問題を惹き起こすおそれがなく連続操作でしかも金属シ
ー(・側について350 A/ dm2に到滝しうる電
流密にで1゜、着を行うための新しい装置を提供するこ
とである。
の作動韮たはめっき層の質に悪影響をおよほずその他の
問題を惹き起こすおそれがなく連続操作でしかも金属シ
ー(・側について350 A/ dm2に到滝しうる電
流密にで1゜、着を行うための新しい装置を提供するこ
とである。
二3問題点を解決するための手段
この目的のために、本発明による装置ζこおいでは、等
重性ローラの少くきも一部分か中空ζこなっておりかつ
陰極亀!Q ’亀綜が金属ストリップが押しつりもれた
外面部分の反対側にあるローラの円筒形内面上にわたっ
て分布せしめられた一連の並列に接続されたj妾点を備
えている。
重性ローラの少くきも一部分か中空ζこなっておりかつ
陰極亀!Q ’亀綜が金属ストリップが押しつりもれた
外面部分の反対側にあるローラの円筒形内面上にわたっ
て分布せしめられた一連の並列に接続されたj妾点を備
えている。
前記接点は金属スト’Jツブが協働するローラの外jm
の反対側のローラのli’o紀円面に対して弾撥的にか
つ括1勤しうるように押しつけしれた′−流供給ブラシ
を1〕市えているとン釘利である。
の反対側のローラのli’o紀円面に対して弾撥的にか
つ括1勤しうるように押しつけしれた′−流供給ブラシ
を1〕市えているとン釘利である。
本発明の特に有利な芙71ii+態様においては、ロー
ラの円筒形状の内面はその円筒形状の外面に対して偏心
しており力)つ〜;ノ記外面の開率中心はローラの回転
軸線上にある。
ラの円筒形状の内面はその円筒形状の外面に対して偏心
しており力)つ〜;ノ記外面の開率中心はローラの回転
軸線上にある。
本発明の好ましい一実jJam様においては、ローラは
外面が金属ストリップと協イ動しかつ内面が陰極冨流供
給接点と協働する導電性の円筒形状ケーシングを(11
イfえており、前記ケーシングは該ケーシングの外面の
祠]線のまわりに回転する回転軸と一体にイ音成された
少くとも1間の’lj ff’Rに装着されている。
外面が金属ストリップと協イ動しかつ内面が陰極冨流供
給接点と協働する導電性の円筒形状ケーシングを(11
イfえており、前記ケーシングは該ケーシングの外面の
祠]線のまわりに回転する回転軸と一体にイ音成された
少くとも1間の’lj ff’Rに装着されている。
ホ、実施例及び作用
本発明のその他の細部およびt1白−似は添(’Jは1
面に示した笑施例に関する以下の説明から理肪″されよ
う。
面に示した笑施例に関する以下の説明から理肪″されよ
う。
すべての図において、同一の符号は同様P採、ぺまたは
同一の要素を示している。
同一の要素を示している。
本発明は′嶋解浴を通して移動する金1ボストIJツブ
の少くとも一方の面の上にライニング金属層を連続操作
でしかも高い、E流密夏て亀右する装置に関する。
の少くとも一方の面の上にライニング金属層を連続操作
でしかも高い、E流密夏て亀右する装置に関する。
畝流密朋は一般に金属ストIJツブの片側について50
= 350 A / dm2である。
= 350 A / dm2である。
この装置は、さらに特別的に述べると、毎分600米ま
での非常に高いトラバース速度で9動する金属ス) I
Jツブ上に薄いコーティングを形成する装置である。
での非常に高いトラバース速度で9動する金属ス) I
Jツブ上に薄いコーティングを形成する装置である。
第1Lぎ1に示した本発明による装置の笑施悪様Cは、
′屯j「浴2を名′む′屯%’<槽1を(Iiijえて
おり、金属ストリップ3、特にスチールストリップか′
醒解浴2を通って移動するようになっている。
′屯j「浴2を名′む′屯%’<槽1を(Iiijえて
おり、金属ストリップ3、特にスチールストリップか′
醒解浴2を通って移動するようになっている。
()IJ記屯1’+’N ’vm 1の両側には、矢印
6で示したストリップの移I!・、り方向に対して/1
.へ方向に延びる心、’r14性のローラ4,5か設け
られている。
6で示したストリップの移I!・、り方向に対して/1
.へ方向に延びる心、’r14性のローラ4,5か設け
られている。
1)1」記ローラ4,5の谷々は、回′吐軸7のまわり
に回1賦ずろようになっている。スチールストリップ3
はローラ4の円筒形状の外面8ζこ押しつけられたシリ
ンダ9を介してijf+ Me外面8からその一部分に
わたって?だ内される。その結果、金腐ストリップ3は
ローラ4の円周速度lこ等しいトラバース速度そ有して
いる。
に回1賦ずろようになっている。スチールストリップ3
はローラ4の円筒形状の外面8ζこ押しつけられたシリ
ンダ9を介してijf+ Me外面8からその一部分に
わたって?だ内される。その結果、金腐ストリップ3は
ローラ4の円周速度lこ等しいトラバース速度そ有して
いる。
=JQ了ll! 1から尋出された輩属ストリップ3は
同様な態様でシリンダ10により導電ローラ5の円筒形
状の外面8に沿って撓談せられる。
同様な態様でシリンダ10により導電ローラ5の円筒形
状の外面8に沿って撓談せられる。
本発明lζよれば、@記導電ローラ4,5の各々は少く
とも部分的に中空になっており、そして好ましくは外面
8が金属ストリップ3(!:協働しかつ内面12が一連
の陰極電流供給接点13と協働する円筒形ケーシング1
1からなっており、接点13は並列に接続されかつ金属
ストリップ3が押しつりられた外面8の部分の反対側の
前記円筒形状の内面12の部分にわたって分布せしめら
れている。
とも部分的に中空になっており、そして好ましくは外面
8が金属ストリップ3(!:協働しかつ内面12が一連
の陰極電流供給接点13と協働する円筒形ケーシング1
1からなっており、接点13は並列に接続されかつ金属
ストリップ3が押しつりられた外面8の部分の反対側の
前記円筒形状の内面12の部分にわたって分布せしめら
れている。
4礪ローラ4および5は、このようにして、戊知の装置
の場合のように金属ストIJツゾ3を局部的に加熱する
おそれを伴なわないで、金ス・」イストリップ3に高い
陰極電流密度を与えることができる。
の場合のように金属ストIJツゾ3を局部的に加熱する
おそれを伴なわないで、金ス・」イストリップ3に高い
陰極電流密度を与えることができる。
前記接点13は、ローラ4および50円筒形ケーシング
11の前記内面12に対して弾撥的にしかも摺動しうる
ように押しつけられたブラシからなっている。
11の前記内面12に対して弾撥的にしかも摺動しうる
ように押しつけられたブラシからなっている。
さらに詳しく述べるき、前記ブラシはコイルばね150
作用に抗してシース14の内側に摺動しうるように装着
されている。コイルばね15はブラシ13と内面12と
を伍笑に接触させる作用をする。
作用に抗してシース14の内側に摺動しうるように装着
されている。コイルばね15はブラシ13と内面12と
を伍笑に接触させる作用をする。
ブラシ13を担持した111記シース14は、円筒形ケ
ーシング11の内(1に配置されたプレート16の円形
端縁17にYifつて欠出して配置心されかつ分布ぜし
められている。
ーシング11の内(1に配置されたプレート16の円形
端縁17にYifつて欠出して配置心されかつ分布ぜし
められている。
ケーシング11の円筒形状の内面12は、円ms形の外
面8に対しかつシース14を支持したプレート16の円
形の下(tiU端縁17に対して偏心している吉有利で
ある。
面8に対しかつシース14を支持したプレート16の円
形の下(tiU端縁17に対して偏心している吉有利で
ある。
従って、ケーシング11の厚さは一定しておらリー、最
大(直と杖lJ\値とのILiJを連続して変化してい
る。
大(直と杖lJ\値とのILiJを連続して変化してい
る。
このようにしで、1iiJ記円筒形ケーシング11の回
転中、ブラシ13はシース14の内Il+IJで前後方
向に連続的に3jy励せしめられそれによりはね150
ロツクを回避しかつブラシ13とケーシング11の1j
iJ記内面12との完全な装線を保証している。
転中、ブラシ13はシース14の内Il+IJで前後方
向に連続的に3jy励せしめられそれによりはね150
ロツクを回避しかつブラシ13とケーシング11の1j
iJ記内面12との完全な装線を保証している。
従って、前記実施態様においては、円筒形状の外面80
曲率中心およびプレート16の円形端縁17の曲率中心
は、ローラ4および°5の回転II!lII線上にある
。
曲率中心およびプレート16の円形端縁17の曲率中心
は、ローラ4および°5の回転II!lII線上にある
。
第2図に示した実jM態様においては、接点13は回転
軸7吉一体に構成された中央ボス18の両側lこおいて
ケーシング11の側縁ζこ1膵1接して自己6元されて
いる。
軸7吉一体に構成された中央ボス18の両側lこおいて
ケーシング11の側縁ζこ1膵1接して自己6元されて
いる。
回り低側Jγはブラシ13を担持したプレート16を貫
通して延び、そしてプレート16には、スリーブ19が
一体に形成されている。前記回転軸7はスリーブ19の
内部で回転するようになっている。
通して延び、そしてプレート16には、スリーブ19が
一体に形成されている。前記回転軸7はスリーブ19の
内部で回転するようになっている。
プレート16ならびにスリーブ19it、、陰憾屯流を
ブラシ13に供給するために直接に使用できるようζこ
、等電性材料で構成することができる。
ブラシ13に供給するために直接に使用できるようζこ
、等電性材料で構成することができる。
このような実施態様においては、おそらくは、iす記プ
レート16およびスリーブ19の外面上に絶縁保獲層を
設けることができよう。
レート16およびスリーブ19の外面上に絶縁保獲層を
設けることができよう。
導電ローラ4および5は、′電解浴2の外側でしかもス
トUツブが電解浴2を通って移動するときにストリップ
に発生する菟圧損を最小限にとどめるためにミツ9r浴
21こできるだけ接近して配置されている。
トUツブが電解浴2を通って移動するときにストリップ
に発生する菟圧損を最小限にとどめるためにミツ9r浴
21こできるだけ接近して配置されている。
框プ痒借 1 は、 実f電的lこ、2jlsの ス
リ ノ ト 21 お、J:、 0’ 22 ヲ有スル
l;h: ササtL タ%形?5B 材20 ヲ’j+
# エでいる。
リ ノ ト 21 お、J:、 0’ 22 ヲ有スル
l;h: ササtL タ%形?5B 材20 ヲ’j+
# エでいる。
金属ス) IJツブ3はスリット21から箱形部材2u
の中ζζ入り、前記Aij形部拐20の中に収納された
1・114.(I/i、2を通ってスリッ[・22から
鱒、出される。
の中ζζ入り、前記Aij形部拐20の中に収納された
1・114.(I/i、2を通ってスリッ[・22から
鱒、出される。
+d)11818散は箱形部材20の上側リヱ部26お
よび下間壁部27に設けたインゼクタ25により箱形部
材20の中tこ連カヅtして供給される。
よび下間壁部27に設けたインゼクタ25により箱形部
材20の中tこ連カヅtして供給される。
従って、%47’j1′−液の注入は、矢印28で示し
たように、池解液を通しでのシートの移動方向に対して
横方向に、二重形部材2oの中で加圧状態で行われる。
たように、池解液を通しでのシートの移動方向に対して
横方向に、二重形部材2oの中で加圧状態で行われる。
屯解故は箱形部材2oから前記スリット21および22
を辿って泥出し、箱形部材2oの下方に配置されたタン
ク29の中に回収される。タンク ゛29からの電解液
は、循環ポンプ30により加圧されてインゼクタ25に
戻される。
を辿って泥出し、箱形部材2oの下方に配置されたタン
ク29の中に回収される。タンク ゛29からの電解液
は、循環ポンプ30により加圧されてインゼクタ25に
戻される。
この点について(□・注、電)ちイ液回路は、二つの主
ライン31および32を備えている。主ライン31およ
び32の各々は、相形部材20の片0III iこ終端
しかつ箱形部材20の上側および下側への箪j′汀液の
流量を調節可能ならしめる主弁33を・1iifjえて
いる。
ライン31および32を備えている。主ライン31およ
び32の各々は、相形部材20の片0III iこ終端
しかつ箱形部材20の上側および下側への箪j′汀液の
流量を調節可能ならしめる主弁33を・1iifjえて
いる。
一連の平行な二次ライン34が主ライン31 ;16よ
び32から前3己インゼクク25の谷々にjλ<:fl
うtされている。
び32から前3己インゼクク25の谷々にjλ<:fl
うtされている。
箱形部材20の内側に、そして上181 ;HY一部2
6および下側壁部27に対向して、例えは、鉛−銀合金
で製造された不溶性の1@極35および36が設けられ
ている。
6および下側壁部27に対向して、例えは、鉛−銀合金
で製造された不溶性の1@極35および36が設けられ
ている。
前記陽イ返35および36はインセ゛クク25にλ」向
した位置に電解液のための通路37を有してい等しい間
隔にある1撮極35および36の間の真中の平面中で〜
、解温浴2通過する。前記間隔は陽極35.36の全長
にわたって一定であり、一般に8ynmないし20 m
mの範囲内である。
した位置に電解液のための通路37を有してい等しい間
隔にある1撮極35および36の間の真中の平面中で〜
、解温浴2通過する。前記間隔は陽極35.36の全長
にわたって一定であり、一般に8ynmないし20 m
mの範囲内である。
ローラ4および5が箱形部材20から溢流する・、d温
液により湿重量されることを阻止するために、金属スト
リップ3はローラー4吉スリツト21さの間にl配’i
i:された1対のシーリングシリンダ38および39と
、スリン1−22とローラ5との間に配置された1対の
同様なシーリングローラ40および41との間を、lI
n過する。
液により湿重量されることを阻止するために、金属スト
リップ3はローラー4吉スリツト21さの間にl配’i
i:された1対のシーリングシリンダ38および39と
、スリン1−22とローラ5との間に配置された1対の
同様なシーリングローラ40および41との間を、lI
n過する。
第3図は本発明による導′也・注ローラ4または5の第
三の実施態様を示している。
三の実施態様を示している。
(j′lJ記ローラ4,5は、ブラシ13が円筒形ケー
シング11のイ則縁にl、”4.4妾して目己15さ才
tないて内面12にわたって均一に分布するように配置
されている点で、記2図ζこ示したローラ4,5と異な
っている。
シング11のイ則縁にl、”4.4妾して目己15さ才
tないて内面12にわたって均一に分布するように配置
されている点で、記2図ζこ示したローラ4,5と異な
っている。
この笑施j火様においては、ボス18が円筒形ケーシン
グ11の一方の側縁に設けられている。ある長さのロー
ラに対しては、おそらくは、ボスの反対側に円筒形ケー
シング11の反対・11111の端縁を支持することが
できる図示していない取外し可aしなチーク(chee
k )を設りると有用であるかもしれない。
グ11の一方の側縁に設けられている。ある長さのロー
ラに対しては、おそらくは、ボスの反対側に円筒形ケー
シング11の反対・11111の端縁を支持することが
できる図示していない取外し可aしなチーク(chee
k )を設りると有用であるかもしれない。
へ1発明の効果
′電解液が金1.〈ストリップ3に対して実質的に直角
な方向に沿ってインゼクク25により箱形部材20の中
に供給されるために、市解イ谷2σ)中に流体動力学的
な乱流が発生ずる。イン・ゼクク25θ)入口に設けら
れた弁33.42により、非常に却1則正しいMt体動
力学的な流れがイ肩られそれにより金属スh IJツブ
」二に非常に均質な゛電着層の形成を保証することがで
きる。
な方向に沿ってインゼクク25により箱形部材20の中
に供給されるために、市解イ谷2σ)中に流体動力学的
な乱流が発生ずる。イン・ゼクク25θ)入口に設けら
れた弁33.42により、非常に却1則正しいMt体動
力学的な流れがイ肩られそれにより金属スh IJツブ
」二に非常に均質な゛電着層の形成を保証することがで
きる。
第4図は陽極35および36を貫通した通路31の別の
実施態様のxlo部を示している0この実施態様におい
ては、箱形部材20の中に注入された電解液は金属スト
リップ30表面に沿って斜めの方向にそらされるように
fljlj仰される。
実施態様のxlo部を示している0この実施態様におい
ては、箱形部材20の中に注入された電解液は金属スト
リップ30表面に沿って斜めの方向にそらされるように
fljlj仰される。
本発明による装置は、さらに、以下に記載した例により
例示することにする。
例示することにする。
例 1
使用された電着装置および電)・」イ浴は次の特性を持
っていた。
っていた。
イi」形部材20の長さ2500票り
箱形部材20の幅: 4 Q [1rIIm1褐(ボ3
5.36と金属ストリップ3との間の間14 ’ 1
0 〕1IIL 向極35および36の性質:、・d−銀0.8%金属ス
金属スラーリップトラバース速/2t ”ilJ:分2
00m1ibiノit:智Ii: 500 A / d
m2(一方の側ニツイテ)i、l= j’l了’(&
の ’1lG1 ’ Zn” : 8 5 ’J /
aH2So、 : 1359/ 1 1シLP−パf浴のr+”R+k : b OoCIG
られた亜鉛めっき層の性質:1.5F/m2のj句買な
元沢のあるめっきkj (片側について)陰41λ′喝
侃効=:9s% 全+4rtiC: 900 OA スチールシートからなる金属ストリップ0の幅=300
龍 喝角了液の流量:毎時30 m” 例 2 例1に使用された′4屏槽と同じ′電解槽が使用された
。その他のパラメータは次のとおりであった。
5.36と金属ストリップ3との間の間14 ’ 1
0 〕1IIL 向極35および36の性質:、・d−銀0.8%金属ス
金属スラーリップトラバース速/2t ”ilJ:分2
00m1ibiノit:智Ii: 500 A / d
m2(一方の側ニツイテ)i、l= j’l了’(&
の ’1lG1 ’ Zn” : 8 5 ’J /
aH2So、 : 1359/ 1 1シLP−パf浴のr+”R+k : b OoCIG
られた亜鉛めっき層の性質:1.5F/m2のj句買な
元沢のあるめっきkj (片側について)陰41λ′喝
侃効=:9s% 全+4rtiC: 900 OA スチールシートからなる金属ストリップ0の幅=300
龍 喝角了液の流量:毎時30 m” 例 2 例1に使用された′4屏槽と同じ′電解槽が使用された
。その他のパラメータは次のとおりであった。
金属ストリップ3のトラバース速朋:毎分400m!4
L If−密度: 25 U A / dm” (片側
について)1屁解液の1生質: CrO3” : 45
g/ 1H2So、: 0.59/1 i温浴の4”Rr度:6CJ’C Crのめ一つき十〇rux : 114m97 m”の
Cr (両側に対して) 金属クロムめっきのための1呉極軍υ1を効率=34′
%全市流ニア500A スチールストリップの幅: 3 Q Q mm箱形部材
20を通過する電解液の流量:毎時25m3最大ト極屯
流値は導′屯性ローラ4および5のサイズにより左右さ
れるが、いずれにせよ、長さ15 Ll 07nm、直
径500 mmOローラに対しては100.000アン
ペアよりも大きい。
L If−密度: 25 U A / dm” (片側
について)1屁解液の1生質: CrO3” : 45
g/ 1H2So、: 0.59/1 i温浴の4”Rr度:6CJ’C Crのめ一つき十〇rux : 114m97 m”の
Cr (両側に対して) 金属クロムめっきのための1呉極軍υ1を効率=34′
%全市流ニア500A スチールストリップの幅: 3 Q Q mm箱形部材
20を通過する電解液の流量:毎時25m3最大ト極屯
流値は導′屯性ローラ4および5のサイズにより左右さ
れるが、いずれにせよ、長さ15 Ll 07nm、直
径500 mmOローラに対しては100.000アン
ペアよりも大きい。
ブラシ13の数もまたローラの内側に得られるスペース
により左右される。従って、ある長さのローラに対して
は、ケーシング11を支持したボス180両・lIIす
に複数列、例えは、二列のブラシを設けることができよ
う。
により左右される。従って、ある長さのローラに対して
は、ケーシング11を支持したボス180両・lIIす
に複数列、例えは、二列のブラシを設けることができよ
う。
比較目9に短い箱形部材20に対しては、おそらくは、
1個のも・、・祇ローラを・1史用することができょう
。その場合には、「1−ラは箱形部材2oの上υ1c側
に配置されることが好ましく、家、1図で(」ローラ4
に相当する。
1個のも・、・祇ローラを・1史用することができょう
。その場合には、「1−ラは箱形部材2oの上υ1c側
に配置されることが好ましく、家、1図で(」ローラ4
に相当する。
金!、・J6ストIJツブ3の一方の面のみをライニン
グ、すなわち、コーティングするためには、金属ストリ
ップ0のライニングされるillにヌ寸向した1吻極の
みに、力を供給すれはよい。
グ、すなわち、コーティングするためには、金属ストリ
ップ0のライニングされるillにヌ寸向した1吻極の
みに、力を供給すれはよい。
陽極電流の供給は、例えは、図示していない鋼棒を通し
て行うこきができる。
て行うこきができる。
才だ、可削性l’i ’ifiを使用することもできる
が、その場合には、勿論、′電解浴の円部に陽極とスト
リップとの間に拠賀的に一定の同12°6を保持し力)
っ陽極が?Ij費されたときに陽極を椴り替んるための
装置が必要である。
が、その場合には、勿論、′電解浴の円部に陽極とスト
リップとの間に拠賀的に一定の同12°6を保持し力)
っ陽極が?Ij費されたときに陽極を椴り替んるための
装置が必要である。
ある場合には、それ自体が既知である装置を使用するこ
とができるが、この装置を示ずこさは不必要であると考
えたので、図示していない。
とができるが、この装置を示ずこさは不必要であると考
えたので、図示していない。
最後に、例えは、金属ストIJツブ3がローラ5に沿っ
てitされる箱形部材20からの出口において、前記金
属ストIJツブ3はその両側に配j直された付加的なシ
リンダ43および44により乾燥させることができる。
てitされる箱形部材20からの出口において、前記金
属ストIJツブ3はその両側に配j直された付加的なシ
リンダ43および44により乾燥させることができる。
前記付加的なシリンダ43゜44ならびにシリンダ38
,39,40,41i沫例えば水分を吸収する実質的に
弾性の材料の層45を備えることができる。
,39,40,41i沫例えば水分を吸収する実質的に
弾性の材料の層45を備えることができる。
本発明が決して上記の実施態様に限定されるものではな
くそして特許請求の範囲に記載の本発明の範囲から逸脱
するこさなく多くの変更を′*)rl)!しうることを
理解しなければならない。例え(注、接点のサイズおよ
び形状ならびにローラの内041jの接点の取付は方法
および数は変更することができる。
くそして特許請求の範囲に記載の本発明の範囲から逸脱
するこさなく多くの変更を′*)rl)!しうることを
理解しなければならない。例え(注、接点のサイズおよ
び形状ならびにローラの内041jの接点の取付は方法
および数は変更することができる。
また、比較的に厚いめっき層を得るために、本発明によ
る複数個の装置を直列に配置すると十分である。
る複数個の装置を直列に配置すると十分である。
ブラシ13を冷却する装置を必要な場合に設けることも
できよう。
できよう。
特に636図に示した実施態様に対する本発明の別の実
施)占様においては、回転軸7を固定することができる
。このような場合には、プレート16が回転軸7に固定
され、一方ローラ4,5がころ軸受を介して回転軸7と
協働するようになっている。
施)占様においては、回転軸7を固定することができる
。このような場合には、プレート16が回転軸7に固定
され、一方ローラ4,5がころ軸受を介して回転軸7と
協働するようになっている。
第1図は本発明による装置揉の背定の一笑施悪様の図ル
′(用の長手方向M面図、第2図は第1図をn−]線で
裁ったより大きい縮尺で示したh面図、第6図は本発明
による第二実施、1π様を示した第2図と同様な図解用
の長手方向1ノr面はI、ie:4図は本発明による装
置の別の部分の図)す9′用の艮手方向のf山1図でC
しる。 2・・・−フリ・を浴、3・・・金属ストリップ、4,
5・・導電ローラ、7・・回転軸、8・・・ローラ外面
、12・・・ローラ内面、13・・接点、14・・シー
ス、15・・・は゛ね、16・・プレート、18・・ボ
ス、19・・・スリーブ、20 ・箱形部材、2’l、
22・・スリット、23.24・・・側壁部、25・・
・インゼクタ、29・・タンク、30・・・ポンプ、3
3・・弁、35.36 ・陽極、38.39,40.4
1 ・・シーリングシリンダ。 代理人浅村 晧
′(用の長手方向M面図、第2図は第1図をn−]線で
裁ったより大きい縮尺で示したh面図、第6図は本発明
による第二実施、1π様を示した第2図と同様な図解用
の長手方向1ノr面はI、ie:4図は本発明による装
置の別の部分の図)す9′用の艮手方向のf山1図でC
しる。 2・・・−フリ・を浴、3・・・金属ストリップ、4,
5・・導電ローラ、7・・回転軸、8・・・ローラ外面
、12・・・ローラ内面、13・・接点、14・・シー
ス、15・・・は゛ね、16・・プレート、18・・ボ
ス、19・・・スリーブ、20 ・箱形部材、2’l、
22・・スリット、23.24・・・側壁部、25・・
・インゼクタ、29・・タンク、30・・・ポンプ、3
3・・弁、35.36 ・陽極、38.39,40.4
1 ・・シーリングシリンダ。 代理人浅村 晧
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)電解浴を通って移動する金属ストリップの少くと
も一方の面上にライニング金玩層を連続操作でしかも高
い電流智度で電着する装置であって、陰極電流供給装置
と協働し、金属ストリップの移動方向lこ対して横方向
に延びかつ金属ストリップのトラバース速度と実質的に
同じ円周速度で金絹ストリップき接触して軸線の韮わり
に回転する少くとも11固の導゛屯ローラを備え、前記
′電解浴を通して移動する金属ストIJツブの少くとも
一方の曲に対向して少くとも1個の14極を前記1p4
iヂf浴中に設け、前記尋′屯ローラが少くとも部分的
に中墾てありかつ前記陰極−流供給装置が一連の並列に
J妾続された接点を備え、前記接点が金属ストリップ0
が押しつけられた外面部分の反対側のローラの円筒形状
の内IH1にわたって分布せしめられていることを特徴
とするライニング金属層′畝篇装f70(2、特許請求
の範囲第1項に記載の電着装置において、前記接点が金
属ストリップが協働するローラの外向の反対側のローラ
の前記内面に対して弾l)(的にしかも摺動しつるよう
に押しつけられた電流供給ブラシを備えていることを特
徴とする’t ’jM装j5i二。 (3) 特許、請求の範囲第2項に記載の電着装置にお
いて、前記ブラシが該ブラシを前記ローラの内面に押し
つけるはねの作用に抗して内側シースの内側に摺動しう
るように装置されていることを特徴とする岨ンE1装置
しイ。 (4)!1ケ許請求の範囲第2項およQ・第6項のいず
れか1狽1こi己載の電着装置において、10記ブラシ
がローラの内i+1!lに設けられた少くとも1個の固
定されたザボートに装7首され、かつ前記ブラシのまわ
りG =記ローラが回転しうるようになっていることを
tiq向とする電着装置。 (5)特許請求の範囲第4項に記載の嵯庸装置において
、前記ローラの円筒形状の内面がその円筒形状の外面に
対して偏心しかつ前記外面の曲率中心がローラの回転軸
線上にあることを特徴とする・電着装置。 (6)特許請求の範囲第1項から第5項までのいずれか
1項に記載の電着装置において、前記接点が前記ローラ
の両方の側縁に牌接して配置されているこ々を特徴さす
る電着装置。 (力 特許請求の範囲第1項から第6項才でのいずれか
1項に記載の電着装置において、前記ローラが外面が金
属ストリップと協働しかつ円面が陰極電流供給接点と協
働する円筒形の導′屯ケーシングを備え、前記ケーシン
グが該ケーシングの外面の軸線の才わりに回転する回転
軸と一体に構成された少くとも1個のディスクに装着さ
れていることを特徴とする電着装置。 (8)特許請求の範囲第7.11!に記載の電治装置に
おいて、前記ブラシを支持したサポートが前記ケーシン
グが装着されたディスクに対して実質的に平行な関係に
前記円筒形ケーシングの内側に配fiされた固定された
プレートから実質的6どなるこ♂を特徴とする電着装置
。 (9)特許請求の範囲第8項に記載の゛電着装置におい
て、円筒形ケーシングの回転軸がブラシを支持する固定
されたプレートを貫通して延び、かつ前記プレートがス
リーブと一体に1.6成され、前記回転軸が前記スリー
ブの内部で回転するようになっていることを特徴とする
電量装置。 (10)特許請求の範囲第9項に記載の′ht着装置に
おいて、前記プレートおよびスリーブが前記ブラシに対
する1鐘51框′直流供給装置として使用できるように
費′1玩性材料で;・:4遺されていることを特徴とす
る+a :’7 装 lj () 01)Lけ許請求の範12Il sis 1項から第1
0項才でのいずれか1項に記載の電着装置において、前
記導蹴ローラが電解浴の外側に配aされていることを特
赦とするIa着装置。 (12、特許請求の範囲第1項から第11項才でのいず
れか1項に記載の電着装置において、金属シートが′祇
j眸イ夜によるローラの湿γ閏を1討止するようにロー
ラと成解浴との間に配置された少くとも1対のシーリン
グローラの間を′通過するようになっていることを特徴
とする電着装置。 (13) 特許請求の範囲第1項から第12項才でのい
ずれか1項に記載の電着装置において、さらに、・電解
浴を収納しかつ対向した側壁部に2個のスリットを有す
る箱形部材を備え、前記金属ストリップが前記2個のス
リットを通って’rlf jQ¥浴を通過するようにな
っており、さらに、前記箱形部材中に加圧された電解液
を供給するために設けられかつ前記金属ストリップの移
動方向に対して横方向に延びる注入装置を備え、前記電
解液が前記スリットを通って前記箱形部材から流出しか
つ前記箱形部材の下方に配置されたタンクの中に回収さ
れて前記注入装置に再循環せしめられることを特徴とす
る電着装置。 (I4)特許請求の範囲第16項に記載の電着装置1J
において、前記注入装置が前記箱形部材の内部の電解液
の流量を調節するための弁を備えているこ吉を特徴さす
る電着装置。 (15) 特許請求の範囲第1項から第14項までのい
ずれか1項に記載の電着装置において、金属ストリップ
が陽極から8−20節の距離で電解浴を通過するようζ
どなっていることを特徴とする電着装置直。 (16) 特許請求の範囲第1項から鵠15項才でのい
ずれか1項に記載の′I5着装置により金属層で被覆さ
れた全組ストリップ、特にスチールシート。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
LU85086A LU85086A1 (fr) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | Dispositif pour le depot electrolytique d'une couche d'un metal de recouvrement sur une bande metallique |
LU85.086 | 1983-11-11 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60169592A true JPS60169592A (ja) | 1985-09-03 |
Family
ID=19730171
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59236540A Pending JPS60169592A (ja) | 1983-11-11 | 1984-11-09 | ライニング金属層電着装置 |
Country Status (15)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4559123A (ja) |
JP (1) | JPS60169592A (ja) |
AT (1) | AT381959B (ja) |
BE (1) | BE901001A (ja) |
CA (1) | CA1239616A (ja) |
DE (1) | DE3440457C2 (ja) |
DZ (1) | DZ698A1 (ja) |
ES (1) | ES8604322A1 (ja) |
FR (1) | FR2554833B1 (ja) |
GB (1) | GB2149820B (ja) |
IE (1) | IE56097B1 (ja) |
IT (1) | IT1177122B (ja) |
LU (1) | LU85086A1 (ja) |
NL (1) | NL8403361A (ja) |
SE (1) | SE457802B (ja) |
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---|---|---|---|---|
JP2009503263A (ja) * | 2005-08-03 | 2009-01-29 | ゲブリューダー シュミット ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー | 基板を処理する、特に基板を電気メッキする装置 |
WO2019116633A1 (ja) * | 2017-12-15 | 2019-06-20 | 富山住友電工株式会社 | 金属多孔体の製造方法、及びめっき処理装置 |
WO2019116632A1 (ja) * | 2017-12-15 | 2019-06-20 | 富山住友電工株式会社 | 金属多孔体の製造方法、及びめっき処理装置 |
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CN114481268B (zh) * | 2022-02-09 | 2024-07-02 | 安徽奋进环保科技股份有限公司 | 一种钢带用电镀设备 |
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US4183799A (en) * | 1978-08-31 | 1980-01-15 | Production Machinery Corporation | Apparatus for plating a layer onto a metal strip |
LU80496A1 (fr) * | 1978-11-09 | 1980-06-05 | Cockerill | Procede et diopositif pour le depot electrolytique en continu et a haute densite de courant d'un metal de recouvrement sur une tole |
-
1983
- 1983-11-11 LU LU85086A patent/LU85086A1/fr unknown
-
1984
- 1984-10-25 SE SE8405345A patent/SE457802B/sv not_active IP Right Cessation
- 1984-10-29 GB GB08427329A patent/GB2149820B/en not_active Expired
- 1984-11-05 NL NL8403361A patent/NL8403361A/nl active Search and Examination
- 1984-11-06 FR FR848416865A patent/FR2554833B1/fr not_active Expired
- 1984-11-06 DE DE3440457A patent/DE3440457C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1984-11-07 BE BE0/213967A patent/BE901001A/fr not_active IP Right Cessation
- 1984-11-07 DZ DZ847323A patent/DZ698A1/fr active
- 1984-11-07 IT IT23471/84A patent/IT1177122B/it active
- 1984-11-08 ES ES537559A patent/ES8604322A1/es not_active Expired
- 1984-11-09 CA CA000467538A patent/CA1239616A/en not_active Expired
- 1984-11-09 JP JP59236540A patent/JPS60169592A/ja active Pending
- 1984-11-09 US US06/669,829 patent/US4559123A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-11-09 IE IE2888/84A patent/IE56097B1/en not_active IP Right Cessation
- 1984-11-12 AT AT0356884A patent/AT381959B/de not_active IP Right Cessation
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WO2019116633A1 (ja) * | 2017-12-15 | 2019-06-20 | 富山住友電工株式会社 | 金属多孔体の製造方法、及びめっき処理装置 |
WO2019116632A1 (ja) * | 2017-12-15 | 2019-06-20 | 富山住友電工株式会社 | 金属多孔体の製造方法、及びめっき処理装置 |
JPWO2019116633A1 (ja) * | 2017-12-15 | 2020-10-22 | 富山住友電工株式会社 | 金属多孔体の製造方法、及びめっき処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4559123A (en) | 1985-12-17 |
GB8427329D0 (en) | 1984-12-05 |
BE901001A (fr) | 1985-03-01 |
IE56097B1 (en) | 1991-04-10 |
DE3440457A1 (de) | 1985-05-23 |
SE8405345L (sv) | 1985-05-12 |
AT381959B (de) | 1986-12-29 |
GB2149820A (en) | 1985-06-19 |
ATA356884A (de) | 1986-05-15 |
ES537559A0 (es) | 1986-01-16 |
DZ698A1 (fr) | 2004-09-13 |
NL8403361A (nl) | 1985-06-03 |
CA1239616A (en) | 1988-07-26 |
SE8405345D0 (sv) | 1984-10-25 |
FR2554833A1 (fr) | 1985-05-17 |
IT8423471A0 (it) | 1984-11-07 |
SE457802B (sv) | 1989-01-30 |
IT1177122B (it) | 1987-08-26 |
IT8423471A1 (it) | 1986-05-07 |
DE3440457C2 (de) | 1994-11-03 |
ES8604322A1 (es) | 1986-01-16 |
LU85086A1 (fr) | 1985-07-17 |
GB2149820B (en) | 1988-02-10 |
FR2554833B1 (fr) | 1989-10-27 |
IE842888L (en) | 1985-05-11 |
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