WO2023167009A1 - シリンダ用３価クロムめっき装置及び方法 - Google Patents

シリンダ用３価クロムめっき装置及び方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2023167009A1
WO2023167009A1 PCT/JP2023/005674 JP2023005674W WO2023167009A1 WO 2023167009 A1 WO2023167009 A1 WO 2023167009A1 JP 2023005674 W JP2023005674 W JP 2023005674W WO 2023167009 A1 WO2023167009 A1 WO 2023167009A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
cylinder
trivalent chromium
chromium plating
insoluble electrode
surrounding
Prior art date
Application number
PCT/JP2023/005674
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
申太郎 菅原
暁剛 劉
Original Assignee
株式会社シンク・ラボラトリー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社シンク・ラボラトリー filed Critical 株式会社シンク・ラボラトリー
Priority to CN202380013241.7A priority Critical patent/CN117836474A/zh
Priority to KR1020247006858A priority patent/KR20240033149A/ko
Priority to JP2023543113A priority patent/JP7406872B1/ja
Publication of WO2023167009A1 publication Critical patent/WO2023167009A1/ja

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/06—Suspending or supporting devices for articles to be coated
    • C25D17/08—Supporting racks, i.e. not for suspending
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10—Electrodes, e.g. composition, counter electrode
    • C25D17/12—Shape or form
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12—Process control or regulation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
    • C25D3/06—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium from solutions of trivalent chromium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/04—Tubes; Rings; Hollow bodies

Definitions

  • the present invention for example, in manufacturing a hollow cylindrical gravure cylinder (also called plate-making roll) used for gravure printing, for applying trivalent chromium plating using an insoluble electrode to the outer peripheral surface of a long hollow roll.
  • the present invention relates to a cylinder trivalent chromium plating apparatus and method.
  • a general gravure cylinder uses a cylindrical iron core or aluminum core (hollow roll) as a base material, and multiple layers such as a base layer and a release layer are formed on the outer peripheral surface of the base material, and a copper A plating layer such as plating is formed. Then, a laser exposure device is used to form cells corresponding to the plate-making information on the plated layer such as copper plating, and then chromium plating is applied to increase the printing durability of the gravure cylinder.
  • This common chromium plating is a hexavalent chromium plating layer.
  • a plating method that replaces the hexavalent chromium plating layer obtained from a hexavalent chromium plating solution there is a trivalent chromium plating method that forms a chromium plating layer with a trivalent chromium plating solution.
  • a trivalent chromium plating solution for example, there is a trivalent chromium plating solution disclosed in Patent Document 1.
  • the applicant of the present application has proposed a plating bath in which a plating solution is stored, chuck means for holding both longitudinal ends of a cylinder to be processed so as to be rotatable and energized and accommodated in the plating bath, and a plate to be processed in the plating bath.
  • a pair of mutually opposed insoluble electrodes are vertically installed to face both side surfaces of the processing cylinder and are energized in a predetermined manner, and the pair of insoluble electrodes are adjacent to both side surfaces of the cylinder to be processed at a predetermined interval.
  • the outer peripheral surface of the cylinder to be treated is plated, wherein the insoluble electrode has a shape in which at least a lower portion is curved inward, and at least the lower portion is The insoluble electrodes are alternately opposed to each other such that the protrusions of the comb-like portion of one of the insoluble electrodes are positioned at the positions of the concave portions of the comb-like portion of one of the insoluble electrodes.
  • the insoluble electrode is rotatable around the upper end of the cylinder, and the close distance of the insoluble electrode to the outer peripheral surface of the cylinder to be treated can be adjusted according to the diameter of the cylinder to be treated.
  • Patent Document 2 A plating apparatus has already been proposed (Patent Document 2).
  • the plating apparatus for cylinders of Patent Document 2 satisfies the surface physical properties required for gravure printing, such as hardness, abrasion resistance, and throwing power, for general chromium plating using a hexavalent chromium plating solution.
  • the present invention has been made in view of the problems of the prior art described above. It is an object of the present invention to provide an apparatus and method for trivalent chromium plating for cylinders capable of performing valent chromium plating.
  • the trivalent chromium plating apparatus for cylinders of the present invention comprises a plating bath in which a trivalent chromium plating solution is stored, and a cylinder to be treated, which is held horizontally at both ends in the longitudinal direction so as to be rotatable and energized, in the plating bath. and an insoluble electrode to which a predetermined energization is applied.
  • the insoluble electrode is brought close to the outer peripheral surface of the cylinder to be treated at a predetermined interval, and the outer peripheral surface is plated with trivalent chromium.
  • the trivalent chromium plating apparatus for cylinders wherein the insoluble electrode is a surrounding insoluble electrode that surrounds the outer peripheral surface of the cylinder to be treated.
  • the surrounding insoluble electrode is a lower surrounding insoluble electrode that surrounds the periphery of the lower outer peripheral surface of the cylinder to be treated that is horizontally accommodated in the plating bath, and/or is horizontally accommodated in the plating bath. It preferably includes an upper surrounding insoluble electrode that surrounds the perimeter of the upper peripheral surface of the cylinder to be treated.
  • the upper surrounding insoluble electrode and/or the lower surrounding insoluble electrode are intersecting electrodes.
  • the surrounding insoluble electrode is brought close to the outer peripheral surface by an air cylinder or an electric motor according to the cylinder diameter of the cylinder to be treated.
  • the surrounding insoluble electrode is brought closer to the outer peripheral surface according to the cylinder diameter of the cylinder to be processed by rotating the arm or by widening or narrowing the gap.
  • the trivalent chromium plating method of the present invention is a trivalent chromium plating method in which the cylinder to be treated is plated with the trivalent chromium plating solution using the cylinder trivalent chromium plating apparatus.
  • a method of manufacturing a gravure cylinder according to the present invention includes manufacturing a gravure cylinder by plating the cylinder to be treated with the trivalent chromium plating solution using the trivalent chromium plating apparatus for cylinders. manufacturing method.
  • an apparatus and method for trivalent chromium plating for cylinders which uses a trivalent chromium plating solution to uniformly perform trivalent chromium plating with excellent printing durability. A significant effect is achieved.
  • FIG. 1 is a left side view showing a first embodiment of a trivalent chromium plating apparatus for cylinders according to the present invention
  • FIG. FIG. 2 is a perspective view of the main parts of the trivalent chromium plating apparatus for cylinders of the first embodiment, and is a perspective view of the main parts as seen from the left side.
  • FIG. 2 is a perspective view of essential parts of the trivalent chromium plating apparatus for cylinders according to the first embodiment, and is a perspective view of essential parts seen from the right side.
  • Fig. 2 is a left side view showing a second embodiment of a trivalent chromium plating apparatus for cylinders according to the present invention;
  • FIG. 10 is a perspective view of essential parts of the trivalent chromium plating apparatus for cylinders of the second embodiment, and is a perspective view of essential parts as seen from the left side.
  • FIG. 10 is a perspective view of essential parts of the trivalent chromium plating apparatus for cylinders of the second embodiment, and is a perspective view of essential parts as seen from the right side.
  • Fig. 2 is a left side view showing a third embodiment of a trivalent chromium plating apparatus for cylinders according to the present invention;
  • FIG. 10 is a perspective view of the main parts of the trivalent chromium plating apparatus for cylinders of the third embodiment, and is a perspective view of the main parts as seen from the left side.
  • FIG. 10 is a perspective view of the essential parts of the trivalent chromium plating apparatus for cylinders of the third embodiment, and is a perspective view of the essential parts seen from the right side.
  • FIG. 4 is a left side view showing a fourth embodiment of the trivalent chromium plating apparatus for cylinders according to the present invention; It is the perspective view which looked at the trivalent chromium plating apparatus for cylinders of 4th Embodiment from the left side. It is the top view which looked at the trivalent chromium plating apparatus for cylinders of 4th embodiment.
  • FIG. 10 is a perspective view of the essential parts of the trivalent chromium plating apparatus for cylinders according to the fourth embodiment, and is a perspective view of the essential parts seen from the left side.
  • FIG. 10 is a perspective view of the essential parts of the trivalent chromium plating apparatus for cylinders according to the fourth embodiment, and is a perspective view of the essential parts seen from the right side.
  • 4 is a photograph of a gravure cylinder produced by performing trivalent chromium plating using a trivalent chromium plating solution with the cylinder plating apparatus of Patent Document 2.
  • FIG. 1 and 2 show a cylinder trivalent chromium plating apparatus 10A as a first embodiment of the cylinder trivalent chromium plating apparatus according to the present invention.
  • the cylinder trivalent chromium plating apparatus 10A is a plating apparatus for applying trivalent chromium plating to the cylinder 12 to be treated.
  • the cylinder trivalent chromium plating apparatus 10A includes a plating tank 14 in which a trivalent chromium plating solution is stored, and a cylinder to be treated, which is rotatably and electrically conductively gripped at both ends in the longitudinal direction and accommodated horizontally in the plating tank. Equipped with a chuck means 16 and an insoluble electrode 18 to which a predetermined electric current is applied, the insoluble electrode 18 is brought close to the outer peripheral surface of the cylinder 12 to be treated at a predetermined interval, and the outer peripheral surface is plated with trivalent chromium.
  • the insoluble electrode 18 is a surrounding insoluble electrode that surrounds the outer peripheral surface of the cylinder 12 to be treated.
  • the surrounding insoluble electrode 18 is a lower surrounding insoluble electrode 22 surrounding the periphery of the lower outer peripheral surface 20 of the cylinder 12 to be treated horizontally accommodated in the plating bath 14 and/or the plating bath 14. It is configured to include an upper surrounding insoluble electrode 26 that surrounds the periphery of the upper outer peripheral surface 24 of the cylinder 12 to be treated that is accommodated in the horizontal direction.
  • an example including both a lower surrounding insoluble electrode 22 and an upper surrounding insoluble electrode 26 is shown.
  • the surrounding insoluble electrode used in the trivalent chromium plating apparatus for cylinders of the present invention is preferably a mesh electrode, including the surrounding insoluble electrode 18 and the surrounding insoluble electrode in the embodiments described later. is.
  • a mesh-shaped electrode With the mesh-shaped electrode, an electric field is generated not only from the surface of the surrounding insoluble electrode but also from the back surface, so that the surface area of the surrounding insoluble electrode increases, resulting in a current density of the surrounding insoluble electrode. This is because it is reduced and life is extended.
  • a mesh-like electrode as described in Patent Document 2 is preferably used as the mesh-like electrode.
  • the lower surrounding insoluble electrodes 22 are intersecting electrodes.
  • the term “intersecting electrode” refers to an electrode in which a pair of insoluble electrodes having pectinate ends intersect alternately. That is, the pectinate portion of one of the lower surrounding insoluble electrodes 22a of the pair of lower surrounding insoluble electrodes (22a, 22b) is positioned in the recess of the pectinate portion of the other lower surrounding insoluble electrode 22b.
  • the electrodes are alternately opposed to each other and crossed so that the convex portions of the portions are positioned.
  • the upper surrounding insoluble electrode 26 of the surrounding insoluble electrode 18 is vertically moved by an air cylinder 28 and brought closer to the outer peripheral surface according to the cylinder diameter of the cylinder 12 to be processed.
  • an electric motor may be used to vertically move the upper surrounding insoluble electrode 26 so as to approach the outer peripheral surface of the cylinder 12 to be processed according to the cylinder diameter.
  • the lower surrounding insoluble electrode 22 of the surrounding insoluble electrode 18 moves to the position of the recess of the pectinate portion of the lower surrounding insoluble electrode 22a by the rotational motion of the arms 30a and 30b.
  • the projections of the pectinate portion of the side-surrounding insoluble electrode 22b are inserted, they are brought closer to the outer peripheral surface according to the cylinder diameter of the cylinder 12 to be processed.
  • the electrode was positioned only in the lower part of the cylinder to be treated which was installed in the horizontal direction.
  • An electrode was arranged so as to cover 12 . That is, the feature is that electrodes are provided over the entire circumference of the cylinder 12 to be processed.
  • the upper surrounding insoluble electrode 26 and the lower surrounding insoluble electrode 22 are supplied with electricity from the same power source.
  • the diameter of the cylinder 12 to be treated varies, by moving the upper surrounding insoluble electrode 26 and the lower surrounding insoluble electrode 22, the structure can be applied to the cylinder 12 to be treated of various diameter sizes. .
  • the trivalent chromium plating apparatus 10A for cylinders has the effect of reducing voltage by about 50%.
  • the plating solution described in Patent Document 1 can be used.
  • a trivalent chromium plating solution using trivalent chromium is suitable, and a 3 A valent chromium plating solution is preferred.
  • a chloride (calcium chloride or lithium chloride) solution without using water as the chromium trichloride solution, and a high concentration of calcium halide is preferably used. It is preferred to use dissolved solutions. Also, it is preferable to use a solution having a specific decomposition potential as described in Patent Document 1 as the plating solution.
  • the cylinder 12 to be treated is accommodated in the plating tank 14 in the horizontal direction. That is, the plating apparatus of the present invention is a horizontal type plating apparatus in which the cylinder 12 to be treated is placed horizontally. In the case of a horizontal plating apparatus, if an electrode is provided on the upper side of the cylinder 12 to be treated, there is a problem of taking the cylinder 12 to be treated into and out of the plating tank 14. By doing so, the problem of taking the cylinder 12 to be treated into and out of the plating tank 14 is solved.
  • a vertical plating apparatus in which the cylinder 12 to be treated is placed vertically and accommodated in the plating apparatus is also conceivable. Even so, trivalent chromium plating cannot be done neatly.
  • the problem with such a vertical plating apparatus is that the plating solution accumulates from the bottom of the plating tank, so the top and bottom of the cylinder to be treated are soaked in the trivalent chromium plating solution for different times. It will happen. Since the trivalent chromium plating solution is acidic, the surface of the cylinder to be treated is corroded or the surface of the cylinder to be treated is roughened.
  • the plating solution will be in a state similar to electroless plating while the plating solution accumulates from the bottom of the plating bath.
  • impurities are precipitated on the surface of the cylinder to be treated just by immersing it in water.
  • the plating apparatus of the present invention is a horizontal type plating apparatus in which the cylinder 12 to be treated is horizontally accommodated in the plating tank 14, the plating solution can be put in while the cylinder 12 to be treated is rotating. It is possible to avoid the problem that only a part of the surface of is roughened.
  • FIGS. 10B a trivalent chromium plating apparatus 10B for cylinders is shown in FIGS.
  • the cylinder trivalent chromium plating apparatus 10B includes a plating tank 34 in which a trivalent chromium plating solution is stored, and a cylinder 12 to be treated, which is horizontally accommodated in the plating tank by gripping both ends in the longitudinal direction so as to be rotatable and electrically conductive. and an insoluble electrode 38 to which a predetermined energization is applied.
  • the insoluble electrode 38 is brought close to the outer peripheral surface of the cylinder 12 to be treated at a predetermined interval, and the outer peripheral surface is plated with trivalent chromium.
  • the insoluble electrode 38 is a surrounding insoluble electrode that surrounds the outer peripheral surface of the cylinder 12 to be treated.
  • the surrounding insoluble electrode 38 includes a lower surrounding insoluble electrode 42 surrounding a lower outer peripheral surface 40 of the cylinder 12 horizontally accommodated in the plating tank 34, and the plating tank 34. 14 includes an upper surrounding insoluble electrode 46 that surrounds the periphery of the upper outer peripheral surface 44 of the cylinder 12 to be processed that is housed in the horizontal direction.
  • the lower surrounding insoluble electrodes 42 are intersecting electrodes.
  • the upper surrounding insoluble electrode 46 of the surrounding insoluble electrode 38 is opened and closed between the state of covering the upper portion of the cylinder 12 to be processed and the state of opening by rotating the arms 48a and 48b. In this manner, the cylinder 12 to be processed is brought closer to the outer peripheral surface according to the cylinder diameter.
  • the arms 48a and 48b are driven by a drive source (not shown).
  • the lower surrounding insoluble electrode 42 (42a, 42b) of the surrounding insoluble electrode 38 is moved by the rotational motion of the arms 50a, 50b to the position of the recessed portion of the pectinate portion of the lower surrounding insoluble electrode 42a.
  • the protrusions of the pectinate portion of the other lower surrounding insoluble electrode 42b are inserted into the lower surrounding insoluble electrode 42b, they are brought closer to the outer peripheral surface according to the cylinder diameter of the cylinder 12 to be processed.
  • the cylinder trivalent chromium plating apparatus 10B has the effect of reducing the voltage by approximately 50%.
  • FIGS. 5 and 6 a trivalent chromium plating apparatus 10C for cylinders is shown in FIGS. 5 and 6.
  • FIG. 5 a trivalent chromium plating apparatus 10C for cylinders is shown in FIGS. 5 and 6.
  • the cylinder trivalent chromium plating apparatus 10C includes a plating tank 54 in which a trivalent chromium plating solution is stored, and a cylinder 12 to be treated, which is horizontally accommodated in the plating tank by gripping both ends in the longitudinal direction so as to be rotatable and electrically conductive. and an insoluble electrode 58 to which a predetermined energization is applied.
  • the insoluble electrode 58 is brought close to the outer peripheral surface of the cylinder 12 to be treated at a predetermined interval, and the outer peripheral surface is plated with trivalent chromium.
  • the insoluble electrode 58 is a surrounding insoluble electrode that surrounds the outer peripheral surface of the cylinder 12 to be treated.
  • the surrounding insoluble electrode 58 includes a left surrounding insoluble electrode 62 that surrounds the left outer peripheral surface 60 of the cylinder 12 to be treated that is horizontally accommodated in the plating tank 54, and and a right surrounding insoluble electrode 66 that surrounds the right outer peripheral surface 64 of the cylinder 12 to be processed that is accommodated in the horizontal direction.
  • the left side surrounding insoluble electrode 62 and the right side surrounding insoluble electrode 66 constitute intersecting electrodes.
  • the left side surrounding insoluble electrode 62 and the right side surrounding insoluble electrode 66 of the surrounding insoluble electrode 58 cover and open the circumference of the cylinder 12 to be processed by the movement of the arms 68a and 68b to widen and narrow the gap. It is opened and closed. In this way, by adjusting the extent to which the protrusions of the comb-like portion of the right side surrounding insoluble electrode 66 enter the positions of the recesses of the comb-like portion of the left side surrounding insoluble electrode 62, the cylinder 12 to be treated can be adjusted. is brought close to the outer peripheral surface according to the cylinder diameter of the cylinder.
  • the arms 68a and 68b are driven by a drive source (not shown).
  • the cylinder trivalent chromium plating apparatus 10C has the effect of reducing the voltage by about 50%.
  • FIGS. 7 to 10 show a cylinder trivalent chromium plating apparatus 10D as a fourth embodiment of the cylinder trivalent chromium plating apparatus according to the present invention.
  • the cylinder trivalent chromium plating apparatus 10D includes a plating bath 74 in which a trivalent chromium plating solution is stored, and a cylinder 12 to be treated, which is held horizontally at both ends in the longitudinal direction so as to be rotatable and electrically conductive. and an insoluble electrode 78 to which a predetermined energization is applied.
  • the insoluble electrode 78 is brought close to the outer peripheral surface of the cylinder 12 to be treated at a predetermined interval, and the outer peripheral surface is plated with trivalent chromium.
  • the insoluble electrode 78 is a surrounding insoluble electrode that surrounds the outer peripheral surface of the cylinder 12 to be treated.
  • the surrounding insoluble electrode 78 includes a lower surrounding insoluble electrode 82 surrounding the lower outer peripheral surface 80 of the cylinder 12 horizontally accommodated in the plating bath 54, and the plating bath 74 includes an upper surrounding insoluble electrode 86 that surrounds the periphery of the upper outer peripheral surface 84 of the cylinder 12 to be treated that is housed in the horizontal direction.
  • each of the lower surrounding insoluble electrode 82 and the upper surrounding insoluble electrode 86 is an intersecting electrode.
  • the lower surrounding insoluble electrode 82 of the surrounding insoluble electrode 78 is moved to the position of the recess of the pectinate portion of the lower surrounding insoluble electrode 82a by the rotational motion of the arms 90a and 90b.
  • the arms 90a and 90b are driven by a drive source (not shown).
  • the upper surrounding insoluble electrode 86 of the surrounding insoluble electrode 78 is moved to the position of the recess of the pectinate portion of the upper surrounding insoluble electrode 86a by the rotational motion of the arms 92a and 92b.
  • the electrode 86b is brought closer to the outer peripheral surface according to the cylinder diameter of the cylinder 12 to be processed.
  • the arms 92a and 92b are driven by a drive source (not shown).
  • the trivalent chromium plating apparatus 10D for cylinders has the effect of reducing the voltage by about 50%.
  • the trivalent chromium plating method according to the present invention uses the cylinder trivalent chromium plating apparatuses 10A to 10D according to the present invention to plate the cylinder 12 to be treated with a trivalent chromium plating solution. Chrome plating method. According to the trivalent chromium plating method according to the present invention, even if trivalent chromium plating is performed using a trivalent chromium plating solution, there occurs a problem that an undeposited portion occurs in a part of the cylinder 12 to be treated. It is possible to obtain a cylinder having good deposition, uniformity, and excellent printing durability. Since it has excellent printing durability, it can be applied as a gravure cylinder.
  • the cylinder to be treated is plated with the trivalent chromium plating solution using the cylinder trivalent chromium plating apparatus 10A to 10D according to the present invention, thereby forming a gravure cylinder.
  • a method for manufacturing a gravure cylinder According to the method of manufacturing a gravure cylinder according to the present invention, even if trivalent chromium plating is performed using a trivalent chromium plating solution, there occurs a problem that an undeposited portion is generated in a part of the treated cylinder 12. It is possible to obtain a gravure cylinder with good deposition, uniformity, and excellent printing durability.
  • 10A, 10B, 10C, 10D trivalent chromium plating device
  • 12 cylinder to be treated
  • 14, 34, 54, 74 plating tank
  • 16, 36, 56, 76 chuck means, 18, 38, 58, 78: Surrounding insoluble electrode 20, 40, 80: lower outer peripheral surface 22, 22a, 22b, 42, 42a, 42b, 82, 82a, 82b: lower surrounding insoluble electrode 24, 44, 84: upper outer peripheral surface , 26, 46, 86, 86a, 86b: upper surrounding insoluble electrode, 28: air cylinder, 30a, 30b, 48a, 48b, 50a, 50b, 68a, 68b, 90a, 90b, 92a, 92b: arm, 60: Left outer peripheral surface, 62: left surrounding insoluble electrode, 64: right outer peripheral surface, 66: right surrounding insoluble electrode.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

３価クロムめっき液を用いて、めっきの未析出部分が発生すること無く、析出が良好で均一且つ耐刷力に優れた３価クロムめっき施すことができるようにしたシリンダ用３価クロムめっき装置及び方法を提供する。　３価クロムメッキ液が貯留されるめっき槽と、被処理シリンダを回転可能且つ通電可能に長手方向両端を把持して前記めっき槽に水平方向に収容するチャック手段と、所定の通電が行われる不溶性電極とを備え、前記不溶性電極を前記被処理シリンダの外周面に所定間隔をおいて近接せしめ、前記外周面に３価クロムメッキを施すようにしたシリンダ用メッキ装置であり、前記不溶性電極が、前記被処理シリンダの外周面の周囲を囲繞する囲繞型不溶性電極である、シリンダ用３価クロムメッキ装置とした。

Description

シリンダ用３価クロムめっき装置及び方法
　本発明は、例えばグラビア印刷に用いる中空円筒状のグラビアシリンダ（製版ロールとも呼ばれる）を製造するにあたり、長尺状の中空ロールの外周表面に対して不溶性電極を用いる３価クロムめっきを施すためのシリンダ用３価クロムめっき装置及び方法に関する。
　グラビア印刷では、中空円筒状の被処理シリンダに対し製版情報に応じた微小な凹部（セル）を形成して版面を製作し、当該セルにインキを充填して被印刷物に転写するものである。一般的なグラビアシリンダは、円筒状の鉄芯またはアルミ芯（中空ロール）を基材とし、当該基材の外周表面上に下地層や剥離層等の複数の層を形成し、その上に銅めっき等のめっき層を形成する。そしてこの銅めっき等のめっき層にレーザー露光装置により製版情報に応じたセルを形成し、その後グラビアシリンダの耐刷力を増すためのクロムめっき等を施して製版（版面の製作）が完了する。この一般的なクロムめっきは、６価クロムめっき層である。
　しかし、クロムめっき工程においては毒性の高い６価クロムめっき液を用いているために、作業の安全維持を図るために余分なコストがかかる他、公害発生の問題もあり、６価クロム層に替わる表面強化被覆層の出現が待望されているのが現状である。
　６価クロムめっき液から得られる６価クロムめっき層に替わるめっき方法としては、３価クロムめっき液によってクロムめっき層を形成する３価クロムめっき方法がある。３価クロムめっき液としては、例えば、特許文献１の示される３価クロムめっき液がある。
　また、本願出願人は、めっき液が貯留されるめっき槽と、被処理シリンダを回転可能且つ通電可能に長手方向両端を把持して前記めっき槽に収容するチャック手段と、前記めっき槽内で被処理シリンダの両側面に対向して垂設され且つ所定の通電が行われる相対向する一対の不溶性電極とを備え、前記一対の不溶性電極を前記被処理シリンダの両側面に所定間隔をおいて近接せしめ、前記被処理シリンダの外周表面にめっきを施すようにしたシリンダ用めっき装置であり、前記不溶性電極が、少なくとも下部部分を内方に湾曲せしめてなる形状を有し、且つ少なくとも前記下部部分が櫛目状部とされてなり、一方の前記不溶性電極の前記櫛目状部の凹部の位置に他方の前記不溶性電極の前記櫛目状部の凸部が位置するように互い違いに相対向せしめ、前記不溶性電極の上端部分を回動中心として前記不溶性電極を回動可能に構成し、前記被処理シリンダの径に応じて前記被処理シリンダの外周表面に対する前記不溶性電極の近接距離を調節可能にしてなるシリンダ用めっき装置を既に提案した（特許文献２）。
　特許文献２のシリンダ用めっき装置では、６価クロムめっき液を用いる一般的なクロムめっきであれば、グラビア印刷に要求される表面物性である、硬度、耐摩耗性及び均一電着性などを満たす耐刷力に優れたクロムめっき層（６価クロムめっき層）を得ることができた。
　しかしながら、特許文献２のシリンダ用めっき装置で、３価クロムめっき液を用いた３価クロムめっきを行うと、図１１の写真に示されるように、シリンダの中央部分に黒い部分ができてしまう。これは、めっきがほとんど析出していない状態である未析出部分がシリンダの一部に発生してしまった状態である。このように、特許文献２のシリンダ用めっき装置で、３価クロムめっき液を用いた３価クロムめっきを行うと、未析出部分がシリンダの一部に発生してしまうという問題があった。
特開２０１９－１２３９２７ ＷＯ２０１５／１５１６６５
　本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みなされたもので、３価クロムめっき液を用いて、めっきの未析出部分が発生すること無く、析出が良好で均一且つ耐刷力に優れた３価クロムめっき施すことができるようにしたシリンダ用３価クロムめっき装置及び方法を提供することを目的とする。
　本発明のシリンダ用３価クロムめっき装置は、３価クロムめっき液が貯留されるめっき槽と、被処理シリンダを回転可能且つ通電可能に長手方向両端を把持して前記めっき槽に水平方向に収容するチャック手段と、所定の通電が行われる不溶性電極とを備え、前記不溶性電極を前記被処理シリンダの外周面に所定間隔をおいて近接せしめ、前記外周面に３価クロムめっきを施すようにしたシリンダ用３価クロムめっき装置であり、前記不溶性電極が、前記被処理シリンダの外周面の周囲を囲繞する囲繞型不溶性電極である、シリンダ用３価クロムめっき装置である。
　前記囲繞型不溶性電極が、前記めっき槽に水平方向に収容された被処理シリンダの下側外周面の周囲を囲繞する下側囲繞型不溶性電極、及び／又は前記めっき槽に水平方向に収容された被処理シリンダの上側外周面の周囲を囲繞する上側囲繞型不溶性電極、を含むのが好適である。
　前記上側囲繞型不溶性電極及び／又は前記下側囲繞型不溶性電極が、交差型電極であるのが好適である。
　前記囲繞型不溶性電極が、エアシリンダ又は電動モータにより、前記被処理シリンダのシリンダ径に応じて前記外周面に近接せしめられてなるのが好適である。
　前記囲繞型不溶性電極が、アームの回転運動又は間隔を広狭する動作により、前記被処理シリンダのシリンダ径に応じて前記外周面に近接せしめられてなるのが好適である。
　本発明の３価クロムめっき方法は、前記シリンダ用３価クロムめっき装置を用いて、前記３価クロムめっき液で前記被処理シリンダをめっき処理してなる、３価クロムめっき方法である。
　本発明のグラビアシリンダの製造方法は、前記シリンダ用３価クロムめっき装置を用いて、前記３価クロムめっき液で前記被処理シリンダをめっき処理することによりグラビアシリンダを製造してなる、グラビアシリンダの製造方法である。
　本発明によれば、３価クロムめっき液を用いて、均一且つ耐刷力に優れた３価クロムめっき施すことができるようにしたシリンダ用３価クロムめっき装置及び方法を提供することができるという著大な効果が達成されるものである。
本発明に係るシリンダ用３価クロムめっき装置の第一の実施の形態を示す左側面図である。 第一の実施の形態のシリンダ用３価クロムめっき装置の要部斜視図であって、左側方から見た要部斜視図である。 第一の実施の形態のシリンダ用３価クロムめっき装置の要部斜視図であって、右側方から見た要部斜視図である。 本発明に係るシリンダ用３価クロムめっき装置の第二の実施の形態を示す左側面図である。 第二の実施の形態のシリンダ用３価クロムめっき装置の要部斜視図であって、左側方から見た要部斜視図である。 第二の実施の形態のシリンダ用３価クロムめっき装置の要部斜視図であって、右側方から見た要部斜視図である。 本発明に係るシリンダ用３価クロムめっき装置の第三の実施の形態を示す左側面図である。 第三の実施の形態のシリンダ用３価クロムめっき装置の要部斜視図であって、左側方から見た要部斜視図である。 第三の実施の形態のシリンダ用３価クロムめっき装置の要部斜視図であって、右側方から見た要部斜視図である。 本発明に係るシリンダ用３価クロムめっき装置の第四の実施の形態を示す左側面図である。 第四の実施の形態のシリンダ用３価クロムめっき装置を左側方から見た斜視図である。 第四の実施の形態のシリンダ用３価クロムめっき装置を上方から見た平面図である。 第四の実施の形態のシリンダ用３価クロムめっき装置の要部斜視図であって、左側方から見た要部斜視図である。 第四の実施の形態のシリンダ用３価クロムめっき装置の要部斜視図であって、右側方から見た要部斜視図である。 特許文献２のシリンダ用めっき装置で、３価クロムめっき液を用いた３価クロムめっきを行い、作製したグラビアシリンダの写真である。
　以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明するが、図示例は例示的に示されたもので、本発明の技術的思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことは言うまでもない。
　図１～図２において、本発明に係るシリンダ用３価クロムめっき装置の第一の形態として、シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ａを示す。
　シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ａは、被処理シリンダ１２に３価クロムめっきを施すためのめっき装置である。シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ａは、３価クロムめっき液が貯留されるめっき槽１４と、被処理シリンダを回転可能且つ通電可能に長手方向両端を把持して前記めっき槽に水平方向に収容するチャック手段１６と、所定の通電が行われる不溶性電極１８とを備え、前記不溶性電極１８を前記被処理シリンダ１２の外周面に所定間隔をおいて近接せしめ、前記外周面に３価クロムめっきを施すようにしたシリンダ用３価クロムめっき装置であり、前記不溶性電極１８が、前記被処理シリンダ１２の外周面の周囲を囲繞する囲繞型不溶性電極である、シリンダ用３価クロムめっき装置である。
　前記囲繞型不溶性電極１８は、前記めっき槽１４に水平方向に収容された被処理シリンダ１２の下側外周面２０の周囲を囲繞する下側囲繞型不溶性電極２２、及び／又は前記めっき槽１４に水平方向に収容された被処理シリンダ１２の上側外周面２４の周囲を囲繞する上側囲繞型不溶性電極２６、を含む構成とされている。図１では、下側囲繞型不溶性電極２２及び上側囲繞型不溶性電極２６の両方を含む例を示した。
　なお、本発明のシリンダ用３価クロムめっき装置に用いられる囲繞型不溶性電極は、前記囲繞型不溶性電極１８や後述する実施の形態における囲繞型不溶性電極を含め、メッシュ状の電極であるのが好適である。メッシュ状電極だと、前記囲繞型不溶性電極の表面だけでなく裏面からも電界が生じるため、前記囲繞型不溶性電極の電極としての表面積が増加し、結果として、前記囲繞型不溶性電極の電流密度が減少し、寿命が長くなるからである。メッシュ状電極としては、特許文献２に記載されたような、メッシュ状電極が好適に用いられる。
　シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ａでは、前記下側囲繞型不溶性電極２２は、交差型電極とされている。本明細書において、交差型電極とは、端部が櫛目状部とされてなる一組の不溶性電極が互い違いに交差している電極のことを指す。即ち、一組の下側囲繞型不溶性電極（２２ａ，２２ｂ）の一方の前記下側囲繞型不溶性電極２２ａの櫛目状部の凹部の位置に他方の前記下側囲繞型不溶性電極２２ｂの前記櫛目状部の凸部が位置するように互い違いに相対向せしめて交差せしめられてなる電極である。
　そして、前記囲繞型不溶性電極１８の前記上側囲繞型不溶性電極２６は、エアシリンダ２８によって、上下動せしめられ、前記被処理シリンダ１２のシリンダ径に応じて前記外周面に近接せしめられる。なお、エアシリンダ２８の代わりに、電動モータによって、前記上側囲繞型不溶性電極２６を上下動させて前記被処理シリンダ１２のシリンダ径に応じて前記外周面に近接せしめるようにしてもよい。
　そして、前記囲繞型不溶性電極１８の、前記下側囲繞型不溶性電極２２は、アーム３０ａ，３０ｂの回転運動により、前記下側囲繞型不溶性電極２２ａの櫛目状部の凹部の位置に他方の前記下側囲繞型不溶性電極２２ｂの前記櫛目状部の凸部が入り込む程度を調節することで、前記被処理シリンダ１２のシリンダ径に応じて前記外周面に近接せしめられてなる。
　従来は、特許文献２に示されるように、水平方向に設置された被処理シリンダの下側部分のみに電極が位置していたが、本発明では、被処理シリンダ１２の上側に前記被処理シリンダ１２に被せるように電極を配置した。つまり前記被処理シリンダ１２の全周にわたって電極を設けたことに特徴がある。なお、図示例では、上側囲繞型不溶性電極２６と下側囲繞型不溶性電極２２は、同一の電源から電気が供給されている。また、被処理シリンダ１２の直径はいろいろと異なるが、上側囲繞型不溶性電極２６と下側囲繞型不溶性電極２２を動かすことで、様々な直径サイズの被処理シリンダ１２に適用できる構成とされている。
　上記の構成とすることで、３価クロムめっき液を用いた３価クロムめっきを行っても、被処理シリンダ１２の一部に未析出部分が発生してしまうといった問題が発生せずに、析出が良好で綺麗に、均一且つ耐刷力に優れたシリンダを得ることできる。耐刷力に優れていることから、グラビアシリンダとして適用できる。また、特許文献２に示される、下側のみに電極を設けた構成のシリンダ用めっき装置と比べて、シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ａでは電圧がおよそ５０％減少するという効果もある。
　３価クロムめっき液としては、特許文献１に記載されためっき液を使用することができる。特に、６価クロムは毒性があるため、３価クロムを用いた３価クロムめっき液が好適であり、三塩化クロム（ＣｒＣｌ３（ＣｒＣｌ３・６Ｈ２Ｏ））などの３価クロムを含む３価クロムめっき液が好適である。そして、特許文献１に記載されたように、三塩化クロムの溶液として、水を使わずに塩化物（塩化カルシウムや塩化リチウム）の溶液を使うのが好適であり、高濃度のハロゲン化カルシウムを溶解させた溶液を用いるのが好適である。また、特許文献１に記載されるような特定の分解電位を有する溶液をめっき液として使用するのが好適である。
　前記被処理シリンダ１２は前記めっき槽１４に水平方向に収容される。即ち、本発明のめっき装置は、被処理シリンダ１２を横にして収容する横型のめっき装置である。横型のめっき装置の場合、被処理シリンダ１２の上側に電極を設けると、被処理シリンダ１２の前記めっき槽１４への出し入れが問題となるが、上側囲繞型不溶性電極２６をエアシリンダ２８で上下動させることで、被処理シリンダ１２の前記めっき槽１４への出し入れの問題を解決している。
　また、被処理シリンダ１２を鉛直方向に縦にしてめっき装置に収容する縦型めっき装置の態様も考えられるが、鉛直方向に立てた被処理シリンダ１２の周囲に例えば筒のような電極を配置したとしても、綺麗に３価クロムめっきをすることはできない。このような縦型のめっき装置にした場合の問題としては、めっき槽の下の方からからめっき液が溜まっていくため、被処理シリンダの上と下とで、３価クロムめっき液に浸かる時間が異なることとなる。３価クロムめっき液は酸性なので、被処理シリンダの表面が腐食されたり、或いは被処理シリンダの表面が荒れたりしてしまうこととなる。
　さらに、縦型めっき装置にすると、めっき槽の下からめっき液が溜まっていく間、無電解めっきのような状態になるので、めっき液にＮｉやＦｅといった不純物が含まれていた場合、めっき液に浸しただけで被処理シリンダの表面に不純物が析出してしまうという問題がある。
　本発明のめっき装置は、被処理シリンダ１２が前記めっき槽１４に水平方向に収容される横型のめっき装置であるため、被処理シリンダ１２が回転している状態でめっき液を入れられるので、シリンダの一部の表面だけが荒れるといった問題を回避することができるのである。
　次に、本発明に係るシリンダ用３価クロムめっき装置の第二の形態として、シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ｂを図３～図４に示す。
　シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ｂは、３価クロムめっき液が貯留されるめっき槽３４と、被処理シリンダ１２を回転可能且つ通電可能に長手方向両端を把持して前記めっき槽に水平方向に収容するチャック手段３６と、所定の通電が行われる不溶性電極３８とを備え、前記不溶性電極３８を前記被処理シリンダ１２の外周面に所定間隔をおいて近接せしめ、前記外周面に３価クロムめっきを施すようにしたシリンダ用３価クロムめっき装置であり、前記不溶性電極３８が、前記被処理シリンダ１２の外周面の周囲を囲繞する囲繞型不溶性電極である、シリンダ用３価クロムめっき装置である。
　図３において、前記囲繞型不溶性電極３８は、前記めっき槽３４に水平方向に収容された被処理シリンダ１２の下側外周面４０の周囲を囲繞する下側囲繞型不溶性電極４２と、前記めっき槽１４に水平方向に収容された被処理シリンダ１２の上側外周面４４の周囲を囲繞する上側囲繞型不溶性電極４６と、を含む構成とされている。
　シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ｂでは、前記下側囲繞型不溶性電極４２は、交差型電極とされている。
　そして、前記囲繞型不溶性電極３８の前記上側囲繞型不溶性電極４６は、アーム４８ａ，４８ｂの回転動作によって、被処理シリンダ１２の上部を覆う状態と開放状態とに開閉せしめられる。このようにして、前記被処理シリンダ１２のシリンダ径に応じて前記外周面に近接せしめられる。なお、アーム４８ａ，４８ｂは図示しない駆動源によって駆動せしめられる。
　また、前記囲繞型不溶性電極３８の、前記下側囲繞型不溶性電極４２（４２ａ，４２ｂ）は、アーム５０ａ，５０ｂの回転運動により、前記下側囲繞型不溶性電極４２ａの櫛目状部の凹部の位置に他方の前記下側囲繞型不溶性電極４２ｂの前記櫛目状部の凸部が入り込む程度を調節することで、前記被処理シリンダ１２のシリンダ径に応じて前記外周面に近接せしめられてなる。
　上記の構成とすることで、３価クロムめっき液を用いた３価クロムめっきを行っても、被処理シリンダ１２の一部に未析出部分が発生してしまうといった問題が発生せずに、析出が良好で綺麗に、均一且つ耐刷力に優れたシリンダを得ることできる。耐刷力に優れていることから、グラビアシリンダとして適用できる。また、特許文献２に示される、下側のみに電極を設けた構成のシリンダ用めっき装置と比べて、シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ｂでは電圧がおよそ５０％減少するという効果もある。
　次に、本発明に係るシリンダ用３価クロムめっき装置の第三の形態として、シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ｃを図５～図６に示す。
　シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ｃは、３価クロムめっき液が貯留されるめっき槽５４と、被処理シリンダ１２を回転可能且つ通電可能に長手方向両端を把持して前記めっき槽に水平方向に収容するチャック手段５６と、所定の通電が行われる不溶性電極５８とを備え、前記不溶性電極５８を前記被処理シリンダ１２の外周面に所定間隔をおいて近接せしめ、前記外周面に３価クロムめっきを施すようにしたシリンダ用３価クロムめっき装置であり、前記不溶性電極５８が、前記被処理シリンダ１２の外周面の周囲を囲繞する囲繞型不溶性電極である、シリンダ用３価クロムめっき装置である。
　図５において、前記囲繞型不溶性電極５８は、前記めっき槽５４に水平方向に収容された被処理シリンダ１２の左側外周面６０の周囲を囲繞する左側囲繞型不溶性電極６２と、前記めっき槽１４に水平方向に収容された被処理シリンダ１２の右側外周面６４の周囲を囲繞する右側囲繞型不溶性電極６６と、を含む構成とされている。
　シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ｃでは、前記左側囲繞型不溶性電極６２及び前記右側囲繞型不溶性電極６６とで、交差型電極を構成している。
　そして、前記囲繞型不溶性電極５８の前記左側囲繞型不溶性電極６２及び前記右側囲繞型不溶性電極６６は、アーム６８ａ，６８ｂが間隔を広狭する動作によって、被処理シリンダ１２の周囲を覆う状態と開放状態とに開閉せしめられる。このようにして、前記左側囲繞型不溶性電極６２の櫛目状部の凹部の位置に前記右側囲繞型不溶性電極６６の前記櫛目状部の凸部が入り込む程度を調節することで、前記被処理シリンダ１２のシリンダ径に応じて前記外周面に近接せしめられる。なお、アーム６８ａ，６８ｂは図示しない駆動源によって駆動せしめられる。
　上記の構成とすることで、３価クロムめっき液を用いた３価クロムめっきを行っても、被処理シリンダ１２の一部に未析出部分が発生してしまうといった問題が発生せずに、析出が良好で綺麗に、均一且つ耐刷力に優れたシリンダを得ることできる。耐刷力に優れていることから、グラビアシリンダとして適用できる。また、特許文献２に示される、下側のみに電極を設けた構成のシリンダ用めっき装置と比べて、シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ｃでは電圧がおよそ５０％減少するという効果もある。
　次に、本発明に係るシリンダ用３価クロムめっき装置の第四の形態として、シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ｄを図７～図１０に示す。
　シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ｄは、３価クロムめっき液が貯留されるめっき槽７４と、被処理シリンダ１２を回転可能且つ通電可能に長手方向両端を把持して前記めっき槽に水平方向に収容するチャック手段７６と、所定の通電が行われる不溶性電極７８とを備え、前記不溶性電極７８を前記被処理シリンダ１２の外周面に所定間隔をおいて近接せしめ、前記外周面に３価クロムめっきを施すようにしたシリンダ用３価クロムめっき装置であり、前記不溶性電極７８が、前記被処理シリンダ１２の外周面の周囲を囲繞する囲繞型不溶性電極である、シリンダ用３価クロムめっき装置である。
　図７において、前記囲繞型不溶性電極７８は、前記めっき槽５４に水平方向に収容された被処理シリンダ１２の下側外周面８０の周囲を囲繞する下側囲繞型不溶性電極８２と、前記めっき槽７４に水平方向に収容された被処理シリンダ１２の上側外周面８４の周囲を囲繞する上側囲繞型不溶性電極８６と、を含む構成とされている。
　シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ｄでは、前記下側囲繞型不溶性電極８２及び前記上側囲繞型不溶性電極８６のそれぞれが、交差型電極となっている。
　前記囲繞型不溶性電極７８の前記下側囲繞型不溶性電極８２は、アーム９０ａ，９０ｂの回転運動により、前記下側囲繞型不溶性電極８２ａの櫛目状部の凹部の位置に他方の前記下側囲繞型不溶性電極８２ｂの前記櫛目状部の凸部が入り込む程度を調節することで、前記被処理シリンダ１２のシリンダ径に応じて前記外周面に近接せしめられてなる。なお、アーム９０ａ，９０ｂは図示しない駆動源によって駆動せしめられる。
　また、前記囲繞型不溶性電極７８の前記上側囲繞型不溶性電極８６は、アーム９２ａ，９２ｂの回転運動により、前記上側囲繞型不溶性電極８６ａの櫛目状部の凹部の位置に他方の前記上側囲繞型不溶性電極８６ｂの前記櫛目状部の凸部が入り込む程度を調節することで、前記被処理シリンダ１２のシリンダ径に応じて前記外周面に近接せしめられてなる。なお、アーム９２ａ，９２ｂは図示しない駆動源によって駆動せしめられる。
　上記の構成とすることで、３価クロムめっき液を用いた３価クロムめっきを行っても、被処理シリンダ１２の一部に未析出部分が発生してしまうといった問題が発生せずに、析出が良好で綺麗に、均一且つ耐刷力に優れたシリンダを得ることできる。耐刷力に優れていることから、グラビアシリンダとして適用できる。また、特許文献２に示される、下側のみに電極を設けた構成のシリンダ用めっき装置と比べて、シリンダ用３価クロムめっき装置１０Ｄでは電圧がおよそ５０％減少するという効果もある。
　本発明に係る３価クロムめっき方法は、上記本発明に係るシリンダ用３価クロムめっき装置１０Ａ～１０Ｄを用いて、３価クロムめっき液で前記被処理シリンダ１２をめっき処理してなる、３価クロムめっき方法である。本発明に係る３価クロムめっき方法によれば、３価クロムめっき液を用いた３価クロムめっきを行っても、被処理シリンダ１２の一部に未析出部分が発生してしまうといった問題が発生せずに、析出が良好で綺麗に、均一且つ耐刷力に優れたシリンダを得ることできる。耐刷力に優れていることから、グラビアシリンダとして適用できる。
　本発明に係るグラビアシリンダの製造方法は、上記本発明に係るシリンダ用３価クロムめっき装置１０Ａ～１０Ｄを用いて、前記３価クロムめっき液で前記被処理シリンダをめっき処理することによりグラビアシリンダを製造してなる、グラビアシリンダの製造方法である。本発明に係るグラビアシリンダの製造方法によれば、３価クロムめっき液を用いた３価クロムめっきを行っても、被処理シリンダ１２の一部に未析出部分が発生してしまうといった問題が発生せずに、析出が良好で綺麗に、均一且つ耐刷力に優れたグラビアシリンダを得ることできる。
　１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ：３価クロムめっき装置、１２：被処理シリンダ、１４，３４，５４，７４：めっき槽、１６，３６，５６，７６：チャック手段、１８，３８，５８，７８：囲繞型不溶性電極、２０，４０，８０：下側外周面、２２，２２ａ，２２ｂ，４２，４２ａ，４２ｂ，８２，８２ａ，８２ｂ：下側囲繞型不溶性電極、２４，４４，８４：上側外周面、２６，４６，８６，８６ａ，８６ｂ：上側囲繞型不溶性電極、２８：エアシリンダ、３０ａ，３０ｂ，４８ａ，４８ｂ，５０ａ，５０ｂ，６８ａ，６８ｂ，９０ａ，９０ｂ，９２ａ，９２ｂ：アーム、６０：左側外周面、６２：左側囲繞型不溶性電極、６４：右側外周面、６６：右側囲繞型不溶性電極。

Claims (7)

  1. 　３価クロムめっき液が貯留されるめっき槽と、被処理シリンダを回転可能且つ通電可能に長手方向両端を把持して前記めっき槽に水平方向に収容するチャック手段と、所定の通電が行われる不溶性電極と、を備え、前記不溶性電極を前記被処理シリンダの外周面に所定間隔をおいて近接せしめ、前記外周面に３価クロムめっきを施すようにしたシリンダ用３価クロムめっき装置であり、
    　前記不溶性電極が、前記被処理シリンダの外周面の周囲を囲繞する囲繞型不溶性電極である、シリンダ用３価クロムめっき装置。
  2. 　前記囲繞型不溶性電極が、前記めっき槽に水平方向に収容された被処理シリンダの下側外周面の周囲を囲繞する下側囲繞型不溶性電極、及び／又は前記めっき槽に水平方向に収容された被処理シリンダの上側外周面の周囲を囲繞する上側囲繞型不溶性電極、を含む、請求項１記載のシリンダ用３価クロムめっき装置。
  3. 　前記上側囲繞型不溶性電極及び／又は前記下側囲繞型不溶性電極が、交差型電極である請求項２記載のシリンダ用３価クロムめっき装置。
  4. 　前記囲繞型不溶性電極が、エアシリンダ又は電動モータにより、前記被処理シリンダのシリンダ径に応じて前記外周面に近接せしめられてなる、請求項１記載のシリンダ用３価クロムめっき装置。
  5. 　前記囲繞型不溶性電極が、アームの回転運動又は間隔を広狭する動作により、前記被処理シリンダのシリンダ径に応じて前記外周面に近接せしめられてなる、請求項１記載のシリンダ用３価クロムめっき装置。
  6. 　請求項１～５いずれか１項記載のシリンダ用３価クロムめっき装置を用いて、前記３価クロムめっき液で前記被処理シリンダをめっき処理してなる、３価クロムめっき方法。
  7. 　請求項１～５いずれか１項記載のシリンダ用３価クロムめっき装置を用いて、前記３価クロムめっき液で前記被処理シリンダをめっき処理することによりグラビアシリンダを製造してなる、グラビアシリンダの製造方法。
PCT/JP2023/005674 2022-03-01 2023-02-17 シリンダ用３価クロムめっき装置及び方法 WO2023167009A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202380013241.7A CN117836474A (zh) 2022-03-01 2023-02-17 滚筒用三价铬镀敷装置及方法
KR1020247006858A KR20240033149A (ko) 2022-03-01 2023-02-17 실린더용 3가크롬 도금 장치 및 방법
JP2023543113A JP7406872B1 (ja) 2022-03-01 2023-02-17 シリンダ用３価クロムめっき装置及び方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022-031030 2022-03-01
JP2022031030 2022-03-01

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2023167009A1 true WO2023167009A1 (ja) 2023-09-07

Family

ID=87883459

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2023/005674 WO2023167009A1 (ja) 2022-03-01 2023-02-17 シリンダ用３価クロムめっき装置及び方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7406872B1 (ja)
KR (1) KR20240033149A (ja)
CN (1) CN117836474A (ja)
TW (1) TW202346657A (ja)
WO (1) WO2023167009A1 (ja)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4910828A (ja) * 1972-06-01 1974-01-30
JPH10121291A (ja) * 1996-09-13 1998-05-12 Mdc Max Daetwyler Bleienbach Ag グラビア胴にクロム層を被着させる方法及び装置
WO2012043513A1 (ja) * 2010-10-01 2012-04-05 株式会社シンク・ラボラトリー シリンダ用メッキ装置
WO2015151665A1 (ja) 2014-03-31 2015-10-08 株式会社シンク・ラボラトリー シリンダ用メッキ装置及び方法
US20180016688A1 (en) * 2015-01-30 2018-01-18 Acrom S.A. Ecologic method for the continuous chrome plating of bars and associated device
JP2019123927A (ja) 2018-01-15 2019-07-25 国立大学法人京都大学 金属または金属塩の溶解用溶液およびその利用
WO2019164445A1 (en) * 2018-02-22 2019-08-29 Absolicon Solar Collector Ab Electroplating of selective surfaces for concentrating solar collectors

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4910828A (ja) * 1972-06-01 1974-01-30
JPH10121291A (ja) * 1996-09-13 1998-05-12 Mdc Max Daetwyler Bleienbach Ag グラビア胴にクロム層を被着させる方法及び装置
WO2012043513A1 (ja) * 2010-10-01 2012-04-05 株式会社シンク・ラボラトリー シリンダ用メッキ装置
WO2015151665A1 (ja) 2014-03-31 2015-10-08 株式会社シンク・ラボラトリー シリンダ用メッキ装置及び方法
US20180016688A1 (en) * 2015-01-30 2018-01-18 Acrom S.A. Ecologic method for the continuous chrome plating of bars and associated device
JP2019123927A (ja) 2018-01-15 2019-07-25 国立大学法人京都大学 金属または金属塩の溶解用溶液およびその利用
WO2019164445A1 (en) * 2018-02-22 2019-08-29 Absolicon Solar Collector Ab Electroplating of selective surfaces for concentrating solar collectors

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2023167009A1 (ja) 2023-09-07
TW202346657A (zh) 2023-12-01
JP7406872B1 (ja) 2023-12-28
CN117836474A (zh) 2024-04-05
KR20240033149A (ko) 2024-03-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1943297A2 (en) Embossing assembly and methods of preparation
JP3450333B2 (ja) 連続的にむらなく電解金属化乃至エッチングするための方法及び装置
WO2023167009A1 (ja) シリンダ用３価クロムめっき装置及び方法
JP2000507646A (ja) 処理液体で被処理物を電気化学的に処理するための方法と装置
KR20100103699A (ko) 그라비아 인쇄 실린더 가공을 위한 방법 및 장치
CN1240881C (zh) 电镀泡沫条的方法
KR20200132172A (ko) 전해증착용 음극드럼과 그의 제조방법
JP2020521055A (ja) 電解銅箔製造装置
WO1999021714A1 (en) Methods for engraving gravure cylinders
KR20190005056A (ko) 전주도금용 음극 유닛 및 이를 포함하는 전극 유닛
JP2021066921A (ja) 配線基板の製造方法
JP2009120935A (ja) 円形めっき槽
KR101894443B1 (ko) 전주 도금 시트의 제조 방법 및 전주 도금 장치
RU2007105076A (ru) Печатная форма для ротационного аппарата трафаретной печати и способ ее изготовления
TW202138628A (zh) 金屬箔、其製造方法、及用於其之電鍍滾筒之加工方法
JP2004323945A (ja) 射出成形用金型、メッキ方法およびメッキ用治具
WO2015076180A1 (ja) パターン付ロール及びその製造方法
GB2274800A (en) Roll surface roughening
JP6119722B2 (ja) 電気めっき方法、電極ロール、及び電気めっき装置
KR101546772B1 (ko) 필름 이송용 카본 롤의 전해니켈도금설비 및 전해니켈도금방법
US20220186396A1 (en) Equipment for oxidation of planar metallic surfaces, such as sheet, fabric or metal net and method of application of the treatment
WO2022224817A1 (ja) めっき電極及び該めっき電極を用いためっき方法
KR102068252B1 (ko) 전기도금기용 전원인가장치
KR102021428B1 (ko) 마이크로 메쉬 시트를 제조하기 위한 니켈 전주도금방법 및 이 방법에 의해 제조된 니켈 마이크로 메쉬 시트
KR20040039943A (ko) 자전 및 공전을 이용한 전주 도금 장치

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2023543113

Country of ref document: JP

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 23763268

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 202380013241.7

Country of ref document: CN

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20247006858

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A