CN117546099A - 曝光装置、曝光方法及电子组件的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明的曝光装置具备：照明光学系统；空间光调变器，被来自照明光学系统的光所照明；投影光学系统，将自空间光调变器射出的光照射至曝光对象；载台，载置曝光对象，使曝光对象与投影光学系统于既定的扫描方向相对移动；及控制部，控制空间光调变器。空间光调变器具备多个镜面，该多个镜面可切换为：ON状态，调整倾斜而能够向投影光学系统射出光；及OFF状态，不向投影光学系统射出光。控制部以将多个镜面切换第一状态与第二状态的方式控制空间光调变器。第一状态与第二状态是成为ON状态的镜面的至少一者互不相同，自第一状态的空间光调变器射出的光与自第二状态的空间光调变器射出的光形成形状相同的曝光图案。

Description

曝光装置、曝光方法及电子组件的制造方法
技术领域
本发明是关于曝光装置、曝光方法及电子组件的制造方法。
本案主张基于2021年7月5日提出申请的日本特愿2021-111770号的优先权，并将其内容引用至此。
背景技术
以往，作为经由光学系统对基板照射照明光的曝光装置，已知有如下曝光装置：将利用空间光调变器调变的光通入投影光学系统，使由该光形成的像成像于涂布在基板的光阻上并进行曝光(例如参照专利文献1)。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本特开2005-266779号公报
发明内容
根据本发明的第一态样，提供一种曝光装置，其具备：照明光学系统；空间光调变器，被来自上述照明光学系统的光所照明；投影光学系统，将自上述空间光调变器射出的光照射至曝光对象；载台，载置曝光对象，使上述曝光对象与上述投影光学系统于既定的扫描方向相对移动；及控制部，控制空间光调变器，上述空间光调变器具有多个镜面，该多个镜面能够切换为：ON状态，调整倾斜而使光能够向上述投影光学系统射出；及OFF状态，使光不向上述投影光学系统射出，上述控制部以将上述多个镜面切换为第一状态与第二状态的方式控制上述空间光调变器，上述第一状态与上述第二状态是成为上述ON状态的上述镜面的至少一者互不相同，自上述第一状态的上述空间光调变器射出的光与自上述第二状态的上述空间光调变器射出的光形成相同形状的曝光图案。
根据本发明的第二态样，提供一种使用上述曝光装置对上述曝光对象进行曝光的曝光方法。
根据本发明的第三态样，提供一种包括藉由上述曝光方法对上述曝光对象进行曝光的电子组件的制造方法。
附图说明
[图1]是表示本实施形态的曝光装置的外观构成的概要的图。
[图2]是表示照明模块及投影模块的构成的概要的图。
[图3]是表示照明模块的构成的概要的图。
[图4]是表示光调变部的构成的概要的图。
[图5]是表示光调变部的构成的概要的图，表示纸面中央的镜面的ON状态的图。
[图6]是表示光调变部的构成的概要的图，表示纸面中央的镜面的OFF状态的图。
[图7]是表示光调变部的构成的概要的图。
[图8]是表示曝光对象物上的曝光视野的图。
[图9]是表示光调变部的构成的概要的图。
[图10]是表示曝光对象物上的曝光视野的图。
具体实施方式
以下，参照图式对本发明的实施形态进行说明。本发明的以下的详细说明仅为例示者，并不进行限定。图式及以下的详细说明的整体使用相同或同样的参照符号。
[曝光装置]
图1是表示本实施形态的曝光装置1的外观构成的概要的图。曝光装置1是对曝光对象物照射调变光的装置。于特定的实施形态中，曝光装置1是以液晶显示设备(平面显示器)等电子组件所使用的矩形(方型)的玻璃基板作为曝光对象物的步进扫描方式的投影曝光装置、即所谓扫描仪。曝光对象物即玻璃基板的至少一边的长度、或对角长度为500mm以上。曝光对象物即玻璃基板可为平面显示器用的基板。经曝光装置1曝光的曝光对象物(例如平面显示器用的基板)藉由被显影而提供于制品。于曝光对象物的表面形成光阻。
曝光装置1的装置本体例如与美国专利申请案公开第2008/0030702号说明书所揭示的装置本体同样地构成。
曝光装置1具备基座11、防振台12、主柱13、载台14、光学定盘15、照明模块16、投影模块17(投影光学系统)、光源单元18、光纤19、光调变部20(图1中未图示)及控制部21。
以下，视需要使用三维正交坐标系进行说明：以与将经光调变部20调变的光照射至曝光对象物的投影模块17的光轴方向平行的方向作为Z轴方向，以与Z轴正交的既定平面的方向作为X轴方向、Y轴方向。X轴方向与Y轴方向为互相正交(交叉)的方向。
基座11为曝光装置1的基台，设置于防振台12上。基座11以能够于X轴方向及Y轴方向移动的方式支持载置曝光对象物的载台14。
载台14支持曝光对象物。于扫描曝光中，载台14用以相对于经由投影模块17所投影的电路图案的多个部分像而高精度地定位曝光对象物。载台14于6个自由度方向(上述X轴、Y轴及Z轴方向以及相对于各自的轴的旋转方向)驱动曝光对象物。
载台14在扫描曝光时于X轴方向移动，于变更曝光对象物上的曝光对象区域时于Y轴方向移动。另外，曝光对象物形成多个曝光对象区域。载台14于扫描方向使曝光对象物与投影模块17相对移动。
曝光装置1能够于1件曝光对象物上对多个曝光对象区域分别进行曝光。作为载台14的构成，并无特别限定，可使用如美国专利申请案公开第2012/0057140号说明书等所揭示的载台装置。载台装置为例如包含门型(GantryType)的二维粗动载台及相对于该二维粗动载台被微少驱动的微动载台的所谓粗微动构成的载台装置。粗微动构成的载台装置能够藉由粗动载台使曝光对象物于水平面内的3个自由度方向移动，且能够藉由微动载台使曝光对象物于6个自由度方向微动。
主柱13于载台14的上方(Z轴的正方向)支持光学定盘15。光学定盘15支持照明模块16、投影模块17及光调变部20。
图2是表示照明模块16、投影模块17及光调变部20的构成的概要的图。
照明模块16配置于光学定盘15的上方，经由光纤19连接于光源单元18。于本实施形态的一例中，照明模块16包含第一照明模块16A、第二照明模块16B、第三照明模块16C及第四照明模块16D。于以下说明中，于不对第一照明模块16A～第四照明模块16D加以区分的情形时，将该等总称记载为照明模块16。
第一照明模块16A～第四照明模块16D分别将经由光纤19的自光源单元18射出的光导向第一光调变部20A、第二光调变部20B、第三光调变部20C及第四光调变部20D各者。照明模块16对光调变部20进行照明。
后段将进一步详细说明，光调变部20是基于应转印至曝光对象物的电路图案被控制，将来自照明模块16的照明光进行调变。经光调变部20调变的调变光被导向投影模块17。第一光调变部20A～第四光调变部20D配置于XY平面上内互不相同的位置。于以下说明中，于不对第一光调变部20A～第四光调变部20D加以区分的情形时，将该等总称记载为光调变部20。
投影模块17配置于光学定盘15的下方，将经空间光调变器201调变的调变光照射至载置于载台14上的曝光对象物。投影模块17使经光调变部20调变的光于曝光对象物上成像，对曝光对象物进行曝光。换言的，投影模块17将光调变部20上的图案投影至曝光对象物。于本实施形态的一例中，投影模块17包括与上述第一照明模块16A～第四照明模块16D及第一光调变部20A～第四光调变部20D相对应的第一投影模块17A～第四投影模块17D。于以下说明中，于不对第一投影模块17A～第四投影模块17D加以区分的情形时，将该等总称记载为投影模块17。
将由第一照明模块16A、第一光调变部20A、及第一投影模块17A所构成的单元称为第一曝光模块。同样地，将由第二照明模块16B、第二光调变部20B、及第二投影模块17B所构成的单元称为第二曝光模块。各曝光模块设置于XY平面上互不相同的位置，可于载置于载台14的曝光对象物的不同位置将图案曝光。载台14藉由相对于曝光模块向扫描方向即X轴方向相对移动，能够对曝光对象物的整个面或曝光对象区域的整个面进行扫描曝光。
再者，亦将照明模块16称为照明系统。照明模块16(照明系统)对光调变部20的下文所述的空间光调变器201(空间光调变组件)进行照明。
另外，投影模块17亦称为投影部。投影模块17(投影部)可为将光调变部20上的图案的像等倍投影的等倍系统，亦可为放大系统或缩小系统。另外，投影模块17较佳为由单一或2种玻璃材料(尤其是石英或萤石)所构成。
如图1所示，光源单元18设置有一对(光源单元R18R、光源单元L18L)。作为光源单元18，可采用以干涉性较高的雷射作为光源的光源单元、使用如半导体雷射型的UV-LD的光源的光源单元、及利用中继透镜式的延迟器的光源单元。作为光源单元18所具备的光源18a，可列举射出405nm或365nm等波长的灯或雷射二极管等。
曝光装置1除了上述各部以外，还包括由干涉计或编码器等所构成的位置计测部(未图示)，对载台14相对于光学定盘15的相对位置进行计测。
曝光装置1除了上述各部以外，还具备对载台14或载台14上的曝光对象物的Z轴方向的位置进行计测的AF(AutoFocus，自动对焦)部(未图示)。进一步地，曝光装置1包括对准部(未图示)，该对准部于对已曝光于曝光对象物上的图案重迭其他图案进行曝光时，对各图案的相对位置进行计测。AF部及/或对准部可为经由投影模块17进行计测的TTL(Throughthelens，经由透镜(或称为镜后测光))的构成。
图3是表示曝光模块的构成的概要的图。以第一曝光模块为一例，对照明模块16、光调变部20及投影模块17的具体的构成的一例进行说明。
照明模块16具备模块挡板161、及照明光学系统162。模块挡板161切换是否将自光纤19供给的脉冲光导向照明光学系统162。
照明光学系统162藉由经由准直透镜、复眼透镜、聚光透镜等，将自光纤19供给的脉冲光射出至光调变部20，而大致均匀地对光调变部20进行照明。复眼透镜将入射至复眼透镜的脉冲光进行波前区分，聚光透镜使经波前区分的光重迭于光调变部上。再者，照明光学系统162亦可具备光积分棒代替复眼透镜。
光调变部20具备屏蔽。屏蔽是空间光调变器(SLM：SpatialLightModulator)。
光调变部20具备空间光调变器201与偏移光吸收板202。空间光调变器201为数字镜组件(数字微镜组件，DMD)。空间光调变器201能够空间性地、且时间性地调变照明光。
图4是表示本实施形态的空间光调变器201的构成的概要的图。于图4中，使用Xm轴-Ym轴-Zm轴的三维正交坐标系进行说明。空间光调变器201具备于XmYm平面排列的多个微镜203(镜面)。微镜203构成空间光调变器201的组件(像素)。空间光调变器201能够绕着Xm轴及Ym轴分别变更倾斜角。微镜203例如如图5所示，藉由绕着Ym轴倾斜而成为ON状态，如图6所示，藉由绕着Xm轴倾斜而成为OFF状态。ON状态的微镜203将光向投影模块17射出。OFF状态的微镜203不向投影模块17射出光。
空间光调变器201藉由针对各微镜203切换微镜203的倾斜方向，而针对各组件控制将入射光反射的方向。作为一例，空间光调变器201的数字微镜组件具有4Mpixel左右的像素数，能够以10kHz左右的周期切换微镜203的ON状态与OFF状态。
空间光调变器201以既定时间为间隔分别控制多个组件。于空间光调变器201为DMD的情形时，组件为微镜203，既定时间间隔为切换微镜203的ON状态与OFF状态的周期(例如周期10kHz)。
返回图3，偏移光吸收板202吸收自空间光调变器201的设为OFF状态的组件射出(反射)的光(偏移光)。自空间光调变器201的设为ON状态的组件射出的光被导向投影模块17。
投影模块17将自空间光调变器201的设为ON状态的组件射出的光投影至曝光对象物上。投影模块17具备倍率调整部171及焦点调整部172。经空间光调变器201调变的光(调变光)入射至倍率调整部171。
倍率调整部171藉由于光轴方向驱动一部分透镜，而对自空间光调变器201射出的调变光的焦点面163、即曝光对象物的表面上的图像的倍率进行调整。
焦点调整部172藉由于光轴方向驱动透镜组整体，而以自空间光调变器201射出的调变光于藉由上文所述的AF部所计测的曝光对象物的表面进行成像的方式对成像位置、即焦点进行调整。
投影模块17仅将自空间光调变器201的设为ON状态的组件射出的光的像投影至曝光对象物的表面。因此，投影模块17能够将由空间光调变器201的ON组件所形成的图案的像投影曝光至曝光对象物的表面。即，投影模块17能够将经空间调变的调变光形成于曝光对象物的表面。另外，空间光调变器201能够如上文所述，以既定的周期(频率)切换微镜203的ON状态与OFF状态，因此投影模块17能够将经时间调变的调变光形成于曝光对象物的表面。
即，曝光装置1于任意曝光位置使实质的光瞳状态发生变化而进行曝光。
于图4至图6所示的空间光调变器201中，Xm轴与X轴平行，Ym轴与Y轴平行。藉此，ON状态的微镜203(绕着Ym轴倾斜的微镜203)相对于扫描方向即X轴方向倾斜。
亦将Ym轴称为第一倾斜轴T1。于空间光调变器201中，多个微镜203分别绕着第一倾斜轴T1(Ym轴)旋转，多个微镜203调整相对于各自的扫描方向的倾斜而成为ON状态，藉此向投影模块17射出光。
另外，于空间光调变器201中，多个微镜203于扫描方向以直线状排列，且多个微镜203亦于第一倾斜轴T1方向排列。
如图2所示，控制部21例如由具有CPU等运算部与记忆部的计算机所构成。计算机依据执行曝光处理中运作的各部的控制的程序，对曝光装置1的各部进行控制。控制部21例如对照明模块16、光调变部20、投影模块17及载台14的动作进行控制。
储存部是使用内存等能够进行计算机读取的储存媒体装置所构成。储存部储存与曝光处理相关的各种信息。储存部例如储存与曝光处理时的曝光图案相关的信息。储存部例如储存经由通讯部或输入部输入的信息。通讯部是包括用以将曝光装置连接于外部装置的通讯接口所构成。输入部是包括鼠标或键盘、触控面板等输入设备所构成。输入部接收对曝光装置的各种信息的输入。
[曝光方法]
载台14使曝光对象物相对于投影模块而于既定的扫描方向相对移动。藉此，由投影模块照射的光基于储存于储存部中的与曝光图案相关的信息对曝光对象物上进行扫描，而形成既定的曝光图案。
图7是表示空间光调变器201的构成的概要的图。图8是表示曝光对象物23上的曝光视野PI的图。
如图7所示，空间光调变器201具备于XmYm平面排列的多个微镜203(镜面)。于图7中，微镜203排列为5×5的矩阵状。
以下，有将空间光调变器201所具备的1个微镜203称为像素的情况。微镜203例如藉由绕着Ym轴倾斜而成为ON状态，藉由绕着Xm轴倾斜而成为OFF状态。将成为ON状态的微镜203称为「ON像素」。将成为OFF状态的微镜203称为「OFF像素」。
于本实施形态的曝光装置1中，空间光调变器201切换将既定的曝光图案照射至曝光对象物23的第一状态与第二状态。
于第一状态下，控制部21将多个微镜203中预定的1或多个微镜203设为ON状态。于图7中，构成第3列(自上起第3列)的5个微镜203中，左起第2～4个微镜203成为ON状态。构成第3行(自左起第3行)的5个微镜203中，上起第2～4个微镜203成为ON状态。成为ON状态的合计5个微镜203整体以十字形状排列。将该等5个微镜203称为第一微镜组205。
如图8所示，曝光对象物23上的曝光视野PI(曝光图案)成为与ON状态的微镜203相对应的十字形状。曝光视野PI位于曝光对象物23的中央。
图9是表示空间光调变器201的构成的概要的图。图10是表示曝光对象物23上的曝光视野PI的图。
图9所示的态样为空间光调变器201的第二状态，构成第3列(自上起第3列)的5个微镜203中，左起第3～5个微镜203成为ON状态。构成第4行(自左起第4行)的5个微镜203中，上起第2～4个微镜203成为ON状态。成为ON状态的合计5个微镜203整体以十字形状排列。控制部21能够切换第一状态与第二状态。
将成为ON状态的5个微镜203称为第二微镜组206。第二微镜组206是与第一状态下的第一微镜组205(参照图7)相同形状，构成第二微镜组206的微镜203的一部分与构成第一微镜组205的微镜203不同。详细而言，第二微镜组206是由相对于第一微镜组205向右错开1个像素的位置的微镜203所构成。即，于空间光调变器201的第一状态与第二状态下，成为ON状态的微镜的至少一个不同，但无论为第一状态抑或第二状态，均能够形成形状相同的曝光图案。另外，形状相同的曝光图案亦包括倍率不同的曝光图案、或经散焦的曝光图案。例如，藉由调整投影模块17的倍率调整部171，而形成倍率不同的曝光图案。例如，藉由调整投影模块17的焦点调整部172，而形成经散焦的曝光图案。
如图10所示，曝光对象物23上的曝光视野PI(曝光图案)成为与ON状态的微镜203相对应的十字形状。图10所示的曝光视野PI与图8所示的曝光视野PI为相同形状。根据自第一微镜组205(参照图7)向第二微镜组206(参照图9)的位置变更，使载台14向右方向移动，藉此可使曝光对象物23亦向右方向移动。藉此，能够变更照射位置。另外，根据位置自第一微镜组205(参照图7)向第二微镜组206(参照图9)的变更，使投影模块17内的光学构件移动，或使搭载有空间光调变器201的载台向X方向及/或Y方向移动，藉此能够变更照射位置。
即，能够与第一状态相同地将曝光对象物23中的曝光视野PI的位置设为中央。
空间光调变器201的第一状态与第二状态的切换时机并无特别限定。第一状态与第二状态的切换可于每次扫描曝光进行，亦可于预定的时机周期性地进行，亦可于曝光对象物23的曝光结束而开始下一曝光对象物的扫描曝光之间进行，亦可以更长的周期进行。
若微镜203的ON状态长时间持续，则可能发生微镜203固定于该状态的现象。若有固定于ON状态的微镜203，则有不必要地对曝光对象物23中的特定位置进行曝光的情形。即，本来应将微镜203设为OFF状态，但由于固定于ON状态，故而有将不应曝光的位置曝光的情形。然而，于本实施形态中，藉由将空间光调变器201切换第一状态与第二状态进行曝光(参照图8及图10)，而能够抑制微镜203长时间为ON状态。藉此，能够抑制微镜203固定。
再者，于微镜203固定的情形时，可能对曝光对象物23中的特定位置进行不必要的曝光，于该情形时，可藉由设置遮光构件(挡板)，利用遮光构件遮挡来自微镜203的光而抑制特定位置的不必要的曝光。遮光构件可以能够遮挡自空间光调变器201射出的光的至少一部分的方式设置，亦可以能够遮挡入射至空间光调变器201的光的至少一部分的方式设置。遮光构件可设置于光纤19与照明光学系统162之间、照明光学系统162内、照明光学系统162与空间光调变器201之间、投影模块17内、投影模块17与曝光对象物23之间的任一处。
另外，于微镜203固定的情形时，亦可使用曝光装置1所具备的其他曝光模块对曝光对象物23进行扫描曝光。此时所使用的曝光模块较佳为于具有微镜203固定的空间光调变器201的曝光模块的邻近设置的曝光模块，亦可预先设定使用哪个曝光模块。藉此，例如可防止为了更换空间光调变器201而停止曝光装置1的情况，而能够持续曝光对象物23的曝光。
微镜203亦可于曝光处理时以外的时间切换ON状态与OFF状态。
ON状态的时间与OFF状态的时间的比率例如可为1：2～2：1，较佳为1：1。ON状态与OFF状态的切换可于曝光处理时以外的整段时间内连续进行，亦可仅于其中的既定期间进行。
微镜203可于曝光处理时以外的时间维持为ON状态与OFF状态之间的中立状态。中立状态的维持可于曝光处理时以外的整段时间连续进行，亦可仅于其中的既定期间进行。
另外，微镜203亦可于曝光处理时以外的时间内进行和扫描曝光时的ON状态与OFF状态的切换为相反相位的ON状态与OFF状态的切换。即，于扫描曝光时一面切换微镜203的ON状态与OFF状态一面进行曝光，于曝光处理时以外的时间内，可以进行将此时的ON状态换为OFF状态、且将OFF状态换为ON状态的切换的方式，使微镜203运作。
藉由该等操作，不易发生微镜203的固定。
于使用能够调整镜面的倾斜的空间光调变器的情形时，空间光调变器可藉由所施加的电压进行镜面的倾斜角度的校准。另外，亦可计测来自镜面的光的功率(照度)，对其变动量进行校准。
如上所述，于相同微镜203成为长时间ON状态的情形时，容易发生微镜203的固定。与此相对，于本实施形态的曝光装置1中，能够抑制将微镜203设为长时间ON状态，因此不易发生微镜203的固定。藉此，可使微镜203正常运作。因此，能够实现良好的曝光处理。
于微镜203成为长时间OFF状态的情形时，亦容易发生微镜203的固定，但于本实施形态的曝光装置1中，亦能够抑制将微镜203设为长时间OFF状态，因此不易发生微镜203的固定。
于使用本实施形态的曝光装置1的曝光方法中，于空间光调变器201的第一状态与第二状态下，成为ON状态的微镜203的一部分不同。因此，不易发生微镜203的固定。藉此，能够使微镜203正常运作。因此，能够实现良好的曝光处理。
本实施形态的曝光装置1可具备成为同步用的基准的主时钟(MasterClock)(产生主时钟的振荡器)(未图示)。于曝光装置1中，例如载台14、照明模块16、投影模块17、光调变部20等组件能够以主时钟为基准被驱动。控制部21能够以主时钟为基准控制各组件的动作。藉由参照主时钟，可个别地适当调整各组件的运作时机，并且适当地设定多个组件之间的运作时机的关系。
于本实施形态的曝光装置1中，第二微镜组206(参照图9)是由相对于第一微镜组205(参照图7)向右滑动移动1个像素的位置的微镜203所构成，但第二微镜组相对于第一微镜组的位置不限于此。第二微镜组亦可为相对于第一微镜组滑动移动2个像素以上的位置，滑动移动的方向不限于图7及图9的纸面右方向，亦可为左方向，亦可为上下方向。第二微镜组亦可处于以第一微镜组的中心为轴而旋转位移的位置。第二微镜组亦可为将第一微镜组缩小或放大的形状。第一微镜组与第二微镜组可为至少1个微镜不同即可，亦可为全部微镜不同。
如图10所示，于上文所述的曝光方法中，控制部21根据自第一微镜组205(参照图7)向第二微镜组206(参照图9)的位置变更，藉由向载台14的右方向的移动，而使曝光对象物23向右移动。如上所述，藉由载台14的位置调整，能够进行曝光对象物23上的曝光位置对准。
曝光对象物23上的曝光位置对准的方法并不限定于此。例如，控制部21亦可藉由调整空间光调变器201的位置来进行曝光对象物23上的曝光位置对准。控制部21亦可藉由投影模块17的投影位置的调整来进行曝光对象物23上的曝光位置对准。
曝光装置1亦可由一个投影模块17(例如第一投影模块17A)与另一个投影模块17(例如第二投影模块17B)进行接续曝光。
(电子组件的制造方法)
曝光装置1可使用上文所述的曝光方法制造液晶显示设备(平面显示器)等电子组件。
再者，援引上述实施形态所引用的与曝光装置等相关的全部美国专利申请案公开说明书及美国专利说明书的揭示作为本说明书的记载的一部分。
以上，已参照图式对该发明的一实施形态进行了详细说明，但具体的构成并不限于上述者，可于不脱离该发明的要旨的范围内进行各种设计变更等。
【符号说明】
1:曝光装置
11:基座
12:防振台
13:主柱
14:载台
15:光学定盘
16:照明模块
161:模块挡板
162:照明光学系统
163:焦点面
16A:第一照明模块
16B:第二照明模块
16C:第三照明模块
16D:第四照明模块
17:投影模块(投影光学系统)
171:倍率调整部
172:焦点调整部
17A:第一投影模块
17B:第二投影模块
17C:第三投影模块
17D:第四投影模块
18:光源单元
18R:光源单元R
18L:光源单元L
18a:光源
19:光纤
20:光调变部
201:空间光调变器
202:偏移光吸收板
203:微镜
205:第一微镜组
206:第二微镜组
20A:第一光调变部
20B:第二光调变部
20C:第三光调变部
20D:第四光调变部
21:控制部
23:曝光对象物
PI：曝光视野
T1：第一倾斜轴。

Claims (16)

1.一种曝光装置，其具备：
照明光学系统；
空间光调变器，被来自上述照明光学系统的光所照明；
投影光学系统，将自上述空间光调变器射出的光照射至曝光对象；
载台，载置上述曝光对象，使上述曝光对象与上述投影光学系统于既定的扫描方向相对移动；及
控制部，控制上述空间光调变器，
上述空间光调变器具有多个镜面，上述多个镜面能够切换为：ON状态，调整倾斜而使光能够向上述投影光学系统射出；及OFF状态，使光不向上述投影光学系统射出，上述控制部以将上述多个镜面切换为第一状态与第二状态的方式控制上述空间光调变器，
上述第一状态与上述第二状态是成为上述ON状态的上述镜面的至少一者互不相同，
自上述第一状态的上述空间光调变器射出的光与自上述第二状态的上述空间光调变器射出的光形成相同形状的曝光图案。
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中上述控制部切换上述第一状态与上述第二状态，并且根据上述ON状态的上述镜面的位置的变更而调整上述载台的位置，藉此进行上述曝光对象上的曝光位置对准。
3.根据权利要求1所述的曝光装置，其中上述控制部切换上述第一状态与上述第二状态，并且根据上述ON状态的上述镜面的位置的变更而调整上述空间光调变器的位置，藉此进行上述曝光对象上的曝光位置对准。
4.根据权利要求1所述的曝光装置，其中上述控制部切换上述第一状态与上述第二状态，并且根据上述ON状态的上述镜面的位置的变更而调整上述投影光学系统的光的照射位置，藉此进行上述曝光对象上的曝光位置对准。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中上述控制部每进行一次扫描曝光即切换上述第一状态与上述第二状态。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中上述控制部于上述曝光对象的曝光结束至开始下一曝光对象的曝光之间切换上述第一状态与上述第二状态。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中上述控制部于预先设定的时机切换上述第一状态与上述第二状态。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的曝光装置，其中上述控制部于曝光处理时以外的时间切换上述多个镜面的上述ON状态与上述OFF状态。
9.根据权利要求8所述的曝光装置，其中上述ON状态的时间与上述OFF状态的时间的时间比率为1：2～2：1。
10.根据权利要求8所述的曝光装置，其中上述ON状态与上述OFF状态的切换和扫描曝光时所进行的上述ON状态与上述OFF状态的切换为相反相位。
11.根据权利要求1至7中任一项所述的曝光装置，其中上述控制部于曝光处理时以外的时间将上述多个镜面维持为上述ON状态与上述OFF状态之间的中立状态。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的曝光装置，其进一步具备：遮光构件，遮挡入射至上述空间光调变器的光的至少一部分。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的曝光装置，其进一步具备：遮光构件，遮挡自上述空间光调变器射出的光的至少一部分。
14.根据权利要求1至13中任一项所述的曝光装置，其具备多个上述投影光学系统。
15.一种曝光方法，其是使用根据权利要求1至14中任一项所述的曝光装置将曝光对象进行曝光。
16.一种电子组件的制造方法，其包括藉由根据权利要求15的曝光方法将曝光对象进行曝光。
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