CN117479679A - 显示面板、显示面板的制备方法和显示装置 - Google Patents

显示面板、显示面板的制备方法和显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN117479679A
CN117479679A CN202311086653.1A CN202311086653A CN117479679A CN 117479679 A CN117479679 A CN 117479679A CN 202311086653 A CN202311086653 A CN 202311086653A CN 117479679 A CN117479679 A CN 117479679A
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
display panel
insulating layer
substrate
forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202311086653.1A
Other languages
English (en)
Inventor
胡泽虎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority to CN202311086653.1A priority Critical patent/CN117479679A/zh
Publication of CN117479679A publication Critical patent/CN117479679A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/124Insulating layers formed between TFT elements and OLED elements
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/1201Manufacture or treatment
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/131Interconnections, e.g. wiring lines or terminals

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本申请提供一种显示面板、显示面板的制备方法和显示装置,该显示面板包括:基板;缓冲层,位于基板的一侧面;绝缘层,位于缓冲层背离基板的一侧面;钝化层,位于绝缘层背离基板的一侧面;第一信号线,位于所述绝缘层和所述钝化层之间;第一凸部,位于缓冲层与所述绝缘层之间;和/或,第二凸部,位于绝缘层与钝化层之间。本申请通过在缓冲层与绝缘层之间设置第一凸部;和/或,在绝缘层与钝化层之间设置第二凸部,增加了第一信号线上方平坦化层的厚度,避免了第一信号线在后续的制程中损伤,提高了显示面板的性能。

Description

显示面板、显示面板的制备方法和显示装置
技术领域
本申请涉及显示领域,尤其涉及一种显示面板、显示面板的制备方法和显示装置。
背景技术
显示技术不断更迭,显示器件朝着多功能和数字化方向发展。大尺寸、高解析度、高色饱、节能、高亮、柔性、透明等逐渐成为技术发展的主流趋势,有机发光二极管(OrganicLight Emitting Diode,OLED)能够最终实现以上极致性能。
同时为了追求成本节约以及窄边框的美化,栅驱动电路集成在阵列基板上(GateOn Array GOA)技术也运用而生,并逐步成熟;尺寸做大时,信号线需要走更长的距离进行传递,信号线的电阻就要求越来越低,这就需要导电更好的材料,或者提高信号线的厚度减小电阻;制程成本降低考虑,也会导入HT(Half Tone)工艺,以减少mask。这时就会存在平坦化层膜厚流动对信号线走线区保护不足,导致信号线在后续制程损伤问题。
发明内容
本申请提供一种显示面板、显示面板的制备方法和显示装置,可以避免第一信号线在后续的制程中损伤,提高了显示面板的性能。
本申请提供一种显示面板,包括:
基板;
缓冲层,位于所述基板的一侧面;
绝缘层,位于所述缓冲层背离所述基板的一侧面;
钝化层,位于所述绝缘层背离所述基板的一侧面;
第一信号线,位于所述绝缘层和所述钝化层之间;
第一凸部,所述第一凸部位于所述缓冲层与所述绝缘层之间;和/或,第二凸部,所述第二凸部位于所述绝缘层与所述钝化层之间。
在一些实施方式中,显示面板还包括栅极,当所述第一凸部位于所述缓冲层与所述绝缘层之间时,所述栅极和所述第一凸部同层设置;
和/或,当所述第二凸部位于所述绝缘层与所述钝化层之间时,所述第一信号线与所述第二凸部同层设置。
在一些实施方式中,当所述第一凸部位于所述缓冲层与所述绝缘层之间时,所述第一凸部包括间隔设置的第一凸块和第二凸块;所述第一信号线位于所述第一凸块和所述第二凸块之间;和/或,
当所述第二凸部位于所述绝缘层与所述钝化层之间时,所述第二凸部包括间隔设置的第三凸块和第四凸块;所述第一信号线位于所述第三凸块和所述第四凸块之间。
在一些实施方式中,所述显示面板还包括间隔设置的第二遮光部、第三遮光部和第四遮光部,沿所述显示面板的第一方向,满足以下条件中的至少一者:
(a)所述第四遮光部的正投影与所述第一凸块的正投影和/或所述第三凸块的正投影至少部分重叠;
(b)所述第三遮光部的正投影与所述第二凸块和/或所述第四凸块的正投影至少部分重叠;
(c)所述第二遮光部的正投影覆盖所述第一信号线的正投影;
和/或,所述显示面板还包括第一遮光部,沿所述显示面板的第一方向,所述第一遮光部的正投影覆盖所述栅极的正投影。
在一些实施方式中,所述显示面板还包括漏极和源极;所述漏极、所述源极和所述第一信号线同层设置。
相应的,本申请还提供一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
提供一基板;
在所述基板的一侧面形成缓冲层;
在所述缓冲层背离所述基板的一侧面形成绝缘层;
在所述绝缘层背离所述基板的一侧面形成钝化层;
在所述绝缘层和所述钝化层之间形成第一信号线;
在形成所述绝缘层之前,在所述缓冲层与所述绝缘层之间形成第一凸部;和/或,在形成所述钝化层之前,在所述绝缘层与所述钝化层之间形成第二凸部。
在一些实施方式中,在形成所述绝缘层之前,在所述缓冲层与所述绝缘层之间形成第一凸部,包括:
在所述缓冲层背离所述基板的一侧面形成第一金属层;
对所述第一金属层图案化处理形成第一凸部。
在一些实施方式中,在所述缓冲层背离所述基板的一侧面形成第一金属层之后,还包括;
对所述第一金属层图案化处理形成栅极。
在一些实施方式中,在形成所述钝化层之前,在所述绝缘层与所述钝化层之间形成第二凸部,包括:
在所述绝缘层背离所述基板的一侧面形成第二金属层;
对所述第二金属层图案化处理形成第二凸部。
在一些实施方式中,在所述绝缘层和所述钝化层之间形成第一信号线,包括:
对所述第二金属层图案化处理形成第一信号线。
在一些实施方式中,在所述绝缘层背离所述基板的一侧面形成第二金属层之后,还包括:
对所述第二金属层图案化处理形成漏极和源极。
在一些实施方式中,在所述绝缘层背离所述基板的一侧面形成钝化层之后,还包括:
在所述钝化层背离所述基板的一侧面形成平坦化层。
相应的,本申请还提供一种显示装置,包括如上所述的显示面板;或者,包括采用如上所述的显示面板的制备方法制备得到的显示面板。
本申请提供一种显示面板、显示面板的制备方法和显示装置,该显示面板包括:基板;缓冲层,位于基板的一侧面;绝缘层,位于缓冲层背离基板的一侧面;钝化层,位于绝缘层背离基板的一侧面;第一信号线,位于所述绝缘层和所述钝化层之间;第一凸部,位于缓冲层与所述绝缘层之间;和/或,第二凸部,位于绝缘层与钝化层之间;本申请通过在缓冲层与绝缘层之间设置第一凸部;和/或,在绝缘层与钝化层之间设置第二凸部,可以增加第一信号线上方平坦化层的厚度,避免了第一信号线在后续的制程中损伤,提高了显示面板的性能。
附图说明
为了更清楚地说明本申请中的技术方案,下面将对实施方式描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施方式,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请提供的第一种显示面板的结构示意图;
图2为本申请提供的第二种显示面板的结构示意图;
图3为本申请提供的第三种显示面板的结构示意图;
图4为本申请提供的第一种显示面板的制备方法流程图;
图5为本申请提供的第一种显示面板的制备方法中第一步的结构示意图;
图6为本申请提供的第一种显示面板的制备方法中第二步的结构示意图;
图7为本申请提供的第一种显示面板的制备方法中第三步的结构示意图;
图8为本申请提供的第一种显示面板的制备方法中第四步的结构示意图;
图9为本申请提供的第一种显示面板的制备方法中第五步的结构示意图;
图10为本申请提供的第二种显示面板的制备方法流程图;
图11为本申请提供的第三种显示面板的制备方法流程图。
附图中,各标号所代表的部件如下:
10、第一金属层;11、第一凸部;111、第一凸块;112、第二凸块;12、栅极;20、第二金属层;21、第二凸部;211、第三凸块;212、第四凸块;22、第一信号线;23、漏极;24、源极;101、基板;102、缓冲层;103、绝缘层;104、钝化层;105、平坦化层;30、第三金属层;31、第一遮光部;32、第二遮光部;33、第三遮光部;34、第四遮光部;40、有源层;50、栅极绝缘层;60、阳极层;70、像素定义层;71、过孔。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
需要说明的是,本申请所提到的[第一]、[第二]、[第三]、[第四]等序号用语并不代表任何顺序、数量或者重要性,只是用于区分不同的部分。本申请所提到的[上]、[下]、[左]、[右]等方向用语仅是参考附加图式的方向。因此,使用的序号用语、方向用语和位置关系用语是用以说明及理解本申请,而非用以限制本申请。在图中,结构相似的单元是以相同标号表示。
本申请实施例提供一种显示面板、显示面板的制备方法和显示装置,下面将结合具体实施例对本申请进行详细说明。
如图1-图3所示,一种显示面板包括基板101、缓冲层102、绝缘层103、钝化层104和第一信号线22。缓冲层102位于基板101的一侧面;绝缘层103位于缓冲层102背离基板101的一侧面;钝化层104位于绝缘层103背离基板101的一侧面;第一信号线22位于绝缘层103和钝化层104之间。显示面板还包括第一凸部11,第一凸部11位于缓冲层102与绝缘层103之间;和/或,还包括第二凸部21,第二凸部21位于绝缘层103与钝化层104之间。
具体的,如图1所示,显示面板包括第一凸部11和第二凸部21;第一凸部11位于缓冲层102与绝缘层103之间;第二凸部21位于绝缘层103与钝化层104之间。如图2所示,显示面板仅包括第一凸部11;第一凸部11位于缓冲层102与绝缘层103之间。如图3所示,显示面板仅包括第二凸部21;第二凸部21位于绝缘层103与钝化层104之间。
可以理解的是,显示面板包括显示区AA和封装区NA;基板101、缓冲层102、绝缘层103和钝化层104从显示面板的显示区AA延伸至封装区NA。第一凸部11和/或第二凸部21位于显示面板的封装区NA内。
本申请通过在缓冲层102与绝缘层103之间设置第一凸部11;和/或,在绝缘层103与钝化层104之间设置第二凸部21,可以增加第一信号线22上方平坦化层105的厚度,避免了第一信号线22在后续的制程中损伤,提高了显示面板的性能。
在一些实施方式中,显示面板还包括栅极12,当第一凸部11位于缓冲层102与绝缘层103之间时,栅极12与第一凸部11同层设置;和/或,当第二凸部21位于绝缘层103与钝化层104之间时,第一信号线22与第二凸部21同层设置。
具体的,栅极12位于显示面板的显示区AA。第一信号线22位于显示面板的封装区NA。
在本申请中,同层设置是指采用同一道光罩在同一制程中制备。
本申请通过将第一凸部11与栅极12采用同一道光罩在同一制程中制备,一方面,没有增加显示面板的制程;另一方面,增加了第一信号线22上方平坦化层105的厚度,避免了第一信号线22在后续的制程中损伤,提高了显示面板的性能。同理可知,本申请通过将第二凸部21与第一信号线22采用同一道光罩在同一制程中制备,一方面,也没有增加显示面板的制程;另一方面,增加了第一信号线22上方平坦化层105的厚度,避免了第一信号线22在后续的制程中损伤,提高了显示面板的性能。
在一些实施方式中,当第一凸部11位于缓冲层102与绝缘层103之间时,第一凸部11包括间隔设置的第一凸块111和第二凸块112;第一信号线22位于第一凸块111和第二凸块112之间;和/或,
当第二凸部21位于绝缘层103与钝化层104之间时,第二凸部21包括间隔设置的第三凸块211和第四凸块212;第一信号线22位于第三凸块211和第四凸块212之间。
可以理解的是,显示面板可以包括多个第一凸部11,第一凸部11设置在第一信号线22周围的净空区域,且不能影响第一信号线22和其他走线的信号传输。同理,显示面板也可以包括多个第二凸部21,第二凸部21设置在第一信号线22周围的净空区域,且不能影响第一信号线22和其他走线的信号传输。
本申请通过在第一信号线22的两侧形成第一凸部11和/或第二凸部21;第一凸部11包括间隔设置的第一凸块111和第二凸块112;第二凸部21包括间隔设置的第三凸块211和第四凸块212;使得第一信号线22位于第一凸块111和第二凸块112之间;和/或,第一信号线22位于第三凸块211和第四凸块212之间,可以将第一信号线22周围净空的区域垫高,从而增加了位于第一信号线22上方平坦化层105的厚度,避免了第一信号线22在后续的制程中损伤,提高了显示面板的性能。
在一些实施方式中,显示面板还包括间隔设置的第二遮光部32、第三遮光部33和第四遮光部34,沿显示面板的第一方向X,满足以下条件中的至少一者:
(a)第四遮光部34的正投影与第一凸块111的正投影和/或第三凸块211的正投影至少部分重叠;
(b)所述第三遮光部33的正投影与第二凸块112和/或第四凸块212的正投影至少部分重叠;
(c)所述第二遮光部32的正投影覆盖第一信号线22的正投影;
和/或,显示面板还包括第一遮光部31,沿显示面板的第一方向X,第一遮光部31的正投影覆盖栅极12的正投影。
显示面板还包括与第一方向X交叉设置的第二方向Y。
可以理解的是,第一凸块111和/或第三凸块211可以位于第四遮光部34的正上方,也可以与第四遮光部34交错排布,只要不影响第一信号线22和其他走线的信号传输皆可;同理,第二凸块112和/或第四凸块212可以位于第三遮光部33的正上方,也可以与第三遮光部33交错排布,只要不影响第一信号线22和其他走线的信号传输皆可;第一信号线22位于第二遮光部32的正上方;栅极12位于第一遮光部31的正上方。
在一些实施方式中,显示面板还包括漏极23和源极24;漏极23、源极24和第一信号线22同层设置。
可以理解的是,第二凸部21、第一信号线22、漏极23和源极24采用同一道光罩在同一制程中制备。
本申请通过将第二凸部21、第一信号线22、漏极23和源极24采用同一道光罩在同一制程中制备,一方面,简化了显示面板的制程;另一方面,增加了第一信号线22上方平坦化层105的厚度,避免了第一信号线22在后续的制程中损伤,提高了显示面板的性能。
在一些实施方式中,显示面板还包括层叠设置在缓冲层102背离基板101一侧面的有源层40和栅极绝缘层50;有源层40包括相互连接的沟道区和非沟道区;漏极23与有源层40的非沟道区连接;源极24与有源层40的非沟道区和第一遮光部31连接。
在一些实施方式中,显示面板还包括平坦化层105;平坦化层105覆盖漏极23和源极24。
在一些实施方式中,显示面板还包括阳极层60;平坦化层105内开设有接触孔(图中未示出),阳极层60通过平坦化层105内的接触孔与源极24连接。
在一些实施方式中,显示面板还包括像素定义层70;像素定义层70位于阳极层60背离基板101的一侧面;像素定义层70内开设有暴露出阳极层60的过孔71。
可以理解的是过孔71内可以设置发光层(图中未示出)。
如图4-图11所示,相应的,本申请还提供第一种显示面板的制备方法,包括:
步骤S10:提供一基板101;
步骤S20:在基板101的一侧面形成缓冲层102;
步骤S30:在缓冲层102背离基板101的一侧面形成绝缘层103;
步骤S40:在绝缘层103背离基板101的一侧面形成钝化层104;
步骤S50:在绝缘层103和钝化层104之间形成第一信号线22;
步骤S61:在形成绝缘层103之前,在缓冲层102与绝缘层103之间形成第一凸部11;和在形成钝化层104之前,在绝缘层103与钝化层104之间形成第二凸部21。
本申请通过在缓冲层102与绝缘层103之间设置第一凸部11;和,在绝缘层103与钝化层104之间设置第二凸部21,可以增加第一信号线22上方平坦化层105的厚度,避免了第一信号线22在后续的制程中损伤,提高了显示面板的性能。
如图10所示,本申请提供了第二种显示面板的制备方法,包括:
步骤S10:提供一基板101;
步骤S20:在基板101的一侧面形成缓冲层102;
步骤S30:在缓冲层102背离基板101的一侧面形成绝缘层103;
步骤S40:在绝缘层103背离基板101的一侧面形成钝化层104;
步骤S50:在绝缘层103和钝化层104之间形成第一信号线22;
步骤S62:在形成绝缘层103之前,在缓冲层102与绝缘层103之间形成第一凸部11。
本申请通过在缓冲层102与绝缘层103之间设置第一凸部11,可以增加第一信号线22上方平坦化层105的厚度,避免了第一信号线22在后续的制程中损伤,提高了显示面板的性能。
如图11所示,本申请还提供第三种显示面板的制备方法,包括:
步骤S10:提供一基板101;
步骤S20:在基板101的一侧面形成缓冲层102;
步骤S30:在缓冲层102背离基板101的一侧面形成绝缘层103;
步骤S40:在绝缘层103背离基板101的一侧面形成钝化层104;
步骤S50:在绝缘层103和钝化层104之间形成第一信号线22;
步骤S63:在形成钝化层104之前,在绝缘层103与钝化层104之间形成第二凸部21。
本申请通过在绝缘层103与钝化层104之间设置第二凸部21,可以增加第一信号线22上方平坦化层105的厚度,避免了第一信号线22在后续的制程中损伤,提高了显示面板的性能。
在一些实施方式中,在形成绝缘层103之前,在缓冲层102与绝缘层103之间形成第一凸部11,包括:
步骤S611:在缓冲层102背离基板101的一侧面形成第一金属层10。
步骤S622:对第一金属层10图案化处理形成第一凸部11。
具体的,第一凸部11包括间隔设置的第一凸块111和第二凸块112。
在一些实施方式中,在缓冲层102背离基板101的一侧面形成第一金属层10之后,还包括;
步骤S623:对第一金属层10图案化处理形成栅极12。
本申请通过将第一凸部11与栅极12采用同一道光罩在同一制程中制备,一方面,没有增加显示面板的制程;另一方面,增加了第一信号线22上方平坦化层105的厚度,避免了第一信号线22在后续的制程中损伤,提高了显示面板的性能。
在一些实施方式中,在形成钝化层104之前,在绝缘层103与钝化层104之间形成第二凸部21,包括:
步骤S621:在绝缘层103背离基板101的一侧面形成第二金属层20。
步骤S622:对第二金属层20图案化处理形成第二凸部21。
具体的,第二凸部21包括间隔设置的第三凸块211和第四凸块212。
在一些实施方式中,在绝缘层103和钝化层104之间形成第一信号线22,包括:
步骤S51:对第二金属层20图案化处理形成第一信号线22。
在一些实施方式中,在绝缘层103背离基板101的一侧面形成第二金属层20之后,还包括:
步骤S623:对第二金属层20图案化处理形成漏极23和源极24。
本申请通过将第二凸部21、第一信号线22、漏极23和源极24采用同一道光罩在同一制程中制备,一方面,简化了显示面板的制程;另一方面,增加了第一信号线22上方平坦化层105的厚度,避免了第一信号线22在后续的制程中损伤,提高了显示面板的性能。
在一些实施方式中,在绝缘层103背离基板101的一侧面形成钝化层104之后,还包括:
步骤S70:在钝化层104背离基板101的一侧面形成平坦化层105。
在一些实施方式中,在基板101的一侧面形成缓冲层102之前,还包括:
步骤S70:在基板101的一侧面形成第三金属层30。
步骤S80:对第三金属层30进行图案化处理形成第一遮光部31、第二遮光部32、第三遮光部33和第四遮光部34。
在一些实施方式中,在基板101的一侧面形成缓冲层102之后,还包括:
步骤S90:在缓冲层102背离基板101的一侧面形成有源层40。
步骤S100:在有源层40背离基板101的一侧面形成栅极绝缘层50。
在一些实施方式中,在钝化层104背离基板101的一侧面形成平坦化层105之后,还包括:
步骤S110:对平坦化层105和钝化层104图案化处理形成暴露出源极24的接触孔;
步骤S120:在接触孔内和平坦化层105上形成阳极层60;
步骤S130:在阳极层60背离平坦化层105的一侧面形成像素定义层;
具体的,提供一半色调光罩(Half Tone Mask,HTM)对平坦化层105和钝化层104图案化处理形成暴露出源极24的接触孔。采用曝光的方式对平坦化层105进行开孔;采用湿法蚀刻的方式对钝化层104金属开孔。再采用灰化处理的方式将开孔形成的底切去除;同时将位于封装区NA的平坦化层105去除。一方面,因为平坦化层105的材质为有机物,外界水汽可以通过平坦化层105入侵显示面板的显示区AA,从而影响显示面板的封装效果;另一方面,封装时采用的封装胶在平坦化层105上的流动性好,可以由显示面板的封装区NA流向显示面板的显示区AA,从而影响显示面板的封装效果。
具体的,采用硝酸蚀刻形成阳极层60;由于第一信号线22上方平坦化层105的厚度垫高,第一信号线22上方覆盖有钝化层104,可以避免硝酸蚀刻对第一信号线22产生损伤,影响显示面板的性能。
步骤S140:对像素定义层图案化处理形成暴露出阳极层60的过孔71。
相应的,本申请还提供一种显示装置,包括如上所述的显示面板;或者,包括采用如上所述的显示面板的制备方法制备得到的显示面板。
本申请提供的显示装置,通过在缓冲层102与绝缘层103之间设置第一凸部11;和/或,在绝缘层103与钝化层104之间设置第二凸部21,可以增加第一信号线22上方平坦化层105的厚度,避免了第一信号线22在后续的制程中损伤,提高了显示面板的性能。
综上所述,虽然本申请实施例的详细介绍如上,但上述实施例并非用以限制本申请,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请实施例的技术方案的范围。

Claims (13)

1.一种显示面板,其特征在于,包括:
基板(101);
缓冲层(102),位于所述基板(101)的一侧面;
绝缘层(103),位于所述缓冲层(102)背离所述基板(101)的一侧面;
钝化层(104),位于所述绝缘层(103)背离所述基板(101)的一侧面;
第一信号线(22),位于所述绝缘层(103)和所述钝化层(104)之间;
第一凸部(11),所述第一凸部(11)位于所述缓冲层(102)与所述绝缘层(103)之间;和/或,第二凸部(21),所述第二凸部(21)位于所述绝缘层(103)与所述钝化层(104)之间。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括栅极(12),当所述第一凸部(11)位于所述缓冲层(102)与所述绝缘层(103)之间时,所述栅极(12)和所述第一凸部(11)同层设置;和/或,
当所述第二凸部(21)位于所述绝缘层(103)与所述钝化层(104)之间时,所述第一信号线(22)与所述第二凸部(21)同层设置。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,当所述第一凸部(11)位于所述缓冲层(102)与所述绝缘层(103)之间时,所述第一凸部(11)包括间隔设置的第一凸块(111)和第二凸块(112);所述第一信号线(22)位于所述第一凸块(111)和所述第二凸块(112)之间;和/或,
当所述第二凸部(21)位于所述绝缘层(103)与所述钝化层(104)之间时,所述第二凸部(21)包括间隔设置的第三凸块(211)和第四凸块(212);所述第一信号线(22)位于所述第三凸块(211)和所述第四凸块(212)之间。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括间隔设置的第二遮光部(32)、第三遮光部(33)和第四遮光部(34),沿所述显示面板的第一方向(X),满足以下条件中的至少一者:
(a)所述第四遮光部(34)的正投影与所述第一凸块(111)的正投影和/或所述第三凸块(211)的正投影至少部分重叠;
(b)所述第三遮光部(33)的正投影与所述第二凸块(112)和/或所述第四凸块(212)的正投影至少部分重叠;
(c)所述第二遮光部(32)的正投影覆盖所述第一信号线(22)的正投影;
和/或,所述显示面板还包括第一遮光部(31),沿所述显示面板的第一方向(X),所述第一遮光部(31)的正投影覆盖所述栅极(12)的正投影。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括漏极(23)和源极(24);所述漏极(23)、所述源极(24)和所述第一信号线(22)同层设置。
6.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
提供一基板(101);
在所述基板(101)的一侧面形成缓冲层(102);
在所述缓冲层(102)背离所述基板(101)的一侧面形成绝缘层(103);
在所述绝缘层(103)背离所述基板(101)的一侧面形成钝化层(104);
在所述绝缘层(103)和所述钝化层(104)之间形成第一信号线(22);
在形成所述绝缘层(103)之前,在所述缓冲层(102)与所述绝缘层(103)之间形成第一凸部(11);和/或,在形成所述钝化层(104)之前,在所述绝缘层(103)与所述钝化层(104)之间形成第二凸部(21)。
7.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在形成所述绝缘层(103)之前,在所述缓冲层(102)与所述绝缘层(103)之间形成第一凸部(11),包括:
在所述缓冲层(102)背离所述基板(101)的一侧面形成第一金属层(10);
对所述第一金属层(10)图案化处理形成第一凸部(11)。
8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述缓冲层(102)背离所述基板(101)的一侧面形成第一金属层(10)之后,还包括;
对所述第一金属层(10)图案化处理形成栅极(12)。
9.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在形成所述钝化层(104)之前,在所述绝缘层(103)与所述钝化层(104)之间形成第二凸部(21),包括:
在所述绝缘层(103)背离所述基板(101)的一侧面形成第二金属层(20);
对所述第二金属层(20)图案化处理形成第二凸部(21)。
10.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述绝缘层(103)和所述钝化层(104)之间形成第一信号线(22),包括:
对所述第二金属层(20)图案化处理形成第一信号线(22)。
11.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述绝缘层(103)背离所述基板(101)的一侧面形成第二金属层(20)之后,还包括:
对所述第二金属层(20)图案化处理形成漏极(23)和源极(24)。
12.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述绝缘层(103)背离所述基板(101)的一侧面形成钝化层(104)之后,还包括:
在所述钝化层(104)背离所述基板(101)的一侧面形成平坦化层(105)。
13.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-5中任一项所述的显示面板;或者,包括采用如权利要求6-12中任一项所述的显示面板的制备方法制备得到的显示面板。
CN202311086653.1A 2023-08-24 2023-08-24 显示面板、显示面板的制备方法和显示装置 Pending CN117479679A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202311086653.1A CN117479679A (zh) 2023-08-24 2023-08-24 显示面板、显示面板的制备方法和显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202311086653.1A CN117479679A (zh) 2023-08-24 2023-08-24 显示面板、显示面板的制备方法和显示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN117479679A true CN117479679A (zh) 2024-01-30

Family

ID=89628215

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202311086653.1A Pending CN117479679A (zh) 2023-08-24 2023-08-24 显示面板、显示面板的制备方法和显示装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN117479679A (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11043542B2 (en) Organic light-emitting display panel and display device
KR100936881B1 (ko) 유기전계발광 표시 장치 및 그의 제조 방법
CN110265470B (zh) 显示装置、显示面板及其制造方法
WO2021062951A1 (zh) 显示面板及显示装置
TWI418903B (zh) 陣列基板及其製造方法
CN110165074B (zh) 显示面板及其制作方法
JP2012103697A (ja) アレイ基板及び液晶ディスプレイ
US11133488B2 (en) Display substrate, display apparatus, and method of fabricating display substrate having enclosure ring in buffer area
TWI692800B (zh) 顯示裝置及顯示裝置之薄膜電晶體的製造方法
CN108649036B (zh) 一种阵列基板及其制作方法
US20220285650A1 (en) Display device
KR101484966B1 (ko) 어레이 기판 및 이의 제조방법
TWI392057B (zh) 薄膜電晶體陣列基板及其製造方法
JP2005123565A (ja) ゲート−ボディーコンタクト薄膜トランジスター
CN210443565U (zh) 薄膜晶体管、阵列基板、显示面板和显示装置
KR20120032273A (ko) 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR20050024761A (ko) 박막 트랜지스터 및 액티브 매트릭스 평판 표시 장치
CN111415963A (zh) 显示面板及其制备方法
CN109659322B (zh) 一种阵列基板及其制备方法
CN117479679A (zh) 显示面板、显示面板的制备方法和显示装置
CN110854134B (zh) 阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置
US10396213B2 (en) Active device array substrate and manufacturing method thereof
JP2004318076A (ja) 横方向電場駆動液晶ディスプレイの製造方法
CN110600493A (zh) 显示面板及其制作方法
US7939830B2 (en) Display device

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination