CN117427481A - 一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及除臭剂技术领域，具体公开了一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂及其制备方法，所述除臭剂包括基于纳米二氧化硅改性的复配体系液、层状蒙脱土剂；其中基于纳米二氧化硅改性的复配体系液、层状蒙脱土剂的物质质量比为(7～11)：(2～5)。本发明除臭剂以基于纳米二氧化硅改性的复配体系液作为主体剂，通过加入层状蒙脱土剂作为调配助剂，通过原料之间相互辅助，相互协调，产品的硫化氢、氨类物质去除率高，同时抗菌持久，产品实现除臭效率、抗菌持久的协调改进，以及在碱腐、高温条件下性能稳定。
Description
技术领域
本发明涉及除臭剂技术领域，具体涉及一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂及其制备方法。
背景技术
城市垃圾处理过程中的臭气的主要成分有：氨、硫化氢、甲烷、有机胺等。城市生活垃圾恶臭气体主要来自有机物的厌氧发酵过程，特别是餐厨垃圾的厌氧发酵分解过程，现有技术中的除臭剂除臭效率差，对硫化氢、氨类物质去除率差，同时抗菌不持久，产品很难实现除臭效率、抗菌持久的协调改进，以及在碱腐、高温条件下性能不稳定，限制了产品的使用效率。
发明内容
针对现有技术的缺陷，本发明的目的是提供一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂及其制备方法，以解决上述背景技术中提出的问题。
本发明解决技术问题采用如下技术方案：
本发明提供了一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂，所述除臭剂包括基于纳米二氧化硅改性的复配体系液、层状蒙脱土剂；其中基于纳米二氧化硅改性的复配体系液、层状蒙脱土剂的物质质量比为(7～11)：(2～5)；
基于纳米二氧化硅改性的复配体系液的制备方法为：
S01：将纳米二氧化硅置于110～120℃下热处理10～15min，然后以1～3℃/min的速率冷却至45～48℃，保温，得到改性的纳米二氧化硅；
S02：将6～10份改性的纳米二氧化硅、1～3份磷酸缓冲溶液加入到35～40份水中，然后加入β-环糊精3～5份、活性炭2～3份和2～4份柠檬酸，先以350～450r/min的转速下搅拌30～40min；
S03：随后向S02产物中再加入2～4份十二烷基苯磺酸钠和3～5份晶须改性剂和4～6份纳米银粉，继续以750～850r/min的转速搅拌10～15min，搅拌结束，得到基于纳米二氧化硅改性的复配体系液。
优选地，所述磷酸缓冲溶液的pH值为5.0。
优选地，所述层状蒙脱土剂的制备方法为：
S101：将层状蒙脱土于260～280℃下热处理10～15min，然后于2～5℃/min的速率冷却至120～130℃，保温5～10min；
S102：随后再以1～3℃/min的速率冷却至45℃，保温，得到层状蒙脱土热均效剂；
S103：将2～5份硝酸钇溶液、1～3份硅溶胶、2～4份海藻酸钠溶液和0.35～0.45份尿素搅拌混匀，得到改性剂；
S104：将层状蒙脱土热均效剂、改性剂按照重量比6:1送入到球磨机中球磨处理，球磨结束，得到层状蒙脱土剂。
优选地，所述硝酸钇溶液的质量分数为3～5％；海藻酸钠溶液的质量分数为8～12％。
优选地，所述球磨转速为1000～1500r/min，球磨时间为1～2h。
优选地，所述晶须改性剂的制备方法为：
将硫酸钙晶须置于质子辐照箱内辐照5～10min，辐照功率为500～700W，辐照结束，于质量分数5％的高锰酸钾溶液中搅拌分散均匀，水洗、干燥，得到硫酸钙晶须剂；
将10～14份硫酸钙晶须剂、2～5份木质素磺酸钠加入到20～25份硫酸镧溶液中，然后加入2～4份硬脂酸和1～3份硅烷偶联剂，搅拌反应处理，搅拌结束，水洗、干燥，得到晶须改性剂。
优选地，所述硫酸镧溶液的质量分数为4～8％；所述硅烷偶联剂为偶联剂KH560。
优选地，所述搅拌反应处理的搅拌温度为48～52℃，搅拌时间为1～2h，搅拌转速为750～850r/min。
本发明还提供了一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂的制备方法，包括以下步骤：
将层状蒙脱土剂加入到基于纳米二氧化硅改性的复配体系液中先振荡处理，再超声分散处理，处理结束，得到本发明的基于纳米二氧化硅改性的除臭剂。
优选地，所述振荡处理的振荡功率为400～500W，振荡时间为10～20min；所述超声分散处理的超声功率为350～450W，超声时间为25～35min。
与现有技术相比，本发明具有如下的有益效果：
1、本发明除臭剂以基于纳米二氧化硅改性的复配体系液作为主体剂，通过加入层状蒙脱土剂作为调配助剂，通过原料之间相互辅助，相互协调，产品的硫化氢、氨类物质去除率高，同时抗菌持久，产品实现除臭效率、抗菌持久的协调改进，以及在碱腐、高温条件下性能稳定；
2、基于纳米二氧化硅改性的复配体系液采用纳米二氧化硅经过110～120℃下热处理10～15min，然后以1～3℃/min的速率冷却至45～48℃，优化纳米二氧化硅的活性度，通过磷酸缓冲溶液配合β-环糊精、活性炭先搅拌分散处理，利用β-环糊精、活性炭和柠檬酸配合可有效的去除硫化氢、氨类物质，同时加入的十二烷基苯磺酸钠和晶须改性剂相互调和协配，采用晶须改性剂协效改性的纳米二氧化硅，从而便于体系液更大程度的接触臭源，纳米二氧化硅具有高比表面积，可承载体系的介质液，能够更大程度的接触臭源，提高除臭效率，同时晶须改性剂的添加能够更好的协配纳米二氧化硅，协调改进除臭、抗菌持久性；
3、层状蒙脱土剂采用蒙脱土经过260～280℃下热处理10～15min，然后于2～5℃/min的速率冷却至120～130℃，保温5～10min、再以1～3℃/min的速率冷却至45℃，优化蒙脱土的片层层间距，同时再经过硝酸钇溶液、硅溶胶、海藻酸钠溶液和尿素构成的改性剂对蒙脱土进行球磨改进，通过改性剂原料之间的相互调和优化，改进的蒙脱土与基于纳米二氧化硅改性的复配体系液的协配协效效果更优异，片层状的蒙脱土穿插体系中，提高体系的耐碱腐、耐高温稳定性；
4、硫酸钙晶须置于质子辐照箱内辐照、高锰酸钾溶液中搅拌，改进晶须的活性度和分散度，通过配合木质素磺酸钠、硫酸镧溶液、硬脂酸和硅烷偶联剂调和调制，改性的硫酸钙晶须与改性的纳米二氧化硅在复配体系液中协配协效效果更为优异，产品的硫化氢、氨类物质去除率进一步提高，产品除臭效率、抗菌持久的协调性效果进一步的得到改进。
具体实施方式
下面结合具体实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本实施例的一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂，所述除臭剂包括基于纳米二氧化硅改性的复配体系液、层状蒙脱土剂；其中基于纳米二氧化硅改性的复配体系液、层状蒙脱土剂的物质质量比为(7～11)：(2～5)；
基于纳米二氧化硅改性的复配体系液的制备方法为：
S01：将纳米二氧化硅置于110～120℃下热处理10～15min，然后以1～3℃/min的速率冷却至45～48℃，保温，得到改性的纳米二氧化硅；
S02：将6～10份改性的纳米二氧化硅、1～3份磷酸缓冲溶液加入到35～40份水中，然后加入β-环糊精3～5份、活性炭2～3份和2～4份柠檬酸，先以350～450r/min的转速下搅拌30～40min；
S03：随后向S02产物中再加入2～4份十二烷基苯磺酸钠和3～5份晶须改性剂和4～6份纳米银粉，继续以750～850r/min的转速搅拌10～15min，搅拌结束，得到基于纳米二氧化硅改性的复配体系液。
本实施例的磷酸缓冲溶液的pH值为5.0。
本实施例的层状蒙脱土剂的制备方法为：
S101：将层状蒙脱土于260～280℃下热处理10～15min，然后于2～5℃/min的速率冷却至120～130℃，保温5～10min；
S102：随后再以1～3℃/min的速率冷却至45℃，保温，得到层状蒙脱土热均效剂；
S103：将2～5份硝酸钇溶液、1～3份硅溶胶、2～4份海藻酸钠溶液和0.35～0.45份尿素搅拌混匀，得到改性剂；
S104：将层状蒙脱土热均效剂、改性剂按照重量比6:1送入到球磨机中球磨处理，球磨结束，得到层状蒙脱土剂。
本实施例的硝酸钇溶液的质量分数为3～5％；海藻酸钠溶液的质量分数为8～12％。
本实施例的球磨转速为1000～1500r/min，球磨时间为1～2h。
本实施例的晶须改性剂的制备方法为：
将硫酸钙晶须置于质子辐照箱内辐照5～10min，辐照功率为500～700W，辐照结束，于质量分数5％的高锰酸钾溶液中搅拌分散均匀，水洗、干燥，得到硫酸钙晶须剂；
将10～14份硫酸钙晶须剂、2～5份木质素磺酸钠加入到20～25份硫酸镧溶液中，然后加入2～4份硬脂酸和1～3份硅烷偶联剂，搅拌反应处理，搅拌结束，水洗、干燥，得到晶须改性剂。
本实施例的硫酸镧溶液的质量分数为4～8％；所述硅烷偶联剂为偶联剂KH560。
本实施例的搅拌反应处理的搅拌温度为48～52℃，搅拌时间为1～2h，搅拌转速为750～850r/min。
本实施例的一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂的制备方法，包括以下步骤：
将层状蒙脱土剂加入到基于纳米二氧化硅改性的复配体系液中先振荡处理，再超声分散处理，处理结束，得到本发明的基于纳米二氧化硅改性的除臭剂。
本实施例的振荡处理的振荡功率为400～500W，振荡时间为10～20min；所述超声分散处理的超声功率为350～450W，超声时间为25～35min。
实施例1.
本实施例的一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂，所述除臭剂包括基于纳米二氧化硅改性的复配体系液、层状蒙脱土剂；其中基于纳米二氧化硅改性的复配体系液、层状蒙脱土剂的物质质量比为7：2；
基于纳米二氧化硅改性的复配体系液的制备方法为：
S01：将纳米二氧化硅置于110℃下热处理10min，然后以1℃/min的速率冷却至45℃，保温，得到改性的纳米二氧化硅；
S02：将6份改性的纳米二氧化硅、1份磷酸缓冲溶液加入到35份水中，然后加入β-环糊精3份、活性炭2份和2份柠檬酸，先以350r/min的转速下搅拌30～40min；
S03：随后向S02产物中再加入2份十二烷基苯磺酸钠和3份晶须改性剂和4份纳米银粉，继续以750r/min的转速搅拌10min，搅拌结束，得到基于纳米二氧化硅改性的复配体系液。
本实施例的磷酸缓冲溶液的pH值为5.0。
本实施例的层状蒙脱土剂的制备方法为：
S101：将层状蒙脱土于260℃下热处理10min，然后于2℃/min的速率冷却至120℃，保温5min；
S102：随后再以1℃/min的速率冷却至45℃，保温，得到层状蒙脱土热均效剂；
S103：将2份硝酸钇溶液、1份硅溶胶、2份海藻酸钠溶液和0.35份尿素搅拌混匀，得到改性剂；
S104：将层状蒙脱土热均效剂、改性剂按照重量比6:1送入到球磨机中球磨处理，球磨结束，得到层状蒙脱土剂。
本实施例的硝酸钇溶液的质量分数为3％；海藻酸钠溶液的质量分数为8％。
本实施例的球磨转速为1000r/min，球磨时间为1h。
本实施例的晶须改性剂的制备方法为：
将硫酸钙晶须置于质子辐照箱内辐照5min，辐照功率为500W，辐照结束，于质量分数5％的高锰酸钾溶液中搅拌分散均匀，水洗、干燥，得到硫酸钙晶须剂；
将10份硫酸钙晶须剂、2份木质素磺酸钠加入到20份硫酸镧溶液中，然后加入2份硬脂酸和1份硅烷偶联剂，搅拌反应处理，搅拌结束，水洗、干燥，得到晶须改性剂。
本实施例的硫酸镧溶液的质量分数为4％；所述硅烷偶联剂为偶联剂KH560。
本实施例的搅拌反应处理的搅拌温度为48℃，搅拌时间为1h，搅拌转速为750r/min。
本实施例的一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂的制备方法，包括以下步骤：
将层状蒙脱土剂加入到基于纳米二氧化硅改性的复配体系液中先振荡处理，再超声分散处理，处理结束，得到本发明的基于纳米二氧化硅改性的除臭剂。
本实施例的振荡处理的振荡功率为400W，振荡时间为10min；所述超声分散处理的超声功率为350W，超声时间为25min。
实施例2.
本实施例的一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂，所述除臭剂包括基于纳米二氧化硅改性的复配体系液、层状蒙脱土剂；其中基于纳米二氧化硅改性的复配体系液、层状蒙脱土剂的物质质量比为11：5；
基于纳米二氧化硅改性的复配体系液的制备方法为：
S01：将纳米二氧化硅置于120℃下热处理15min，然后以3℃/min的速率冷却至48℃，保温，得到改性的纳米二氧化硅；
S02：将10份改性的纳米二氧化硅、3份磷酸缓冲溶液加入到40份水中，然后加入β-环糊精5份、活性炭3份和4份柠檬酸，先以450r/min的转速下搅拌30～40min；
S03：随后向S02产物中再加入4份十二烷基苯磺酸钠和5份晶须改性剂和6份纳米银粉，继续以850r/min的转速搅拌15min，搅拌结束，得到基于纳米二氧化硅改性的复配体系液。
本实施例的磷酸缓冲溶液的pH值为5.0。
本实施例的层状蒙脱土剂的制备方法为：
S101：将层状蒙脱土于280℃下热处理15min，然后于5℃/min的速率冷却至130℃，保温10min；
S102：随后再以3℃/min的速率冷却至45℃，保温，得到层状蒙脱土热均效剂；
S103：将5份硝酸钇溶液、3份硅溶胶、4份海藻酸钠溶液和0.45份尿素搅拌混匀，得到改性剂；
S104：将层状蒙脱土热均效剂、改性剂按照重量比6:1送入到球磨机中球磨处理，球磨结束，得到层状蒙脱土剂。
本实施例的硝酸钇溶液的质量分数为5％；海藻酸钠溶液的质量分数为12％。
本实施例的球磨转速为1500r/min，球磨时间2h。
本实施例的晶须改性剂的制备方法为：
将硫酸钙晶须置于质子辐照箱内辐照10min，辐照功率为700W，辐照结束，于质量分数5％的高锰酸钾溶液中搅拌分散均匀，水洗、干燥，得到硫酸钙晶须剂；
将14份硫酸钙晶须剂、5份木质素磺酸钠加入到25份硫酸镧溶液中，然后加入4份硬脂酸和3份硅烷偶联剂，搅拌反应处理，搅拌结束，水洗、干燥，得到晶须改性剂。
本实施例的硫酸镧溶液的质量分数为8％；所述硅烷偶联剂为偶联剂KH560。
本实施例的搅拌反应处理的搅拌温度为52℃，搅拌时间为2h，搅拌转速为850r/min。
本实施例的一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂的制备方法，包括以下步骤：
将层状蒙脱土剂加入到基于纳米二氧化硅改性的复配体系液中先振荡处理，再超声分散处理，处理结束，得到本发明的基于纳米二氧化硅改性的除臭剂。
本实施例的振荡处理的振荡功率为500W，振荡时间为20min；所述超声分散处理的超声功率为450W，超声时间为35min。
实施例3.
本实施例的一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂，所述除臭剂包括基于纳米二氧化硅改性的复配体系液、层状蒙脱土剂；其中基于纳米二氧化硅改性的复配体系液、层状蒙脱土剂的物质质量比为9：3.5；
基于纳米二氧化硅改性的复配体系液的制备方法为：
S01：将纳米二氧化硅置于115℃下热处理12.5min，然后以2℃/min的速率冷却至46℃，保温，得到改性的纳米二氧化硅；
S02：将8份改性的纳米二氧化硅、2份磷酸缓冲溶液加入到37.5份水中，然后加入β-环糊精4份、活性炭2.5份和3份柠檬酸，先以400r/min的转速下搅拌35min；
S03：随后向S02产物中再加入3份十二烷基苯磺酸钠和4份晶须改性剂和5份纳米银粉，继续以800r/min的转速搅拌12.5min，搅拌结束，得到基于纳米二氧化硅改性的复配体系液。
本实施例的磷酸缓冲溶液的pH值为5.0。
本实施例的层状蒙脱土剂的制备方法为：
S101：将层状蒙脱土于270℃下热处理12.5min，然后于3.5℃/min的速率冷却至125℃，保温7.5min；
S102：随后再以2℃/min的速率冷却至45℃，保温，得到层状蒙脱土热均效剂；
S103：将3.5份硝酸钇溶液、2份硅溶胶、3份海藻酸钠溶液和0.40份尿素搅拌混匀，得到改性剂；
S104：将层状蒙脱土热均效剂、改性剂按照重量比6:1送入到球磨机中球磨处理，球磨结束，得到层状蒙脱土剂。
本实施例的硝酸钇溶液的质量分数为4％；海藻酸钠溶液的质量分数为10％。
本实施例的球磨转速为1250r/min，球磨时间为1.5h。
本实施例的晶须改性剂的制备方法为：
将硫酸钙晶须置于质子辐照箱内辐照7.5min，辐照功率为600W，辐照结束，于质量分数5％的高锰酸钾溶液中搅拌分散均匀，水洗、干燥，得到硫酸钙晶须剂；
将12份硫酸钙晶须剂、3.5份木质素磺酸钠加入到22.5份硫酸镧溶液中，然后加入3份硬脂酸和2份硅烷偶联剂，搅拌反应处理，搅拌结束，水洗、干燥，得到晶须改性剂。
本实施例的硫酸镧溶液的质量分数为6％；所述硅烷偶联剂为偶联剂KH560。
本实施例的搅拌反应处理的搅拌温度为50℃，搅拌时间为1.5h，搅拌转速为800r/min。
本实施例的一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂的制备方法，包括以下步骤：
将层状蒙脱土剂加入到基于纳米二氧化硅改性的复配体系液中先振荡处理，再超声分散处理，处理结束，得到本发明的基于纳米二氧化硅改性的除臭剂。
本实施例的振荡处理的振荡功率为450W，振荡时间为15min；所述超声分散处理的超声功率为40W，超声时间为30min。
对比例1.
与实施例3不同是基于纳米二氧化硅改性的复配体系液未添加改性的纳米二氧化硅。
对比例2.
与实施例3不同是基于纳米二氧化硅改性的复配体系液未添加晶须改性剂。
对比例3.
与实施例3不同是晶须改性剂的制备方法中硫酸钙晶须剂采用硫酸钙晶须代替。
对比例4.
与实施例3不同是晶须改性剂的制备方法中未加入木质素磺酸钠、硫酸镧溶液。
对比例5.
与实施例3不同是晶须改性剂的制备方法中未加入硬脂酸和硅烷偶联剂。
对比例6.
与实施例3不同是未添加层状蒙脱土剂。
对比例7.
与实施例3不同是层状蒙脱土剂采用层状蒙脱土直接代替。
对比例8.
与实施例3不同是层状蒙脱土剂的制备方法不同，未采用S101、S102步骤处理。
对比例9.
与实施例3不同是层状蒙脱土剂的制备中未采用改性剂处理。
对比例10.
与实施例3不同是改性剂的制备中未加入硝酸钇溶液、硅溶胶。
对比例11.
与实施例3不同是改性剂的制备中未加入尿素、硅溶胶。
去除硫化氢、氨气的检测：
实验开始时先把检测仪器(MX-2100)放在密闭的玻璃容器中，放入浓度为200mg/L硫化氢、浓度为200mg/L氨气，检测仪器记数开始，稳定后把50g测试产品的除臭剂喷入到容器中，记录仪器读数的变化，检测2h后硫化氢、氨气的去除率。
按照2017版《消毒技术规范》中抑菌效果的测试方法对本发明实施例1～3和对比例1～11制备的除臭剂进行抑菌性能测试，试验菌种为大肠杆菌；
从对比例1～11及实施例1～3可看出；
实施例3的产品具有优异的硫化氢去除率、氨气去除率，同时产品大肠杆菌抑菌率的持久性性能优异，硫化氢、氨气除臭率与大肠杆菌抑菌率的持久性相互协调改进；
从对比例1～5及实施例3中看出，基于纳米二氧化硅改性的复配体系液未添加改性的纳米二氧化硅、未添加晶须改性剂，产品的性能变化较为明显，同时晶须改性剂的制备方法中硫酸钙晶须剂采用硫酸钙晶须代替、未加入木质素磺酸钠、硫酸镧溶液、未加入硬脂酸和硅烷偶联剂，产品的性能均有变差趋势，只有采用本发明的方法制备的晶须改性剂，产品性能效果最为明显；以及采用晶须改性剂、改性的纳米二氧化硅二者相互调配，共同协效，产品的性能效果最为显著；
从对比例1～2、对比例6和实施例3中看出，采用晶须改性剂、改性的纳米二氧化硅二者相互调配制备的基于纳米二氧化硅改性的复配体系液配合层状蒙脱土剂，产品的性能效果改进明显，产品的原料缺少一种，产品的性能变化较为显著，只有采用本发明特定的原料配合，产品的效果最为显著；
从对比例7～11及实施例3中看出，层状蒙脱土剂采用层状蒙脱土直接代替、层状蒙脱土剂的制备方法不同，未采用S101、S102步骤处理、层状蒙脱土剂的制备中未采用改性剂处理、改性剂的制备中未加入硝酸钇溶液、硅溶胶、改性剂的制备中未加入尿素、硅溶胶，产品的性能效果均有变差趋势，只有采用本发明的方法制备的层状蒙脱土剂，产品的性能效果最为显著；
同时本发明的发明人发现，层状蒙脱土剂的加入对大肠杆菌抑菌率的持久性有明显改进，可以改进产品的抗菌持久稳定性。
产品的碱腐、高温稳定性测试；
将产品置于质量分数2％的氢氧化钠的碱雾中放置1h，然后转至60℃下放置6h，测试产品碱腐、高温条件下的性能稳定性；
从对比例1～11及实施例3看出，产品中基于纳米二氧化硅改性的复配体系液未添加改性的纳米二氧化硅、未添加晶须改性剂，产品的性能稳定性变化较为明显，以及产品中未加入层状蒙脱土剂，产品的性能稳定性变化较为显著；采用三者调配，产品的性能共同协效，产品耐碱腐、耐高温稳定性具有显著改进作用；同时不同的方法制备的纳米二氧化硅改性的复配体系液、层状蒙脱土剂，产品性能均有变差趋势，只有采用本发明的原料配方、工艺制备，产品的性能效果最为显著。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
Claims (10)
1.一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂，其特征在于，所述除臭剂包括基于纳米二氧化硅改性的复配体系液、层状蒙脱土剂；其中基于纳米二氧化硅改性的复配体系液、层状蒙脱土剂的物质质量比为(7～11)：(2～5)；
基于纳米二氧化硅改性的复配体系液的制备方法为：
S01：将纳米二氧化硅置于110～120℃下热处理10～15min，然后以1～3℃/min的速率冷却至45～48℃，保温，得到改性的纳米二氧化硅；
S02：将6～10份改性的纳米二氧化硅、1～3份磷酸缓冲溶液加入到35～40份水中，然后加入β-环糊精3～5份、活性炭2～3份和2～4份柠檬酸，先以350～450r/min的转速下搅拌30～40min；
S03：随后向S02产物中再加入2～4份十二烷基苯磺酸钠和3～5份晶须改性剂和4～6份纳米银粉，继续以750～850r/min的转速搅拌10～15min，搅拌结束，得到基于纳米二氧化硅改性的复配体系液。
2.根据权利要求1所述的一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂及其制备方法，其特征在于，所述磷酸缓冲溶液的pH值为5.0。
3.根据权利要求1所述的一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂及其制备方法，其特征在于，所述层状蒙脱土剂的制备方法为：
S101：将层状蒙脱土于260～280℃下热处理10～15min，然后于2～5℃/min的速率冷却至120～130℃，保温5～10min；
S102：随后再以1～3℃/min的速率冷却至45℃，保温，得到层状蒙脱土热均效剂；
S103：将2～5份硝酸钇溶液、1～3份硅溶胶、2～4份海藻酸钠溶液和0.35～0.45份尿素搅拌混匀，得到改性剂；
S104：将层状蒙脱土热均效剂、改性剂按照重量比6:1送入到球磨机中球磨处理，球磨结束，得到层状蒙脱土剂。
4.根据权利要求3所述的一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂及其制备方法，其特征在于，所述硝酸钇溶液的质量分数为3～5％；海藻酸钠溶液的质量分数为8～12％。
5.根据权利要求3所述的一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂及其制备方法，其特征在于，所述球磨转速为1000～1500r/min，球磨时间为1～2h。
6.根据权利要求1所述的一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂及其制备方法，其特征在于，所述晶须改性剂的制备方法为：
将硫酸钙晶须置于质子辐照箱内辐照5～10min，辐照功率为500～700W，辐照结束，于质量分数5％的高锰酸钾溶液中搅拌分散均匀，水洗、干燥，得到硫酸钙晶须剂；
将10～14份硫酸钙晶须剂、2～5份木质素磺酸钠加入到20～25份硫酸镧溶液中，然后加入2～4份硬脂酸和1～3份硅烷偶联剂，搅拌反应处理，搅拌结束，水洗、干燥，得到晶须改性剂。
7.根据权利要求6所述的一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂及其制备方法，其特征在于，所述硫酸镧溶液的质量分数为4～8％；所述硅烷偶联剂为偶联剂KH560。
8.根据权利要求6所述的一种基于纳米二氧化硅改性的除臭剂及其制备方法，其特征在于，所述搅拌反应处理的搅拌温度为48～52℃，搅拌时间为1～2h，搅拌转速为750～850r/min。
9.一种如权利要求1～8任一项所述基于纳米二氧化硅改性的除臭剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
将层状蒙脱土剂加入到基于纳米二氧化硅改性的复配体系液中先振荡处理，再超声分散处理，处理结束，得到本发明的基于纳米二氧化硅改性的除臭剂。
10.根据权利要求9所述基于纳米二氧化硅改性的除臭剂的制备方法，其特征在于，所述振荡处理的振荡功率为400～500W，振荡时间为10～20min；所述超声分散处理的超声功率为350～450W，超声时间为25～35min。
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|---|---|
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