CN115818963A - 陶瓷熔块及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种陶瓷熔块及其制备方法，属于熔块领域。本发明的陶瓷熔块为透明釉熔块，包括如下组分：三氧化二铝、二氧化硅、三氧化二铁、氧化钙、氧化镁、氧化钾、氧化钠、氧化钛、二氧化锆、三氧化二硼、氧化钡、氧化锂、一氧化铅、氧化锌、氧化锶、一氧化锰、氧化铷、氧化铯、氧化镉、五氧化二磷、氟和三氧化硫，制得的透明釉熔块有效提高陶瓷釉面的透明度，光泽度。
Description
技术领域
本发明属于熔块技术领域，具体涉及一种陶瓷熔块及其制备方法。
背景技术
众所周知，因为陶瓷熔块具有提高釉料质量，提高产品性能的作用，所以，陶瓷制品在制备过程中，常常会在釉料中加入陶瓷熔块。
中国专利申请号为201910064537.7，其公开了一种制备陶瓷用的无铅透明熔块，其在制备过程中，需要将熔炉内的温度加热至1800℃，利用该温度制备熔块，不仅增加企业生产成本，且生产温度为1200~1800℃，其温度跨度大，对熔块的质量产生很大的影响，无法保证制得的熔块均为优质产品。
因此，需要一种降低企业生产成本，提高熔块质量的陶瓷熔块的生产方法。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一一种降低企业生产成本，提高熔块质量的陶瓷熔块的生产方法。
本发明采用如下技术方案：
陶瓷熔块，包括按照质量份数计的如下组分：三氧化二铝11.4~13.2份，二氧化硅61.81~68.24份，三氧化二铁0.12~0.20份，氧化钙7.52~8.14份，氧化镁0.12~0.19份，氧化钾4.76~5.01份，氧化钠4.36~4.67份，氧化钛0.03~0.05份，二氧化锆0.14~0.21份，三氧化二硼8.41~9.43份，氧化钡1.56~1.74份，氧化锂0.01~0.02份，一氧化铅0.01~0.02份，氧化锌0.01~0.02份，氧化锶0.03~0.05份，一氧化锰0.01~0.02份，氧化铷0.01~0.02份，氧化铯0.01~0.02份，氧化镉0.01~0.02份，五氧化二磷0.05~0.07份，氟0.05~0.07份，三氧化硫0.05~0.07份，灼烧减量小于0.05%。
所述的陶瓷熔块的制备方法，包括如下步骤：混料、熔化、水淬、球磨、压榨、烘烤、破碎、包装。
进一步的，所述混料前，需按照所述质量份数，将所述各组分破碎、过筛，过筛时，筛网为10~20目，也方便去除杂物。
进一步的，熔化时温度为1200~1300℃，水淬为常温水。熔化后的熔融料经过熔炉出口时，通过控制熔炉出料量，使得水淬后的产品为不规则块状，便于后续的处理工作。
进一步的，所述球磨时，转速为350~400r/min，球磨时间为24~30h。
进一步的，所述压榨完成后，获得的产品水分含量为13~17%，然后进行烘烤，接着将其破碎成块状，最后进行包装，即得陶瓷熔块，且获得的陶瓷熔块为透明釉熔块。
烘烤时，将压榨后的产品放置在烤房内烘烤，烤房内的温度由熔炉的余热提供，烘烤时间为10~12h，烘烤完成后，将产品进行破碎，过10~20目筛网即可。
本发明与现有技术相比，具有以下有益效果：
1、本发明的陶瓷熔块为透明釉熔块，其制作过程新颖，较其他熔块的制作过程，需要的温度更低，有效节约企业生产成本，且不含重金属元素，可广泛应用于日用陶瓷、陶瓷工艺品。
2、本发明的陶瓷熔块，利用大量的二氧化硅作为主体材料，可以有效提高釉面的强度，且通过少量的氧化锶、氧化铷、氧化铯、氧化镉有效提高釉面的透明度及光泽度，且具有助融的性能。
具体实施方式
实施例1
陶瓷熔块，包括按照质量份数计的如下组分：三氧化二铝11.4份，二氧化硅61.81份，三氧化二铁0.12份，氧化钙7.52份，氧化镁0.12份，氧化钾4.76份，氧化钠4.36份，氧化钛0.03份，二氧化锆0.14份，三氧化二硼8.41份，氧化钡1.56份，氧化锂0.01份，一氧化铅0.01份，氧化锌0.01份，氧化锶0.03份，一氧化锰0.01份，氧化铷0.01份，氧化铯0.01份，氧化镉0.01份，五氧化二磷0.05份，氟0.05份，三氧化硫0.05份，灼烧减量0.05%。
所述的陶瓷熔块的制备方法，包括如下步骤：
按照上述质量份数，将各个组分进行破碎、过10目筛网，也方便去除杂物。将得到的各组分混料处理，然后进入熔炉内熔化，熔化时温度为1200℃。
紧接着，将熔化后的融料进行水淬，水淬为常温水处理，熔化后的熔融料经过熔炉出口时，通过控制熔炉出料量，使得水淬后的产品为不规则块状，然后将水淬后的产品进行球磨，球磨时，转速为350r/min，球磨时间为24h，获得球磨料。
然后，将得到的球磨料进行压榨，压榨完成后，获得的产品水分含量为13%，将压榨后的产品，进行烘烤，烘烤时，将压榨后的产品放置在烤房内烘烤，烤房内的温度由熔炉的余热提供，利用管道将窑炉的预热引导烤房内，烘烤时间为10h，烘烤完成后，将其破碎成块状，过10目筛网即可，最后进行包装，即得陶瓷熔块，且获得的陶瓷熔块为透明釉熔块。
实施例2
陶瓷熔块，包括按照质量份数计的如下组分：三氧化二铝13.2份，二氧化硅68.24份，三氧化二铁0.20份，氧化钙8.14份，氧化镁0.19份，氧化钾5.01份，氧化钠4.67份，氧化钛0.05份，二氧化锆0.21份，三氧化二硼9.43份，氧化钡1.74份，氧化锂0.02份，一氧化铅0.02份，氧化锌0.02份，氧化锶0.05份，一氧化锰0.02份，氧化铷0.02份，氧化铯0.02份，氧化镉0.02份，五氧化二磷0.07份，氟0.07份，三氧化硫0.07份，灼烧减量0.04%。
所述的陶瓷熔块的制备方法，包括如下步骤：
按照上述质量份数，将各个组分进行破碎、过20目筛网，也方便去除杂物。将得到的各组分混料处理，然后进入熔炉内熔化，熔化时温度为1300℃。
紧接着，将熔化后的融料进行水淬，水淬为常温水处理，熔化后的熔融料经过熔炉出口时，通过控制熔炉出料量，使得水淬后的产品为不规则块状，然后将水淬后的产品进行球磨，球磨时，转速为400r/min，球磨时间为30h，获得球磨料。
然后，将得到的球磨料进行压榨，压榨完成后，获得的产品水分含量为17%，将压榨后的产品，进行烘烤，烘烤时，将压榨后的产品放置在烤房内烘烤，烤房内的温度由熔炉的余热提供，利用管道将窑炉的预热引导烤房内，烘烤时间为12h，烘烤完成后，将其破碎成块状，过20目筛网即可，最后进行包装，即得陶瓷熔块，且获得的陶瓷熔块为透明釉熔块。
实施例3
陶瓷熔块，包括按照质量份数计的如下组分：三氧化二铝12.3份，二氧化硅63.61份，三氧化二铁0.15份，氧化钙7.76份，氧化镁0.14份，氧化钾4.82份，氧化钠4.46份，氧化钛0.04份，二氧化锆0.16份，三氧化二硼8.52份，氧化钡1.62份，氧化锂00.02份，一氧化铅00.02份，氧化锌00.02份，氧化锶0.04份，一氧化锰0.02份，氧化铷0.02份，氧化铯.02份，氧化镉0.02份，五氧化二磷0.06份，氟0.06份，三氧化硫0.06份，灼烧减量0.03%。
所述的陶瓷熔块的制备方法，包括如下步骤：
按照上述质量份数，将各个组分进行破碎、过10目筛网，也方便去除杂物。将得到的各组分混料处理，然后进入熔炉内熔化，熔化时温度为1240℃。
紧接着，将熔化后的融料进行水淬，水淬为常温水处理，熔化后的熔融料经过熔炉出口时，通过控制熔炉出料量，使得水淬后的产品为不规则块状，然后将水淬后的产品进行球磨，球磨时，转速为350r/min，球磨时间为24h，获得球磨料。
然后，将得到的球磨料进行压榨，压榨完成后，获得的产品水分含量为14%，将压榨后的产品，进行烘烤，烘烤时，将压榨后的产品放置在烤房内烘烤，烤房内的温度由熔炉的余热提供，利用管道将窑炉的预热引导烤房内，烘烤时间为11h，烘烤完成后，将其破碎成块状，过20目筛网即可，最后进行包装，即得陶瓷熔块，且获得的陶瓷熔块为透明釉熔块。
实施例4
陶瓷熔块，包括按照质量份数计的如下组分：三氧化二铝12.9份，二氧化硅65.2份，三氧化二铁0.18份，氧化钙8.03份，氧化镁0.17份，氧化钾4.92份，氧化钠4.62份，氧化钛0.04份，二氧化锆0.18份，三氧化二硼8.91份，氧化钡1.72份，氧化锂0.01份，一氧化铅0.01份，氧化锌0.01份，氧化锶0.03份，一氧化锰0.01份，氧化铷0.01份，氧化铯0.01份，氧化镉0.01份，五氧化二磷0.06份，氟0.06份，三氧化硫0.06份，灼烧减量0.05%。
所述的陶瓷熔块的制备方法，包括如下步骤：
按照上述质量份数，将各个组分进行破碎、过20目筛网，也方便去除杂物。将得到的各组分混料处理，然后进入熔炉内熔化，熔化时温度为1280℃。
紧接着，将熔化后的融料进行水淬，水淬为常温水处理，熔化后的熔融料经过熔炉出口时，通过控制熔炉出料量，使得水淬后的产品为不规则块状，然后将水淬后的产品进行球磨，球磨时，转速为380r/min，球磨时间为30h，获得球磨料。
然后，将得到的球磨料进行压榨，压榨完成后，获得的产品水分含量为15%，将压榨后的产品，进行烘烤，烘烤时，将压榨后的产品放置在烤房内烘烤，烤房内的温度由熔炉的余热提供，利用管道将窑炉的预热引导烤房内，烘烤时间为11h，烘烤完成后，将其破碎成块状，过20目筛网即可，最后进行包装，即得陶瓷熔块，且获得的陶瓷熔块为透明釉熔块。
通过本发明制得的陶瓷熔块，为透明釉熔块，其制作过程新颖，较其他熔块的制作过程，需要的温度更低，有效节约企业生产成本，且不含重金属元素，可广泛应用于日用陶瓷、陶瓷工艺品。
利用大量的二氧化硅作为主体材料，可以有效提高釉面的强度，且通过少量的氧化锶、氧化铷、氧化铯、氧化镉有效提高釉面的透明度及光泽度，且具有助融的性能。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。
Claims (6)
1.陶瓷熔块，其特征在于，包括按照质量份数计的如下组分：三氧化二铝11.4~13.2份，二氧化硅61.81~68.24份，三氧化二铁0.12~0.20份，氧化钙7.52~8.14份，氧化镁0.12~0.19份，氧化钾4.76~5.01份，氧化钠4.36~4.67份，氧化钛0.03~0.05份，二氧化锆0.14~0.21份，三氧化二硼8.41~9.43份，氧化钡1.56~1.74份，氧化锂0.01~0.02份，一氧化铅0.01~0.02份，氧化锌0.01~0.02份，氧化锶0.03~0.05份，一氧化锰0.01~0.02份，氧化铷0.01~0.02份，氧化铯0.01~0.02份，氧化镉0.01~0.02份，五氧化二磷0.05~0.07份，氟0.05~0.07份，三氧化硫0.05~0.07份，灼烧减量小于0.05%。
2.权利要求1所述的陶瓷熔块的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：混料、熔化、水淬、球磨、压榨、烘烤、破碎、包装。
3.根据权利要求2所述的陶瓷熔块的制备方法，其特征在于，所述混料前，需按照所述质量份数，将所述各组分破碎、过筛。
4.根据权利要求2所述的陶瓷熔块的制备方法，其特征在于，熔化时温度为1200~1300℃，水淬为常温水。
5.根据权利要求2所述的陶瓷熔块的制备方法，其特征在于，所述球磨时，转速为350~400r/min。
6.根据权利要求2所述的陶瓷熔块的制备方法，其特征在于，所述压榨后，获得的产品水分含量为13~17%，然后进行烘烤，接着将其破碎成块状，最后进行包装，即得陶瓷熔块。
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