CN115407432B - 一种真空镀膜系统 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种真空镀膜系统，所述真空镀膜系统包括壳体、开关件、上料结构以及镀膜结构，所述壳体内形成有相互连通的上料腔室和镀膜腔室，所述上料腔室具有设置为能够被抽真空的真空状态以及破真空的非真空状态，所述镀膜腔室设置为真空设置；所述开关件活动安装在所述上料腔室和所述镀膜腔室的连通位置，具有使所述上料腔室和所述镀膜腔室相互分隔的第一状态、以及使所述上料腔室和所述镀膜腔室相互连通的第二状态；所述上料结构设于所述上料腔室。本发明旨在解决在现有技术中对镜片进行镀膜的贴膜时间长，生产效率低的问题。

Description

一种真空镀膜系统

技术领域

本发明涉及镀膜技术领域，具体涉及一种真空镀膜系统。

背景技术

现有对镜片进行镀膜的装置内，为了改善贴膜产生橘皮纹等问题，贴膜环境需要在真空中进行，即在贴膜时需要将单个镜片上料到真空腔内，然后在通过视觉对镜片和膜材进行引导定位，然后闭合真空腔，在真空腔内抽真空，使镜片处于真空环境下对镜片进行贴膜处理，贴膜处理完后再破真空，将贴完膜的镜片从真空腔内取出，由于抽真空的时间长，导致整个贴膜的时间会很长，从而降低生产效率。

发明内容

本发明的主要目的是提出一种真空镀膜系统，旨在解决在现有技术中对镜片进行镀膜的贴膜时间长，生产效率低的问题。

为实现上述目的，本发明提出一种真空镀膜系统，包括：

壳体，所述壳体内形成有相互连通的上料腔室和镀膜腔室，所述上料腔室具有设置为能够被抽真空的真空状态以及破真空的非真空状态，所述镀膜腔室设置为真空设置；

开关件，活动安装在所述上料腔室和所述镀膜腔室的连通位置，具有使所述上料腔室和所述镀膜腔室相互分隔的第一状态、以及使所述上料腔室和所述镀膜腔室相互连通的第二状态；

上料结构，设于所述上料腔室，包括输送装置和存储装置，所述输送装置用以在所述开关件处于所述第二状态、且所述上料腔室处于真空状态时，将所述存储装置输送至所述镀膜腔室，所述存储装置用以存储多个镜片和多个膜片；以及，

镀膜结构，设于所述镀膜腔室，包括镀膜机，所述镀膜机上设有一镀膜工位，所述镀膜机用以对置于所述镀膜工位上的镜片进行镀膜。

可选地，所述上料腔室和所述镀膜腔室在横向上排列设置；

所述输送装置包括：

固定架，所述固定架可沿横向运动，且在其运动行程内可运动至所述镀膜腔室；以及，

夹持机构，所述夹持机构活动安装在所述固定架上，用以夹持固定所述存储装置。

可选地，在所述存储装置上还安装有配合部；

所述夹持机构包括两个夹块，两个所述夹块相互间隔设置、且可在横向上运动，两个所述夹块在其活动行程上可相互靠近以夹持所述配合部。

可选地，所述存储装置包括：

支撑架；

多个置物板，多个所述置物板沿上下向排列安装在所述支撑架上；以及，

置物盒，所述置物盒置于所述置物板上，用以存储镜片和膜片。

可选地，所述镀膜结构还包括转运装置，所述转运装置用以将置物盒转运至所述镀膜机上。

可选地，所述转运装置包括：

支架，所述支架沿上下向延伸轴线转动安装在所述镀膜腔室内；以及，

至少一夹具，所述夹具沿上下向活动安装在所述支架上、且可在横向上相对所述支架运动。

可选地，所述镀膜机上沿上下向延伸轴线转动安装有一加工平台，所述加工平台上用以放置至少一所述置物盒、且在其转动行程上将位于其上的所述置物盒传输至所述镀膜工位。

可选地，所述上料腔室和所述镀膜腔室内均沿上下向延伸轴线转动安装有一旋转平台，所述旋转平台用以供所述存储装置放置。

可选地，所述开关件包括一隔板，所述隔板沿上下向活动安装在所述壳体上。

可选地，所述壳体在对应所述上料腔室的位置开设有一进料口，所述进料口连通所述壳体外侧和所述上料腔室，用以供所述存储装置自所述壳体外侧输送至所述上料腔室内。

本发明的技术方案中，在所述上料腔室位于非真空状态时，所述开关件位于所述第一状态时，可往所述上料腔室内输送所述存储装置，所述存储装置内存储有多个未镀膜的镜片，在所述存储装置位于所述上料腔室后，可通过使所述上料腔室进入真空状态，并使所述开关件位于所述第二状态，通过所述输送装置将所述存储装置输送至所述镀膜腔室后，再使所述开关件回位到所述第一状态，以在所述镀膜腔室内通过所述镀膜机对所述存储装置中存储的多个镜片进行镀膜；相较于现有技术中对单个镜片镀膜时需要不停的抽真空和破真空，在本发明中，可将多个镜片传输至真空环境，以通过所述镀膜机进行镀膜，无需反复抽真空和破真空，对多个镜片的镀膜时间短，从而提高生产效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本发明提供的真空镀膜系统的一实施例的结构示意图；

图2为本发明提供的真空镀膜系统的一实施例的半剖结构示意图；

图3为本发明提供的真空镀膜系统的一实施例的另一视角的半剖结构示意图；

图4为本发明提供的真空镀膜系统的一实施例的部分结构示意图。

附图标号说明：

本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

需要说明，若本发明实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，若本发明实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，全文中出现的“和/或”的含义，包括三个并列的方案，以“A和/或B”为例，包括A方案、或B方案、或A和B同时满足的方案。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。

现有对镜片进行镀膜的装置内，为了改善贴膜产生橘皮纹等问题，贴膜环境需要在真空中进行，即在贴膜时需要将单个镜片上料到真空腔内，然后在通过视觉对镜片和膜材进行引导定位，然后闭合真空腔，在真空腔内抽真空，使镜片处于真空环境下对镜片进行贴膜处理，贴膜处理完后再破真空，将贴完膜的镜片从真空腔内取出，由于抽真空的时间长，导致整个贴膜的时间会很长，从而降低生产效率。

鉴于此，本发明提出一种真空镀膜系统，图1至图4为本发明的一实施例。

请参阅图1至图3，所述真空镀膜系统100包括壳体1、开关件2、上料结构3以及镀膜结构4，所述壳体1内形成有相互连通的上料腔室101和镀膜腔室102，所述上料腔室101具有设置为能够被抽真空的真空状态以及破真空的非真空状态，所述镀膜腔室102设置为真空设置；所述开关件2活动安装在所述上料腔室101和所述镀膜腔室102的连通位置，具有使所述上料腔室101和所述镀膜腔室102相互分隔的第一状态、以及使所述上料腔室101和所述镀膜腔室102相互连通的第二状态；所述上料结构3设于所述上料腔室101，包括输送装置31和存储装置32，所述输送装置31用以在所述开关件2处于所述第二状态、且所述上料腔室101处于真空状态时，将所述存储装置32输送至所述镀膜腔室102，所述存储装置32用以存储多个镜片和多个膜片；所述镀膜结构4设于所述镀膜腔室102，包括镀膜机41，所述镀膜机41上设有一镀膜工位41a，所述镀膜机41用以对置于所述镀膜工位41a上的镜片进行镀膜。

本发明的技术方案中，在所述上料腔室101位于非真空状态时，所述开关件2位于所述第一状态时，可往所述上料腔室101内输送所述存储装置32，所述存储装置32内存储有多个未镀膜的镜片和多个待镀在镜片上的膜片，在所述存储装置32位于所述上料腔室101后，可通过使所述上料腔室101进入真空状态，并使所述开关件2位于所述第二状态，通过所述输送装置31将所述存储装置32输送至所述镀膜腔室102后，再使所述开关件2回位到所述第一状态，以在所述镀膜腔室102内通过所述镀膜机41对所述存储装置32中存储的多个镜片进行镀膜；相较于现有技术中对单个镜片镀膜时需要不停的抽真空和破真空，在本发明中，可将多个镜片和多个膜片传输至真空环境，以通过所述镀膜机41进行镀膜，无需反复抽真空和破真空，对多个镜片的镀膜时间短，从而提高生产效率。

需要说明的是，在所述存储装置32传输至所述镀膜腔室102后，所述开关件2回位到所述第一状态，可使所述上料腔室101进入破真空状态，从而在镜片进行镀膜的同时，完成装载有未镀膜的镜片的所述存储装置32在所述上料腔室101内的传输，且可在传输完成后，使所述上料腔室101提前进入真空状态，待所述镀膜机41镀膜完成后，可直接使所述开关件2位于所述第二状态，以将装载有未镀膜的镜片的所述存储装置32传输至所述镀膜腔室102，进一步节约生产时耗。

进一步地，所述上料腔室101和所述镀膜腔室102在横向上排列设置；所述输送装置31包括固定架311以及夹持机构312，所述固定架311可沿横向运动，且在其运动行程内可运动至所述镀膜腔室102；所述夹持机构312活动安装在所述固定架311上，用以夹持固定所述存储装置32。其中，在所述开关件2位于所述第二状态时、且所述上料腔室101位于所述真空状态时，所述夹持机构312可夹持位于所述上料腔室101内的所述存储装置32，所述固定架311沿横向运动，从而穿过所述上料腔室101和所述镀膜腔室102的连通位置直至所述镀膜腔室102，所述夹持机构312松开所述存储装置32，以完成所述存储装置32在所述上料腔室101和所述镀膜腔室102之间的转移。

再进一步地，在所述存储装置32上还安装有配合部5；所述夹持机构312包括两个夹块3121，两个所述夹块3121相互间隔设置、且可在横向上运动，两个所述夹块3121在其活动行程上可相互靠近以夹持所述配合部5。通过控制两个所述夹块3121相互靠近，从而夹持住所述配合部5以完成所述存储装置32与所述夹持机构312之间的固定。

其中，所述固定架311在横向上的运动方式不做限制，可以是电机直线驱动、也可以是推杆推动；此外，所述夹持机构312安装在所述固定架311的安装形式也不做限制，具体地，在本实施例中，所述夹持机构312安装在所述固定架311时可沿上下向运动，从而便于对所述存储装置32的装夹。

请参阅图4，所述存储装置32包括支撑架321、多个置物板322以及多个置物盒323，多个所述置物板322沿上下向排列安装在所述支撑架321上；所述置物盒323置于所述置物板322上，用以存储镜片和膜片。即在本实施例中，通过在每一置物板322上均放置有所述置物盒323，从而使整个所述存储装置32可存放多个镜片和多个膜片；其中，每一所述置物板322上存放的所述置物盒323的数量不做限制，可以是一个、也可以是多个。

请参阅图2和图3，所述镀膜结构4还包括转运装置42，所述转运装置42用以将置物盒323转运至所述镀膜机41上。通过在所述镀膜腔室102内还安装有所述转运装置42，以将传输至所述镀膜腔室102上的所述存储装置32内的多个所述置物盒323依次放置在所述镀膜机41的镀膜工位41a上进行镀膜。

进一步地，由于所述存储装置32内存储的所述置物盒323沿上下向间隔设置，因此所述转运装置42需要在上下向活动从而以拿取位于不同高度的所述置物盒323至所述镀膜机41的镀膜工位41a上；在本实施例中，所述转运装置42包括支架421以及至少一夹具422，所述支架421沿上下向延伸轴线转动安装在所述镀膜腔室102内，所述夹具422沿上下向活动安装在所述支架421上、且可在横向上相对所述支架421运动。即通过所述夹具422沿上下向活动、且能在横向上伸缩运动，从而以在所述存储装置32内拿取所述置物盒323，且所述支架421可沿上下向延伸轴线旋转，从而可以改变所述夹具422的方向，使所述夹具422对准所述镀膜机41的镀膜工位41a并将所述置物盒323放置在所述镀膜工位41a上。

其中，所述夹具422设置数量不做限制，可以是一个、也可以是多个，具体地，在本实施例中，所述夹具422设置数量为两个、且在横向上相对设置，以在一所述夹具422拿取位于所述置物板322上的装有未镀膜的镜片的所述置物盒323时，另一所述夹具422拿取在所述镀膜机41上装有已镀膜的镜片的所述置物盒323，所述支架421进行旋转，以互换两个所述夹具422的位置，将装有未镀膜的镜片的所述置物盒323放在所述镀膜工位41a进行镀膜，将装有已镀膜的镜片的所述置物盒323放置在留有空位的所述置物板322上，从而完成循环交替，直至将所述存储装置32上放置的未镀膜镜片全部进行镀膜处理。

进一步地，所述镀膜机41上沿上下向延伸轴线转动安装有一加工平台411，所述加工平台411上用以放置至少一所述置物盒323、且在其转动行程上将位于其上的所述置物盒323传输至所述镀膜工位41a。通过设置有可旋转的加工平台411，所述加工平台411可旋转，从而将位于其上的所述置物盒323转移至所述镀膜工位41a，而所述夹具422只需将所述置物盒323放置在所述加工平台411上即可。

再进一步地，所述上料腔室101和所述镀膜腔室102内均沿上下向延伸轴线转动安装有一旋转平台6，所述旋转平台6用以供所述存储装置32放置。通过设置有所述旋转平台6，从而可在所述旋转平台6上放置多个所述存储装置32，且所述旋转平台6可调整位于其上的所述存储装置32的角度，以方便所述输送装置31对所述存储装置32进行输送，同时也方便所述转运装置42对位于所述存储装置32内的所述置物盒323进行转运。

请参阅图1至图2，所述开关件2包括一隔板21，所述隔板21沿上下向活动安装在所述壳体1上。其中，所述隔板21在上下向活动，以使所述上料腔室101和所述置物腔室连通或分隔。

进一步地，所述壳体1在对应所述上料腔室101的位置开设有一进料口7，所述进料口7连通所述壳体1外侧和所述上料腔室101，用以供所述存储装置32自所述壳体1外侧输送至所述上料腔室101内。通过在所述上料腔室101的位置设有一进料口7，用以供所述存储装置32从所述壳体1的外侧进入到所述上料腔室101中。

可以理解的是，在所述上料腔室101位于所述真空状态时，所述进料口7处于关闭状态。

以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明的发明构思下，利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (7)

1.一种真空镀膜系统，其特征在于，包括：

壳体，所述壳体内形成有相互连通的上料腔室和镀膜腔室，所述上料腔室具有设置为能够被抽真空的真空状态以及破真空的非真空状态，所述镀膜腔室设置为真空设置；

开关件，活动安装在所述上料腔室和所述镀膜腔室的连通位置，具有使所述上料腔室和所述镀膜腔室相互分隔的第一状态、以及使所述上料腔室和所述镀膜腔室相互连通的第二状态；

上料结构，设于所述上料腔室，包括输送装置和存储装置，所述输送装置用以在所述开关件处于所述第二状态、且所述上料腔室处于真空状态时，将所述存储装置输送至所述镀膜腔室，所述存储装置用以存储多个镜片和多个膜片；以及，

镀膜结构，设于所述镀膜腔室，包括镀膜机，所述镀膜机上设有一镀膜工位，所述镀膜机用以对置于所述镀膜工位上的镜片进行镀膜；

所述存储装置包括：

支撑架；

多个置物板，多个所述置物板沿上下向排列安装在所述支撑架上；以及，

置物盒，所述置物盒置于所述置物板上，用以存储镜片和膜片；所述镀膜结构还包括转运装置，所述转运装置用以将置物盒转运至所述镀膜机上；

所述转运装置包括：

支架，所述支架沿上下向延伸轴线转动安装在所述镀膜腔室内；以及，

至少一夹具，所述夹具沿上下向活动安装在所述支架上、且可在横向上相对所述支架运动。

2.如权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述上料腔室和所述镀膜腔室在横向上排列设置；

所述输送装置包括：

固定架，所述固定架可沿横向运动，且在其运动行程内可运动至所述镀膜腔室；以及，

夹持机构，所述夹持机构活动安装在所述固定架上，用以夹持固定所述存储装置。

3.如权利要求2所述的真空镀膜系统，其特征在于，在所述存储装置上还安装有配合部；

所述夹持机构包括两个夹块，两个所述夹块相互间隔设置、且可在横向上运动，两个所述夹块在其活动行程上可相互靠近以夹持所述配合部。

4.如权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述镀膜机上沿上下向延伸轴线转动安装有一加工平台，所述加工平台上用以放置至少一所述置物盒、且在其转动行程上将位于其上的所述置物盒传输至所述镀膜工位。

5.如权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述上料腔室和所述镀膜腔室内均沿上下向延伸轴线转动安装有一旋转平台，所述旋转平台用以供所述存储装置放置。

6.如权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述开关件包括一隔板，所述隔板沿上下向活动安装在所述壳体上。

7.如权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述壳体在对应所述上料腔室的位置开设有一进料口，所述进料口连通所述壳体外侧和所述上料腔室，用以供所述存储装置自所述壳体外侧输送至所述上料腔室内。