CN115198369B - 一种磷化铟合成与vgf晶体制备的装置及方法 - Google Patents

一种磷化铟合成与vgf晶体制备的装置及方法 Download PDF

Info

Publication number
CN115198369B
CN115198369B CN202210829113.7A CN202210829113A CN115198369B CN 115198369 B CN115198369 B CN 115198369B CN 202210829113 A CN202210829113 A CN 202210829113A CN 115198369 B CN115198369 B CN 115198369B
Authority
CN
China
Prior art keywords
crucible
thermocouple
indium
auxiliary
indium phosphide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202210829113.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN115198369A (zh
Inventor
王书杰
孙聂枫
史艳磊
刘峥
邵会民
党冀萍
徐森锋
姜剑
李晓岚
王阳
张晓丹
刘惠生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CETC 13 Research Institute
Original Assignee
CETC 13 Research Institute
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CETC 13 Research Institute filed Critical CETC 13 Research Institute
Priority to CN202210829113.7A priority Critical patent/CN115198369B/zh
Publication of CN115198369A publication Critical patent/CN115198369A/zh
Priority to PCT/CN2023/107178 priority patent/WO2024012521A1/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN115198369B publication Critical patent/CN115198369B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/40AIIIBV compounds wherein A is B, Al, Ga, In or Tl and B is N, P, As, Sb or Bi
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B11/00Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B30/00Production of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the action of electric or magnetic fields, wave energy or other specific physical conditions
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

一种磷化铟合成与VGF晶体制备的装置及方法,涉及化合物半导体的制备,首先将铟元素置于坩埚中,将磷元素置于辅助坩埚区域中心,然后加热并施加离心力,在离心力作用下,铟熔体围绕主坩埚区域形成筒状,铟元素与磷元素处于表面接触的分离状态。通过多温区加热,将铟与磷加热至不同的温度,易挥发元素磷升华后与金属元素铟化合。合成完毕后降低坩埚转速,合成熔体处于水平状态,置入氧化硼实现晶体生长。使用本发明提出的装置和方法,磷元素的注入装置没有加热器,简化了合成设备;合成期间,铟溶体与磷气体的接触面积大,合成速度快;化合物生成前所有材料装料完成,外界沾污减少;实现晶体在原位生长,提高效率。

Description

一种磷化铟合成与VGF晶体制备的装置及方法
技术领域
本发明涉及化合物半导体的制备,尤其涉及使用离心设备进行磷化铟合成与晶体制备的装置及方法。
背景技术
涉及挥发性材料与金属的化合物的主要合成方法有:溶质扩散法合成(SSD)、水平布里奇曼法(HB)/水平梯度凝固法(HGF)、注入合成法。其中注入合成法的效率最高,是实现低成本、高品质多晶产业化的方法,如申请号分别为202010487276.2、202110618242.7、202110618255.4、202110376836.1等都公开了采用气体注入装置合成化合物半导体材料的技术方案:使用加热注入装置,将挥发性气源材料加热气化后,通过注入管将气化的元素注入到熔体中完成合成。使用上述方案存在熔体逆流的隐患。
为了解决上述问题,202110760674.1公开了将挥发性材料放置在熔体中,以熔体的温度气化挥发性材料的方案,但存在挥发性材料在熔体中扩散不均匀、溢出熔体造成浪费等问题。
发明内容
为解决上述现有技术存在的问题,提出了本发明。
本发明采用以下技术方案:一种磷化铟合成与VGF晶体制备的装置,所述装置包括炉体、炉体内的坩埚、坩埚外围的多段加热器、保温套、坩埚支撑、主支撑,关键在于:
所述装置还包括连接主支撑的离心电机,离心电机带动主支撑、坩埚支撑、坩埚旋转。
所述坩埚顶端设置坩埚盖、坩埚盖的上部有密封槽。
所述装置还包括与密封槽配套的密封盖,密封盖通过辅助杆I与炉体外部的密封盖驱动装置连接;所述密封盖下面连接易挥发元素装料器,所述易挥发元素装料器设置透气孔,密封盖在驱动装置的作用下,将易挥发元素装料器伸入和移出坩埚。
所述装置还包括设置在炉体内部的辅料器,所述辅料器经辅助杆II连接炉体外部的辅料器驱动装置。
进一步地,所述透气孔设置在易挥发元素装料器的四周。
进一步地,所述坩埚分为主坩埚、辅助坩埚和籽晶槽,直径依次缩小。
进一步地,所述装置还包括的热电偶孔I、热电偶孔II、热电偶孔III、热电偶孔IV、中心热电偶孔。
在以上装置的基础上,本发明还提出了一种磷化铟合成与VGF晶体制备的方法,所述方法包括以下步骤:
步骤1、将籽晶放置在籽晶槽中,铟置于主坩埚中;将氧化硼置入辅料器中;将红磷置入易挥发元素装料器中;第二热电偶和第三热电偶离开热电偶孔II和热电偶孔III;
所述铟为圆柱状,其内径大于挥发元素装料器的直径,其外径大于辅助坩埚的最大直径;
将密封材料放入密封槽;将坩埚盖焊接到坩埚上,成为一体。
步骤2、炉体抽真空至100Pa-10-5Pa。
步骤3、通过多段加热器加热密封槽内的密封材料至熔化,将易挥发元素装料器通过辅助杆I置入辅助坩埚中,同时将密封盖放置在密封槽,辅助杆I与密封盖脱离;调节多段加热器,给密封材料降温,使其凝固,通过凝固的密封材料与密封盖对坩埚实现密封。
步骤4、启动离心电机,带动主支撑和坩埚支撑及坩埚转动,转动速率为500-5000转/分。
步骤5、通过多段加热器给主坩埚加热至磷化铟熔点以上30-200℃;同时给辅助坩埚加热,使其达到590℃,并逐渐升温650℃,升温过程中,给炉体逐渐充入惰性气体至12.75MPa;
在该过程中,红磷受热升华为气体,气体与铟熔体大面积接触,进行合成。
步骤6、合成3-5小时后,调整多段加热器的各分段加热器的功率,第一热电偶(7)和第四热电偶的温度降至550℃,使得合成后的磷化铟凝固为筒状固体;辅助坩埚的温度降至590℃以下;同时逐渐降低炉体内部的压力,直至一个大气压;
将离心电机的转速降为0;
调整多段加热器接近密封槽区域加热器的功率,使得密封材料熔化;连接辅助杆I和密封盖,易挥发元素装料器离开坩埚内部并使密封盖远离坩埚。
步骤7、通过辅助杆II将辅料器中的氧化硼倒入坩埚中;
将第二热电偶和第三热电偶分别插入热电偶孔II和热电偶孔III中;
调整多段加热器的各分段加热器的功率,使得中心热电偶低于磷化铟熔点20-50℃,第一热电偶、第二热电偶、第三热电偶、第四热电偶的温度高于磷化铟熔点50-200℃,并使得坩埚内的磷化铟熔体建立起5-50cm/℃的温度梯度,靠近籽晶方向的温度为低温方向;
筒状固体磷化铟再次熔化液态流至主坩埚和辅助坩埚中。由于籽晶底部温度低于磷化铟熔点,被合成的磷化铟熔体高于磷化铟熔点,部分籽晶熔化并建立起籽晶与磷化铟熔体的平衡态。
步骤8、调整多段加热器的各段的功率,建立垂直温度梯度,实现磷化铟单晶生长;生长完毕后系统降温至室温,从坩埚支撑中取出坩埚,取出晶体。
本发明首先将铟元素置于坩埚中,将磷元素置于辅助坩埚区域中心,然后加热并施加离心力,在离心力作用下,铟熔体围绕主坩埚区域形成筒状,铟元素与磷元素处于表面接触的分离状态。通过多温区加热,将铟与磷加热至不同的温度,易挥发元素磷升华后与金属元素铟化合。合成完毕后降低坩埚转速,合成熔体处于水平状态,置入氧化硼实现晶体生长。
有益效果:使用本发明提出的装置和方法,磷元素的注入装置没有加热器,简化了合成设备,杜绝了熔体反流到注入装置、注入装置发生爆裂等隐患;铟为圆柱状,靠近坩埚侧壁,距主加热器更近,加热效率更高;分段加热器分别对铟和磷元素加热,两者互不影响;合成期间,铟溶体与磷气体的接触面积大,合成速度快,磷元素不会发生逃逸,全部参与合成,杜绝浪费;化合物生成前所有材料装料完成,外界沾污减少;进一步的技术手段可以实现晶体在原位生长,提高效率。
附图说明
图1为装料后的装置示意图,
图2为合成期间的装置示意图,
图3为合成完毕的装置示意图,
图4为晶体生长的装置示意图,
图5为坩埚的示意图。
其中,1:坩埚;1-1:坩埚盖;1-2:密封槽;1-3:主坩埚;1-4:辅助坩埚;1-5:籽晶槽;2:多段加热器;3:保温套;4:坩埚支撑;4-1:热电偶孔I;4-2:热电偶孔II; 4-3:热电偶孔III;4-4:热电偶孔IV; 4-5:中心热电偶孔;5:铟;6:籽晶;7:第一热电偶;8:第二热电偶;9:第三热电偶;10:第四热电偶;11:主支撑;12:中心热电偶;13:密封材料;14:离心电机;15:辅助杆I;16:易挥发元素装料器;16-1:透气孔;17:辅助杆II;17-1:辅料器;18:密封盖 19:红磷;20:晶体;21:氧化硼;22:炉体。
具体实施方式
参看图1和图5,一种磷化铟合成与VGF晶体制备的装置,包括炉体22、炉体22内的坩埚1、坩埚1外围的多段加热器2、保温套3、坩埚支撑4、主支撑11,炉体22在工作时为密封状态,有充/放气孔实现加压和泄压。
所述装置还包括连接主支撑11的离心电机14,离心电机14带动主支撑11、坩埚支撑4、坩埚1旋转。
所述坩埚1上面开口,顶端设置坩埚盖1-1、坩埚盖1-1的上部有密封槽1-2。
坩埚1的内部空间分为主坩埚1-3、辅助坩埚1-4和籽晶槽1-5,直径依次缩小。辅助坩埚1-4呈两段上大下小的喇叭状。
主坩埚1-3在合成阶段用于铟材料的分布与磷化铟的合成,辅助坩埚1-4在合成阶段用于磷材料的挥发。
所述装置还包括与密封槽1-2配套的密封盖18,密封盖18通过辅助杆I15与炉体22外部的密封盖驱动装置连接;所述密封盖18下面连接易挥发元素装料器16,所述易挥发元素装料器16设置透气孔16-1,密封盖18在驱动装置的作用下,将易挥发元素装料器16伸入和移出坩埚1;所述透气孔16-1设置在易挥发元素装料器16的四周。
所述装置还包括设置在炉体22内部的辅料器17-1,所述辅料器17-1经辅助杆II17连接炉体22外部的辅料器驱动装置。
所述装置还包括的热电偶孔I4-1、热电偶孔II4-2、热电偶孔III4-3、热电偶孔IV4-4、中心热电偶孔4-5,用来放置第一热电偶7、第二热电偶8、第三热电偶9、第四热电偶10和中心热电偶12。
热电偶孔I4-1穿过炉体22,顶部接近主坩埚1-3下端;热电偶孔IV4-4穿过炉体22,顶部在主坩埚1-3中间位置;热电偶孔II4-2穿过炉体22、主支撑11、坩埚支撑4,顶部在辅助坩埚1-4中间位置;热电偶孔III4-3穿过炉体22、主支撑11、坩埚支撑4,顶部在辅助坩埚1-4上端;中心热电偶孔4-5穿过炉体22、主支撑11、坩埚支撑4,顶部在籽晶槽1-5底部。
以上为磷化铟合成与VGF晶体制备装置的实施例。
在上述实施例的基础上,本发明还提出了磷化铟合成与VGF晶体制备方法的实施例,包括准备阶段、磷化铟合成阶段和VGF晶体生长阶段,具体如下。
准备阶段:
步骤1、将籽晶6放置在籽晶槽1-5中,铟5置于主坩埚1-3中;将氧化硼21置入辅料器17-1中;将红磷19置入易挥发元素装料器16中;第二热电偶8和第三热电偶9离开热电偶孔II4-2和热电偶孔III4-3,避免坩埚1旋转时发生意外。
铟5制备为圆柱状,其内径大于挥发元素装料器16的直径,使装料器16可以通过,进入辅助坩埚1-4;其外径大于辅助坩埚1-4的最大直径,使其置于主坩埚1-3中,不会进入辅助坩埚1-4。
将密封材料13放入密封槽1-2;将坩埚盖1-1焊接到坩埚1上,成为一体,放置在坩支撑4上。
密封材料13为熔点为800-1300℃和合金材料或者氧化物材料,或者使用磷化铟作为密封材料。
密闭炉体22。
第一热电偶7插入热电偶孔I4-1,第四热电偶10插入热电偶孔IV4-4,中心热电偶12插入中心热电偶孔4-5。
此时装置的状态参看图1。
磷化铟合成阶段:
步骤2、炉体22抽真空至100Pa-10-5Pa。
步骤3、通过多段加热器2加热密封槽1-2内的密封材料13至熔化,将易挥发元素装料器16通过辅助杆I15置入辅助坩埚1-4中,同时将密封盖18放置在密封槽1-2,辅助杆I15与密封盖18脱离;调节多段加热器2,给密封材料13降温,使其凝固,通过凝固的密封材料13与密封盖18对坩埚1实现密封。
辅助杆I15与密封盖18可以通过机械手连接与脱离。
由于铟5中空,且直径大于挥发元素装料器16的直径,装料器16可以通过,进入辅助坩埚1-4。
通过凝固的密封材料13与密封盖18对坩埚1实现密封,同时保证坩埚1与密封盖、易挥发元素装料器16在后面的步骤中同时旋转。
步骤4、启动离心电机14,带动主支撑11和坩埚支撑4及坩埚1转动,转动速率为500-5000转/分。
步骤5、通过多段加热器2给主坩埚1-3加热至磷化铟熔点以上30-200℃;同时给辅助坩埚1-4加热,使其达到590℃,并逐渐升温650℃,升温过程中,给炉体22逐渐充入惰性气体至12.75MPa;在该过程中,红磷19受热升华为气体,气体与铟熔体大面积接触,进行合成。
此时装置的状态参看图2。
铟5融化后,在离心力的作用下,铟熔体贴合在主坩埚1-3壁上。由于辅助坩埚1-4呈两段上大下小的喇叭状,铟熔体不会流入辅助坩埚1-4。
磷的三相点是约为590℃,温度达到三相点以上,磷可以比较快的升华。
坩埚1-4内的磷气化后,坩埚1内部压力增大。为了平衡坩埚1内外压力,防止坩埚1由于内外压力不平衡造成损坏,在升温过程中,给炉体22逐渐充入惰性气体。
辅助坩埚1-4内的温度与充入惰性气体压力的关系为:
Log10 P=-6070/T+8.67,其中P为压力(atm,1atm=101325Pa),T为辅助坩埚1-4内的热力学温度。
当辅助坩埚1-4升温至650℃时,内部压力约为12.75MPa。
步骤6、合成3-5小时后,调整多段加热器2的各分段加热器的功率,第一热电偶7和第四热电偶10的温度降至550℃,使得合成后的磷化铟凝固为筒状固体;辅助坩埚1-4的温度降至590℃以下;同时逐渐降低炉体22内部的压力,直至一个大气压。
将离心电机14的转速降为0。
辅助坩埚1-4内部的温度降至590℃以下,此时如果还有残留的红磷也不再挥发,辅助坩埚1-4内部的气体非常少。
调整多段加热器2接近密封槽1-2区域加热器的功率,使得密封材料13熔化;连接辅助杆I15和密封盖18,易挥发元素装料器16离开坩埚1内部并使密封盖18远离坩埚1。
上述过程中,如果辅助坩埚1-4内外压力不平衡造成无法移动密封盖18,则将炉体22抽取气体,内部降压,直至易挥发元素装料器16离开坩埚1内部并使密封盖18远离坩埚1。
此时装置的状态参看图3。
晶体生长阶段:
步骤7、通过辅助杆II17将辅料器17-1中的氧化硼21倒入坩埚中;将第二热电偶8和第三热电偶9分别插入热电偶孔II4-2和热电偶孔III4-3中。
调整多段加热器2的各分段加热器的功率,使得中心热电偶12低于磷化铟熔点20-50℃,第一热电偶7、第二热电偶8、第三热电偶9、第四热电偶10的温度高于磷化铟熔点50-200℃,并使得坩埚1内的磷化铟熔体建立起5-50cm/℃的温度梯度,靠近籽晶6方向的温度为低温方向。
筒状固体磷化铟再次熔化液态流至主坩埚1-3和辅助坩埚1-4中,由于籽晶6底部温度低于磷化铟熔点,被合成的磷化铟熔体高于磷化铟熔点,部分籽晶6熔化并建立起籽晶6与磷化铟熔体的平衡态。
步骤8、调整多段加热器2的各段的功率,建立垂直温度梯度,实现磷化铟单晶生长,参看图4.
生长完毕后系统降温至室温,从坩埚支撑4中取出坩埚1,取出晶体20。

Claims (6)

1.一种磷化铟合成与VGF晶体制备的装置,所述装置包括炉体(22)、炉体(22)内的坩埚(1)、坩埚(1)外围的多段加热器(2)、保温套(3)、坩埚支撑(4)、主支撑(11),其特征在于,
所述装置还包括连接主支撑(11)的离心电机(14),离心电机(14)带动主支撑(11)、坩埚支撑(4)、坩埚(1)旋转;
所述坩埚(1)顶端设置坩埚盖(1-1)、坩埚盖(1-1)的上部有密封槽(1-2);
所述装置还包括与密封槽(1-2)配套的密封盖(18),密封盖(18)通过辅助杆I(15)与炉体(22)外部的密封盖驱动装置连接;所述密封盖(18)下面连接易挥发元素装料器(16),所述易挥发元素装料器(16)设置透气孔(16-1),密封盖(18)在驱动装置的作用下,将易挥发元素装料器(16)伸入和移出坩埚(1);
所述装置还包括设置在炉体(22)内部的辅料器(17-1),所述辅料器(17-1)经辅助杆II(17)连接炉体(22)外部的辅料器驱动装置;
所述透气孔(16-1)设置在易挥发元素装料器(16)的四周;
所述坩埚(1)分为主坩埚(1-3)、辅助坩埚(1-4)和籽晶槽(1-5),直径依次缩小。
2.根据权利要求1所述的磷化铟合成与VGF晶体制备的装置,其特征在于,辅助坩埚(1-4)呈两段上大下小的喇叭状。
3.根据权利要求1所述的磷化铟合成与VGF晶体制备的装置,其特征在于,所述装置还包括的热电偶孔I(4-1)、热电偶孔II(4-2)、热电偶孔III(4-3)、热电偶孔IV(4-4)、中心热电偶孔(4-5)。
4.根据权利要求3所述的磷化铟合成与VGF晶体制备的装置,其特征在于,
所述热电偶孔I(4-1)穿过炉体(22),顶部接近主坩埚(1-3)下端;
所述热电偶孔IV(4-4)穿过炉体(22),顶部在主坩埚(1-3)中间位置;
所述热电偶孔II(4-2)穿过炉体(22)、主支撑(11)、坩埚支撑(4),顶部在辅助坩埚(1-4)中间位置;
所述热电偶孔III(4-3)穿过炉体(22)、主支撑(11)、坩埚支撑(4),顶部在辅助坩埚(1-4)上端;
所述中心热电偶孔(4-5)穿过炉体(22)、主支撑(11)、坩埚支撑(4),顶部在籽晶槽(1-5)底部。
5.一种磷化铟合成与VGF晶体制备的方法,基于权利要求1-4任一所述的化铟合成与晶体制备装置实现,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
步骤1、将籽晶(6)放置在籽晶槽(1-5)中,铟(5)置于主坩埚(1-3)中;将氧化硼(21)置入辅料器(17-1)中;将红磷(19)置入易挥发元素装料器(16)中;第二热电偶(8)和第三热电偶(9)离开热电偶孔II(4-2)和热电偶孔III(4-3);
所述铟(5)为圆柱状,其内径大于挥发元素装料器(16)的直径,其外径大于辅助坩埚(1-4)的最大直径;
将密封材料(13)放入密封槽(1-2);
将坩埚盖(1-1)焊接到坩埚(1)上,成为一体;
步骤2、炉体(22)抽真空至100Pa-10-5Pa;
步骤3、通过多段加热器(2)加热密封槽(1-2)内的密封材料(13)至熔化,将易挥发元素装料器(16)通过辅助杆I(15)置入辅助坩埚(1-4)中,同时将密封盖(18)放置在密封槽(1-2),辅助杆I(15)与密封盖(18)脱离;调节多段加热器(2),给密封材料(13)降温,使其凝固,通过凝固的密封材料(13)与密封盖(18)对坩埚(1)实现密封;
步骤4、启动离心电机(14),带动主支撑(11)和坩埚支撑(4)及坩埚(1)转动,转动速率为500-5000转/分;
步骤5、通过多段加热器(2)给主坩埚(1-3)加热至磷化铟熔点以上30-200℃;同时给辅助坩埚(1-4)加热,使其达到590℃,并逐渐升温650℃,升温过程中,给炉体(22)逐渐充入惰性气体至12.75MPa;
在该过程中,红磷(19)受热升华为气体,气体与铟熔体大面积接触,进行合成;
步骤6、合成3-5小时后,调整多段加热器(2)的各分段加热器的功率,第一热电偶(7)和第四热电偶(10)的温度降至550℃,使得合成后的磷化铟凝固为筒状固体;辅助坩埚(1-4)的温度降至590℃以下;同时逐渐降低炉体(22)内部的压力,直至一个大气压;
将离心电机(14)的转速降为0;
调整多段加热器(2)接近密封槽(1-2)区域加热器的功率,使得密封材料(13)熔化;连接辅助杆I(15)和密封盖(18),易挥发元素装料器(16)离开坩埚(1)内部并使密封盖(18)远离坩埚(1);
步骤7、通过辅助杆II(17)将辅料器(17-1)中的氧化硼(21)倒入坩埚(1)中;
将第二热电偶(8)和第三热电偶(9)分别插入热电偶孔II(4-2)和热电偶孔III(4-3)中;
调整多段加热器(2)的各分段加热器的功率,使得中心热电偶(12)低于磷化铟熔点20-50℃,第一热电偶(7)、第二热电偶(8)、第三热电偶(9)、第四热电偶(10)的温度高于磷化铟熔点50-200℃,并使得坩埚(1)内的磷化铟熔体建立起5-50cm/℃的温度梯度,靠近籽晶(6)方向的温度为低温方向;
筒状固体磷化铟再次熔化液态流至主坩埚(1-3)和辅助坩埚(1-4)中,由于籽晶(6)底部温度低于磷化铟熔点,被合成的磷化铟熔体高于磷化铟熔点,部分籽晶(6)熔化并建立起籽晶(6)与磷化铟熔体的平衡态;
步骤8、调整多段加热器(2)的各段的功率,建立垂直温度梯度,实现磷化铟单晶生长;生长完毕后系统降温至室温,从坩埚支撑(4)中取出坩埚(1),取出晶体(20)。
6.根据权利要求5所述的磷化铟合成与VGF晶体制备的方法,其特征在于,步骤5中,铟(5)融化,在离心力的作用下,铟熔体贴合在主坩埚(1-3)壁上。
CN202210829113.7A 2022-07-15 2022-07-15 一种磷化铟合成与vgf晶体制备的装置及方法 Active CN115198369B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210829113.7A CN115198369B (zh) 2022-07-15 2022-07-15 一种磷化铟合成与vgf晶体制备的装置及方法
PCT/CN2023/107178 WO2024012521A1 (zh) 2022-07-15 2023-07-13 一种磷化铟合成与vgf晶体制备的装置及方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210829113.7A CN115198369B (zh) 2022-07-15 2022-07-15 一种磷化铟合成与vgf晶体制备的装置及方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN115198369A CN115198369A (zh) 2022-10-18
CN115198369B true CN115198369B (zh) 2024-06-11

Family

ID=83582580

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210829113.7A Active CN115198369B (zh) 2022-07-15 2022-07-15 一种磷化铟合成与vgf晶体制备的装置及方法

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN115198369B (zh)
WO (1) WO2024012521A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115198369B (zh) * 2022-07-15 2024-06-11 中国电子科技集团公司第十三研究所 一种磷化铟合成与vgf晶体制备的装置及方法

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4267154A (en) * 1978-09-29 1981-05-12 Georg Mueller Apparatus for manufacturing high quality crystals
JPH02248399A (ja) * 1989-03-22 1990-10-04 Furukawa Electric Co Ltd:The 混晶型化合物半導体の結晶成長方法
JPH03237088A (ja) * 1990-02-13 1991-10-22 Nippon Mining Co Ltd 単結晶成長方法
KR20070089570A (ko) * 2006-02-28 2007-08-31 네오세미테크 주식회사 반도체 다결정 화합물 합성장치 및 합성방법
CN104451858A (zh) * 2014-11-26 2015-03-25 中国电子科技集团公司第十三研究所 高压原位合成多功能晶体生长系统
KR20170116684A (ko) * 2016-04-12 2017-10-20 주식회사 퓨쳐캐스트 원심주조식 금형장치 및 그에 따른 원심주조식 제품 주조방법
JP2019167282A (ja) * 2018-03-26 2019-10-03 住友金属鉱山株式会社 結晶育成装置
CN212895088U (zh) * 2020-06-02 2021-04-06 中国电子科技集团公司第十三研究所 一种液态磷注入法合成磷化铟的系统
CN113308738A (zh) * 2021-06-01 2021-08-27 中国电子科技集团公司第十三研究所 注入合成后连续lec与vgf结合制备化合物半导体晶体的方法
CN216614923U (zh) * 2021-11-16 2022-05-27 天津雷格盛通真空装备制造有限公司 一种带有分隔结构的单晶炉主炉室
CN114561691A (zh) * 2022-01-26 2022-05-31 苏州中砥半导体材料有限公司 一种用于磷化铟晶体生产工艺中温场控制装置及方法
WO2022110811A1 (zh) * 2020-11-24 2022-06-02 中国电子科技集团公司第十三研究所 一种非金属半导体材料的提纯设备和提纯方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109402722B (zh) * 2018-12-14 2020-09-01 中国电子科技集团公司第十三研究所 一种反式注入合成连续vgf晶体生长装置及方法
CN110760932B (zh) * 2019-11-22 2021-02-23 中国电子科技集团公司第十三研究所 一种利用铟磷混合物制备磷化铟晶体的方法
CN115198369B (zh) * 2022-07-15 2024-06-11 中国电子科技集团公司第十三研究所 一种磷化铟合成与vgf晶体制备的装置及方法

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4267154A (en) * 1978-09-29 1981-05-12 Georg Mueller Apparatus for manufacturing high quality crystals
JPH02248399A (ja) * 1989-03-22 1990-10-04 Furukawa Electric Co Ltd:The 混晶型化合物半導体の結晶成長方法
JPH03237088A (ja) * 1990-02-13 1991-10-22 Nippon Mining Co Ltd 単結晶成長方法
KR20070089570A (ko) * 2006-02-28 2007-08-31 네오세미테크 주식회사 반도체 다결정 화합물 합성장치 및 합성방법
CN104451858A (zh) * 2014-11-26 2015-03-25 中国电子科技集团公司第十三研究所 高压原位合成多功能晶体生长系统
KR20170116684A (ko) * 2016-04-12 2017-10-20 주식회사 퓨쳐캐스트 원심주조식 금형장치 및 그에 따른 원심주조식 제품 주조방법
JP2019167282A (ja) * 2018-03-26 2019-10-03 住友金属鉱山株式会社 結晶育成装置
CN212895088U (zh) * 2020-06-02 2021-04-06 中国电子科技集团公司第十三研究所 一种液态磷注入法合成磷化铟的系统
WO2022110811A1 (zh) * 2020-11-24 2022-06-02 中国电子科技集团公司第十三研究所 一种非金属半导体材料的提纯设备和提纯方法
CN113308738A (zh) * 2021-06-01 2021-08-27 中国电子科技集团公司第十三研究所 注入合成后连续lec与vgf结合制备化合物半导体晶体的方法
CN216614923U (zh) * 2021-11-16 2022-05-27 天津雷格盛通真空装备制造有限公司 一种带有分隔结构的单晶炉主炉室
CN114561691A (zh) * 2022-01-26 2022-05-31 苏州中砥半导体材料有限公司 一种用于磷化铟晶体生产工艺中温场控制装置及方法

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
VGF-InP 中气孔形成机理及对晶体质量的影响;田树盛等;半导体材料;20200630;第45卷(第6期);466-483 *
基于原位合成法的InP单晶炉合成装置设计;梁仁和等;微纳电子技术;20141231(第011期);743-747, 751 *
高纯InP多晶的合成技术;付莉杰等;半导体技术;20201231(第009期);707-712 *

Also Published As

Publication number Publication date
WO2024012521A1 (zh) 2024-01-18
CN115198369A (zh) 2022-10-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5344919B2 (ja) 結晶成長のための装置及び方法
CN115198369B (zh) 一种磷化铟合成与vgf晶体制备的装置及方法
JP6837566B2 (ja) 水平注入合成後回転連続vgf結晶成長装置及び方法
KR101540225B1 (ko) 단결정 제조장치 및 단결정의 제조방법
JPH11114664A (ja) 鋳型加熱真空鋳造炉システムと鋳物の製造法
US4650540A (en) Methods and apparatus for producing coherent or monolithic elements
WO2024012520A1 (zh) 一种离心合成与生长化合物晶体的装置及方法
US4652332A (en) Method of synthesizing and growing copper-indium-diselenide (CuInSe2) crystals
CN112064108B (zh) 生长碲化汞晶体的真空高压单晶炉系统及其控制方法
CN113308738B (zh) 注入合成后连续lec与vgf结合制备化合物半导体晶体的方法
WO2024011843A1 (zh) 一种垂直温度梯度凝固制备磷化铟晶体的装置及方法
US4784715A (en) Methods and apparatus for producing coherent or monolithic elements
JP3254329B2 (ja) 化合物単結晶の製造方法及び製造装置
JP4549111B2 (ja) GaAs多結晶の製造炉
CN218404489U (zh) 一种离心力驱动下熔体迁移制备化合物晶体的装置
CN115786748B (zh) 一种镍基单晶高温合金熔炼工艺
WO2024027072A1 (zh) 一种超重力下通过熔体迁移制备化合物晶体的方法
CN114150374B (zh) 一种高产量氮化铝单晶的液相生长结构及生长方法
CN218404502U (zh) 一种添加化合物半导体材料的装置
CN117265632A (zh) 用于挥发体系的晶体生长装置
CN117758353A (zh) 一种用于大直径锑化镓晶体生长连续加料装置
CN117026379A (zh) 一种半导体晶体生长及原位退火的方法及装置
CN117071052A (zh) 一种用于化合物半导体单晶的低位错生长装置
CN115198355A (zh) 一种合成半导体化合物的方法
CN113510235A (zh) 一种金属的定向凝固装置及凝固方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant