CN115004106B - 信息处理方法 - Google Patents

信息处理方法 Download PDF

Info

Publication number
CN115004106B
CN115004106B CN202180010359.5A CN202180010359A CN115004106B CN 115004106 B CN115004106 B CN 115004106B CN 202180010359 A CN202180010359 A CN 202180010359A CN 115004106 B CN115004106 B CN 115004106B
Authority
CN
China
Prior art keywords
image
correction
display device
recorded
recorded image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202180010359.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN115004106A (zh
Inventor
吉泽宏俊
园田慎一郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of CN115004106A publication Critical patent/CN115004106A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN115004106B publication Critical patent/CN115004106B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/04—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B27/00—Photographic printing apparatus
    • G03B27/02—Exposure apparatus for contact printing
    • G03B27/04—Copying apparatus without a relative movement between the original and the light source during exposure, e.g. printing frame or printing box
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/002—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor using materials containing microcapsules; Preparing or processing such materials, e.g. by pressure; Devices or apparatus specially designed therefor
    • G03F7/0022—Devices or apparatus
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/04—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
    • G03G15/043—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with means for controlling illumination or exposure
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/50—Machine control of apparatus for electrographic processes using a charge pattern, e.g. regulating differents parts of the machine, multimode copiers, microprocessor control
    • G03G15/5062—Machine control of apparatus for electrographic processes using a charge pattern, e.g. regulating differents parts of the machine, multimode copiers, microprocessor control by measuring the characteristics of an image on the copy material
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G21/00—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
    • G03G21/16—Mechanical means for facilitating the maintenance of the apparatus, e.g. modular arrangements
    • G03G21/18—Mechanical means for facilitating the maintenance of the apparatus, e.g. modular arrangements using a processing cartridge, whereby the process cartridge comprises at least two image processing means in a single unit
    • G03G21/1839—Means for handling the process cartridge in the apparatus body
    • G03G21/1842—Means for handling the process cartridge in the apparatus body for guiding and mounting the process cartridge, positioning, alignment, locks
    • G03G21/1853—Means for handling the process cartridge in the apparatus body for guiding and mounting the process cartridge, positioning, alignment, locks the process cartridge being mounted perpendicular to the axis of the photosensitive member
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B2207/00—Coding scheme for general features or characteristics of optical elements and systems of subclass G02B, but not including elements and systems which would be classified in G02B6/00 and subgroups
    • G02B2207/123—Optical louvre elements, e.g. for directional light blocking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本发明提供一种信息处理方法，其包括：曝光工序，设置于具有多个像素的图像显示装置与感光性记录介质的曝光面之间，且经由限制从所述图像显示装置照射到所述感光性记录介质的光的角度的限制部件，将显示于所述图像显示装置的校正用图像曝光于所述感光性记录介质上；获取工序，获取通过所述校正用图像的曝光而记录在所述感光性记录介质的作为记录图像的数据的记录图像数据；及导出工序，基于所述记录图像数据，导出用于按所述图像显示装置的每个像素校正所述显示图像的每个像素的像素值的校正系数K，以使包括所述记录图像中所产生的不均匀与亮度为互补关系的不均匀的显示图像显示于所述图像显示装置。

Description

信息处理方法
技术领域
本发明涉及一种信息处理方法。
背景技术
以往，公开有如下技术：当将显示于图像显示装置的图像曝光在感光性记录介质的曝光面的情况下，利用准直器使从图像显示装置发出的光平行的基础上，照射到感光性记录介质(例如，参考美国专利第9126396号说明书)。
并且，公开有如下技术：在电子照相方式的成像装置中，校正因光学元件的制造偏差而引起的光量不均匀。例如，在日本专利特开2019-155819号公报中，公开有如下技术：印刷测试图像，并读取所印刷的测试图像，基于所读取的测试图像的浓度数据求出浓度校正数据，并基于浓度校正数据调整光源的光量。
发明内容
发明要解决的技术课题
在美国专利第9126396号说明书中所记载的技术中，作为准直器，能够使用由透光部及遮光部构成的百叶窗式薄膜。但是，百叶窗式薄膜因制造偏差等而存在相邻的遮光部之间的宽度不恒定的情况。若使用这样的百叶窗式薄膜而将显示于图像显示装置的图像曝光在感光性记录介质的曝光面上，则无法在感光性记录介质的曝光面上均匀地照射光，并且在记录于感光性记录介质的记录图像中，有时产生浓度不均匀及条纹不均匀。
本发明提供一种能够抑制记录图像的不均匀的信息处理方法。
用于解决技术课题的手段
本发明的第1方式为信息处理方法，其包括：曝光工序，经由设置于具有多个像素的图像显示装置与感光性记录介质的曝光面之间且限制从图像显示装置照射到感光性记录介质的光的角度的限制部件，将显示于图像显示装置的校正用图像曝光于感光性记录介质上；获取工序，获取通过校正用图像的曝光而记录在感光性记录介质的作为记录图像的数据的记录图像数据；及导出工序，基于记录图像数据，导出用于按图像显示装置的每个像素校正显示图像的每个像素的像素值的校正系数K，以使包括记录图像中所产生的不均匀与亮度为互补关系的不均匀的显示图像显示于图像显示装置。
本发明的第2方式可以为如下：在上述方式中的导出工序中，使用基于记录图像数据所导出的记录图像的每个像素的像素值Cr及记录图像的基准像素值Cs，导出校正系数K。
本发明的第3方式可以为如下：在上述第2方式中，基准像素值Cs设为记录图像的每个像素的像素值Cr的平均值。
本发明的第4方式可以为如下：在上述第2及第3方式中的导出工序中，当将预先规定的常数设为A的情况下，基于下述的(1)式，导出校正系数K。
K＝1-{(Cr/Cs)-1}×A……(1)
本发明的第5方式可以为如下：在上述方式中，校正用图像包括位置对准用图案，并且所述信息处理方法还包括修正工序，该修正工序基于位置对准用图案，修正记录图像数据，以使通过记录图像数据表示的记录图像的位置与校正用图像的位置一致，在导出工序中，基于已修正的记录图像数据，导出校正系数K。
本发明的第6方式可以为如下：在上述第5方式中的修正工序中，修正记录图像数据，以使通过记录图像数据表示的记录图像中所包括的位置对准用图案的重心坐标与校正用图像中所包括的位置对准用图案的重心坐标一致。
本发明的第7方式可以为如下：在上述方式中的获取工序中，以图像显示装置的分辨率以上的分辨率获取记录图像数据。
本发明的第8方式可以为如下：在上述方式中，还包括校正工序，该校正工序使用校正系数K，校正显示图像的每个像素的像素值Cb。
本发明的第9方式可以为如下：在上述第8方式中的校正工序中，基于下述的(2)式，导出显示图像的校正后的像素值Ca。
Ca＝Cb×K……(2)
本发明的第10方式优选为如下：在上述方式中，校正用图像为单色的图像。
本发明的第11方式优选为如下：在上述第5及第6方式中，校正用图像为灰度50％的图像，该灰度50％的图像包括4个由一边为5像素且黑色的正方形构成的标记，作为位置对准用图案。
本发明的第12方式优选为如下：在上述第4方式中，常数A为0.5以上且1.0以下。
本发明的第13方式可以为如下：在上述第7方式中的获取工序中，在以图像显示装置的分辨率以上的分辨率获取记录图像数据之后，在导出工序中，基于使记录图像数据的分辨率与图像显示装置的分辨率一致的记录图像数据，导出校正系数K。
发明效果
根据上述方式，本发明的信息处理方法能够抑制记录图像的不均匀。
附图说明
图1是图像曝光装置的一例的分解立体图。
图2是图像曝光装置的一例的剖视图。
图3是表示图像显示装置的像素的一例的图。
图4是用于对图像曝光装置中的光的行进方向进行说明的示意性剖视图。
图5是表示百叶窗式薄膜的一例的结构的图。
图6是表示在遮光部之间的宽度存在偏差的百叶窗式薄膜的一例的结构的图。
图7是用于对曝光工序进行说明的图。
图8是表示信息处理系统的结构的一例的框图。
图9是表示图像显示装置的硬件结构的一例的图。
图10是本发明的信息处理方法的一例的流程图。
图11是由图像显示装置执行的信息处理的一例的流程图。
图12是由图像显示装置执行的校正系数导出处理的一例的流程图。
图13是由图像显示装置执行的显示图像校正处理的一例的流程图。
图14A是用于对获取工序及修正工序进行说明的图。
图14B是用于对获取工序及修正工序进行说明的图。
图15A是用于对导出工序进行说明的图。
图15B是用于对导出工序进行说明的图。
图16是用于对校正工序进行说明的图。
图17是用于对校正工序进行说明的图。
图18是表示百叶窗式薄膜的另一例的结构的图。
图19是表示百叶窗式薄膜的另一例的结构的图。
图20是表示百叶窗式薄膜的另一例的结构的图。
具体实施方式
以下，参考附图，对本例示性实施方式的信息处理方法进行说明。
首先，对本例示性实施方式的信息处理方法中所使用的图像曝光装置10的结构进行说明。图1中示出图像曝光装置10的一例的分解立体图。并且，图2中示出图像曝光装置10的一例的剖视图。
如图1及图2所示，图像曝光装置10具备图像显示装置12、支撑部21及百叶窗式薄膜16。图像显示装置12具有多个像素13。支撑部21支撑记录与由图像显示装置12显示的显示图像对应的记录图像的感光性记录介质14。百叶窗式薄膜16设置于图像显示装置12与支撑部21之间，在支撑部21侧设置有保护层17。
作为图像显示装置12，能够使用智能手机和平板电脑等移动终端、液晶显示装置(LCD：Liquid Crystal Display(液晶显示器))、有机EL显示装置(OLED：Organic LightEmitting Diode(有机发光二极管))、阴极射线管显示装置(CRT：Cathode Ray Tube(阴极射线管))、发光二极管显示装置(LED：Light Emitting Diode(发光二极管))、等离子体显示装置等。
图像显示装置12作为用于显示显示图像的显示部32而具备多个像素13。另外，在图2中示出了一个像素13而作为显示部32的一例。像素13是构成图像显示面的颜色信息的最小单位。通过具有像素13，图像显示装置12能够显示显示图像。
图3中示出本例示性实施方式的像素13的一例。像素13包括3个子像素。具体而言，如图3所示，像素13中，与R(Red：红色)色相对应的子像素13R、与G(Green：绿色)色相对应的子像素13G、及与B(Blue：蓝色)色相对应的子像素13B配置成一排。在图像显示装置12的像素显示面中，多个像素13以二维排列。通过具有像素13，图像显示装置12能够显示彩色的显示图像。
另外，像素13的配列中的二维是指沿图1中的X-Y方向延伸的状态。通过将相邻的像素13之间的距离(即间距)设为200μm以下，能够对记录图像增强作为自然景象的印象。因此，像素13的间距优选为150μm以下，更优选为125μm以下，进一步优选为85μm以下。
从图像显示装置12照射光的面侧设置有用于保护像素13的玻璃窗26。为了缩短从像素13到感光性记录介质14为止的距离，优选玻璃窗26的厚度较薄。
支撑部21以配置于与图像显示装置12的照射光的面对置的位置的状态支撑感光性记录介质14。另外，支撑部21可以直接支撑感光性记录介质14，也可以间接支撑，只要能够支撑感光性记录介质14则其结构并无特别限定。
如图2所示，感光性记录介质14具有曝光面14A。作为感光性记录介质14，只要能够通过从图像显示装置12照射的光进行曝光，并且是能够形成记录图像的记录介质，则能够没有特别限制地使用。例如，能够使用安装于Fujifilm Corporation制造的Instax(注册商标)(商品名：Checky))等快速照相机的胶片盒18等。
胶片盒18通过将感光性记录介质14安装到壳体20中而形成。在设置于壳体20内的多个感光性记录介质14之间设置有省略图示的遮光片，通过该遮光片，只有位于胶片盒18的最上表面的感光性记录介质14被曝光。另外，在适用安装于上述Instax(注册商标)的胶片盒18的情况下，薄膜内组装有感光性记录介质14及遮光薄片。作为感光性记录介质14中使用的材料，例如可举出底片、反转片、相纸、单片或剥离(peel-apart)型快速摄影胶片等摄影感光材料。
如图2所示，多个感光性记录介质14容纳在具有遮光性的盒形壳体20中。壳体20上设置有曝光开口22，所述曝光开口22为了曝光感光性记录介质14的曝光面14A而使从图像显示装置12照射的光通过。并且，在与曝光开口22相反的一侧设置有按压部件(省略图示)，并且通过按压部件，感光性记录介质14被按压到曝光开口22侧。由此，感光性记录介质14被按压在曝光开口22的周围，与图像显示装置12之间的距离减小，并且能够将良好的图像记录到感光性记录介质14。
作为外壳20，能够使用照片感光材料、磁记录材料及光记录材料等各种记录材料中所使用的记录材料用树脂部件。作为记录材料用树脂部件，是指用于将上述记录材料进行收纳、包装、包覆、保护、运载、保管、形态支撑等的容器，盖子及附属于其的附属部件，或者装载上述记录材料而发挥功能的各种部件。
曝光后的感光性记录介质14通过展开辊(省略图示)之间，由此设置于感光性记录介质的舱(pod)部破裂。舱部内含有显影处理液，并且通过舱部破裂，显影处理液蔓延到感光性记录介质14的内部。在经过1分钟至几分钟之后，充分进行显影处理并且在感光性记录介质14上形成记录图像。
参考图4及图5，对百叶窗式薄膜16的一例进行说明。图4是图像曝光装置10的一例的示意性剖视图，是对来自像素13的光的行进方向进行说明的图。图5是表示百叶窗式薄膜16的一例的结构的图。符号16A是百叶窗式薄膜16的平面16A，符号16B是百叶窗式薄膜16的侧面16B。
百叶窗式薄膜16在与图像显示装置12的像素13的排列面平行的面上的第1方向(在图5的例中，为平面16A中的X方向)上交替地配置有透射光的透光部102及遮蔽光的遮光部104。并且，百叶窗式薄膜16在与第1方向垂直且在与图像显示装置的像素的排列面平行的面上的第2方向(在图5的例中，为平面16A中的Y方向)上交替地配置有透光部102及遮光部104。
如此，在本例示性实施方式中，二维地配置透光部102，遮光部104形成为格子状。通过设为这种结构，百叶窗式薄膜16能够限制从图像显示装置12的像素13照射到感光性记录介质14的曝光面14A的光的角度。百叶窗式薄膜16为本发明的限制部件的一例。
从图像显示装置12的像素13照射的光从图像显示面朝向180°的所有方向照射。所照射的光通过设置于图像显示装置12的玻璃窗26而入射到百叶窗式薄膜16。入射到百叶窗式薄膜16的光中与连接图像显示装置12及感光性记录介质14的直线平行的光通过百叶窗式薄膜16的透光部102。并且，相对于连接图像显示装置12及感光性记录介质14的直线倾斜照射的光被百叶窗式薄膜16的遮光部104遮住了光。如此，通过限制从图像显示装置12照射的光的角度，能够提高记录于感光性记录介质14的记录图像的画质。
透光部102只要能够使光通过即可，能够使用玻璃材料、透明的硅酮橡胶等。并且，还能够将透光部102的部分设为空腔，仅由遮光部104构成百叶窗式薄膜16。
遮光部104可以作为吸收光的光吸收部件，也能够作为反射光的光反射部件。构成遮光部104的遮光部件106能够使用经着色的树脂材料，例如能够使用黑色硅酮橡胶等。并且，作为吸收光的材料，能够使用中性密度滤光片(ND(Neutral Density)滤光片)。ND滤光片是指中性光密度的滤光片，是在用于曝光的波长区域中不会对波长带来影响而能够均匀地吸收光(具体而言，吸收率为50％以上且99.999％以下、和/或透光率为0.001％以上且50％以下)的滤光片。
百叶窗式薄膜16的相邻的遮光部104之间的宽度d优选为80μm以下，更优选为65μm以下。通过将宽度d设为上述范围，能够遮蔽从像素13照射的光中倾斜照射的光，并且能够提高记录图像的画质。
百叶窗式薄膜16的厚度t优选为1.5mm以上且4.0mm以下，更优选为2.0mm以上且4.0mm以下，进一步优选为2.5mm以上且4.0mm以下。通过增加百叶窗式薄膜16的厚度t，能够遮蔽相对于平行光小角度的倾斜光。并且，若增加百叶窗式薄膜16的厚度t，则记录图像容易变得模糊，因此优选将百叶窗式薄膜16的厚度t设为上述范围。
如图1、图2及图4所示，保护层17设置于百叶窗式薄膜16的感光性记录介质14侧。在进行曝光时，保护层17在感光性记录介质14与百叶窗式薄膜16的接触中保护百叶窗式薄膜16。保护层17防止百叶窗式薄膜16因反覆进行将显示于图像显示装置12的显示图像曝光到感光性记录介质14而破坏或破损。
作为保护层17，能够使用透明且能够使光通过的部件。例如能够使用由丙烯酸树脂、聚碳酸酯、氯乙烯树脂等形成的塑料板。
保护层17的厚度优选设为0.1μm以上且500μm以下。通过将保护层17的厚度设为0.1μm以上，除了具有保护百叶窗式薄膜16的效果以外，还能够使干涉波纹变得不明显。并且，能够使基于百叶窗式薄膜16的缺陷或结构产生的图像的缺陷变得不明显。并且，通过将保护层17的厚度设为500μm以下，能够防止记录于感光性记录介质14的记录图像的模糊。
百叶窗式薄膜16的相邻的遮光部104之间的宽度d有时因制造偏差等而不恒定。并且，有时偏差显现的位置、数量及程度等不同。图6是表示在遮光部104之间的宽度d存在偏差的百叶窗式薄膜16的一例的结构的图。图7是表示使用遮光部104之间的宽度d中存在偏差的百叶窗式薄膜16，将显示于图像显示装置12的图像(在图7的例中，为校正用图像IMC)曝光于感光性记录介质14而得的记录图像(在图7的例中，为记录图像IMR)的图。另外，在图7中，例示了使用单色的图像作为显示于图像显示装置12的图像的情况。
在如图6所示的遮光部104之间的宽度中存在偏差的百叶窗式薄膜16中，无法均匀地限制从图像显示装置12的像素13照射到感光性记录介质14的曝光面14A的光的角度，并且无法将光均匀地照射到曝光面14A。因此，使用遮光部104之间的宽度中存在偏差的百叶窗式薄膜16而记录于感光性记录介质14的记录图像中，有时会产生浓度不均匀及条纹不均匀。
例如，如图6所示的宽度dn1及宽度dn2，在遮光部104之间为窄幅的部位中，相比具有通常的宽度d的部位，只有少许的光才能够透过，因此形成于感光性记录介质14的记录图像如图7的P2所示变暗。并且，例如，如图6所示的宽度dw1及宽度dw2，在遮光部104之间为宽幅的部位中，相比具有通常的宽度d的部位，透过较多的光，因此形成于感光性记录介质14的记录图像如图7的P3所示变亮。以下，将因该记录图像中所产生的百叶窗式薄膜16的遮光部104之间的宽度的偏差而引起的浓度不均匀及条纹不均匀简称为“不均匀”。
在本例示性实施方式所涉及的信息处理方法中，导出用于进行如下处理的校正系数K：预先提高与记录图像中显现暗的不均匀的部位相对应的像素13的像素值(即亮)，并预先降低与记录图像中显现亮的不均匀的部位相对应的像素13的像素值(即暗)。根据这样的处理，即使是使用了遮光部104之间的宽度中存在偏差的百叶窗式薄膜16的图像曝光装置10，也能够抑制记录图像的不均匀。以下，对本例示性实施方式的信息处理方法进行说明。
首先，参考图8，对本例示性实施方式的信息处理方法中所使用的信息处理系统60的一例进行说明。如图8所示，信息处理系统60具备图像显示装置12、感光性记录介质14、读取装置62。图像显示装置12具备显示控制部30、位置修正部34、导出部36及校正部38作为功能性结构。读取装置62只要是能够获取记录于感光性记录介质14的记录图像的数据(以下，称为“记录图像数据IMD”)的装置即可，例如，能够使用CCD(Charge Coupled Device：电荷耦合器件)等具备成像元件的扫描器及相机。
接着，参考图9，对图像显示装置12的硬件结构进行说明。如图9所示，图像显示装置12具备CPU(Central Processing Unit，中央处理单元)40、作为暂存区域的存储器42及非易失性存储部44。并且，图像显示装置12具备上述显示部32及输入部48。CPU40、存储器42、存储部44、输入部48及显示部32经由总线49连接。
显示部32具备上述像素13，并且照射与通过像素13显示的显示图像对应的光。显示部32例如可以适用由背面光等灯照射光的液晶，并且例如也可以适用本身照射光的发光二极管。
存储部44由HDD(Hard Disk Drive，硬盘驱动器)、SSD(Solid State Drive，固态驱动器)及闪存等实现。在作为记录介质的存储部44中，存储有图像处理程序46及校正系数K。CPU40从存储部44读出图像处理程序46，并且将所读出的图像处理程序46展开到存储器42之后执行。通过由CPU40执行图像处理程序46，CPU40作为图8所示的显示控制部30、位置修正部34、导出部36及校正部38而发挥作用。
输入部48中输入输与显示于显示部32的显示图像对应的图像数据。与显示图像对应的图像数据可以从图像显示装置12的外部输入，当图像显示装置12或图像曝光装置10具有形成或拍摄图像的功能的情况下，也可以为由本身形成或拍摄的图像数据。并且，在输入部48中，输入读取装置62所获取的记录图像数据IMD。
接着，参考图7～图17，对使用了信息处理系统60的本例示性实施方式的信息处理方法进行说明。图10是表示本例示性实施方式的信息处理方法所包括的各工序的一例的流程图。图11是根据本例示性实施方式的信息处理方法所包括的各工序，由图像显示装置12执行的处理的一例的流程图。以下，参考图10，对本例示性实施方式的信息处理方法所包括的各工序进行说明。
首先，如图10的步骤S10所示，在本例示性实施方式的曝光工序中，经由百叶窗式薄膜16，将显示于图像显示装置12的校正用图像IMC曝光在感光性记录介质14上。在曝光工序中，显示控制部30进行将输入到输入部48的作为显示图像的一例的校正用图像IMC显示于表示部32的控制(图11的步骤S20)。由此，如图7所示，在由图像曝光装置10支撑的感光性记录介质14中，记录有产生不均匀的记录图像IMR。
另外，如图7所示，校正用图像IMC优选为单色的图像，尤其进一步优选为灰度50％(具体而言，R色、G色及B色分别为256灰度的情况下，R色、G色及B色的像素值为127的颜色)的图像。根据这样的方式，可知在记录图像IMR中，在具有从与校正用图像IMC的规定的像素值相对应的像素值(即后述的基准像素值Cs)偏离的像素值的像素中，显现出不均匀。因此，在后述的图10的步骤S16中，能够精度良好的导出与记录图像IMR中的不均匀对应的校正系数K。
并且，校正用图像IMC优选包括位置对准用图案PP。作为一例，图7中例示有校正用图像IMC，该校正用图像IMC包括4个由一边为5像素且黑色的正方形构成的标记，作为位置对准用图案PP。位置对准用图案PP只要是能够检测记录图像数据IMD中的记录图像IMR的位置的图案即可，例如，能够适用矩形、圆形及十字形等的标记。通过校正用图像IMC包括位置对准用图案PP，即使在图10的步骤S12中获取的记录图像数据IMD中所包括的记录图像IMR变形，也能够在步骤S14中修正记录图像IMR的变形(详细内容后述)。
接着，如图10的步骤S12所示，在本例示性实施方式的获取工序中，获取通过校正用图像IMC的曝光而记录于感光性记录介质14的作为记录图像IMR的数据的记录图像数据IMD。在获取工序中，读取装置62通过读取记录有记录图像IMR的感光性记录介质14，获取如图14A所示的记录图像IMR的数据(即记录图像数据IMD)。并且，在获取工序中，图像显示装置12经由输入部48接收读取装置62所获取的记录图像数据IMD(图11的步骤S22)。
另外，在通过记录图像数据IMD显示的记录图像IMR中，有时发生旋转、扭曲、弯曲及大小等各种变形。例如，在图14A中示出，记录图像IMR在旋转，在记录图像数据IMD中包括除了胶片盒18及空白等记录图像IMR以外的区域的例子。
如图10的步骤S14所示，在本例示性实施方式的修正工序中，基于位置对准用图案PP，修正记录图像数据IMD，以使通过记录图像数据IMD显示的记录图像IMR的位置与校正用图像IMC的位置一致。具体而言，针对4个位置对准用图案PP的每一个，修正记录图像数据IMD，以使通过记录图像数据IMD显示的记录图像IMR中所包括的位置对准用图案PP的重心坐标与校正用图像IMC中所包括的位置对准用图案PP的重心坐标一致。
在修正工序中，位置修正部34针对4个位置对准用图案PP的每一个，将记录图像IMR的位置对准用图案PP与校正用图像IMC的位置对准用图案PP建立关联。并且，位置修正部34以建立关联的位置对准用图案PP的重心坐标彼此一致的方式实施规定的图像处理，并修正记录图像数据IMD(图11的步骤S24)。作为规定的图像处理，例如，能够适用联合转换、相似转换、仿射转换、投影转换及线性转换等公知的各种图像处理。通过这些图像处理，记录图像IMR能够进行移动、旋转、扩大及缩小等变形，并按图像显示装置12的每个像素13，将记录图像IMR的像素建立关联。根据这样的处理，如图14B所示，能够修正通过记录图像数据IMD显示的记录图像IMR的变形。
在对图10的步骤S16所示的导出工序进行说明之前，参考图15A、图15B及图16，对导出工序中所导出的校正系数K进行说明。图15A是表示显示于图像显示装置12的表示部32的校正用图像IMC及校正后的显示图像IMA各自的每个像素的像素值的图。图15B是表示通过记录图像数据IMD显示的校正用图像IMC的记录图像IMR、及曝光校正后的显示图像IMA而得的记录图像IMR1各自的每个像素的像素值的图。图16是表示由校正前的像素值Cb表示的校正前的显示图像IMB、由校正后的像素值Ca表示的校正后的显示图像IMA、及将校正后的显示图像IMA曝光于感光性记录介质14而得的记录图像IMR1的一例的图。另外，在图16中例示有，将校正前的显示图像IMB作为与校正用图像IMC相同的图像的情况。
如图15B所示，因百叶窗式薄膜16的遮光部104之间的宽度的偏差而记录图像IMR变暗的部位P2的像素值Cr低于通常亮度的部位P1的像素值Cr。并且，因百叶窗式薄膜16的遮光部104之间的宽度的偏差而记录图像IMR变亮的部位P3的像素值Cr高于通常亮度的部位P1的像素值Cr。
因此，基于这样的记录图像IMR的每个像素的像素值Cr，如图15A及图16所示，获得校正后的显示图像IMA，该校正后的显示图像IMA被校正为包括基于记录图像IMR中所产生的百叶窗式薄膜16的不均匀与亮度为互补关系的不均匀。“记录图像IMR中所产生的不均匀与亮度为互补关系的不均匀”是指，根据从记录图像IMR中的通常的亮度偏离的亮度的部位的偏离程度，以比通常的亮度亮的部位变暗、比通常的亮度暗的部位变亮的方式，赋予到显示图像IMA的对应部位的不均匀。在曝光以包括这样的不均匀的方式被校正的校正后的显示图像IMA而得的记录图像IMR1中，校正后的显示图像IMA中所包括的不均匀与基于百叶窗式薄膜16的不均匀被抵消，因此如图15B及图16所示，能够使部位P1、P2及P3的像素值均匀。即，能够在曝光校正后的显示图像IMA而得的记录图像IMR1中，抑制不均匀的发生。
校正系数K是为了获得能够获得不均匀的发生得到抑制的记录图像IMR1的校正后的显示图像IMA而用于对校正前的显示图像IMB进行校正的系数。具体而言，校正系数K被导出为如下：将记录图像IMR变暗的部位P2的像素值Cr校正为比通常的亮度的部位P1的像素值Cr高，将记录图像IMR变亮的部位P3的像素值Cr校正为比通常的亮度的部位P1的像素值Cr低。即，校正系数K根据基于百叶窗式薄膜16的不均匀的特性，按图像显示装置12的每个像素13被导出。通过使用这样的校正系数K，对于校正前的显示图像IMB能够进行如下校正：将与记录图像IMR变暗的部位P2相对应的校正前的显示图像IMB的部位P2的像素值Cb校正为比原来的像素值高，将与记录图像IMR变亮的部位P3相对应的校正前的显示图像IMB的部位P3的像素值Cb校正为比原来的像素值低。由此，能够获得包括基于百叶窗式薄膜16的不均匀与亮度为互补关系的不均匀的校正后的显示图像IMA。
如图10的步骤S16所示，在本例示性实施方式的导出工序中，使用基于在步骤S14中已修正的记录图像数据IMD所导出的记录图像IMR的每个像素的像素值Cr及记录图像IMR的基准像素值Cs，按图像显示装置12的每个像素13导出校正系数K。在导出工序中，导出部36按图像显示装置12的每个像素13进行导出校正系数K的校正系数导出处理(图11的步骤S26)。
参考图12，对校正系数导出处理的详细内容进行说明。图12是校正系数导出处理的一例的流程图。在步骤S30中，导出部36将记录图像IMR的每个像素的像素值Cr的平均值作为基准像素值Cs进行计算。
在步骤S32中，导出部36按记录图像IMR的每个像素，并基于下述的(1)式，导出校正系数K。
K＝1-{(Cr/Cs)-1}×A……(1)
在此，A为预先规定的常数，优选为0.5以上且1.0以下。通过将常数A设为0.5以上且1.0以下的值，当使用校正系数K来对显示图像IMB的每个像素的像素值Cb进行校正的情况下，能够适当地抑制记录于感光性记录介质14的记录图像IMR1的不均匀。
另外，常数A不限于上述范围的值，当使用校正系数K来对显示图像IMB的每个像素的像素值Cb进行校正的情况下，只要是能够抑制记录于感光性记录介质14的记录图像IMR1的不均匀的值即可。并且，常数A可以是按每个像素而统一的值，也可以是按每个像素而不同的值。
当步骤S32的处理结束，则该校正系数导出处理结束。如图9所示，通过本校正系数导出处理被导出的校正系数K存储于存储部44中。
接着，如图10的步骤S18所示，在本例示性实施方式的校正工序中，使用存储于存储部44的校正系数K，对显示图像IMB的每个像素的像素值Cb进行校正。在校正工序中，校正部38进行对显示图像IMB的每个像素的像素值Cb进行校正的显示图像校正处理(图11的步骤S28)。
参考图13，对显示图像校正处理的详细内容进行说明。图13是显示图像校正处理的一例的流程图。在图13的步骤S40中，校正部38获取输入于输入部48的显示图像IMB。在步骤S42中，校正部38按显示图像IMB的每个像素对像素值Cb进行校正。具体而言，基于下述的(2)式，针对显示图像IMB的各像素值Cb导出校正后的像素值Ca。
Ca＝Cb×K……(2)。
在步骤S44中，校正部38由显示控制部30控制，以显示在步骤S42中导出的像素值Ca所表示的校正后的显示图像IMA。当步骤S44的处理结束，则该显示图像校正处理结束。
图17是表示对与校正用图像IMC不同的显示图像IMB2进行上述的显示图像校正处理时的一例的图。如图17所示，根据本例示性实施方式所涉及的信息处理方法，即使是按每个像素而像素值Cb不同的显示图像IMB2，也能够适当地对像素值Cb进行校正。因此，通过使用校正后的像素值Ca所表示的显示图像IMA2而对感光性记录介质14进行曝光，能够抑制记录于感光性记录介质14的记录图像IMR2的不均匀。
如上所述，本例示性实施方式的信息处理方法包括：曝光工序，设置于具有多个像素13的图像显示装置12与感光性记录介质14的曝光面14A之间，且经由限制从图像显示装置12照射到感光性记录介质14的光的角度的百叶窗式薄膜16，将显示于图像显示装置12的校正用图像IMC曝光于感光性记录介质14上。并且，本例示性实施方式的信息处理方法包括：获取工序，获取通过校正用图像IMC的曝光而记录于感光性记录介质14的作为记录图像IMR的数据的记录图像数据IMD。并且，本例示性实施方式的信息处理方法包括：导出工序，基于记录图像数据IMD，导出用于校正显示图像的每个像素的像素值Cb的校正系数K，以使包括记录图像IMR中所产生的不均匀与亮度为互补关系的不均匀的显示图像显示于图像显示装置12。
通过使用根据本例示性实施方式所涉及的信息处理方法而导出的校正系数K，能够将像素值Cb被校正的显示图像显示于图像显示装置12，以使因百叶窗式薄膜16的遮光部104之间的宽度的偏差而引起的浓度不均匀及条纹不均匀抵消。因此，能够抑制将显示于图像显示装置12的显示图像曝光于感光性记录介质14而得的记录图像的不均匀。
另外，在图10的步骤S12中的获取工序中，优选以图像显示装置12的分辨率以上的分辨率，获取记录图像数据IMD。而且，当记录图像数据IMD的分辨率超过图像显示装置12的分辨率的情况下，在图10的步骤S12中的导出工序中，优选使记录图像数据IMD的分辨率与图像显示装置12的分辨率一致，并基于使分辨率一致的记录图像数据IMD，导出校正系数K。通过将记录图像数据IMD的分辨率设为图像显示装置12的分辨率以上，仅在图像显示装置12的1像素中显现的小的不均匀也能够进行读取，因此能够精度良好的导出校正系数K。
并且，当在通过在图10的步骤S12中的获取工序中获取的记录图像数据IMD显示的记录图像IMR中，没有发生旋转、扭曲、弯曲及大小等各种变形的情况下，可以省略步骤S14的修正工序。在这种情况下，在步骤S16的导出工序中，可以基于未被修正的记录图像数据IMD，导出校正系数K。并且，在这种情况下，校正用图像IMC中可以不包括位置对准用图案PP。
并且，在图10的步骤S14的修正工序中，可以使用边缘检测手法等公知的特征检测手法，修正记录图像数据IMD，以使记录图像IMR的位置与校正用图像IMC的位置一致。在这种情况下，校正用图像IMC中可以不包括位置对准用图案PP。
并且，在上述例示性实施方式中，对图像显示装置12具备位置修正部34、导出部36及校正部38的方式进行了说明，但这些分别可以由与图像显示装置12不同的至少1个装置构成。例如，可以设为作为与图像显示装置12不同的装置的一例的智能手机的CPU作为位置修正部34及导出部36发挥作用，并导出校正系数K的方式。在这种情况下，由智能手机导出的校正系数K被保存在图像显示装置12的存储部44，图像显示装置12使用保存在存储部44的校正系数K，对显示图像IMB的每个像素的像素值Cb进行校正。并且，例如，也可以设为作为与图像显示装置12不同的装置的一例的智能手机的CPU还作为校正部38发挥作用，并基于所导出的校正系数K对显示图像IMB进行校正的方式。在这种情况下，由智能手机校正的校正后的显示图像IMA被发送到图像显示装置12，图像显示装置12显示所接收的校正后的显示图像IMA。
并且，百叶窗式薄膜16的结构不限定于图5所示的方式。在图18～图20中示出百叶窗式薄膜16的另一例的结构。
图18所示的百叶窗式薄膜16由第1层118及第2层119这两层构成。符号16B表示百叶窗式薄膜16的侧面，符号118A表示第1层118的平面，符号119A表示第2层119的平面。如第1层118的平面118A所示，第1层118仅在第1方向(在图18的例中，为平面118A中的X方向)上交替配置透光部102及遮光部104。而且，对于第2层119，仅在与第1方向垂直的第2方向(在图18的例中，为平面119A中的Y方向)上交替配置透光部102及遮光部104。而且，通过层叠第1层118及第2层119，形成二维的百叶窗式薄膜16。如此，即使由多个层形成二维状百叶窗式薄膜16，也能够得到与由1个层形成的百叶窗式薄膜16相同的效果。
并且，如图19所示，也可以设为在百叶窗式薄膜16的表面设置用于防止百叶窗式薄膜16受损或破损的保护层117的方式。具体而言，百叶窗式薄膜16也可以设为分别在第1层118中的与第2层119相接的一侧相反的一侧的平面118A、及第2层119中的与第1层118相接的一侧相反的一侧的平面119A上设置保护层117的方式。
作为保护层117，只要透明且能够使光通过，则没有特别限定。作为保护层117，例如能够使用由丙烯酸树脂、聚碳酸酯、氯乙烯树脂等形成的塑料板。
并且，如图20所示，各列及各行中的至少一个遮光部104可以由具有间隔的多个遮光部件106构成。在图20所示的例中，在第1层118上，沿着第1方向排列的遮光部104的各列具有沿第2方向隔开预先规定的间隔而设置的多个遮光部件106。并且，在第2层119上，沿着第2方向排列的遮光部104的各行具有沿第1方向隔开预先规定的间隔而设置的多个遮光部件106。
另外，如图18～图20所示的百叶窗式薄膜16，当由第1层118及第2层119这两层等多层形成的情况下，多层的合计厚度成为百叶窗式薄膜16的厚度t。
并且，还可以使成为像素13的排列的基准的像素的XY轴与成为百叶窗式薄膜16的透光部102及遮光部104的排列的基准的百叶窗的XY轴之间形成角度差来配置遮光部104。配置成使像素13的XY轴与百叶窗的XY轴之间存在角度差，由此抑制记录图像IMR的干涉波纹。该角度的差优选为1度～45度，更优选为5度～40度，更优选为10度～35度。
并且，百叶窗式薄膜16的结构不限定于图5及图18～图20，只要是能够抑制从图像显示装置12照射的光的角度的限制部件即可。例如，可以非周期性地配置有透光部102及遮光部104，也可以将随机形成有孔的毛细管板等用作限制部件。
并且，在上述例示性实施方式中，通过图像显示装置12的多个像素13各自具备子像素13R、13G、13B，对在图像显示装置12中显示彩色图像的方式进行了说明，但用于显示彩色图像的图像显示装置12的结构并不限定于本方式。例如，图像显示装置12可以为具备与各R成分、G成分及B成分分别对应的光源或滤光片的方式。
并且，作为执行上述例示性实施方式中的图像显示装置12的各功能部等的各种处理的处理部(processing unit)的硬件结构，能够使用以下示出的各种处理器(processor)。上述各种处理器中除了包括如上所述的执行软件(程序)来作为各种处理部发挥作用的通用的处理器即CPU以外，还包括FPGA(Field Programmable Gate Array(现场可编程阵列))等在制造后能够变更电路结构的处理器即可编程逻辑器件(ProgrammableLogic Device：PLD)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit：专用集成电路)等具有为了执行特定的处理而以专用设计的电路结构的处理器即专用电路等。
一个处理部可以由这些各种处理器中的1个构成，也可以由相同种类或不同种类的2个以上的处理器的组合(例如，多个FPGA的组合或CPU与FPGA的组合)构成。并且，也可以由1个处理器构成多个处理部。作为由1个处理器构成多个处理部的例子，第1，如以用户端及服务器等计算机为代表那样，有如下方式：以1个以上的CPU与软件的组合构成1个处理器，且该处理器作为多个处理部发挥作用。第2，如以片上系统(System On Chip：SoC)等为代表，有如下方式：使用由1个IC(Integrated Circuit，集成电路)芯片来实现包括多个处理部的系统整体的功能的处理器。如此，各种处理部作为硬件结构使用上述各种处理器中的1个以上而构成。
另外，作为这些各种处理器的硬件结构，更具体而言，能够使用将半导体元件等电路元件组合而成的电路(circuitry)。
并且，在上述例示性实施方式中，对图像处理程序46预先存储(安装)于存储部44的方式进行了说明，但是并不限定于此。图像处理程序46也可以以记录于CD-ROM(CompactDisc Read Only Memory，光盘只读存储器)、DVD-ROM(Digital Versatile Disc ReadOnly Memory，数字通用盘只读存储器)及USB(Universal Serial Bus，通用串行总线)存储器等记录介质的方式提供。并且，图像处理程序46可以为经由网络从外部装置下载的方式。
2020年1月28日申请的日本专利申请2020-011774号的发明的全部内容通过参考援用于本说明书中。本说明书中所记载的所有文献、专利申请及技术标准与具体地且分别地记载通过参考而被并入的各个文献、专利申请及技术标准的情况相同程度地，通过参考并入本说明书中。

Claims (11)

1.一种信息处理方法，其包括：
曝光工序，经由设置于具有多个像素的图像显示装置与感光性记录介质的曝光面之间且限制从所述图像显示装置照射到所述感光性记录介质的光的角度的限制部件，将显示于所述图像显示装置的校正用图像曝光于所述感光性记录介质上；
获取工序，获取通过所述校正用图像的曝光而记录在所述感光性记录介质的作为记录图像的数据的记录图像数据；及
导出工序，基于所述记录图像数据，导出用于按所述图像显示装置的每个像素校正显示图像的每个像素的像素值的校正系数K，以使包括所述记录图像中所产生的不均匀与亮度为互补关系的不均匀的显示图像显示于所述图像显示装置，
在所述导出工序中，使用基于所述记录图像数据所导出的所述记录图像的每个像素的像素值Cr及所述记录图像的基准像素值Cs，导出所述校正系数K，
在所述导出工序中，当将预先规定的常数设为A的情况下，基于下述的(1)式，导出所述校正系数K，
K＝1-{(Cr/Cs)-1}×A……(1)。
2.根据权利要求1所述的信息处理方法，其中，
所述基准像素值Cs为所述记录图像的每个像素的像素值Cr的平均值。
3.根据权利要求1所述的信息处理方法，其中，
所述校正用图像包括位置对准用图案，
所述信息处理方法还包括修正工序，该修正工序基于所述位置对准用图案，修正所述记录图像数据，以使通过所述记录图像数据表示的所述记录图像的位置与所述校正用图像的位置一致，
在所述导出工序中，基于已修正的所述记录图像数据，导出所述校正系数K。
4.根据权利要求3所述的信息处理方法，其中，
在所述修正工序中，修正所述记录图像数据，以使通过所述记录图像数据表示的所述记录图像中所包括的所述位置对准用图案的重心坐标与所述校正用图像中所包括的所述位置对准用图案的重心坐标一致。
5.根据权利要求1所述的信息处理方法，其中，
在所述获取工序中，以所述图像显示装置的分辨率以上的分辨率获取所述记录图像数据。
6.根据权利要求1所述的信息处理方法，其还包括：
校正工序，使用所述校正系数K，对所述显示图像的每个像素的像素值Cb进行校正。
7.根据权利要求6所述的信息处理方法，其中，
在所述校正工序中，基于下述的(2)式，导出所述显示图像的校正后的像素值Ca，
Ca＝Cb×K……(2)。
8.根据权利要求1所述的信息处理方法，其中，
所述校正用图像为单色的图像。
9.根据权利要求3所述的信息处理方法，其中，
所述校正用图像为灰度50％的图像，该灰度50％的图像包括4个由一边为5像素且黑色的正方形构成的标记，作为所述位置对准用图案。
10.根据权利要求1所述的信息处理方法，其中，
所述常数A为0.5以上且1.0以下。
11.根据权利要求5所述的信息处理方法，其中，
在所述获取工序中，在以所述图像显示装置的分辨率以上的分辨率，获取所述记录图像数据之后，
在所述导出工序中，基于使所述记录图像数据的分辨率与所述图像显示装置的分辨率一致的所述记录图像数据，导出所述校正系数K。
CN202180010359.5A 2020-01-28 2021-01-19 信息处理方法 Active CN115004106B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020011774 2020-01-28
JP2020-011774 2020-01-28
PCT/JP2021/001732 WO2021153356A1 (ja) 2020-01-28 2021-01-19 情報処理方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN115004106A CN115004106A (zh) 2022-09-02
CN115004106B true CN115004106B (zh) 2024-04-05

Family

ID=77078547

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202180010359.5A Active CN115004106B (zh) 2020-01-28 2021-01-19 信息处理方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20220357681A1 (zh)
EP (1) EP4099097A4 (zh)
JP (1) JP7321296B2 (zh)
CN (1) CN115004106B (zh)
WO (1) WO2021153356A1 (zh)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102043281A (zh) * 2009-10-13 2011-05-04 Nec液晶技术株式会社 图像形成设备
JP2011164609A (ja) * 2010-02-12 2011-08-25 Toshiba Corp 画像形成装置および画像濃度補正方法
JP2012085360A (ja) * 2012-01-17 2012-04-26 Fujifilm Corp 画像処理方法、装置及びプログラム並びに撮像装置
JP2019041204A (ja) * 2017-08-24 2019-03-14 王子ホールディングス株式会社 基準画像データ生成方法、印刷物の検査方法、及び基準画像データ生成システム
WO2019187751A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 富士フイルム株式会社 画像露光装置、画像露光方法、及びプログラム

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11282092A (ja) * 1998-01-27 1999-10-15 Noritsu Koki Co Ltd 写真焼付装置
JP4841389B2 (ja) * 2006-10-16 2011-12-21 株式会社リコー 画像形成装置
JP5882953B2 (ja) * 2013-06-26 2016-03-09 キヤノン株式会社 画像形成装置及び濃度検知装置及び濃度検知方法
US9126396B2 (en) 2013-11-21 2015-09-08 Pacific Opal LLC Instant film printer for light emitting display screen incorporating optical collimation layer
JP7020206B2 (ja) 2018-03-15 2022-02-16 株式会社リコー 画像形成装置および画像形成方法
JP7344677B2 (ja) 2018-07-10 2023-09-14 株式会社レゾナック・パッケージング コップ状容器およびコップ状容器用積層体

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102043281A (zh) * 2009-10-13 2011-05-04 Nec液晶技术株式会社 图像形成设备
JP2011164609A (ja) * 2010-02-12 2011-08-25 Toshiba Corp 画像形成装置および画像濃度補正方法
JP2012085360A (ja) * 2012-01-17 2012-04-26 Fujifilm Corp 画像処理方法、装置及びプログラム並びに撮像装置
JP2019041204A (ja) * 2017-08-24 2019-03-14 王子ホールディングス株式会社 基準画像データ生成方法、印刷物の検査方法、及び基準画像データ生成システム
WO2019187751A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 富士フイルム株式会社 画像露光装置、画像露光方法、及びプログラム

Also Published As

Publication number Publication date
EP4099097A1 (en) 2022-12-07
JPWO2021153356A1 (zh) 2021-08-05
EP4099097A4 (en) 2023-07-19
JP7321296B2 (ja) 2023-08-04
US20220357681A1 (en) 2022-11-10
CN115004106A (zh) 2022-09-02
WO2021153356A1 (ja) 2021-08-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11361412B2 (en) Image exposure device, image exposure method, and program
CN111899308A (zh) 3d打印机的光学标定方法及3d打印机的光学标定系统
CN111108439B (zh) 图像曝光装置及图像曝光方法
CN115004106B (zh) 信息处理方法
JP6700402B2 (ja) 指紋認証用センサモジュールおよび指紋認証装置
JP3993444B2 (ja) Ｎｄフィルタの製造方法
CN110579901B (zh) 彩膜基板及其制造方法、显示装置
JP7097787B2 (ja) 撮像装置および撮像方法
CN111295622B (zh) 图像曝光装置
JP6770164B2 (ja) 撮像装置
JP2019202449A (ja) 画像形成装置
JP2007279026A (ja) 基板検査装置とこれを用いた基板検査方法
CN114424094B (zh) 图像曝光装置、图像曝光方法及计算机可读存储介质
US20230185179A1 (en) Image exposure device, image exposure method, and program
CN111263916A (zh) 图像曝光装置及图像曝光方法
TWI817976B (zh) 光罩
US20220286586A1 (en) Imaging device and electronic device
JP2000155377A (ja) 写真焼付装置
CN115053179A (zh) 图像曝光装置、图像曝光方法及程序
JPH1073892A (ja) 写真プリンタおよび写真プリンタの照度改良方法
US20150163466A1 (en) Imaging apparatus
JP2002055396A (ja) 画像焼付装置およびこれを備えた写真処理装置
JPH0784207A (ja) 発光素子アレイ装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant