CN114728845A

CN114728845A - 玻璃体

Info

Publication number: CN114728845A
Application number: CN202080078995.7A
Authority: CN
Inventors: 稻冈大介; 中泽达洋
Original assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date: 2019-11-15
Filing date: 2020-11-16
Publication date: 2022-07-08
Also published as: EP4059707A1; US20220396989A1; EP4059707A4; WO2021095885A1; JPWO2021095885A1

Abstract

本发明所涉及的玻璃体具有：具有第一面和第二面的第一玻璃板；和具有形成于上述第一玻璃板的上述第一面和第二面的至少一个面的至少一部分的第一Low－E膜的第一膜区域，上述第一膜区域具有电波透过性。

Description

玻璃体

技术领域

本发明涉及玻璃体。

背景技术

近年来，作为车辆或建筑物的窗玻璃，提出了形成有透过可见光并且反射红外线的Low－E膜(低辐射膜)的玻璃体。目的在于通过使用这样的玻璃体，提高窗玻璃的隔热性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第3732349号公报

发明内容

发明所要解决的课题

但是，如上所述的玻璃体存在电波的透过性低、例如手机信号等的电波的收发会变得困难这样的问题。本发明是为了解决该问题而提出的，目的在于提供一种具有低辐射膜并且具有电波透过性的玻璃体。

用于解决课题的方法

项1.一种玻璃体，其具有：

具有第一面和第二面的第一玻璃板；和

具有形成于上述第一玻璃板的上述第一面和第二面的至少一个面的至少一部分的第一Low－E膜的第一膜区域，

上述第一膜区域具有电波透过性。

项2.如项1所述的玻璃体，其中，

上述第一膜区域具有包含由多个间隙分隔的不连续的多个岛的上述第一Low－E膜。

项3.如项2所述的玻璃体，其中，

上述第一Low－E膜具有叠层于上述第一玻璃板的第一面的基底层和叠层于上述基底层的遮蔽层，

在上述间隙叠层有叠层于上述第一玻璃板的第一面的上述基底层，露出该基底层。

项4.如项2所述的玻璃体，其中，

在上述间隙中，露出上述第一玻璃板的第一面。

项5.如项2～4中任一项所述的玻璃体，其中，

由上述间隙分隔的上述第一Low－E膜的岛的最大尺寸为100μm～5mm。

项6.如项2或5所述的玻璃体，其中，

上述间隙的宽度为1～100μm。

项7.如项1～6中任一项所述的玻璃体，其中，

在上述第一玻璃板中，还具有形成于上述第一膜区域所形成的面、具有第二Low－E膜、不具有电波透过性的第二膜区域。

项8.如项7所述的玻璃体，其中，

上述第二膜区域以包围上述第一膜区域的方式形成。

项9.如项7或8所述的多层玻璃面板，其中，

上述第二Low－E膜以与上述第一Low－E膜相同的材料形成，为没有间隙的连续状态。

项10.如项1～9中任一项所述的玻璃体，其还具有：

具有第一面和第二面的第二玻璃板；和

配置于上述第一玻璃板和第二玻璃板之间、在上述两玻璃板之间形成空隙层的间隔件，

上述第一玻璃板的第二面和上述第二玻璃板的第一面以隔着上述空隙层相向的方式配置。

项11.如项10所述的玻璃体，其中，

上述第二玻璃板的上述第二面具有配置天线的天线区域。

项12.如项11所述的玻璃体，其中，

从与上述第一玻璃板和上述第二玻璃板垂直的方向看时，上述天线区域形成为与对应于上述第一膜区域的区域相同的大小或者形成为比该对应的区域小。

项13.如项11所述的玻璃体，其中，

从与上述第一玻璃板和上述第二玻璃板垂直的方向看时，上述天线区域形成为与对应于上述第一膜区域的区域相同的大小或者至少一个边较该对应的区域的边缘部进入内侧。

项14.如项13所述的玻璃体，其中，

上述天线区域的上述至少一个边的10mm以上较上述对应的区域的边缘部进入内侧10mm以上。

项15.如项10～14中任一项所述的玻璃体，其中，

上述第一膜区域形成为大于一个边为33mm的矩形。

项16.如项10～15中任一项所述的玻璃体，其中，

在上述第一玻璃板的第二面形成有上述第一膜区域。

项17.如项10～15中任一项所述的玻璃体，其中，

在上述第二玻璃板的第一面形成有上述第一膜区域。

项18.如项1～17中任一项所述的玻璃体，其中，

上述第一Low－E膜含有透明导电性氧化物。

项19.如项18所述的玻璃体，其中，

上述透明导电性氧化物的膜厚为50～1000nm。

项20.如项1～17中任一项所述的玻璃体，其中，

上述第一Low－E膜含有以银为主成分的遮蔽层。

项21.如项20所述的玻璃体，其中，

上述遮蔽层的膜厚在5～20nm之间。

项22.如项1～21中任一项所述的玻璃体，其中，

上述第一Low－E膜的以银为主成分的遮蔽层叠层有2层。

发明的效果

采用本发明所涉及的玻璃体，具有低辐射膜，并且具有电波透过性。

附图说明

图1是表示将本发明所涉及的玻璃体应用于多层玻璃面板的一例的截面图。

图2是图1的A－A线向视图。

图3是第一膜区域的平面图。

图4是表示玻璃体的其它例子的截面图。

图5是表示玻璃体的其它例子的截面图。

图6A是表示对应区域与天线区域的位置关系的平面图。

图6B是表示对应区域与天线区域的位置关系的平面图。

图6C是表示对应区域与天线区域的位置关系的平面图。

图7是表示拍摄装置的图。

图8是表示实施例6～8的第一膜区域的照片。

图9A是实施例6的间隙的宽度方向的截面图。

图9B是实施例6的间隙的长度方向的截面图。

图10A是实施例8的间隙的宽度方向的截面图。

图10B是实施例8的间隙的长度方向的截面图。

图11A是表示通过开口的电波的模拟结果的图。

图11B是表示通过开口的电波的模拟结果的图。

图12A是表示通过开口的电波的模拟结果的图。

图12B是表示通过开口的电波的模拟结果的图。

图13A是表示通过开口的电波的模拟结果的图。

图13B是表示通过开口的电波的模拟结果的图。

图14A是表示通过开口的电波的模拟结果的图。

图14B是表示通过开口的电波的模拟结果的图。

具体实施方式

以下，对于将本发明所涉及的玻璃体应用于多层玻璃面板的一个实施方式，边参照附图边进行说明。图1是该多层玻璃面板的截面图，图2是图1的A－A线向视图。该多层玻璃面板能够用于各种用途，例如，能够作为建筑物的窗玻璃、汽车、飞行器、船舶、列车等的交通工具的窗玻璃等。另外，虽然省略了图示，在隔着该多层玻璃的屋内(车内)侧，可以配置电波接收用的各种天线(省略图示)。此外，也能够将天线安装于多层玻璃的屋内(车内)侧的面。

＜1.多层玻璃面板的概要＞

如图1所示，本实施方式所涉及的多层玻璃面板具有基本具有相同矩形的外形的2块玻璃板，即具有第一玻璃板1和第二玻璃板2，通过配置于这些玻璃板1、2的边缘部的间隔件5相互连结。利用该间隔件5，在2块玻璃板1、2之间形成空隙层3。另外，在第一玻璃板1中，在朝向空隙层3侧的面形成有具有第一Low－E膜的第一膜区域41和具有第二Low－E膜的第二膜区域42。此外，在多层玻璃面板的室内侧的面设置收发电波用的天线时，可以在成为天线的设置位置的部位形成第一膜区域41，但是其位置没有特别限定。另外，虽然省略了图示，利用配置于比间隔件5靠外侧的密封材料，空隙层3被封闭。以下，对各部件进行说明。

＜2.第一玻璃板＞

第一玻璃板1具有第一面11和第二面12，以第二面12朝向空隙层3侧的方式配置。并且，该第二面12如上所述，形成有第一膜区域41和第二膜区域42。另外，第一玻璃板1的材料没有特别限定，能够使用公知的玻璃板。例如，能够使用热线吸收玻璃、透明玻璃、绿玻璃、UV绿玻璃、钠钙玻璃等各种玻璃板。第一玻璃板的厚度没有特别限定，例如，优选为2～15mm，更加优选为2.5～8mm。

＜3.第二玻璃板＞

第二玻璃板2具有第一面21和第二面22，以第一面21朝向空隙层3侧的方式配置。构成第二玻璃板2的材料和厚度能够与第一玻璃板1相同。此外，第一玻璃板1和第二玻璃板2的厚度可以相同，也可以不同。

＜4.Low－E膜(低辐射膜)＞

＜4－1.Low－E膜的概要＞

如图2所示，第一膜区域41形成为矩形状，形成于第一玻璃板1的右上。具体而言，与第一玻璃板1的上边和侧边隔开间隔配置。并且，第二膜区域42在第一玻璃板1的第二面12中形成于形成有第一膜区域41的区域以外的区域。

第一膜区域膜41的大小没有特别限定，例如，能够形成为上下方向的长度为50～500mm、水平方向的长度为50～500mm。通过部分应用第一膜区域，能够控制膜形成成本，并且，能够抑制隔热、绝热性的降低。另外，从第一玻璃板1的上边至第一膜区域41的长度例如能够形成为10～150mm，从第一玻璃板1的侧边至第一膜区域41的长度例如能够形成为10～150mm。由此，能够使从天线发出的电波容易到达室内全部区域，并且天线配线的设置变得容易。

＜4－2.第二膜区域＞

接着，对第二膜区域42的构成进行说明。第二膜区域42的构成没有特别限定，能够应用公知的Low－E膜。

第二膜区域42由第二Low－E膜形成。第二Low－E膜例如为包含遮蔽电波的遮蔽层的连续的膜。该膜例如具有从第一玻璃板1的第二面12侧起依次叠层有电介质层/遮蔽层/牺牲层/电介质层的结构。换而言之，该Low－E膜具有包含遮蔽层、在遮蔽层的与上述主平面侧相反侧的面与该遮蔽层接触配置的牺牲层、夹持遮蔽层和牺牲层的一对电介质层的第一叠层结构。另外，该Low－E膜可以包含2个以上的遮蔽层，由此，能够将多层玻璃面板的U值(热贯流率)设计得更小。此时，第二Low－E膜42例如可以具有从第一玻璃板1的第二面12侧起依次叠层有电介质层/遮蔽层/牺牲层/电介质层/遮蔽层/牺牲层/电介质层。即，第二Low－E膜可以具有2以上的遮蔽层的第一叠层结构，此时，能够使夹持于牺牲层和遮蔽层之间的电介质层为2个第一叠层结构共有。

此外，位于各遮蔽层的正下方(第一玻璃板侧)的电介质层有时作为基底层发挥功能，隔着牺牲层叠层于遮蔽层的电介质层有时作为防反射层发挥功能。

电介质层、遮蔽层和牺牲层的各层可以为由1种材料构成的1个层，也可以为由相同不同的材料构成的2个以上的层的叠层体。

在第一叠层结构中，夹持遮蔽层和牺牲层的一对电介质层可以由相同的材料构成，也可以由相互不同的材料构成。

在将该遮蔽层的数量设为n时，夹持该遮蔽层的电介质层的数量成为n+1以上，因此，通常包含遮蔽层的第二Low－E膜由2n+1或其以上的数量的层构成。

遮蔽层例如能够为含有银的金属层。以下，将含有银的金属层称为Ag层。Ag层可以是以Ag为主成分的层，也可以是由Ag构成的层。在本说明书中，“主成分”是指该层中含有率最大的成分，其含有率通常为50重量％以上，依次更优选为70重量％以上、80重量％以上、90重量％以上。遮蔽层中，也可以代替Ag而使用在Ag中掺杂有钯、金、铟、锌、锡、铝和铜等的金属的材料。

另外，遮蔽层例如能够为透明导电性氧化物。特别是也能够为作为透明导电性氧化物是以氟掺杂氧化锡(SnO2：F)为主成分的层。

第二Low－E膜包含至少1层遮蔽层，该遮蔽层为金属层时，遮蔽层的每一层的厚度例如优选为5～20nm。遮蔽层的厚度小于5nm时，无法保证遮蔽层的连续性，可能无法得到充分的低辐射性能。另一方面，超过20nm时，例如，作为建筑用玻璃，遮蔽层的颜色显眼，担心无法得到所期望的外观。

牺牲层例如是以选自钛、锌、镍、铬、锌/铝合金、铌、不锈钢、它们的合金和它们的氧化物中的至少1种为主成分的层。牺牲层的厚度例如0.1～5nm，优选为0.5～3nm。

电介质层例如为以氧化物或氮化物为主成分的层，这样的电介质层的更具体的例子为以选自硅、铝、锌、锡、钛、铟和铌的各种氧化物以及各种氮化物中的至少1种为主成分的层。另外，在设置多个遮蔽层时，第2层(远离于第一玻璃板1一侧)的遮蔽层的正下方的作为基底层的电介质层优选以氧化锌为主成分。电介质层的厚度例如8～120nm，优选为15～85nm。

遮蔽层、牺牲层和电介质层的形成方法不受限定，能够利用公知的薄膜形成方法。例如，能够通过溅射法形成这些层。即，包含遮蔽层的第二Low－E膜例如能够溅射法形成。由氧化物或氮化物构成的电介质层例如能够利用作为溅射法的一种的反应性溅射形成。牺牲层是为了在遮蔽层上通过反应性溅射形成电介质层所必需的层(在反应性溅射时通过自身发生氧化而防止遮蔽层氧化的层)，牺牲层的名称是本领域技术人员所周知的。

第二Low－E膜的另外一例是包含透明导电性氧化物层的叠层膜。该膜例如具有从第一玻璃板1的第二面12侧起依次叠层有基底层/透明导电性氧化物层的第二叠层结构。换而言之，该Low－E膜具有包含透明导电性氧化物层和夹持透明导电性氧化物层的基底层的第二叠层结构。该第二Low－E膜可以包含2层以上的透明导电性氧化物层。

基底层、透明导电性氧化物层的各层可以为由1种材料构成的1个层，也可以为由相同不同的材料构成的2个以上的层的叠层体。

基底层例如能够形成为以选自锌和锡的各种氧化物中的至少1种为主成分的层或者以选自硅、铝的各种氧化物、氮化物、氧氮化物中的至少1种为主成分的层。基底层抑制玻璃板所含的钠离子等的碱金属离子向透明导电性氧化物层移动，由此抑制该氧化物层的功能的降低。基底层的厚度例如为5～80nm，优选为10～50nm。基底层可以由折射率相互不同的2个以上的层构成，此时，通过调整各层的厚度，能够使第二Low－E膜的反射色接近中性色。由2个以上的层、例如2个层构成的基底层优选从玻璃板的主平面侧起依次形成有以氧化锡或氧化钛为主成分的第一基底层、和以氧化硅或氧化铝为主成分的第二基底层。

透明导电性氧化物层例如是以选自氧化铟锡(ITO)、氧化锌铝、锑掺杂氧化锡(SnO：Sb)和氟掺杂氧化锡(SnO₂：F)中的至少1种为主成分的层。透明导电性氧化物层的厚度例如为100～500nm，优选为120～350nm。

第二叠层结构的具体的一例中，透明导电性氧化物层包含厚度120nm以上的氟掺杂氧化锡层，不定型层包含厚度15～70nm的二氧化硅层。厚度120nm以上的氟掺杂氧化锡层有助于使第二Low－E膜的辐射率ε成为一定的值以下。厚度15nm以上70nm以下的二氧化硅层能够抑制从室内空间侧和室外空间侧看时的多层玻璃面板的反射色的变动、特别是红色化。

基底层、透明导电性氧化物层和不定型层的形成方法不受限定，能够利用公知的薄膜形成方法。例如，能够通过CVD法形成这些层。即，包含透明导电性氧化物层的第二Low－E膜例如能够通过CVD法形成。利用CVD法形成薄膜时能够通过玻璃板的制造工序、作为更具体的例子为利用浮法制造玻璃板的工序中通过“线内方式”实施。

＜4－3.第一膜区域＞

接着，对第一膜区域41进行说明。第一膜区域41在与第二膜区域42同样为低辐射膜但是在还具有电波透过性的方面不同。因此，能够使便携电话的频率域(约700MHz～约28GHz)的电波透过。例如，能够使3.6～28GHz的频率即所谓5G(第5代移动体通信)用的电波透过。

如图3所示，第一膜区域41与第二膜区域42不同，由以间隙411分隔的多个岛412形成，各岛412由第一Low－E膜形成。即，第一膜区域41中，第一Low－E膜形成为具有间隙的不连续状态。

第一Low－E膜能够从上述的构成第二Low－E膜的材料之中选择。此时，可以以相同的材料形成第一Low－E膜和第二Low－E膜，也可以以不同的材料形成。

岛412的形状没有特别限定，能够形成为圆形、矩形、多边形状、异形形状等各种形状。岛412的最大外形例如优选为100μm～5mm，更加优选为200μm～1mm，特别优选为500～900μm。该最大外形超过5mm时，担心第一Low－E膜中的电波透过性降低，故而不优选。另外，5G的sub 6频段(约3.6～约6GHz)和毫米波(28GHz频段)的两方，变得难以确保电波透过性。另一方面，最大外形小于100μm时，有时担心无法得到用于发挥第一Low－E膜的绝热性的充分的低辐射率，故而不优选。此外，最大外形是指岛412的边缘的2点之中离得最远的2点间的距离。

间隙411的宽度例如优选设为1～100μm、更优选设为5～50μm、更加优选设为8～30μm、特别优选设为10～20μm。间隙411的宽度超过100μm时，有时担心降低第一膜区域41中的隔热、绝热性，故而不优选。另一方面，间隙411的宽度为1μm以上时，变得容易形成第一膜区域41中的遮蔽层的不连续状态，故而优选。

间隙411的形成方法没有特别限定，例如，能够形成如第二膜区域42那样连续的Low－E膜之后，利用激光除去Low－E膜的一部分而形成间隙411。此外，能够使用掩模进行部分蚀刻，由此形成间隙411。

间隙411可以为从岛412之间露出第一玻璃板1的区域，也可以为在第一Low－E膜中至少除去遮蔽层的区域。除去了遮蔽层的区域例如是指仅上述的基底层叠层于第一玻璃板1的区域，该基底层从岛412之间向外部露出。通过这样由基底层形成间隙，变得不易视认间隙411与岛412之间外观上的不同。

特别是，为了使得不易视认间隙411与岛412之间的外观上的不同，优选将露出的基底层或第一玻璃板1的表面粗糙度Rmax设为50nm以下、更优选设为30nm以下、特别优选设为10nm以下。此外，表面粗糙度Rmax能够以在从基底层或第一玻璃板1的表面的剖面曲线仅除去基准长度的部分从最高的山至最低的谷的距离来定义。

第一膜区域41的大小没有特别限定，例如，优选大于1边为33mm的矩形，更优选大于1边为100mm的矩形。第一膜区域41小于该大小时，特别是在5G的电波时，无法确保电波的直线传播性，担心随着电波前进而发散从而变弱。

＜5.空隙层＞

空隙层3是通过在第一玻璃板1和第二玻璃板2之间配置间隔件5而形成于两玻璃板1、2之间。间隔件5能够利用公知的部件，能够配置于两玻璃板1、2的边缘。另外，作为优选的间隔件，例如，能够使用在间隔件内部的空间保持有干燥剂的部件。由此，能够长期保持空隙层3的气体的干燥状态。另外，能够在比间隔件5更外侧配置密封材料(图示省略)，使空隙层3气密。空隙层3例如能够设为4～16mm，更优选设为6～16mm。空隙层3中，除了干燥空气之外也能够填充氩气、氪气这样的不活泼气体。

＜6.天线＞

天线例如能够配置于朝向室内侧的面、即第二玻璃板2的第二面22。此时，配置天线的天线区域的位置没有特别限定，特别是用于5G的电波时例如能够如图4所示配置。图4的例子中，对两玻璃板1、2从与它们垂直的方向看时，在第二玻璃板2的第二面22中，能够在与第一膜区域41对应的区域6(以下，称为对应区域)中设定天线区域7。天线区域7可以与对应区域6为相同的大小。也可以小于对应区域6。例如，5G的电波的直线传播性高，因此，如上所述，在与第一膜区域41对应的区域6配置天线时，特别能够提高5G的电波的收发的灵敏度。

或者，如图5和图6A所示，也能够以天线区域7的至少一部分进入对应区域6的内部的方式形成。图5和图6A的例子中，天线区域7的下端仅比对应区域6的下端向内侧进入距离L。这是考虑到5G的电波的直线传播性，例如，设想了电波对玻璃体倾斜射入的情况。即，这是由于，如图5所示，直线传播性高的电波射入时，到达遍及距离对应区域6的端部距离L的区域的电波的强度变弱的缘故。该距离L例如优选设为10mm以上、更优选设为20mm以上、特别优选设为50mm以上。另外，仅进入该距离L的端部的长度S(图6A参照)例如能够设为10mm以上。

例如如图6B所示，天线区域7的一部分可以从对应区域6伸出。另外，如图6C所示，在天线区域7中与对应区域6仅分离距离L的端部可以为天线区域7的侧边。

＜7.特征＞

采用如上所述的多层玻璃面板，能够得到如下的效果。

(1)由于具有空隙层3和具有Low－E膜的第一和第二膜区域41、42，因此，能够实现高的绝热性能。

(2)第二膜区域42作为低辐射膜，红外线的反射率高，但是，例如，3.7GHz以上的频率的电波的透过率低。因此，例如，设置有第二膜区域42这样仅具有连续的Low－E膜的多层玻璃面板的建筑物等，难以进行5G的通信。相对于此，如本实施方式这样，设置第一膜区域41时，通过间隙411能够使如上所述的电波透过，因此，对于处于屋内(车内)侧，能够进行电波的收发。因此，例如，在多层玻璃面板的屋内(车内)侧的面中，在与第一膜区域41对应的位置设置天线时，能够提高电波的收发的性能。

(3)在第一膜区域41与第二膜区域42的边界形成有上述宽度窄的间隙411，因此，能够不易视认两者41、42的边界。

＜8.变形例＞

以上，对本发明的一个实施方式进行了说明，但是，本发明不限定于上述实施方式，只要不超出其要点，能够进行各种变更。

上述实施方式所涉及的多层玻璃面板中，第一和第二膜区域41、42形成于第一玻璃板1的第二面12，但是只要形成于第一玻璃板1的第一面11、第二面12、第二玻璃板2的第一面21、第二面22的至少1个面即可。

第一膜区域41的形状、尺寸、位置没有特别限定，例如，可以在玻璃板1的整个面形成第一膜区域41。即，能够不形成第二膜区域42而仅形成第一膜区域41。另外，可以在玻璃板的整个面不形成第一和第二膜区域41、42，也可以在一部分形成。

另外，在玻璃板1的2个面上形成Low－E膜41、42时，期望夹着玻璃板1在相对的部位分别形成Low－E膜41、42。由此，向室内的电波透过变得容易，电波透过率提高。

第一玻璃板1和第二玻璃板2的至少一个能够由公知的夹层玻璃构成。

上述实施方式中，例示了将本发明所涉及的玻璃体应用于多层玻璃面板的例子，也能够仅由第一玻璃板1和第一和第二膜区域41、42构成本发明的玻璃体。此外，此时，也能够仅形成第一膜区域41。

第一膜区域41的构成没有特别限定，只要通过具有Low－E膜而形成为低辐射膜并且具有电波透过性即可。

实施例

以下，对本发明的实施例进行说明。此外，本发明不限定于以下的实施例。

A.第一膜区域的研究

＜1.实施例1、2的准备＞

如下所述，形成具有玻璃板、和形成于其一个面的第一膜区域的实施例1、2所涉及的玻璃体。

(1)玻璃板：厚度为6mm的钠钙玻璃

(2)第一膜区域：将SnO₂、ZnO、Ag、ZnAl、ZnO、Ag、ZnAl、ZnO、SnO₂依次叠层于玻璃板上，形成纵向500mm、横向500mm的Low－E膜。内侧(玻璃板侧)的Ag的厚度为13nm、外侧的Ag的厚度为14nm。此后，利用激光除去该Low－E膜的一部分，例如，形成如图3所示的格子状的间隙。这样操作，形成第一膜区域。

作为激光，使用重复频率30kHz、波长1064nm、输出15W、操作速度500mm/sec的YAG激光。实施例1、2中，间隙的宽度和节距不同。即，实施例1中，将间隙的宽度设为80μm、间隙的节距设为1.0mm。即，以形成一个边为1.0mm的多个岛的方式设置。另一方面，实施例2中，将间隙的宽度设为30μm、间隙的节距设为0.3mm。即，以形成一个边为0.3mm的多个岛的方式设置。

＜2.实施例3～5的准备＞

如下所述，形成具有玻璃板、和形成于其一个面的第一膜区域的实施例3～5所涉及的玻璃体。

(1)玻璃板：厚度为6mm的钠钙玻璃

(2)第一膜区域：将SnO₂、ZnO、Ag、ZnAl、ZnO、SnO₂依次叠层于玻璃板上，形成Low－E膜。Ag的厚度设为10nm。此后，利用激光，除去该Low－E膜的一部分，例如，形成如图3所示的格子状的间隙。这样操作，形成第一膜区域。

作为实施例3～5的激光加工条件，以YAG：Nd激光以重复频率100kHz、波长355nm、操作速度300mm/sec进行了加工。实施例3～5中，间隙的宽度设为10μm，改变间隙的节距。即，实施例3中，将间隙的宽度设为10μm，以形成一个边为0.9mm的多个岛的方式设置。实施例4中，将间隙的宽度设为10μm，以形成一个边为0.5mm的多个岛的方式设置。实施例5中，将间隙的宽度设为10μm，以形成一个边为0.2mm的多个岛的方式设置。

＜3.比较例1～3的准备＞

比较例1～3中所使用的玻璃板与实施例1、2相同。比较例1中，在该玻璃板上形成具有与实施例1、2尺寸和材料相同的Low－E膜的第二膜区域。即，形成有不形成间隙的连续的膜的第二Low－E膜。比较例2中，在玻璃板上形成具有与实施例3～5尺寸和材料相同的Low－E膜的第二膜区域。即，形成有不形成间隙的连续的膜的第二Low－E膜。比较例3中，设为仅具有玻璃板的玻璃体。

＜4.评价试验＞

对于上述实施例1～5和比较例，进行以下的评价试验。

(1)可见光透过率

使用分光光度计(日立制U4100)测定透过光谱，根据JIS－R3106，算出可见光透过率。

(2)辐射率

使用傅里叶变换红外分光光度计(Perkin Elmer制Frontier Gold)，根据JIS－R3106进行了测定。此外，实施例1、2的第一Low－E膜的光学特性设为包含岛和间隙的射入光照射范围的平均值。

(3)热贯流率

根据测得的光热特性的结果，计算上述图1的多层玻璃面板中的热贯流率。即，将图1的多层玻璃面板的第一玻璃板和Low－E膜替换为实施例1、2和比较例的玻璃体。此时，第一玻璃板和第二玻璃板的厚度设为6mm、空隙层的厚度设为12mm、第一玻璃板设为室外侧。另外，Low－E膜形成于第一玻璃板的空隙层侧，在空隙层设为空气的条件下算出。

(4)电波透过特性

测定实施例1、2和比较例的玻璃体的电波透过特性，以以下的条件评价与没有Low－E膜的玻璃板相比的输送损失(dB)。即，将没有Low－E膜的玻璃板的输送损失设为0dB进行了比较。

·频带：3.7GHz

·玻璃板的设置角度：与地面垂直形成90度。

·玻璃与发送天线的距离：50mm

·玻璃与接收天线的距离：50mm

·除去了收发的直接波以外的反射波。

结果如下所示。

[表1]

如上述表1所示，可知，比较例1、2形成了没有间隙的第二膜区域，因此，电波输送损失高，信号的收发困难。另一方面，可知实施例1～5中电波输送损失低，便携电话等的信号(例如，5G的频带域)的收发比较容易。

另外，实施例1、2与比较例1、或实施例3～5与比较例2相比，可见光透过率基本没有差别，作为例如窗玻璃是良好的。实施例1、2的辐射率高于比较例1但是热贯流率之差小。另外，实施例3～5的辐射率也高于比较例2但是热贯流率之差小，与没有形成LowE膜的比较例3相比，热贯流率低。因此，可知，例如使用如实施例1～5这样在整个面形成有第一膜区域的多层玻璃面板，也能够得到充分的绝热性能。

B.间隙的研究

＜1.实施例6～8的准备＞

如下所述制作实施例6～8的玻璃体。首先，作为玻璃板，准备厚度为6mm的钠钙玻璃。接着，作为第一膜区域，将SnO₂、ZnO、Ag、ZnAl、ZnO、SnO₂依次叠层于玻璃板上，形成厚度为约80nm、纵向150mm、横向300mm的Low－E膜。叠层于玻璃板上的SnO₂、ZnO相当于基底层。此后，利用激光，除去该Low－E膜的一部分，形成间隙。此外，作为激光，使用重复频率100kHz、波长355nm、操作速度300mm/sec的YAG激光。

实施例6中将间隙的宽度设为10μm，实施例7、8中将间隙的宽度设为18μm。其中，实施例6、7中，利用激光以残留基底层的方式除去Low－E膜的各层(距Low－E膜的表面除去约45～55nm)。即，使得基底层露出外部。另一方面，实施例8中，完全除去Low－E膜，进一步除去玻璃板的一部分。

＜2.评价＞

使用图7所示的拍摄装置，对实施例6～8的间隙进行拍摄。图7的装置中，在上部形成有开口，内部在空洞的箱之上将第一膜区域朝向配置玻璃体。接着，在玻璃体的上面配置拍摄箱。在拍摄箱，在距离玻璃体30cm上方配置像机，接着从玻璃体的斜上方的2处利用灯(日立制作所制27W荧光灯PARALITE FLAT FML27EX－N(日光色))照射光。作为拍摄条件，设为F值3.5、快门速度1/10秒、ISO灵敏度100。结果如图8所示。

图8所示的照片中，在横向延伸的白线为间隙，黑色为Low－E膜。作为间隙残留有基底层的实施例6、7的间隙不显眼，特别是间隙的宽度小时不显眼。另一方面，可知除去了玻璃板的一部分的实施例8的间隙稍显眼。

另外，利用原子间力显微镜(AFM)对实施例6、8观察了间隙。图9A是实施例6的间隙的宽度方向的截面图、图9B是实施例6的间隙的长度方向的截面图、图10A是实施例8的间隙的宽度方向的截面图、图10B是实施例8的间隙的长度方向的截面图。如图9A所示，实施例6中，形成大致平坦的间隙的底面。另外，测定图9B所示的间隙的长度方向的基底层的凹凸的高低差，结果为19～27nm。间隙为这样的特征时，如上所述那样不显眼，因此，可知，例如，根据基底层的凹凸的高低差，优选表面粗糙度Rmax为50nm以下。该例子中，由于间隙的底面大致平坦，因此可以认为射入的光的散射量变少，间隙不易显眼。

另一方面，如图10A所示，实施例8中，除去玻璃的一部分，图10B是间隙中沿除去了玻璃的表面的断面。测定了图10所示的间隙的长度方向的基底层的凹凸的高低差，结果为126～153nm。可知，间隙为这样的特征时，如上所述变得显眼。该例子中，由于间隙的底面构成为被切削成玻璃板朝下突出，因此，可以认为由于该底面的凸部，光的散射量变大，间隙容易变得显眼。

C.天线区域的位置的研究

使用100mm×100mm的具有能够通过电波的开口的遮蔽板进行了模拟。该开口假定为第一膜区域。如上所述，第一膜区域具有由间隙分隔的第一Low－E膜，但本发明的发明人认为，与间隙的数量等无关，能够将第一膜区域整体作为电波通过的区域进行评价，因此，这里，将能够通过电波的开口假定为第一膜区域进行了模拟。这一点在后述的研究D中也相同。对于该遮蔽板，进行了照射30GHz和10GHz的电波的模拟。另外，将相对于遮蔽板的电波的照射角度设为90°、60°、30°。该模拟利用电磁场模拟器Micro－Stripes2进行。图11A是表示将30GHz的电波以90°照射的电波的分布的图、图11B是表示将10GHz的电波以90°照射的电波的分布的图。图12A是表示将30GHz的电波以60°照射的电波的分布的图、图12B是表示将10GHz的电波以60°照射的电波的分布的图。图13A是表示将30GHz的电波以30°照射的电波的分布的图、图13B是表示将10GHz的电波以30照射的电波的分布的图。这些图中，电波在箭头的方向进行照射。另外，被点线包围的区域表示强的电波的分布、或弱的电波的分布。

根据图11～图13可知，电波通过开口后在箭头的方向直线前进。特别是，可知，频率高的30GHz的电波与频率低的10GHz的电波相比，直线传播性高。可知频率低的10GHz的电波通过开口后稍稍变宽。

另外，30GHz的电波的直线传播性高，因此，例如，如图12A和图13A所示，使电波倾斜照射时，在通过开口后的三角形的区域M中，电波基本无法到达。

根据以上内容可知，特别是对于5G的电波，天线区域如图4～图6所示，优选设置于与第一膜区域的位置。另外，在电波倾斜射入时，产生如上述的区域M那样的电波的强度弱的区域，因此，例如，如图5和图6所示，优选天线区域根据电波的朝向对对应区域设置距离L。

图12A中，表示区域M的一个边为24mm，这是作为一例假定为总厚度为24mm(第一玻璃板：9mm、空隙层：6mm、第二玻璃板：9mm)的玻璃体。此时，显示在第二玻璃板的第二面中，从对应区域的端部至13.9mm的区域的电波的强度弱。另一方面，图13A中，表示区域M的一个边为30mm，这是作为一例假定总厚度为30mm(第一玻璃板：9mm、空隙层：12mm、第二玻璃板：9mm)的玻璃体。此时，显示在第二玻璃板的第二面中，从对应区域的端部至52mm的区域的电波的强度弱。

根据以上内容，根据图12A和图13A的结果，图5和图6中所示距离L优选为10mm以上、更优选为20mm以上、特别优选为50mm以上。

D.天线区域的大小的研究

与研究C同样进行了模拟。此时，进行了将开口的大小设为100mm×100mm的情况和设为33mm×33mm的情况的模拟。结果如图14所示。图14A为使用100mm×100mm的开口的模拟(频率为30GHz)的结果，图14B为使用33mm×33mm的开口的模拟的结果(频率为10GHz)。如这些图所示，可知，开口的大小较小时，通过开口后的电波变宽，无法保持直线传播性。因此，可知上述的第一膜区域的大小优选大于33mm×33mm的矩形。

符号说明

1 第一玻璃板

2 第二玻璃板

3 空隙层

41 第一膜区域

411 间隙

412 岛(第一Low－E膜)

42 第二膜区域。

Claims

1.一种玻璃体，其特征在于，具有：

具有第一面和第二面的第一玻璃板；和

具有形成于所述第一玻璃板的所述第一面和第二面的至少一个面的至少一部分的第一Low－E膜的第一膜区域，

所述第一膜区域具有电波透过性。

2.如权利要求1所述的玻璃体，其特征在于：

所述第一膜区域具有包含由多个间隙分隔的不连续的多个岛的所述第一Low－E膜。

3.如权利要求2所述的玻璃体，其特征在于：

所述第一Low－E膜具有叠层于所述第一玻璃板的第一面的基底层和叠层于所述基底层的遮蔽层，

在所述间隙叠层有叠层于所述第一玻璃板的第一面的所述基底层，露出该基底层。

4.如权利要求2所述的玻璃体，其特征在于：

在所述间隙中，露出所述第一玻璃板的第一面。

5.如权利要求2～4中任一项所述的玻璃体，其特征在于：

由所述间隙分隔的所述第一Low－E膜的岛的最大尺寸为100μm～5mm。

6.如权利要求2或5所述的玻璃体，其特征在于：

所述间隙的宽度为1～100μm。

7.如权利要求1～6中任一项所述的玻璃体，其特征在于：

在所述第一玻璃板中，还具有形成于所述第一膜区域所形成的面、具有第二Low－E膜、不具有电波透过性的第二膜区域。

8.如权利要求7所述的玻璃体，其特征在于：

所述第二膜区域以包围所述第一膜区域的方式形成。

9.如权利要求7或8所述的多层玻璃面板，其特征在于：

所述第二Low－E膜以与所述第一Low－E膜相同的材料形成，为没有间隙的连续状态。

10.如权利要求1～9中任一项所述的玻璃体，其特征在于，还具备：

具有第一面和第二面的第二玻璃板；和

配置于所述第一玻璃板和第二玻璃板之间、在所述两玻璃板之间形成空隙层的间隔件，

所述第一玻璃板的第二面和所述第二玻璃板的第一面以隔着所述空隙层相向的方式配置。

11.如权利要求10所述的玻璃体，其特征在于：

所述第二玻璃板的所述第二面具有配置天线的天线区域。

12.如权利要求11所述的玻璃体，其特征在于：

从与所述第一玻璃板和所述第二玻璃板垂直的方向看时，所述天线区域形成为与对应于所述第一膜区域的区域相同的大小或者形成为比该对应的区域小。

13.如权利要求11所述的玻璃体，其特征在于：

从与所述第一玻璃板和所述第二玻璃板垂直的方向看时，所述天线区域形成为与对应于所述第一膜区域的区域相同的大小或者至少一个边较该对应的区域的边缘部进入内侧。

14.如权利要求13所述的玻璃体，其特征在于：

所述天线区域的所述至少一个边的10mm以上较所述对应的区域的边缘部进入内侧10mm以上。

15.如权利要求10～14中任一项所述的玻璃体，其特征在于：

所述第一膜区域形成为大于一个边为33mm的矩形。

16.如权利要求10～15中任一项所述的玻璃体，其特征在于：

在所述第一玻璃板的第二面形成有所述第一膜区域。

17.如权利要求10～15中任一项所述的玻璃体，其特征在于：

在所述第二玻璃板的第一面形成有所述第一膜区域。

18.如权利要求1～17中任一项所述的玻璃体，其特征在于：

所述第一Low－E膜含有透明导电性氧化物。

19.如权利要求18所述的玻璃体，其特征在于：

所述透明导电性氧化物的膜厚为50～1000nm。

20.如权利要求1～17中任一项所述的玻璃体，其特征在于：

所述第一Low－E膜含有以银为主成分的遮蔽层。

21.如权利要求20所述的玻璃体，其特征在于：

所述遮蔽层的膜厚在5～20nm之间。

22.如权利要求1～21中任一项所述的玻璃体，其特征在于：

所述第一Low－E膜的以银为主成分的遮蔽层叠层有2层。