CN114589586A - 一种lcd靶材侧边的打磨处理方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种LCD靶材侧边的打磨处理方法，所述打磨处理方法包括：采用自动抛光装置对LCD靶材的侧边进行至少两次抛光打磨，所述自动抛光装置上可拆卸设置有砂带，所述自动抛光装置带动砂带旋转，所述砂带的磨料面贴近LCD靶材的侧边进行抛光打磨；在抛光打磨过程中，所述砂带的磨料粒度依次递减。根据其磨料粒度的不同进行多次抛光，由大粒径磨料的粗抛光处理过渡到中粒径磨料的细抛光处理，再到小粒径模块的精抛光处理，从而将LCD平面靶材侧边的异物、铜锈一级非靶材一体物质去除，提高了靶材抛光的周转率，保证了靶材侧边抛光后的平整性和粗糙度要求，降低了人工作业时间，减少了不良产品。
Description
技术领域
本发明属于靶材侧边打磨技术领域，涉及一种LCD靶材侧边的打磨处理方法。
背景技术
如今液晶显示(LCD)技术已经广泛应用到生活中，国内也有很多LCD产品的生产厂商。但是，生产使用的LCD靶材仍然需要进口，LCD靶材的自动化加工方法也掌握在他人手中，特别是LCD靶材的表面处理技术，人员加工进度缓慢，且品质难以得到稳定的保障。
目前LCD靶材的主面上的杂质、异物主要通过抛光机进行抛光去除，但是，LCD靶材的侧面的异物、氧化物、非靶材一体物质的去除，一般现有抛光方法使用手工砂纸或气动抛光机，砂纸抛光铜锈难去除，效率低，直接用砂纸或气动抛光机抛光，每枚产品在线加工时间3小时左右，且粗糙度不稳定，波动性大，导致品质不稳定，难以满足当前生产总量及品质需求。
CN111775030A公开了一种LCD平面靶材侧边抛光工艺，包括：将IPA液涂于百洁布上，对LCD平面靶材的侧边进行抛光。本发明通过IPA液涂在百洁布上，对靶材的侧边进行抛光，将LCD平面靶材侧边的异物、铜锈、非靶材一体物质去除，提高了靶材抛光的周转率，降低了人工作业时间，减少了不良产品，抛光后粗糙度稳定，使得一次性通过率提高。
CN113458048A公开了一种LCD靶材表面的清洗方法，所述清洁方法包括：使用第一洁净布对LCD靶材表面进行第一清洗；所述第一洁净布为浸泡第一清洁剂的洁净布；所述第一洁净布与第一清洁剂的比例为每块第一洁净布浸泡于10～15mL第一清洁剂。
CN113021166A公开了一种靶材侧边自动抛光装置及其使用方法，所述抛光装置包括打磨平台、打磨机器人、机器人地轨、电路控制柜以及工具平台；所述打磨平台有两个，平行设置于所述机器人地轨的两侧；所述电路控制柜位于两个打磨平台之间，且设置于所述机器人地轨的任意一端；所述工具平台设置于所述电路控制柜上；所述打磨机器人放置于所述机器人地轨上；所述打磨机器人包括主体与机械臂，所述机械臂的前端设置有夹孔，所述夹孔中连接有打磨头；所述打磨平台上放置有靶材。
综上所述，如何提供一种靶材侧边的自动抛光工艺代替人工作业，提高生产效率以及产品的合格率，成为当前亟待解决的问题。
发明内容
针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种LCD靶材侧边的打磨处理方法，通过选择不同磨料粒度(目数)的砂带，根据其磨料粒度的不同进行多次抛光，由大粒径磨料的粗抛光处理过渡到中粒径磨料的细抛光处理，再到小粒径模块的精抛光处理，从而将LCD平面靶材侧边的异物、铜锈一级非靶材一体物质去除，提高了靶材抛光的周转率，保证了靶材侧边抛光后的平整性和粗糙度要求，降低了人工作业时间，减少了不良产品，抛光后粗糙度稳定，使得一次性通过率最高提高到95％。
为达此目的，本发明采用以下技术方案：
本发明提供了一种LCD靶材侧边的打磨处理方法，所述打磨处理方法包括：
采用自动抛光装置对LCD靶材的侧边进行至少两次抛光打磨，所述自动抛光装置上可拆卸设置有砂带，所述自动抛光装置带动砂带旋转，所述砂带的磨料面贴近LCD靶材的侧边进行抛光打磨；在抛光打磨过程中，所述砂带的磨料粒度依次递减。
本发明提供的打磨处理方法主要针对LCD靶材的侧边进行抛光处理，通过选择不同磨料粒度(目数)的砂带，根据其磨料粒度的不同进行多次抛光，由大粒径磨料的粗抛光处理过渡到中粒径磨料的细抛光处理，再到小粒径模块的精抛光处理，从而将LCD平面靶材侧边的异物、铜锈一级非靶材一体物质去除，提高了靶材抛光的周转率，保证了靶材侧边抛光后的平整性和粗糙度要求，降低了人工作业时间，减少了不良产品，抛光后粗糙度稳定，使得一次性通过率最高提高到95％。
作为本发明一种优选的技术方案，在抛光打磨过程中，随着砂带磨料的粒度依次递减，所述砂带的转速依次增大。
优选地，最后一次抛光打磨后得到的LCD靶材的侧边的粗糙度为1～2μm，例如可以是1.0μm、1.1μm、1.2μm、1.3μm、1.4μm、1.5μm、1.6μm、1.7μm、1.8μm、1.9μm或2.0μm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述料带的宽度比LCD靶材的侧边宽度大1～5cm，例如可以是1cm、1.5cm、2cm、2.5cm、3cm、3.5cm、4cm、4.5cm或5cm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，每次抛光打磨结束后，将砂带的磨料面向LCD靶材的侧边推进一段距离。
优选地，所述砂带磨料面的推进距离依次减小。
优选地，在最后一次抛光打磨结束后，对LCD靶材侧边的打磨面依次进行擦拭和清洗。
作为本发明一种优选的技术方案，所述擦拭过程包括：
将自动抛光装置上安装的砂带替换为无纺布，无纺布紧贴抛光打磨后的LCD靶材侧边，自动抛光装置带动砂带旋转，对LCD靶材侧边进行擦拭。
优选地，所述清洗包括水洗和/或高压气喷吹。
优选地，所述水洗过程包括：采用流动水对LCD靶材侧边的打磨面进行持续冲洗。
优选地，所述水洗时间为5～10min，例如可以是5.0min、5.5min、6.0min、6.5min、7.0min、7.5min、8.0min、8.5min、9.0min、9.5min或10.0min，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述高压气的气压为0.5～1.5MPa，例如可以是0.5MPa、0.6MPa、0.7MPa、0.8MPa、0.9MPa、1.0MPa、1.1MPa、1.2MPa、1.3MPa、1.4MPa或1.5MPa，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明一种优选的技术方案，在抛光打磨过程中，所述LCD靶材水平移动，所述自动抛光装置设置于LCD靶材一端且固定不动，随着LCD靶材的移动，所述自动抛光装置由LCD靶材一端打磨至另一端。
优选地，在抛光打磨过程中，所述LCD靶材固定不动，所述自动抛光装置沿LCD靶材侧边水平移动，由LCD靶材一端移动至LCD靶材另一端。
优选地，在抛光打磨过程中，所述LCD靶材和自动抛光装置反向移动。
作为本发明一种优选的技术方案，所述砂带为环形结构，包括由内圈至外圈依次层叠的基材层、粘结层和磨料层。
优选地，所述粘结层包为胶黏剂和玻纤材料组成的复合层，所述玻纤材料的纤维附着胶黏剂后分别伸入基材层和磨料层，并与基材层和磨料层的材料交织缠绕。
优选地，所述磨料层采用的模块材料为陶瓷刚玉。
本发明对料带结构进行了重新设计，以提高其强度和耐冲击性。具体而言，砂带在基材层和磨料层之间增设了掺入玻纤材料的粘结层，玻纤材料的纤维丝通过延伸交织到基材层和磨料层内部，并与内部材料交织缠绕，从而提高了对冲击的抵御、及对冲击的均衡分散的能力。此外，所采用的胶黏剂为隔热胶黏剂，减缓了热量基体的传递，保护基材层的同时进一步提高基材层强度，延长砂带使用寿命，促使提高磨削质量。
作为本发明一种优选的技术方案，所述自动抛光装置包括至少两个砂轮和传动连接所述砂轮的驱动电机，所述驱动电机用于带动砂轮旋转，所述砂带绕于所述砂轮之间。
优选地，所述LCD靶材侧边与砂带的接触区域中，所述砂带的线速度方向与LCD靶材运动方向平行。
作为本发明一种优选的技术方案，采用自动抛光装置对LCD靶材的侧边进行三次抛光打磨，包括依次进行的一级打磨、二级打磨和三级打磨。
所述一级打磨过程采用的砂带磨料目数记为M1，砂带的转速记为V1，一级打磨结束后料带磨料面的推进距离记为L1。
所述一级打磨过程采用的砂带磨料目数记为M2，砂带的转速记为V2，二级打磨结束后料带磨料面的推进距离记为L2。
所述一级打磨过程采用的砂带磨料目数记为M3，砂带的转速记为V3。
M1、M2和M3之间满足：M1＜M2＜M3。
V1、V2和V3之间满足：V1＜V2＜V3。
L1和L2之间满足：L1＞L2。
作为本发明一种优选的技术方案，所述一级打磨过程中，所述砂带的磨料目数M1为300～400目，例如可以是300目、310目、320目、330目、340目、350目、360目、370目、380目、390目或400目，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述一级打磨过程中，所述砂带的转速V1为5～10m/min，例如可以是5m/min、5.5m/min、6m/min、6.5m/min、7m/min、7.5m/min、8m/min、8.5m/min、9m/min、9.5m/min或10m/min，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述一级打磨结束后，所述料带的磨料面向LCD靶材侧边的推进距离L1为0.5～1mm，例如可以是0.5mm、0.55mm、0.6mm、0.65mm、0.7mm、0.75mm、0.8mm、0.85mm、0.9mm、0.95mm或1mm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明一种优选的技术方案，所述二级打磨过程中，所述砂带的磨料目数M2为500～600目，例如可以是500目、510目、520目、530目、540目、550目、560目、570目、580目、590目或600目，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述二级打磨过程中，所述砂带的转速V2为12～15m/min，例如可以是12m/min、12.5m/min、13m/min、13.5m/min、14m/min、14.5m/min或15m/min，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述二级打磨结束后，所述自动抛光装置向LCD靶材侧边的推进距离L2为0.1～0.5mm，例如可以是0.1mm、0.15mm、0.2mm、0.25mm、0.3mm、0.35mm、0.4mm、0.45mm或0.5mm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明一种优选的技术方案，所述三级打磨过程中，所述砂带的磨料目数M3为700～800目，例如可以是700目、710目、720目、730目、740目、750目、760目、770目、780目、790目或800目，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述三级打磨过程中，所述砂带的转速V3为18～20m/min，例如可以是18m/min、18.2m/min、18.4m/min、18.6m/min、18.8m/min、19m/min、19.2m/min、19.4m/min、19.6m/min、19.8m/min或20m/min，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
示例性地，本发明提供了一种针对LCD靶材侧边的打磨处理方法，具体包括如下步骤：
(1)将磨料目数为300～400目的砂带安装于自动抛光装置的砂轮上，驱动电机驱动砂轮旋转从而带动砂带旋转，将砂带的转速调整至5～10m/min，并将砂带的磨料面贴近LCD靶材的侧边，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行一级打磨；
(2)一级打磨结束后，将300～400目的砂带替换为500～600目的砂带，随后移动自动抛光装置，将料带的磨料面向LCD靶材侧边推进0.5～1mm，并将砂带的转速调整至12～15m/min，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行二级打磨；
(3)二级打磨结束后，将500～600目的砂带替换为700～800目的砂带，随后移动自动抛光装置，将料带的磨料面向LCD靶材侧边推进0.1～0.5mm，并将砂带的转速调整至18～20m/min，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行三级打磨；
(4)三级打磨结束后，将自动抛光装置上安装的砂带替换为无纺布，无纺布紧贴抛光打磨后的LCD靶材侧边，自动抛光装置带动砂带旋转，自动抛光装置往复移动多次，对LCD靶材侧边进行反复擦拭；
(5)擦拭结束后，采用流动水对LCD靶材侧边的打磨面持续冲洗5～10min；或者采用0.5～1.5MPa的高压气对LCD靶材侧边的打磨面进行喷吹。
与现有技术相比，本发明的有益效果为：
本发明提供的打磨处理方法主要针对LCD靶材的侧边进行抛光处理，通过选择不同磨料粒度(目数)的砂带，根据其磨料粒度的不同进行多次抛光，由大粒径磨料的粗抛光处理过渡到中粒径磨料的细抛光处理，再到小粒径模块的精抛光处理，从而将LCD平面靶材侧边的异物、铜锈一级非靶材一体物质去除，提高了靶材抛光的周转率，保证了靶材侧边抛光后的平整性和粗糙度要求，降低了人工作业时间，减少了不良产品，抛光后粗糙度稳定，使得一次性通过率最高提高到95％。
附图说明
图1为本发明一个具体实施方式提供的打磨处理过程的工艺流程图。
具体实施方式
下面通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
实施例1
本实施例提供了一种LCD靶材侧边的打磨处理方法，所述打磨处理方法如图1所示，具体包括如下步骤：
(1)将磨料目数为300目的砂带安装于自动抛光装置的砂轮上，驱动电机驱动砂轮旋转从而带动砂带旋转，将砂带的转速调整至5m/min，并将砂带的磨料面贴近LCD靶材的侧边，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行一级打磨；
(2)一级打磨结束后，将300目的砂带替换为500目的砂带，随后移动自动抛光装置，将料带的磨料面向LCD靶材侧边推进0.5mm，并将砂带的转速调整至12m/min，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行二级打磨；
(3)二级打磨结束后，将500目的砂带替换为700目的砂带，随后移动自动抛光装置，将料带的磨料面向LCD靶材侧边推进0.1mm，并将砂带的转速调整至18m/min，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行三级打磨；
(4)三级打磨结束后，将自动抛光装置上安装的砂带替换为无纺布，无纺布紧贴抛光打磨后的LCD靶材侧边，自动抛光装置带动砂带旋转，自动抛光装置往复移动多次，对LCD靶材侧边进行反复擦拭；
(5)擦拭结束后，采用流动水对LCD靶材侧边的打磨面持续冲洗5min，最终经打磨抛光处理后的料带侧边的粗糙度为1.8μm。
实施例2
本实施例提供了一种LCD靶材侧边的打磨处理方法，所述打磨处理方法如图1所示，具体包括如下步骤：
(1)将磨料目数为320目的砂带安装于自动抛光装置的砂轮上，驱动电机驱动砂轮旋转从而带动砂带旋转，将砂带的转速调整至6m/min，并将砂带的磨料面贴近LCD靶材的侧边，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行一级打磨；
(2)一级打磨结束后，将320目的砂带替换为520目的砂带，随后移动自动抛光装置，将料带的磨料面向LCD靶材侧边推进0.6mm，并将砂带的转速调整至12.5m/min，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行二级打磨；
(3)二级打磨结束后，将520目的砂带替换为720目的砂带，随后移动自动抛光装置，将料带的磨料面向LCD靶材侧边推进0.2mm，并将砂带的转速调整至18.5m/min，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行三级打磨；
(4)三级打磨结束后，将自动抛光装置上安装的砂带替换为无纺布，无纺布紧贴抛光打磨后的LCD靶材侧边，自动抛光装置带动砂带旋转，自动抛光装置往复移动多次，对LCD靶材侧边进行反复擦拭；
(5)擦拭结束后，采用0.5MPa的高压气对LCD靶材侧边的打磨面进行喷吹，最终经打磨抛光处理后的料带侧边的粗糙度为1.5μm。
实施例3
本实施例提供了一种LCD靶材侧边的打磨处理方法，所述打磨处理方法如图1所示，具体包括如下步骤：
(1)将磨料目数为340目的砂带安装于自动抛光装置的砂轮上，驱动电机驱动砂轮旋转从而带动砂带旋转，将砂带的转速调整至7m/min，并将砂带的磨料面贴近LCD靶材的侧边，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行一级打磨；
(2)一级打磨结束后，将340目的砂带替换为540目的砂带，随后移动自动抛光装置，将料带的磨料面向LCD靶材侧边推进0.7mm，并将砂带的转速调整至13m/min，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行二级打磨；
(3)二级打磨结束后，将540目的砂带替换为740目的砂带，随后移动自动抛光装置，将料带的磨料面向LCD靶材侧边推进0.3mm，并将砂带的转速调整至18.8m/min，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行三级打磨；
(4)三级打磨结束后，将自动抛光装置上安装的砂带替换为无纺布，无纺布紧贴抛光打磨后的LCD靶材侧边，自动抛光装置带动砂带旋转，自动抛光装置往复移动多次，对LCD靶材侧边进行反复擦拭；
(5)擦拭结束后，采用流动水对LCD靶材侧边的打磨面持续冲洗10min，最终经打磨抛光处理后的料带侧边的粗糙度为1.4μm。
实施例4
本实施例提供了一种LCD靶材侧边的打磨处理方法，所述打磨处理方法如图1所示，具体包括如下步骤：
(1)将磨料目数为360目的砂带安装于自动抛光装置的砂轮上，驱动电机驱动砂轮旋转从而带动砂带旋转，将砂带的转速调整至8m/min，并将砂带的磨料面贴近LCD靶材的侧边，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行一级打磨；
(2)一级打磨结束后，将360目的砂带替换为560目的砂带，随后移动自动抛光装置，将料带的磨料面向LCD靶材侧边推进0.8mm，并将砂带的转速调整至13.5m/min，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行二级打磨；
(3)二级打磨结束后，将560目的砂带替换为760目的砂带，随后移动自动抛光装置，将料带的磨料面向LCD靶材侧边推进0.35mm，并将砂带的转速调整至19.2m/min，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行三级打磨；
(4)三级打磨结束后，将自动抛光装置上安装的砂带替换为无纺布，无纺布紧贴抛光打磨后的LCD靶材侧边，自动抛光装置带动砂带旋转，自动抛光装置往复移动多次，对LCD靶材侧边进行反复擦拭；
(5)擦拭结束后，采用1.5MPa的高压气对LCD靶材侧边的打磨面进行喷吹，最终经打磨抛光处理后的料带侧边的粗糙度为1.3μm。
实施例5
本实施例提供了一种LCD靶材侧边的打磨处理方法，所述打磨处理方法如图1所示，具体包括如下步骤：
(1)将磨料目数为380目的砂带安装于自动抛光装置的砂轮上，驱动电机驱动砂轮旋转从而带动砂带旋转，将砂带的转速调整至9m/min，并将砂带的磨料面贴近LCD靶材的侧边，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行一级打磨；
(2)一级打磨结束后，将380目的砂带替换为580目的砂带，随后移动自动抛光装置，将料带的磨料面向LCD靶材侧边推进0.9mm，并将砂带的转速调整至14m/min，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行二级打磨；
(3)二级打磨结束后，将580目的砂带替换为780目的砂带，随后移动自动抛光装置，将料带的磨料面向LCD靶材侧边推进0.4mm，并将砂带的转速调整至19.6m/min，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行三级打磨；
(4)三级打磨结束后，将自动抛光装置上安装的砂带替换为无纺布，无纺布紧贴抛光打磨后的LCD靶材侧边，自动抛光装置带动砂带旋转，自动抛光装置往复移动多次，对LCD靶材侧边进行反复擦拭；
(5)擦拭结束后，采用流动水对LCD靶材侧边的打磨面持续冲洗8min；随后，采用1MPa的高压气对LCD靶材侧边的打磨面进行喷吹，最终经打磨抛光处理后的料带侧边的粗糙度为1.3μm。
实施例6
本实施例提供了一种LCD靶材侧边的打磨处理方法，所述打磨处理方法如图1所示，具体包括如下步骤：
(1)将磨料目数为400目的砂带安装于自动抛光装置的砂轮上，驱动电机驱动砂轮旋转从而带动砂带旋转，将砂带的转速调整至10m/min，并将砂带的磨料面贴近LCD靶材的侧边，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行一级打磨；
(2)一级打磨结束后，将400目的砂带替换为600目的砂带，随后移动自动抛光装置，将料带的磨料面向LCD靶材侧边推进1mm，并将砂带的转速调整至15m/min，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行二级打磨；
(3)二级打磨结束后，将600目的砂带替换为800目的砂带，随后移动自动抛光装置，将料带的磨料面向LCD靶材侧边推进0.5mm，并将砂带的转速调整至20m/min，由LCD靶材的一端水平匀速移动至另一端，完成进行三级打磨；
(4)三级打磨结束后，将自动抛光装置上安装的砂带替换为无纺布，无纺布紧贴抛光打磨后的LCD靶材侧边，自动抛光装置带动砂带旋转，自动抛光装置往复移动多次，对LCD靶材侧边进行反复擦拭；
(5)擦拭结束后，采用流动水对LCD靶材侧边的打磨面持续冲洗9min；随后，采用0.8MPa的高压气对LCD靶材侧边的打磨面进行喷吹，最终经打磨抛光处理后的料带侧边的粗糙度为1.2μm。
申请人声明，以上所述仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，所属技术领域的技术人员应该明了，任何属于本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，均落在本发明的保护范围和公开范围之内。
Claims (10)
1.一种LCD靶材侧边的打磨处理方法，其特征在于，所述打磨处理方法包括：
采用自动抛光装置对LCD靶材的侧边进行至少两次抛光打磨，所述自动抛光装置上可拆卸设置有砂带，所述自动抛光装置带动砂带旋转，所述砂带的磨料面贴近LCD靶材的侧边进行抛光打磨；在抛光打磨过程中，所述砂带的磨料粒度依次递减。
2.根据权利要求1所述的打磨处理方法，其特征在于，在抛光打磨过程中，随着砂带磨料的粒度依次递减，所述砂带的转速依次增大；
优选地，最后一次抛光打磨后得到的LCD靶材的侧边的粗糙度为1～2μm；
优选地，所述料带的宽度比LCD靶材的侧边宽度大1～10cm；
优选地，每次抛光打磨结束后，将砂带的磨料面向LCD靶材的侧边推进一段距离；
优选地，所述砂带磨料面的推进距离依次减小；
优选地，在最后一次抛光打磨结束后，对LCD靶材侧边的打磨面依次进行擦拭和清洗。
3.根据权利要求2所述的打磨处理方法，其特征在于，所述擦拭过程包括：
将自动抛光装置上安装的砂带替换为无纺布，无纺布紧贴抛光打磨后的LCD靶材侧边，自动抛光装置带动砂带旋转，对LCD靶材侧边进行擦拭；
优选地，所述清洗包括水洗和/或高压气喷吹；
优选地，所述水洗过程包括：采用流动水对LCD靶材侧边的打磨面进行持续冲洗；
优选地，所述水洗时间为5～10min；
优选地，所述高压气的气压为0.5～1.5MPa。
4.根据权利要求1-3任一项所述的打磨处理方法，其特征在于，在抛光打磨过程中，所述LCD靶材水平移动，所述自动抛光装置设置于LCD靶材一端且固定不动，随着LCD靶材的移动，所述自动抛光装置由LCD靶材一端打磨至另一端；
优选地，在抛光打磨过程中，所述LCD靶材固定不动，所述自动抛光装置沿LCD靶材侧边水平移动，由LCD靶材一端移动至LCD靶材另一端；
优选地，在抛光打磨过程中，所述LCD靶材和自动抛光装置反向移动。
5.根据权利要求1-4任一项所述的打磨处理方法，其特征在于，所述砂带为环形结构，包括由内圈至外圈依次层叠的基材层、粘结层和磨料层；
优选地，所述粘结层包为胶黏剂和玻纤材料组成的复合层，所述玻纤材料的纤维附着胶黏剂后分别伸入基材层和磨料层，并与基材层和磨料层的材料交织缠绕；
优选地，所述磨料层采用的模块材料为陶瓷刚玉。
6.根据权利要求1-5任一项所述的打磨处理方法，其特征在于，所述自动抛光装置包括至少两个砂轮和传动连接所述砂轮的驱动电机，所述驱动电机用于带动砂轮旋转，所述砂带绕于所述砂轮之间；
优选地，所述LCD靶材侧边与砂带的接触区域中，所述砂带的线速度方向与LCD靶材运动方向平行。
7.根据权利要求1-6任一项所述的打磨处理方法，其特征在于，采用自动抛光装置对LCD靶材的侧边进行三次抛光打磨，包括依次进行的一级打磨、二级打磨和三级打磨；
所述一级打磨过程采用的砂带磨料目数记为M1，砂带的转速记为V1，一级打磨结束后料带磨料面的推进距离记为L1；
所述一级打磨过程采用的砂带磨料目数记为M2，砂带的转速记为V2，二级打磨结束后料带磨料面的推进距离记为L2；
所述一级打磨过程采用的砂带磨料目数记为M3，砂带的转速记为V3；
M1、M2和M3之间满足：M1＜M2＜M3；
V1、V2和V3之间满足：V1＜V2＜V3；
L1和L2之间满足：L1＞L2。
8.根据权利要求7所述的打磨处理方法，其特征在于，所述一级打磨过程中，所述砂带的磨料目数M1为300～400目；
优选地，所述一级打磨过程中，所述砂带的转速V1为5～10m/min；
优选地，所述一级打磨结束后，所述料带的磨料面向LCD靶材侧边的推进距离L1为0.5～1mm。
9.根据权利要求7或8所述的打磨处理方法，其特征在于，所述二级打磨过程中，所述砂带的磨料目数M2为500～600目；
优选地，所述二级打磨过程中，所述砂带的转速V2为12～15m/min；
优选地，所述二级打磨结束后，所述自动抛光装置向LCD靶材侧边的推进距离L2为0.1～0.5mm。
10.根据权利要求7-9任一项所述的打磨处理方法，其特征在于，所述三级打磨过程中，所述砂带的磨料目数M3为700～800目；
优选地，所述三级打磨过程中，所述砂带的转速V3为18～20m/min。
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