JPH02269553A - ポリッシング方法およびポリッシング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、シリコン等のウェハ、光学レンズ等の被研
磨物表面のポリッシング方法に関する。

（従来の技術） 主としてシリコンを材料とする半導体のＩＣ基盤を製造
する場合には、通常、単結晶シリコンのインゴットをダ
イアモンドブレードを用いてスライスしてウェハを形成
し、該ウェハを研磨してその表面を平面精度の高い鏡面
に仕上げている。このようにして形成されたウェハは、
その表面をポリッシングして鏡面に仕上げられる。該ウ
ェハのポリッシングには、大別して次の３つの工程に分
けることが出来る。

第１に、ダイアモンドブレードによりスライスされたウ
ェハの反りやブレード条痕等を除去してウェハを基本的
に均一な厚さの平盤とするラッピング工程。

第２に、ラッピング後程に於いてウェハ表面に成る深さ
まで生じた加工変質層を除去するためにこの変質層を酸
またはアルカリで侵食するエツチング工程。

第３に、エツチングによる加工変質層（ラッピング後の
ストック層と称せられる）を除去して、純シリコン層が
ミクロな傷や曇りがなく完全な鏡面でしかもＩＣ回路の
焼付に必要かつ充分の平面性に仕上げるポリッシング工
程。

上記のポリッシング工程では、一般に回転平盤式のポリ
ッシング装置が使用されている。該ポリッシング装置は
、例えば第４図（ａ）および（ｂ）に示すように、大型
の回転平盤６１にポリッシングパット６３を貼付けると
ともに、該回転平盤６１と対向配設された複数のキャリ
ヤー円盤６２の下面にそれぞれ複数のウェハ６４を装着
しておき、各キャリヤー円盤６２を重錘６５その他の手
段によりポリッシングパッド６３に圧接する。そして、
ポリッシングパッド６３とウェハ６４との間に砥液を通
流させながら、回転平盤６１を公転させるつつキャリヤ
ー円盤６２を自転させることにより、各キャリヤー円盤
６２に保持されたウェハ６４はポリッシングされる。

（発明が解決しようとする課題） このような、従来のポリッシング装置では、数多くの欠
点が存在する。

第１に、回転平盤６１に貼付けたポリッシングパッド６
３は被研磨物である各ウェハ６４の研磨面全体に対向し
ているために、各ウェハ６４を高精度にポリッシングす
るためには、回転平盤６１とキャリヤー円盤６２下面と
が高精度に平面化されていなければならない。また、ポ
リッシング時には、ウェハの温度が上昇するために、ウ
ェハに歪みが生じるおそれがある。このような歪を補正
するために、回転平盤６１およびキャリヤー円盤６２を
冷却するための冷却水通路をそれぞれの内部に設ける等
の複雑な構造が必要となり、しかも、ポリッシング時に
は温度コントロールしなければならない。ポリッシング
パッド６３は、回転平盤６１に貼付けても直ちに使用で
きず、通常ダイアモンド工具などにより厚みを均等化し
たり、あるいはかなりの長時間にわたって予めポリッシ
ングパッド６１を研磨するいわゆる共摺りを施す必要が
ある。キャリヤー円盤６２へのウェハ６４の取り付けに
、細心の注意が必要になるという問題もある。

第２に、第４図に示すように回転平盤６１の公転時には
、その外周部と内周部とでは周速度は本質的に異なるた
め、各ウェハ６４が取り付けられたキャリヤー円盤６２
を自転させないと、ポリッシングパッドに対する各ウェ
ハ６４の摺動運動量が等しくならない。このために回転
平盤６１の公転に対して一 キャリヤー円盤６２を自転させることにより、各ウェハ
６４の回転方向および回転速度を調整して、各ウェハ６
４のポリッシングパッド６３に対する摺動運動量の均一
化を図っている。しかし、キャリヤー円盤６２に取付ら
れた各ウェハ６４がキャリヤー円盤６２の外周部に位置
する場合と内周部に位置する場合とでも、ポリッシング
バッド６３に対する各ウェハ６４の摺動運動量が不均一
になり、各ウェハ６４のポリッシング精度を均一化する
ことは不可能である。このように、各ウェハ６４のポリ
ッシング精度が不均一であれば、ポリッシングパッド６
３ニハ、研削屑による目詰まりや摩耗が、その径方向に
不均一に生じてしまう。ポリッシングバッド６３の径方
向の目詰まりや摩耗の不均一は、各ウェハ６４のポリッ
シング精度に差が生じる原因となり、そのポリッシング
精度の差は、ポリッシングを繰返すにつれて大きくなる
ために、各ウェハ６４は高精度にポリッシングできなく
なる。

第３に、従来のポリッシング装置は４〜６個のキャリヤ
ー円盤６２を備え、各キャリヤー円盤６２に３〜７枚の
ウェハ６４が装着されるために、１回のポリッシング作
業が終了すると、少なくとも４〜６個のキャリヤー円盤
６２を交換しなければならない。このように、従来のポ
リッシング装置では、ポリッシング作業が継続的に行わ
れるバッチ作業となって、連続的にポリッシング作業を
行えず、作業効率が悪いという問題がある。また、前述
したように、ポリッシングバッド６３はその径方向位置
によるポリッシング能力が不均一になることは、該ポリ
ッシングバッド６３とウェハ６４との相対摺動運動量の
不均一に起因する目詰まり状態が不均一に発生すること
が主たる原因である。このため、ポリッシングされたウ
ェハ６４に平面不良が生じる以前にポリッシング作業を
中断し、回転平盤６１に貼着したポリッシングバッド６
３を洗いながらスクイーズして研磨層（主として削り取
られたポリッシング後のストック）を除去するドレッシ
ング作業を行わねばならない。

第４に、従来のポリッシング装置では回転平盤６１に貼
着されたポリッシングバッド６３に、多数のウェハ６４
が同時に摺動するために、ポリッシングバッド６３とそ
れぞれのウェハ６４との間に砥液を均一に供給すること
が容易ではなく、しかも砥液の供給に特別の配慮をする
ことが困難である。通常は、回転平盤６１の中心付近に
砥液を流下させて、遠心力とキャリヤー円盤６２の回転
により、砥液をウェハ６４とポリッシングバッド６３と
の間へ自然に流しており、また、両者の間隙からの排出
も遠心力により行われている。このように、遠心力によ
りウェハ６４とポリッシングバッド６３との間に砥液を
介在させるためには、砥液の流量を大きくする必要があ
るが、このように流量が大きくなれば、大部分はポリッ
シング作用を行なうことなく無為に回転平盤６１上を通
流することになる。この場合でも、砥液はウェハ６４の
全面に亘って均一に通流しない。ウェハ６４の中心付近
において、砥液の供給および排出を良好に行わせるため
に、ポリッシングバッド６３に溝等を設けて該溝内に砥
液を通流させる試みも為されているが、ポリッシング作
用が阻害される等の不都合があり、必ずしも良好な結果
は得られていない。

第５に、ポリッシング速度が遅いという問題がある。従
来の回転平盤式のポリッシング装置では、ウェハの寸法
が大きくなるに連れて回転平盤６１も大きくなる。例え
ば、通常、回転平盤６１の外径は４８〜５２インチ程度
であり、５〜６個のキャリヤー円盤６２が設けられてい
る。そして、各キャリヤー円盤６２に６インチウェハを
５〜７枚装着するようになっている。このような大型の
ポリッシング装置では、回転速度を大きくすることは難
しく、回転平盤６１は、通常、キャリヤー円盤６２中心
位置において、６０〜１００　ｍ／分程度の低周速とな
るようにされており、ポリッシング作業としてはかなり
低い速度である。従って、ポリッシュ作業はきわめて低
能率であり、ストックリムーバル（エツチングされた加
工変質層を磨き去る）と称する粗ポリッシング工程にお
いても、０．５〜１．０μｍ／分の速度であるため、通
常、２０〜３０分を要する。

第６に、作業装置の大型化が困難である。前述のように
６インチウェハ用のポリッシング装置でも、作業やメン
テナンス性の限界に近づいているが、さらに近い将来、
８インチウェハが使用される環境となれば、ポリッシン
グ装置の大型化は深刻な問題となる。そこで、１枚のウ
ェハ毎にポリッシングする単葉型或は少枚数型のポリッ
シング装置の開発が行われているが、いずれの装置もウ
ェハを回転させるために、前述した第２の問題点である
ウェハが径方向で均一にポリッシングされないという基
本的な欠点がある。

例えば、特開昭６２−１６２４６７号公報には、ウェハ
をチャックに取り付けて回転させて、布又は帯等よりな
るポリッシングロールを回転接触させ、加工面にポリッ
シング液を供給しつつポリッシングを行なうことが開示
されている。該装置は、ポリッシングの最終工程である
、いわゆる仕上げポリッシュにのみ適用され、また、ポ
リッシングローラー自体を布、帯等よりなるものとした
いわゆるバフロール的作用を示すものである。しがも、
ウェハがポリッシングローラーに接して回転する構成で
あるため、前述したように、ウェハの内周部と外周部と
によりポリッシング精度に差が生じるという問題がある
。

特公昭８１−１６５８６号公報、特開昭６２−１６２４
６６号公報には、帯状のベルトを用いた研磨方法が開示
されている。しかし、いずれの方法も、被研磨物を回転
させつつ研磨しているため、やはり、同様の問題が生じ
る。

本発明はこれら上記従来の問題を解決するものであり、
その目的は、ウェハを全体にわたって高精度にポリッシ
ングし得るために、ポリッシング精度が著しく向上し、
しかも、ポリッシング作業効率を著しく向上させるポリ
ッシング方法およびポリッシング装置を提供することに
ある。

（課題を解決するための手段） 本発明のポリッシング方法は、被研磨物の研磨すべき面
が平面状になっており、該研磨すべき面にポリッシング
ベルトを対向させて、該被研磨物とポリッシングヘルド
との間に砥液を通流させつつ両者を相対的に直線移動さ
せる際に、該ポリッシングベルトにその背面から圧力流
体により圧力＝１２ を付与することを特徴としてなり、そのことにより上記
目的が達成される。

本発明のポリッシング装置は、被研磨物の研磨すべき平
面状の面に適当な間隔をあけて対向配設された平板状の
圧力盤と、該圧力盤と被研磨物の研磨すべき面との間に
介装されて被研磨物とは相対的に直線方向へ移動し得る
ポリッシングベルトと、該ポリッシングベルトと被研磨
物との間に砥液を介装させる手段と、該ポリッシングベ
ルｉ・と圧力盤との間に圧力流体による流体膜を介在さ
せる流体膜介在手段と、を具備してなり、そのことによ
り上記目的が達成される。

前記流体膜介在手段は、圧力盤のポリッシングベルト対
向面に開設されて該ポリッシングベルトに向けて流体を
吐出させる吐出孔を有する。

前記ポリッシングベルトは、無端状であって周回移動し
得るように複数のブーりに巻掛けられている。

前記ポリッシングベルトの周回移動域には、洗浄液槽が
配設されており、該洗浄液槽内の内部に収容された洗浄
液に該ポリッシングベルトが浸漬される。

前記洗浄液槽には、ポリッシングベルトに転接ｌ、て、
該ポリッシングベルト表面を清掃するスクラバロールが
配設されている。

前記洗浄液槽には、ポリッシングベルト表面に転接し該
ポリッシングベルト表面を研削して再生する再生ロール
が配設されている。

前記ポリッシングベルトは有端状であり、その各端部が
それぞれ巻取りリールに巻回されて両巻取りリール間に
て往復移動可能である。

前記ポリッシングベルトの周回移動域には、洗浄液槽が
配設されており、該洗浄液槽内の内部に収容された洗浄
液に該ポリッシングベルトが浸漬される。

前記洗浄液槽には、ポリッシングベルト表面に転接し該
ポリッシングベルト表面を研削して再生する再生ロール
が配設されている。

（実施例） 以下に本発明を実施例について説明する。

本発明のポリッシング装置は、第１図に示すように、被
研磨物であるウェハ１４を下面に保持する平板状のキャ
リヤー１３を有する。該キャリヤー１３は水平状に配設
されており、該キャリヤー１３の下方には平板状の圧力
盤１２が、適当な間隔をあけて水平状に配設されている
。該圧力盤１２の各側方には、それぞれプーリ１７およ
び１８が、該圧力盤１２を挟むように、水平状に配設さ
れている。一方のプーリ１２の下方には、プーリ１９が
水平状に配設されている。該プーリ１９は、洗浄液が収
容された洗浄液槽２０内に位置しており、該洗浄液槽２
ｏ内の洗浄液に該プーリ１９の下部が浸漬されている。

上下方向に配設されたプーリ１８と１９との間であって
、圧力盤１２の下方側には、アイドルプーリ１６が配設
されており、これらの四つのプーリエフ、　１８．１９
．１６には、無端状のポリッシングベルト１１が巻掛け
られている。該ポリッシングベルト１１は、後述の砥液
を保持し得る材質により構成されている。該ポリッシン
グベルト１１は、洗浄液槽２ｏ内のプーリ１９から、ア
イドルプーリ１６により屈曲されて、プーリ１７により
周回移動方向を反転された後に、ウエノ＼１４が保持さ
れたキャリヤー１３と圧力盤１２との間を通過して、洗
浄液槽２０内の洗浄液に浸漬される。

洗浄液槽２０内には、キャリヤー１３と圧力盤１２との
間を通過したポリッシングベルト１１に転接して該ポリ
ッシングベルト１１表面を洗浄するブラシ性のスクラバ
ロール２１が配設されている。また、該洗浄液槽２０内
には、該洗浄液槽２０の洗浄液から退出するポリッシン
グベルト１１に転接して該ポリッシングベルト１１を研
削することにより再生する例えばゴム性の再生ロール２
２が配設されている。

キャリヤー１３と圧力盤１２との間を通過するポリッシ
ングベルト１１は、その表面（上面）がキャリヤー１３
の下面に保持されたウエノ１１４とは略接触状態になり
、その背面（下面）は、圧力盤１２とは略接触状態にな
っている。

キャリヤー１３と圧力盤１２との間に侵入するポリッシ
ングベルト１１には、ノズル部１５が対向して配設され
ている。該ノズル部１５には、砥液が通流されて、該砥
液が、キャリヤー１３と圧力盤１２との間に侵入するポ
リッシングベルト１１に向けて吐出される。該砥液は、
ポリッシングベルト１１とともにキャリヤー１３と圧ツ
Ｊ盤１２との間から流出する。

圧力盤１２のポリッシングベルト１１の移動域側である
表面には、第２図に示すように、多数の吐出孔１２ａが
適当な間隔をあけて開設されている。各吐出孔１２ａに
は、水、空気等の圧力流体が吐出され、該圧力流体によ
り、該圧力盤Ｊ２の上方を移動されるポリッシングベル
ト１１と該圧力盤１１との間に流体膜が形成される。そ
して、該流体膜によりポリッシングベルト１１が上方へ
押し上げられる。流体膜を形成する圧力流体は、該圧力
盤１２の端部に形成された溝部（図示せず）、あるいは
、該圧力盤１２の端部とポリッシングベルト１１との間
隙等から流出される。

このような構成のポリッシング装置によるシリコンウェ
ハ１４の研磨は次のように行われる。被研磨物であるウ
ェハ１４は、キャリヤー１３の下面に、研磨すべき面を
下方に向けて保持されて、各プーリ１６．１７．１８．
および１９に巻掛けられたポリッシングベルト１１が周
回移動される。このとき、ノズル部１５カラは、ポリッ
シングベルト１１とキャリヤー１３に保持されたウェハ
１４との間に砥液が吐出されるとともに、圧力盤１２の
各吐出孔１２ａから、例えば、水等の圧力流体が吐出さ
れる。

このような状態で、ポリッシングベルトＩＩがキャリヤ
ー１３と圧力盤１２との間に周回移動してくると、該ポ
リッシングベルト１１と圧力盤１２との間には、圧力盤
１２の各吐出孔１２ａから吐出される圧力流体の流体膜
が形成され、該流体膜により、ポリッシングベルト１１
がウェハ１４方向へ押し上げられる。

これにより、該ポリッシングベルト１１は、ノズル部１
５から吐出される砥液を介してキャリヤー１３に保持さ
れたウェハ１４に強く当接される。このように、ポリッ
シングベルト１１は、砥液をウェハ１４の研磨すべき面
金面に強く押し付けられた状態を保持しつつ、移動し、
この移動の間に該ウェハ１４が砥液により研磨される。

このとき、キャリヤー１３は、ポリッシングベルト１１
の周回移動方向と直交する方向に往復運動させることに
より、より一層効果的にウェハ１４をポリッシングする
ことができる。

本発明のポリッシング装置に使用される砥液は、アルカ
リ性のコロイダルシリカ水溶液、微細砥粒を懸濁させた
アルカリ性あるいは酸性の水溶液、これらにアミンを加
えたもの、等が使用される。

該砥液は、含有する遊離微細砥粒が機械的に作用するこ
とにより、かつその酸性あるいはアルカリ性の液やアミ
ンが化学的に作用することにより、ストックリムーバル
工程から仕上げポリッシング工程に至るポリッシング作
業を行う。該砥液および該砥液を用いたポリッシング方
法は、例えば、特開昭６１−３８９５４号公報に開示さ
れている。

ポリッシングベルト１１は、フェルトタイプポリッシン
グパッド材、ナツプタイプポリッシングバッド材等のよ
うに、砥液を保持し得る材質のものが使用される。また
、これらのパッド材の内部に、あるいは背面に、コード
状もしくは織布等のシート状の屈曲性抗張体により補強
してもよい。さらに、ポリッシングベルトとしては、ポ
リッシング面に織布を用い、該織布の背面に適当な暑さ
のエラストマー層を積層したポリッシングパッド材、プ
ラスチックやエラストマーの単体層あるいはそれらの複
合層であって、そのポリッシング面に砥液を保持するた
めの溝部や凹部が形成されたポリッシングパッド材を用
いてもよい。

ポリッシングベルト１１と圧力盤１２との間に形成され
る流体膜によるポリッシングベルト１１の押圧力は、ポ
リッシングに際してウェハ１４に加わる必要圧力により
設定され、例えば、シリコンウェハのポリッシングにお
けるストックリムーバルポリッシング工程では、３００
〜５００ｇ／　Ｃｍ　２、仕上げポリッシング工程では
、５０〜ｌｏｏｇ／ｃｍ２とされる。３００〜５００ｇ
／ａｍ２の圧力は、圧力流体として水等の液体を用いる
ことにより容易に得られる。また、５０〜１００ｇ／ｃ
ｍ２の圧力は空気等の気体を用いることにより容易に得
られる。

ポリッシングベルト１１は無端状である必要はなく、例
えば、第３図に示すように、ポリッシングベルト１１が
有端状であって、その各端部が巻取りリール３１及び３
６に巻回されている構成であってもよい。一方の巻取り
リール３１から繰り出されるポリッシングベルト１１は
、上下一対のアイドルプーリ３２および３３を介してブ
ー１月８に巻掛けられ、該プーリ１８からキャリヤー１
３と圧力盤１２との間を通過して、プーリ１７に巻掛け
られ、上下一対のアイドルプーリ３４および３５を介し
て巻取りリール３６に巻取られている。このような構成
の場合には、ポリッシングベルト交互に高速にて容易に
往復運動させることができる。

この場合にも、例えば、それぞれ対を成す各アイドルプ
ーリ３２および３３．３４および３５における下側のプ
ーリ３３．３４をそれぞれ洗浄液槽２０およびＺＯ内に
位置させ、各プーリ３３および３４の下部の周回域を通
過するポリッシングベルト１１を洗浄液に浸漬するよう
にしてもよい。各洗浄液槽２０には、スクラバロール２
１および再生ロール２２が配設されている。

次に、本発明装置によりシリコンウエノ＼のポリッシン
グ実験を行ったので、以下に詳述する。

（実験例１） 第１図に示す装置により、シリコンウエノ＼１４をポリ
、シンクした。該装置は、各プーリ１６〜１９がステン
レス製であり、直径が１００ｍｍ、軸方向長さが１８０
ｎｍである。これらのプーリに巻掛けられるポリッシン
グベルト１１は、周長１８００ｍｎ＋の無端シームレス
状に接合した幅１７５ｍ＋ｎ、厚さ３００μｍの二軸延
伸ポリエステルシートに、厚さ０．８順のフェルトタイ
プのポリッシングパッド材（ロゾール・ニッタ株式会社
製、商品名［”５ＵＢＡ−６００Ｊ　’）を耐屈曲性の
接着剤にて無端状に接着したものを用いた。

圧力盤１２は、セラミック製であり、その表面（上面）
は高精度に平面仕上げされている。該圧力盤１２の表面
は、１８０ｍ＋ｎ　Ｘ　１８０ｍｍの大きさであって、
ポリッシングベルト１１の背面から、正確に１０μｍだ
け下方に位置されている。該圧力盤１２の表面における
中央部１５０ｍｍ　Ｘ　１５０ｍｍの領域内に、直径１
０の吐出孔１２ａが、　１０ｍｍピッチに２５６個開設
されている。

各吐出孔１２ａは圧力盤１２内にてそれぞれが連通され
ている。各吐出孔１２ａからは、０．５ｋｇ　／　ｃｍ
　”の圧力で純水を吐出させた。該圧力盤１２と対向す
るキャリヤー１３は、セラミック製であり、該キャリヤ
ー１３に６インチのシリコンウェハ１４を保持させた。

圧力盤１２のポリッシングベルト１１走行方向下流側の
プーリ１７には、厚さ８睡の多孔質焼結体金属のスリー
ブを外嵌して、ポリッシングベルト１１とともに搬送さ
れる水が該プーリ１７とポリッシングベルト１１との間
に膜を作らないようにした。

このような装置において、ポリッシングベルト１１を走
行さぜるとともに、ノズル部１５からポリッシングスラ
リー（Ｎａｌｃｏ社製、コロイダルシリカ＃２３５０の
２０倍希釈液）を３０ｃｃ／分の流量で供給した。

このとき、キャリヤー１３をポリッシングベルト１１の
走行方向と直交する方向にストロークが２胴となるよう
に往復移動させて、シリコンウェハ１４をポリッシング
した。そして、このようなポリッシング時において、０
．７５μｍ／分の割合で切込み送り（圧力）を与えた。

ウェハの削り代は１５μｍであり、面粗度ＲｍａＸは２
０〜３０人、平面度はＴ　Ｔ　Ｖ　（Ｔｏｔａｌ　　Ｔ
ｈ１ｃｋｎｅｓｓ１／ａｒｉａｔｉｏｎ）で０．８μｍ
であった。

ポリッシングベルト１１は、洗浄液槽２０内の洗浄液と
スクラバロール２１により洗浄されるとともに、再生ロ
ール２２により研削されて再生されており、該ポリッシ
ングベルト１１は、２００枚のウェハをポリッシングす
ることができた。

（実験例２） 第３図に示す本発明装置によりシリコンウェハ１４をポ
リッシングした。該装置の各プーリは直径力１．　ＯＯ
ｍｍ　ｓ軸伸方向長さが１８０ｍｍのステンレス製であ
る。巻取りリール３１および３６の芯径は１５０揶、フ
ランジ径は４８０町である。ポリッシングベルト１１は
、厚さ１８０μｍの二軸延伸ポリエステルシートに２０
０μｍの厚さの軟質ポリウレタンナツプ層を直接積層し
て、幅１７５　ｍｍ　、長さ４２０ｍに形成したものを
用いた。各巻取りリール３１および３６をそれぞれ交互
に反対方向へ７０ｍ／分の速度で回転させて、ポリッシ
ングベルト１１を往復走行させた。

牛ヤリャ−１３には、実験例１て得られた粗ポリッシン
グ後のシリコンウェハ１４を保持した。そして、実験例
１にて用いたポリッシングスラリーと同様のポリッシン
グスラリーを、８０ｃｃ／分の流量で供給した。他方、
圧力盤１２の各吐出孔１２ａからは、０、１５ｋｚ　／
　ｃｍ　２の圧力の空気を吐出させて、仕上げポリッシ
ングを６分間にわたって行った。得られたウェハは、取
り代平均が０．５μｍであり、面粗度ＲｍａＸは、５Å
以下となり粗ポリッシング工程後に残っていたマイクロ
スクラッチ、ヘイズ等は完全に除去され、鏡面状の平面
が得られた。

（発明の効果） 本発明のポリッシング方法は、このように、被研磨物と
は相対的に直線方向に移動するポリッシングベルトの背
面から圧力流体により圧力を付与して、該ポリッシング
ベルトを被研磨物に砥液を介在せて抑圧するようにして
いるため、被研磨物の研磨すべき面全体を高精度でポリ
ッシングし得る。圧力流体は緩衝材として機能するため
、被研磨面全体に均一に圧力を付与することができ、ポ
リッシング精度は一層向上する。ポリッシングベルトは
、圧力流体膜により被研磨物に圧力を均一に加えている
ため、該ポリッシングベルトに緩衝作用を付与する必要
がなく、従って、ボ１ルソシング後の被研磨物のエツジ
にダレが生じるおそれがなく、ポリッシング精度は著し
く向上する。被研磨物がＩＣ用シリコンウェハの場合に
は、要求されるＴＴＶＩμｍ以下を容易に達成し得る。

本発明のポリッシング装置は、ポリッシングベルトと被
研磨物とが相対的に直線方向へ移動されるために、被研
磨物が均一にかつ高精度にポリ・ソシングされる。ポリ
ッシングベルトと被研磨物が直線方向に相対移動される
ため、被研磨物の大きさが変化した場合にも対応が容易
である。ポリッシングベルトと被研磨物との間隔が、ポ
リッシングベルトと圧力盤との間に介装される圧力流体
膜により変更し得るために、その制御か容易であり、粗
ポリッシング工程、仕上げポリッシング工程等への対応
が容易である。

しかも、従来頻繁に必要だった研磨布の洗浄、再生等の
メンテナンスをポリッシングベルトが作動している間に
行い得るため、連続的にポリツシング作業を行うことが
でき、ポリッシングベルｉ・の寿命までポリッシング作
業を中断する必要がない。

４、゛　　の８　なＵ 第１図は本発明のポリッシング装置の一例を示す概略構
成図、第２図はその要部の断面図、第３図は本発明ポリ
ッシング装置の他の実施例の概略構成図、第４図（ａ）
は、従来のポリッシング装置の側面図、第４図（ｂ）は
そのＢ−Ｂ線における断面図である。

１１・・・ポリッシングベルト、１２・・・圧力盤、１
２ａ・・・吐出孔、１３・・・キャリヤー、１４・・・
ウェハ、１５・・・ノズル部、１６、１７．１８．１９
・・・プーリ、２０・・・洗浄液槽、２１・・・スクラ
バロール、２２・・・再生ロール、３１．３６・・・巻
取リリール。

以上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、被研磨物の研磨すべき面が平面状になっており、該
   研磨すべき面にポリッシングベルトを対向させて、該被
   研磨物とポリッシングベルトとの間に砥液を通流させつ
   つ両者を相対的に直線移動させる際に、該ポリッシング
   ベルトにその背面から圧力流体により圧力を付与するこ
   とを特徴とするポリッシング方法。 ２、被研磨物の研磨すべき平面状の面に適当な間隔をあ
   けて対向配設された平板状の圧力盤と、該圧力盤と被研
   磨物の研磨すべき面との間に介装されて被研磨物とは相
   対的に直線方向へ移動し得るポリッシングベルトと、 該ポリッシングベルトと被研磨物との間に砥液を介装さ
   せる手段と、 該ポリッシングベルトと圧力盤との間に圧力流体による
   流体膜を介在させる流体膜介在手段と、を具備するポリ
   ッシング装置。 ３、前記流体膜介在手段は、圧力盤のポリッシングベル
   ト対向面に開設されて該ポリッシングベルトに向けて流
   体を吐出させる吐出孔を有する請求項２に記載のポリッ
   シング装置。 ４、前記ポリッシングベルトは、無端状であって周回移
   動し得るように複数のプーリに巻掛けられている請求項
   ２に記載のポリッシング装置。 ５、前記ポリッシングベルトの周回移動域には、洗浄液
   槽が配設されており、該洗浄液槽内の内部に収容された
   洗浄液に該ポリッシングベルトが浸漬される請求項４に
   記載のポリッシング装置。 ６、前記洗浄液槽には、ポリッシングベルトに転接して
   、該ポリッシングベルト表面を清掃するスクラバロール
   が配設されている請求項５に記載のポリッシング装置。 ７、前記洗浄液槽には、ポリッシングベルト表面に転接
   し該ポリッシングベルト表面を研削して再生する再生ロ
   ールが配設されている請求項５に記載のポリッシング装
   置。 ８、前記ポリッシングベルトは有端状であり、その各端
   部がそれぞれ巻取りリールに巻回されて両巻取りリール
   間にて往復移動可能である請求項２に記載のポリッシン
   グ装置。 ９、前記ポリッシングベルトの周回移動域には、洗浄液
   槽が配設されており、該洗浄液槽内の内部に収容された
   洗浄液に該ポリッシングベルトが浸漬される請求項８に
   記載のポリッシング装置。 １０、前記洗浄液槽には、ポリッシングベルト表面に転
   接し該ポリッシングベルト表面を研削して再生する再生
   ロールが配設されている請求項８に記載のポリッシング
   装置。