CN114561113A - 一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法 - Google Patents
一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114561113A CN114561113A CN202210228173.3A CN202210228173A CN114561113A CN 114561113 A CN114561113 A CN 114561113A CN 202210228173 A CN202210228173 A CN 202210228173A CN 114561113 A CN114561113 A CN 114561113A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- solution
- titanium oxide
- refractive index
- coating
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 54
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 50
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 47
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 42
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 33
- -1 titanium alkoxide Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 15
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 13
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims description 6
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 13
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 7
- 238000004401 flow injection analysis Methods 0.000 abstract description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 238000003892 spreading Methods 0.000 abstract description 2
- 230000007480 spreading Effects 0.000 abstract description 2
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 4
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 2
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 2
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D1/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/52—PV systems with concentrators
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
本发明公开了一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法,包括:S1将钛醇盐溶解在相对介电常数≤35的溶剂中,之后加入小分子胺类化合物构成混合溶液A;S2将去离子水与A中使用的相同溶剂混合均匀构成混合溶液B;S3将B溶液用恒流注射泵推入溶液A中形成透明混合溶液C;S4将光滑基底固定于旋涂仪上,用恒流注射泵向基底表面滴加溶液C,旋涂铺满整个基底表面;S5将旋涂之后的基底转移至加热炉中,进行梯度升温后恒温,冷却取出;即得氧化钛透明涂层;本发明方法可使涂层折射率>2.2,近乎达到氧化钛晶体的折射率水平;本方法操作简单,反应条件温和,可以大规模生产,在涂层材料领域,光学器件领域,功能膜材料领域都具有应用前景。
Description
技术领域
本发明属于新材料技术领域,具体涉及一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法。
背景技术
折射率(Refractive Index,n),光在真空中的传播速度与光在该介质中的传播速度之比,不同介质拥有各自不同的折射率。折射率是光学材料的一项重要指标,高折射率材料在光学镜片,传感器,激光器,发光器件,电池电极材料,各种减反射涂层和功能膜材料领域都有广泛的应用需求和应用前景。
氧化钛(TiO2)是一种理想的具有高度化学稳定性和高折射率的材料,因为其在可见和近红外领域具有高透明度和低吸收,常被用作光学薄膜涂层材料。溶胶-凝胶法容易在不同材料的基底上大面积批量制备涂层,是制备TiO2涂层的常用方法。目前使用的溶胶-凝胶法都是通过将螯合添加剂添加到体系中,以控制钛醇盐的水解缩合来制备无定型的TiO2溶胶来进行后续涂膜。如此形成的TiO2溶胶是交联度较高的疏松无定型结构,会导致以TiO2溶胶制备的涂层折射率较低(n<1.5),远远低于TiO2晶体的折射率(n=2.55)。并且螯合剂通常会为材料添加不希望有的特性,从而限制了对光学特性的总体控制。
实际上,在控制厚度和透明度的情况下,折射率大于2的涂层材料是很难制备的。中国专利CN101012107A通过精密调控溶胶凝胶法的反应步骤制备纯TiO2纳米晶薄膜,折射率为1.9。在镜片行业中,通常折射率大于1.6以上即为高折射率,中国专利CN107936829A制备了一种用于聚氨酯镜片表面的高折射率涂层液,基于二氧化锆和二氧化钛的混合,可制备出折射率为1.66的固化涂层;中国专利CN111440389A制备出的具有高折射率的光学镜片复合材料,折射率可以达到1.69。中国专利CN112143368A提出一种新型高折射率UV单体涂层的制备方法,涂层折射率最高可达到1.69。另外在一种典型的燃料敏化太阳能电池中(Advanced Energy Materials/Volume 4,Issue 4/1300978;Applied Surface Science/Volume 357,Part A/659-665),通过压印和TiCl4处理制备出嵌入的TiO2高折射率光栅薄膜,其折射率在600nm波长处可以达到2.02。这些距离锐钛矿型TiO2晶体2.55的折射率数值还有较大差距。
发明内容
为解决现有技术制备的TiO2类涂层材料不能达到TiO2晶体的折射率的问题,同时兼顾操作简单,易批量化生产的需求,提出了一种高折射率透明涂层的制备方法。
为达到上述目的,本发明的技术方案如下:
本发明的一个目的是提供一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法,包括以下步骤:
S1配置溶液A:将钛醇盐溶解在相对介电常数≤35的溶剂中,之后加入有机小分子胺类化合物搅拌混合;
S2配置溶液B:在去离子水中加入溶液A中使用的溶剂,搅拌混合;
S3配置溶液C:将溶液B通过恒流注射泵滴加进入溶液A中形成透明混合溶液C;
S4涂膜:将基底固定于旋涂仪上,用恒流注射泵向基底表面滴加溶液C,旋涂直至铺满整个基底表面;
S5煅烧:将步骤S4中涂膜之后的基底转移至加热炉中,进行梯度升温后恒温,然后冷却取出,得到高折射率氧化钛透明涂层。
进一步地,步骤S1中,所述相对介电常数≤35的溶剂与钛醇盐的体积比为10~50:1。
进一步地,步骤S1中,所述相对介电常数≤35的溶剂为甲醇、乙醇、乙二醇、丙三醇中的一种或多种。
进一步地,步骤S1中,所述钛醇盐与有机小分子胺类化合物的摩尔比为1:15~40。
进一步地,步骤S1中,所述的钛醇盐为钛酸四丁酯,钛酸四乙酯,钛酸四异丙酯,异丙醇钛中的一种或多种;优选地,所述的钛醇盐为钛酸四丁酯,钛酸四乙酯,钛酸四异丙酯,异丙醇钛中的一种。
进一步地,步骤S1中,所述有机小分子胺类化合物为三乙胺,三乙醇胺,二乙胺和乙醇胺中的一种或多种;优选地,所述有机小分子胺类化合物为三乙胺,三乙醇胺,二乙胺和乙醇胺中的一种。
进一步地,步骤S2中,所述去离子水与步骤S1中钛醇盐的摩尔比为20~50:1。
进一步地,步骤S2中,所述溶剂与去离子水的体积比为10~30:1。
进一步地,步骤S3中,所述B溶液加入A溶液的速度应在20μL/min~200μL/min。
进一步地,步骤S4中,所述溶液C滴加到固定于旋涂仪上基底上的速度为100μL/min~500μL/min,旋涂仪的转速为500rpm~2500rpm,旋涂的时间应在30s~180s。
进一步地,步骤S5中,所述恒温的温度为400℃~700℃,在空气氛围中进行,恒温的时间为30min~90min。
本发明的有益效果为:
本发明通过有机小分子胺类化合物在低介电常数溶剂中的封端作用来控制钛醇盐的水解过程,形成了流动性较高的致密TiO2前驱体,其紧密结构使其在后续高温转晶过程中得以保持TiO2晶体的折射率。本发明操作简单,反应条件温和,可以在不同的基底上旋涂涂层,设备成本低,制备的TiO2涂层不仅在可见光区域的折射率可以达到2.2以上,而且可以保证高透明度,拓展了其在光学器件领域的应用前景。
附图说明
图1是实施例1制备的TiO2透明涂层外观(左)和表面形貌SEM图(右);
图2是实施例1制备的TiO2透明涂层的拉曼图谱;
图3是实施例2制备的TiO2透明涂层外观(左)和表面形貌SEM图(右);
图4是实施例2制备的TiO2透明涂层的拉曼图谱;
图5是实施例3制备的TiO2透明涂层外观(左)和表面形貌SEM图(右);
图6是实施例3制备的TiO2透明涂层的拉曼图谱;
图7是对比例1制备的TiO2涂层外观(左)和表面形貌SEM图(右);
图8是对比例1制备的TiO2涂层的拉曼图谱。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式,进一步阐明本发明,应理解下述具体实施方式仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。
实施例1:
一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法,步骤如下:
S1配置溶液A:取钛酸四丁酯3ml,按溶剂与钛酸四丁酯的体积比为10:1加入定量乙醇作为溶剂,按照钛酸四丁酯与有机小分子胺类化合物的摩尔比为1:15加入定量三乙胺,于烧杯中搅拌混合。
S2配置溶液B:在另一烧杯中按照S1所述去离子水与钛酸四丁酯的摩尔比为20:1加入定量去离子水,再按乙醇与去离子水体积比为10:1加入定量的乙醇作为溶剂,搅拌混合。
S3配置溶液C:将混合溶液B通过恒流注射泵按50μL/min的速度注入溶液A中,继续搅拌混合。
S4涂膜:选取石英玻璃片为基底,固定于旋涂仪上,用恒流注射泵按150μL/min按向基底表面滴加溶液C,旋涂铺满整个基底表面。旋涂速度设置为2000rpm,旋涂时间设置为60s。
S5煅烧:将在S4中涂膜之后的玻璃基底转移至加热炉中,在550℃的空气氛围中恒温30min,自然降温后取出。
经椭圆偏振仪检测,实施例1所制备氧化钛透明涂层在600nm的折射率为2.28;拉曼光谱显示氧化钛晶型指向锐钛矿。
实施例2:
一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法,步骤如下:
S1配置溶液A:取钛酸四异丙酯3ml,按溶剂与钛酸四异丙酯的体积比为30:1加入定量乙二醇作为溶剂,按照钛酸异丙酯与有机小分子胺类化合物的摩尔比为1:20加入定量三乙醇胺,于烧杯中搅拌混合。
S2配置溶液B:在另一烧杯中按照S1所述去离子水与钛酸四丁酯的摩尔比为30:1加入定量去离子水,再按乙二醇与去离子水体积比15:1加入定量乙二醇作溶剂,搅拌混合。
S3配置溶液C:将混合溶液B通过恒流注射泵按100μL/min的速度注入溶液中A中,继续搅拌混合。
S4涂膜:选取石英玻璃片为基底,固定于旋涂仪上,用恒流注射泵按50μL/min按向基底表面滴加溶液C,旋涂铺满整个基底表面。旋涂速度设置为2500rpm,旋涂时间设置为90s。
S5煅烧:将在S4中涂膜之后的玻璃基底转移至加热炉中,在450℃的空气氛围中恒温60min,自然降温后取出。
经椭圆偏振仪检测,实施例2所制备氧化钛透明涂层在600nm的折射率为2.24;拉曼光谱显示氧化钛晶型指向锐钛矿。
实施例3:
一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法,步骤如下:
S1配置溶液A:取钛酸四丁酯3ml,按溶剂与钛酸四丁酯的体积比为50:1加入定量丙三醇作为溶剂,按照钛酸四丁酯与有机小分子胺类化合物的摩尔比为1:40加入定量三乙胺,于烧杯中搅拌混合。
S2配置溶液B:在另一烧杯中按照S1所述去离子水与钛酸四丁酯的摩尔比为50:1加入定量去离子水,再按丙三醇与去离子水体积比30:1加入定量的丙三醇作溶剂,搅拌混合。
S3配置溶液C:将混合溶液B通过恒流注射泵按30μL/min的速度注入溶液A中,继续搅拌混合。
S4涂膜:选取光滑硅片为基底,固定于旋涂仪上,用恒流注射泵按50μL/min按向基底表面滴加溶液C,旋涂铺满整个基底表面。旋涂速度设置为1500rpm,旋涂时间设置为120s。
S5煅烧:将在S4中涂膜之后的硅片基底转移至加热炉中,在600℃的空气氛围中恒温30min,自然降温后取出。
经椭圆偏振仪检测,实施例2所制备氧化钛透明涂层在600nm的折射率为2.27;拉曼光谱显示氧化钛晶型指向锐钛矿。
对比例1:
一种传统配方的溶胶-凝胶法旋涂制备TiO2涂层薄膜的制备方法,步骤如下:
S1配置混合溶液:以钛酸四丁酯作为钛源,无水乙醇作为溶剂,冰乙酸作为螯合剂,控制无水乙醇、冰乙酸、去离子水与钛酸四丁酯物质的量比15:3:8:1。
S2涂膜:选取玻璃片基底为基底,固定于旋涂仪上,用恒流注射泵按150μL/min按向基底表面滴加S1配置的混合溶液,旋涂直至铺满整个基底表面。旋涂速度设置为2000rpm,旋涂时间设置为60s。
S3煅烧:将在S2中涂膜之后的玻璃基底转移至加热炉中,在550℃的空气氛围中恒温30min,自然降温后取出。
经椭圆偏振仪检测,对比例1所制备氧化钛涂层在600nm的折射率为1.89;拉曼光谱显示氧化钛晶型指向锐钛矿。
图1、3、5是按照实施例1、2、3制备的TiO2透明涂层的照片和表面形貌SEM图片;图7是按照对比例1制备的涂层的照片和表面形貌SEM图片。二者对比可以发现:实施例1、2、3制备的涂层面积大,几乎覆盖整个玻璃片,涂层透明度高,扫描电子显微镜显示其表面平整无任何裂纹;而对比例1制备的涂层面积较小,呈现明显的黄色,透明度低,扫描电子显微镜显示其表面不平整,存在很多裂纹。
图2、4、6是实施例1、2、3制备的TiO2透明涂层的拉曼图谱;图8是对比例1制备的TiO2涂层的拉曼图谱,二者都指向锐钛矿晶型。
以上结果说明,本发明制备出的TiO2透明涂层拥有最高的折射率,且透明度高,表面平整,容易大面积制备,可以预见其在高折射率涂层领域拥有的优异应用前景。
需要说明的是,以上内容仅仅说明了本发明的技术思想,不能以此限定本发明的保护范围,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰均落入本发明权利要求书的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1配置溶液A:将钛醇盐溶解在相对介电常数≤35的溶剂中,之后加入有机小分子胺类化合物搅拌混合;
S2配置溶液B:在去离子水中加入溶液A中使用的溶剂,搅拌混合;
S3配置溶液C:将溶液B通过恒流注射泵滴加进入溶液A中形成透明混合溶液C;
S4涂膜:将基底固定于旋涂仪上,用恒流注射泵向基底表面滴加溶液C,旋涂直至铺满整个基底表面;
S5煅烧:将步骤S4中涂膜之后的基底转移至加热炉中,进行梯度升温后恒温,然后冷却取出,得到高折射率氧化钛透明涂层。
2.根据权利要求1所述的一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法,其特征在于,步骤S1中,所述相对介电常数≤35的溶剂与钛醇盐的体积比为10~50:1。
3.根据权利要求1所述的一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法,其特征在于,步骤S1中,所述相对介电常数≤35的溶剂为甲醇、乙醇、乙二醇、丙三醇中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法,其特征在于,步骤S1中,所述钛醇盐与有机小分子胺类化合物的摩尔比为1:15~40。
5.根据权利要求4所述的一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法,其特征在于,步骤S1中,所述的钛醇盐为钛酸四丁酯,钛酸四乙酯,钛酸四异丙酯,异丙醇钛中的一种或多种。
6.根据权利要求4所述的一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法,其特征在于,步骤S1中,所述有机小分子胺类化合物为三乙胺,三乙醇胺,二乙胺和乙醇胺中的一种或多种。
7.根据权利要求1所述的一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法,其特征在于,步骤S2中,所述去离子水与步骤S1中钛醇盐的摩尔比为20~50:1。
8.根据权利要求1所述的一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法,其特征在于,步骤S2中,所述溶剂与去离子水的体积比为10~30:1。
9.根据权利要求1所述的一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法,其特征在于,步骤S3中,所述B溶液加入A溶液的速度应在20μL/min~200μL/min。
10.根据权利要求1所述的一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法,其特征在于,步骤S5中,所述恒温的温度为400℃~700℃,恒温的时间为30min~90min。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210228173.3A CN114561113A (zh) | 2022-03-08 | 2022-03-08 | 一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210228173.3A CN114561113A (zh) | 2022-03-08 | 2022-03-08 | 一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN114561113A true CN114561113A (zh) | 2022-05-31 |
Family
ID=81718077
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202210228173.3A Pending CN114561113A (zh) | 2022-03-08 | 2022-03-08 | 一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN114561113A (zh) |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101012107A (zh) * | 2007-02-07 | 2007-08-08 | 中国科学院山西煤炭化学研究所 | 高折射率纳米晶TiO2溶胶-凝胶薄膜制备的方法 |
CN101119933A (zh) * | 2005-12-20 | 2008-02-06 | Lg化学株式会社 | 二氧化钛溶胶及其制备方法、以及包含其的涂料组合物 |
US20080226912A1 (en) * | 2006-12-14 | 2008-09-18 | Norlin Tyson Dean | D1365 bj radiation curable primary coating for optical fiber |
CN101935457A (zh) * | 2009-06-30 | 2011-01-05 | 深圳大学 | 一种高折射率TiO2/有机硅杂化涂层的制作方法 |
CN102264851A (zh) * | 2008-12-27 | 2011-11-30 | 日挥触媒化成株式会社 | 含高折射率金属氧化物微粒的涂料组合物及将该涂料组合物涂布于基材上而得的固化性涂膜 |
CN105086572A (zh) * | 2014-05-23 | 2015-11-25 | 信越化学工业株式会社 | 氧化钛固溶体分散体和涂布组合物 |
CN105175010A (zh) * | 2015-09-14 | 2015-12-23 | 电子科技大学 | 一种溶胶凝胶法制备金红石二氧化钛纳米薄膜的方法 |
CN107936829A (zh) * | 2017-11-17 | 2018-04-20 | 上海伟星光学有限公司 | 用于聚氨酯镜片表面的高折射率涂层液及其制造方法 |
CN109153580A (zh) * | 2016-05-16 | 2019-01-04 | 东曹精细化工株式会社 | 氧化铝形成用组合物及其制造方法和含有氧化锌粒子或氧化铝粒子的聚烯烃系聚合物纳米复合材料及其制造方法 |
CN110255613A (zh) * | 2019-03-04 | 2019-09-20 | 厦门威亮光学涂层技术有限公司 | 一种金属氧化物溶胶及其制备方法 |
CN111440389A (zh) * | 2020-05-11 | 2020-07-24 | 江苏可奥熙光学材料科技有限公司 | 具有高折射率高透光率的光学镜片复合树脂材料 |
CN112143368A (zh) * | 2020-09-22 | 2020-12-29 | 北京化工大学常州先进材料研究院 | 一种高折射率uv单体的制备方法及其在涂层上的应用 |
-
2022
- 2022-03-08 CN CN202210228173.3A patent/CN114561113A/zh active Pending
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101119933A (zh) * | 2005-12-20 | 2008-02-06 | Lg化学株式会社 | 二氧化钛溶胶及其制备方法、以及包含其的涂料组合物 |
US20080226912A1 (en) * | 2006-12-14 | 2008-09-18 | Norlin Tyson Dean | D1365 bj radiation curable primary coating for optical fiber |
CN101012107A (zh) * | 2007-02-07 | 2007-08-08 | 中国科学院山西煤炭化学研究所 | 高折射率纳米晶TiO2溶胶-凝胶薄膜制备的方法 |
CN102264851A (zh) * | 2008-12-27 | 2011-11-30 | 日挥触媒化成株式会社 | 含高折射率金属氧化物微粒的涂料组合物及将该涂料组合物涂布于基材上而得的固化性涂膜 |
CN101935457A (zh) * | 2009-06-30 | 2011-01-05 | 深圳大学 | 一种高折射率TiO2/有机硅杂化涂层的制作方法 |
CN105086572A (zh) * | 2014-05-23 | 2015-11-25 | 信越化学工业株式会社 | 氧化钛固溶体分散体和涂布组合物 |
CN105175010A (zh) * | 2015-09-14 | 2015-12-23 | 电子科技大学 | 一种溶胶凝胶法制备金红石二氧化钛纳米薄膜的方法 |
CN109153580A (zh) * | 2016-05-16 | 2019-01-04 | 东曹精细化工株式会社 | 氧化铝形成用组合物及其制造方法和含有氧化锌粒子或氧化铝粒子的聚烯烃系聚合物纳米复合材料及其制造方法 |
CN107936829A (zh) * | 2017-11-17 | 2018-04-20 | 上海伟星光学有限公司 | 用于聚氨酯镜片表面的高折射率涂层液及其制造方法 |
CN110255613A (zh) * | 2019-03-04 | 2019-09-20 | 厦门威亮光学涂层技术有限公司 | 一种金属氧化物溶胶及其制备方法 |
CN111440389A (zh) * | 2020-05-11 | 2020-07-24 | 江苏可奥熙光学材料科技有限公司 | 具有高折射率高透光率的光学镜片复合树脂材料 |
CN112143368A (zh) * | 2020-09-22 | 2020-12-29 | 北京化工大学常州先进材料研究院 | 一种高折射率uv单体的制备方法及其在涂层上的应用 |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
C.MENESES等: "Physical Characterization of TiOx layers deposited from sol-gel technique", 《28TH SYMPOSIUM ON MICROELECTRONICS TECHNOLOGY AND DEVICES (SBMICRO 2013)》 * |
DORAH KAWIRA MUTHEE等: "Effect of annealing temperature on structural, optical, and photocatalytic properties of titanium dioxide nanoparticles", 《HELIYON》 * |
叶彦春等: "《有机化学实验》", 28 February 2014, 北京:北京理工大学出版社 * |
程能林等: "《溶剂手册 上册》", 31 May 1886, 北京:化学工业出版社 * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5927743B2 (ja) | 低屈折率膜形成用組成物の製造方法及び低屈折率膜の形成方法 | |
JP3635692B2 (ja) | 低屈折率反射防止膜 | |
CN1263354A (zh) | 用于玻璃显示屏宽带减反射纳米涂层和生产方法 | |
KR101830780B1 (ko) | 박막의 제조방법, 박막, 박막의 제조장치 및 전자소자 | |
JPWO2010126108A1 (ja) | ケイ素系液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | |
US10859733B2 (en) | Optical functional film and method for producing the same | |
JP2015536477A (ja) | シロキサン化合物を含む反射防止コーティング組成物、それを用いて表面エネルギーが調節された反射防止フィルム | |
CN101308878A (zh) | 均匀大面积光线增透镀膜太阳能电池封装玻璃及制作方法 | |
TWI546349B (zh) | 用於光學元件之塗覆調配物 | |
KR100967188B1 (ko) | 반사방지막 제조방법 및 그로 인해 제조된 태양전지용 커버 기판 | |
CN114561113A (zh) | 一种高折射率氧化钛透明涂层的制备方法 | |
TW200401926A (en) | Liquid crystal alignment agent and forming method of liquid crystal alignment film | |
JP2002182011A (ja) | レンズ製造方法 | |
CN115073016B (zh) | 一种高透过率超疏水增透膜的制备方法 | |
JP2006036598A (ja) | 多孔質シリカ系薄膜の製造方法、多孔質シリカ系薄膜及び構造物 | |
CN104987475A (zh) | 一种制备纳米二氧化钛凝胶的方法 | |
WO2011136370A1 (ja) | スプレー塗布用の被膜形成用塗布液及び被膜 | |
KR102476238B1 (ko) | 티타니아 나노졸 제조방법 및 티타니아 나노졸에 기초한 고굴절 박막 제조방법 | |
WO1997024223A2 (en) | Methods and compositions for forming silica, germanosilicate and metal silicate films, patterns and multilayers | |
EP1074526A2 (en) | Method for the formation of an anti-reflective and leveling film on glass/TCO substrates | |
KR102188211B1 (ko) | 저굴절률막 형성용 조성물 및 그 제조 방법 그리고 저굴절률막의 형성 방법 | |
KR100793594B1 (ko) | 열경화형 막 형성용 코팅 조성물 및 이로부터 제조된 막 | |
US6319551B1 (en) | Methods and compositions for forming silica, germanosilicate and metal silicate films, patterns and multilayers | |
KR20210036002A (ko) | 착색 태양광 모듈의 제조방법 | |
KR102174467B1 (ko) | 반사방지용 코팅 조성물 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20220531 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |