CN114554754A - 电子设备及金属工件的制备方法 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供一种电子设备及金属工件的制备方法，所述电子设备包括：金属壳体；所述金属壳体的外表面包括至少两个区域；所述至少两个区域构图构成所述外表面的图案，所述至少两个区域包括的第一区域与所述至少两个区域包括的第二区域在光线照射时形成对光的反射角度和/或折射角度不同，以使得所述图案形成三维视觉效果。

Description

电子设备及金属工件的制备方法

技术领域

本申请实施例涉及电子技术领域，涉及但不限于电子设备及金属工件的制备方法。

背景技术

目前，随着航空铝合金在消费笔记本的大量应用，在铝合金上采用各种表面处理技术的单一技术或组合应用技术带来的创新已日趋同质化。例如铝合金阳极氧化、铝合金喷涂等。虽然业内也逐步采用将光学成像等技术应用到玻璃等表面处理领域，但在金属材料领域，尤其是铝合金材质上无报道此类技术，此外，对于玻璃、膜片等形成的立体图案主要靠玻璃蚀刻出的纹理和膜片压制纹理对光的反射与折射形成。但金属本身与其有本质上的差异，要实现精细纹理与图案需要有特殊的工艺条件与限制。

相关技术中在金属上采用的精细图案化的加工往往通过丝网印刷、喷涂、模内镶件注塑(In Molding Label，IML)、喷砂、腐蚀等技术来实现，图案精度多在1毫米(mm)以上。这掩盖了基材的金属质感，都造成了图案缺乏灵动感；而且由于图案的精度不高，无微观的变化，因此无法呈现特殊的质感和效果。

发明内容

基于相关技术中存在的问题，本申请实施例提供一种电子设备及金属工件的制备方法。

本申请实施例的技术方案是这样实现的：

本申请实施例提供一种电子设备，所述电子设备包括：金属壳体；所述金属壳体的外表面包括至少两个区域；所述至少两个区域构图构成所述外表面的图案，所述至少两个区域包括的第一区域与所述至少两个区域包括的第二区域在光线照射时形成对光的反射角度和/或折射角度不同，以使得所述图案形成三维视觉效果。

在一些实施例中，所述第一区域的表面微结构与所述第二区域的表面微结构不同。

在一些实施例中，所述第一区域的表面微结构的结构单元与所述第二区域的表面微结构的结构单元相同，所述第一区域的表面微结构的结构单元与所述第二区域的表面微结构的结构单元角度不同。

在一些实施例中，所述第一区域的表面微结构的结构单元与所述第二区域的表面微结构的结构单元包括如下至少一种：点、线条、几何图形。

在一些实施例中，所述线条的宽度为30至80μm，所述线条与相邻线条之间的距离为60至90μm；所述点的直径为5至15μm；所述点与相邻点之间的间距为20至40μm；所述几何图形包括如下至少一种：三角形、矩形、梯形、五角形、六边形。

在一些实施例中，所述第一区域的表面微结构的结构单元的角度对光反射或/和折射呈现出所述金属壳体的金属质感的色阶与所述第二区域的表面微结构的结构单元的角度对光反射或/和折射呈现出所述金属壳体的金属质感的色阶不同。

在一些实施例中，所述第一区域与所述第二区域相邻且呈现视觉上的渐变效果，所述第一区域的表面微结构的结构单元的角度与所述第二区域的表面微结构的结构单元的角度的差值满足渐变范围。

本申请实施例提供一种金属工件的制备方法，所述方法包括：获得金属工件，所述金属工件的外表面上附着有图案化的光刻胶；基于所述图案化的光刻胶，通过微蚀刻工艺在所述金属工件的外表面形成图案；其中，所述图案由至少两个区域构图构成，所述至少两个区域包括的第一区域与所述至少两个区域包括的第二区域在光线照射时形成对光的反射角度和/或折射角度不同，以使得所述图案形成三维视觉效果。

在一些实施例中，所述方法还包括：去除所述图案化的光刻胶。

在一些实施例中，所述图案化的光刻胶的形成方法包括：在所述金属工件的外表面上形成光刻胶；采用激光直写技术对所述光刻胶进行曝光；对曝光后的所述光刻胶进行显影，以形成所述图案化的光刻胶。

在一些实施例中，在所述金属工件的外表面上形成光刻胶之前，还包括：在所述金属工件的外表面上形成处理层，所述处理层的厚度为0.1至1μm。

在一些实施例中，所述微蚀刻工艺中所采用的微蚀刻液包括如下至少一种：磷酸、硫酸、盐酸、缓蚀剂、微蚀促进剂；蚀刻深度为5至15μm。

在一些实施例中，所述方法还包括：对形成图案的金属工件的表面进行阳极氧化处理，形成氧化膜。

在一些实施例中，所述阳极氧化处理包括如下至少一种：普通阳极氧化、硬质阳极氧化、草酸阳极氧化；其中，所述普通阳极氧化的工艺参数包括：阳极氧化液为18％的硫酸、电压为13V、时间为15至30min、温度为18至20℃。

本申请实施例提供的电子设备及金属工件的制备方法，基于金属工件的外表面的图案化的光刻胶，通过微蚀刻工艺在金属工件的外表面形成图案，其中，图案由至少两个区域构图构成，至少两个区域包括的第一区域与至少两个区域包括的第二区域在光线照射时形成对光的反射角度和/或折射角度不同，以使得图案形成三维视觉效果，使得金属工件的外表面呈现出金属质感和三维视觉效果，形成的图案具有灵动感；由于本申请实施例中的电子设备中的金属外壳包括上述至少两个区域构图构成的图案，从而可以提升电子设备外观的品质。

附图说明

图1a是本申请实施例提供的电子设备的结构示意图；

图1b是本申请实施例提供的另一电子设备的结构示意图；

图1c是本申请实施例提供的第一区域与第二区域的表面微结构的结构单元结构示意图；

图1d是本申请实施例是本申请实施例提供的金属壳体的微观结构示意图；

图2是本申请实施例提供的金属工件的制备方法的一个可选的流程示意图；

图3a是本申请实施例提供的金属工件的制备方法的一个可选的流程示意图；

图3b是本申请实施例提供的通过微蚀刻在金属工件表面形成微观图案。

具体实施方式

为了更清楚地阐述本申请实施例的目的、技术方案及优点，以下将结合附图对本申请实施例的实施例进行详细的说明。应当理解，下文对于实施例的描述旨在对本申请实施例的总体构思进行解释和说明，而不应当理解为是对本申请实施例的限制。在说明书和附图中，相同或相似的附图标记指代相同或相似的部件或构件。为了清晰起见，附图不一定按比例绘制，并且附图中可能省略了一些公知部件和结构。

在一些实施例中，除非另外定义，本申请实施例使用的技术术语或者科学术语应当为本申请实施例所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本申请实施例中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。措词“一”或“一个”不排除多个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”“顶”或“底”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。当诸如层、膜、区域或衬底之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。

基于相关技术中存在的问题，本申请实施例提供一种电子设备，电子设备可以是手机、笔记本、平板等。如图1a所示，电子设备包括金属壳体10；金属壳体10的外表面包括至少两个区域；至少两个区域构图构成外表面的图案，至少两个区域包括的第一区域11与至少两个区域包括的第二区域12在光线照射时形成对光的反射角度和/或折射角度不同，以使得图案形成三维视觉效果。

需要解释的是，本申请实施例中形成的图案是微结构，用户在通过手去触摸时，可以感觉到金属壳体是平的；但是在光线照射下，金属壳体外表面对光的反射和/或折射角度不同，用户看到的金属壳体是凹凸不平的。如图1a所示的金属壳体10中的第一区域和第二区域可以都是三角形，相邻两个区域之间的交叠线可以是凸起的，也可以是凹陷的，如此，使得金属壳体的外表面的图案呈现出三维视觉效果。如图1b所示的金属壳体10中第一区域11和第二区域12可以是不规则的多边形，由于第一区域11和第二区域12在光线照射时形成对光的反射角度和/或折射角度不同，使金属壳体的外表面的山峰图案呈现层峦叠嶂的视觉效果。

在本申请实施例中，金属壳体可以是铝合金壳体、钛合金壳体、镁合金壳体、不锈钢壳体等任意一种方便加工的塑性金属壳体，金属壳体可以是平面或者曲面。第一区域可以与第二区域相邻，也可以不相邻。

在一些实施例中，第一区域11的表面微结构与第二区域12的表面微结构不同。也就是说第一区域的表面微结构的结构单元与第二区域的表面微结构的结构单元不同，或两者的结构单元角度不同等，不同的表面微结构在光的折射或者反射下可以呈现出不同的亮度，从而呈现出三维视觉效果。例如，第一区域的表面微结构的结构单元可以是点，第二区域的表面微结构的结构单元可以是线条；又例如，第一区域的表面微结构的结构单元可以是线条，第二区域的表面微结构的结构单元可以是几何图形。

在一些实施例中，第一区域的表面微结构的结构单元与第二区域的表面微结构的结构单元相同，第一区域的表面微结构的结构单元与第二区域的表面微结构的结构单元角度不同。例如，参见图1c，第一区域11的表面微结构的结构单元与第二区域12的表面微结构的结构单元都为线条，但是两者的角度是不同的，第一区域11的表面微结构的结构单元角度为钝角，第二区域12的表面微结构的结构单元角度锐角。如果需要相邻区域视觉效果变化不大，可以通过设计相邻区域的表面微结构的结构单元角度变化较小来实现。

图1d示出了金属壳体的微观结构，从图中可以看出金属壳体的表面有凹陷部分和凸起部分。

在一些实施例中，第一区域的表面微结构的结构单元与第二区域的表面微结构的结构单元包括如下至少一种：点、线条、几何图形。线条可以是直线或者曲线。

在一些实施例中，线条的宽度(即为线宽)为30至80微米(μm)，例如，可以是40μm；线条与相邻线条之间的距离(即为线距)为60至90μm，例如，可以是75μm；点的直径为5至15μm，例如，可以是10μm；点与相邻点之间的间距为20至40μm，例如，可以是30μm；几何图形包括如下至少一种：三角形、矩形、梯形、五角形、六边形。

在一些实施例中，第一区域的表面微结构的结构单元的角度对光反射或/和折射呈现出金属壳体的金属质感的色阶与第二区域的表面微结构的结构单元的角度对光反射或/和折射呈现出金属壳体的金属质感的色阶不同。换句话说，第一区域呈现出金属壳体的金属质感的亮度与第二区域呈现出金属壳体的金属质感的亮度不同，不同区域具有不同的亮度，使图案呈现出三维视觉效果。

在一些实施例中，第一区域与第二区域相邻且呈现视觉上的渐变效果，第一区域的表面微结构的结构单元的角度与第二区域的表面微结构的结构单元的角度的差值满足渐变范围。这样，当两者的角度的差值满足渐变范围，金属壳体上的图案可以呈现出预想的渐变效果，具有灵动感。

本申请实施例提供的电子设备中，金属壳体的外表面包括至少两个区域；至少两个区域构图构成外表面的图案，第一区域与第二区域在光线照射时形成对光的反射角度和/或折射角度不同，以使得图案形成三维视觉效果，能够实现对金属壳体进行表面处理，使得金属表面呈现出金属质感和三维视觉效果，形成的图案具有灵动感，提升了电子设备外观的品质。

基于上述电子设备，本申请实施例提供一种金属工件的制备方法，如图2所示，本申请实施例提供的金属工件的制备方法可以通过以下步骤实现：

步骤S201、获得金属工件，金属工件的外表面上附着有图案化的光刻胶。

在一些实施例中，金属工件可以是上述金属壳体，可以通过冲压或者计算机数字化控制精密机械加工(Computerized Numerical Control，CNC)来获得金属工件；其中，冲压适用于板材，CNC适用于挤压材。

金属工件的外表面上的图案化的光刻胶上具有设计图案。在一些实施例中，可以采用激光直写技术将设计图案曝光在光刻胶上，即通过计算机控制高精度激光束在光刻胶上直接扫描曝光，之后进行显影，被曝光的区域会被显影出来，从而形成图案化的光刻胶，部分金属工件的表面会暴露出来。这里，激光直写技术包容性强，适用于曲面和平面的金属工件。在实施时，激光直写系统中包括设计图案信息，在启动激光直写程序后，对光刻胶进行直写刻蚀，在光刻胶上形成与设计图案形状、尺寸相同的图案，实现微纳米尺寸精度的图案化呈现。

在一些实施例中，设计图案的形成过程可以包括以下步骤：

步骤S21，设计矢量图案。

这里，矢量图案可以有多个区块组成，放大或者缩小图案后不会变形失真。

步骤S22，预设矢量图案灰阶变化。

每一区块可以对应一个色阶，预设矢量图案可以包括5至10个色阶；若色阶较少，后续在金属工件的外表面上形成的图案层次简单、灵动效果较差。

步骤S23，根据图像特征确定微结构的结构单元。

在一些实施例中，微结构的结构单元可以包括如下至少一种：点、线条、几何图形。其中，线条的宽度为30至80μm，例如，可以是40μm；线条与相邻线条之间的距离为60至90μm，例如，可以是75μm；点的直径为5至15μm，例如，可以是10μm；点与相邻点之间的间距为20至40μm，例如，可以是30μm；几何图形包括如下至少一种：三角形、矩形、梯形、五角形、六边形。

步骤S24，根据对比度调节微结构的结构单元的角度。

不同的角度可以在光的照射下呈现出不同的明暗程度，从而展现出某一地方亮、某一地方暗的有层次的效果。若想要最终在金属工件的表面上形成的图案相邻区域变化较大，可以将相邻区域的微结构的结构单元角度设计的差异较大；若想要最终在金属工件的表面上形成的图案相邻区域变化较小，可以将相邻区域的微结构的结构单元角度设计的差异较小，从而在金属工件的表面上形成预想的图案。

在设计好微结构的结构单元的角度后，将微结构的结构单元填充到对应的区块中，使不同的区块展现出不同的效果。

步骤S25，整体调节微结构的结构单元排布，得到设计图案。

步骤S202、基于图案化的光刻胶，通过微蚀刻工艺在金属工件的外表面形成图案；其中，图案由至少两个区域构图构成，至少两个区域包括的第一区域与至少两个区域包括的第二区域在光线照射时形成对光的反射角度和/或折射角度不同，以使得图案形成三维视觉效果。

这一步骤即为将光刻胶上的设计图案转移到金属工件的外表面上，图案化的光刻胶将在后续的微蚀刻工艺中保护金属工件的外表面不被蚀刻，而暴露出来的部分金属工件会被蚀刻，从而在金属工件的表面上形成微结构。采用的微蚀刻工艺可以使设计的精细图案完全转移到金属工件的外表面，且得到圆滑的微观特征，增强图案的表现力和圆滑过渡。

在一些实施例中，可以通过菲林技术将设计图案曝光在光刻胶上，形成图案化的光刻胶。

在一些实施例中，微蚀刻工艺可以是浸没方式或者喷淋方式。其中，浸没方式的工艺参数可以包括：温度为25至30摄氏度(℃)，时间为10至20秒(s)；喷淋方式的工艺参数可以包括：温度为25至25℃，时间为15至25s。微蚀刻液由磷酸、硫酸、盐酸、缓蚀剂及微蚀促进剂中的一种或多种组合构成。

在一些实施例中，微蚀刻液可以是硫酸10至30克每升(g/L)、磷酸50至70毫升每升(mL/L)、盐酸10至20mL/L、缓蚀剂0.5至2g/L、微蚀促进剂5至10g/L；其中微蚀促进剂可以为含氟化合物，例如可以包括氟化钾、氟化钠、氟化氢铵；其中缓蚀剂可以包括硫脲、烟酸、二苯并吡啶中的一种或几种等。

在一些实施例中，微蚀刻工艺在金属工件的外表面的蚀刻深度为5至15μm。本申请实施例中，蚀刻深度可以为5μm。

在一些实施例中，步骤S202之后还包括：

步骤S203、去除图案化的光刻胶。

这一步骤也称为“退胶”；在一些实施例中，可以采用氢氧化钠进行退胶。退胶后可以暴露出形成图案的金属工件的外表面。

在一些实施例中，所述图案化的光刻胶的形成方法可以包括以下步骤：

步骤S2011、在金属工件的外表面上形成光刻胶。

在一些实施例中，可以采用喷涂或者涂覆等方式在金属工件的外表面上形成一层厚度均匀的光刻胶；采用的光刻胶可以是正性光刻胶或者负性光刻胶，由于负性光刻胶会膨胀使显影后的图案分辨率较低，且负性光刻胶不易从金属工件的外表面上剥离，所以，一般采用正性光刻胶。

步骤S2012、采用激光直写技术对光刻胶进行曝光。

步骤S2013、对曝光后的光刻胶进行显影，以形成图案化的光刻胶。

步骤S2012和步骤S2013即为将设计图案转移至光刻胶上。可以采用激光直写技术或者菲林将设计图案转移到光刻胶上。显影过程中采用的显影液可以包括丙酮。当采用正性光刻胶时，曝光的光刻胶会溶于显影液，未曝光的光刻胶不溶于显影液，也就是未曝光的光刻胶会留金属工件的外表面；当采用负性光刻胶时，曝光的光刻胶由于交联固化不溶于显影液，未曝光的光刻胶溶于显影液，也就是曝光的光刻胶会留在金属工件的外表面。因此，若想要正性光刻胶和负性光刻胶在曝光和显影后在形成一样的图案化的光刻胶，需要采用不同的设计图案，且两者的设计图案正好互补。

由于金属工件表面是亲水性的，光刻胶是疏水的，因此金属工件的外表面与光刻胶的粘附力较小。在一些实施例中，在步骤S2011之前，还包括：

步骤S2010、在金属工件的外表面上形成处理层，处理层的厚度为0.1至1μm。

处理层可以提高后续光刻胶与金属工件的外表面的粘附力。在一些实施例中，可以在喷砂处理后的金属工件的外表面上预制0.1至1μm处理层，例如可以是0.5μm。处理层可以是表面粘合促进剂，例如六甲基二硅胺。

在一些实施例中，步骤S203之后还可以包括步骤S204、对形成图案的金属工件的表面进行阳极氧化处理，以在金属工件的外表面形成氧化膜。

在一些实施例中，可以对金属工件的外表面进行一次阳极氧化处理，在金属工件的外表面上形成一层预设颜色的半透明氧化膜；也可以进行两次甚至多次的阳极氧化处理，在金属工件的外表面形成复合氧化膜。在实施时，在进行一次阳极氧化处理形成一层氧化膜时，可以采用普通阳极氧化、草酸阳极氧化、硬质阳极氧化工艺中的任一种。

在进行两次或者多次阳极氧化处理形成复合氧化膜时，可以采用两次普通阳极氧化工艺形成复合氧化膜，也可以采用普通阳极氧化、硬质阳极氧化、草酸阳极氧化中的一种或两种工艺形成复合氧化膜。其中，普通阳极氧化的工艺参数可以包括：阳极氧化液为18％的硫酸，电压为13伏特(V)，时间为15至30分钟，温度为18至20℃。硬质阳极氧化工艺中的阳极氧化液可以是硫酸和硫酸添加有机酸，如草酸、氨基磺酸等。

在一些实施例中，形成复合氧化膜时可以采用有机酸脉冲阳极氧化工艺和普通阳极氧化工艺。其中，有机酸脉冲阳极氧化的工艺参数可以包括：阳极氧化液为：20至35g/L草酸、5至10g/L柠檬酸、10至20g/L氨基磺酸，电压为40至60V，占空比为60至80％，频率为600至800赫兹(Hz)，氧化时间为30至60min，温度为10至20℃；普通阳极氧化的工艺参数可以包括：阳极氧化液为18％的硫酸，电压为13V，时间为15至30分钟，温度为18至20℃。

在一些实施例中，所述方法还包括：对金属工件的外表面进行预处理，预处理至少包括如下至少一种：拉丝处理、抛光处理、喷砂处理、等离子清洗。其中，拉丝处理、抛光处理、喷砂处理都是增强后续在金属工件外表面形成的图案效果的步骤。在实施时，例如可以仅对金属工件的外表面进行拉丝处理，呈现出金属工件的质感。也就是最终金属工件(即金属壳体)上的至少两个区域所包括所述第一区域的表面微结构的多个结构单元与所述第二区域的表面微结构的多个结构单元相同所呈现的3D视觉效果具备更强金属质感即呈现金属质感的3D视觉效果更强。

本申请实施例提供一种金属工件的制备方法，如图3a所示，本申请实施例提供的制备方法可以通过以下步骤实现：

步骤S301、对金属工件的外表面进行拉丝处理。

拉丝处理可以是局部同心圆拉丝或者单向及多向拉丝处理等，可以呈现金属工件的质感，配合后续的抛光处理和喷砂处理可以产生图案组合效果。

步骤S302、对拉丝处理后的金属工件的外表面进行抛光处理。

抛光处理可以增强表面的镜面反射，反衬图案的效果。

步骤S303、对抛光处理后的金属工件的外表面进行喷砂处理。

喷砂处理可以在金属工件的外表面形成更多的小反射面，强化金属工件外表面的反射与折射效果，增加对比性，从而有利于金属光泽和质感的呈现；此外，喷砂处理还可以提高后续的光刻胶与金属工件的外表面的粘附力，减少在显影过程中光刻胶的掉落。

步骤S304、在喷砂处理后的金属工件的外表面上形成处理层。

步骤S305、在处理层上形成光刻胶。

步骤S304和步骤S305与步骤S2010和步骤S2011类似，在实施时可以参考步骤S2010和步骤S2011去实施，此处不再赘述。

步骤S306、对形成光刻胶的金属工件进行预烤。

预烤的作用是将驱赶走所有溶剂，提高光刻胶的粘附性和均匀性；预烤的温度不宜过高或者过低，温度过高或时间太长会导致光刻胶中的树脂分子发生聚合或交联，造成显影困难，最终得到的图案边缘锯齿严重，影响最终图案的精度；温度过低或时间太短会导致预烤不充分，光刻胶中的溶剂仍会有部分残留，影响显影质量，最终导致光刻图案不完整。

步骤S307、对光刻胶进行曝光和显影，形成图案化的光刻胶。

步骤S307的实施可以参考步骤S2012和步骤S2013，此处不再赘述。

步骤S308、对图案化的光刻胶进行固烤处理。

固烤处理的作用是去除残留的显影液和水分，使图案化的光刻胶紧密坚固，提高光刻胶与金属工件的外表面的粘附力和抗化学腐蚀性，从而减少微蚀刻时出现的钻孔和针孔现象。

步骤S309、基于图案化的光刻胶，通过微蚀刻工艺在金属工件的外表面上形成图案；其中，图案由至少两个区域构图构成，所述至少两个区域包括的第一区域与所述至少两个区域包括的第二区域在光线照射时形成对光的反射角度和/或折射角度不同，以使得所述图案形成三维视觉效果。

步骤S310、去除图案化的光刻胶。

步骤S311、对形成图案的金属工件的外表面进行阳极氧化处理，以在金属工件的外表面形成氧化膜。

步骤S309至步骤S311与步骤S202至步骤S204相同，在实施时可以参考步骤S202至步骤S204去实施，此处不再赘述。

本申请实施例中，氧化膜的颜色可以根据需要来设定。这样一来，由于折光率的变化和组合可以使不同波长的光产生反射与衍射效果，进一步增强图案的动态和多样化效果，使金属工件的三维视觉效果更加漂亮；此外可以将图案固化在金属工件上，减少对图案的磨损。

本申请实施例中，通过对金属工件外表面进行增强处理，之后在金属工件的外表面形成图案化的光刻胶，基于图案化的光刻胶对金属工件的外表面进行微蚀刻处理，实现设计图案在金属工件的外表面的成形，最终在金属工件的外表面形成如图3b所示的均匀、圆滑且连续清晰的弧状的微观图案；其中，线条的宽度D为30μm，线条与相邻线条之间的距离L为75μm。

需要说明的是，本申请实施例各实施例所记载的技术方案中各技术特征之间，在不冲突的情况下，可以任意组合。

应理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“一实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本申请的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“在一个实施例中”或“在一实施例中”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定的特征、结构或特性可以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。应理解，在本申请的各种实施例中，上述各过程的序号的大小并不意味着执行顺序的先后，各过程的执行顺序应以其功能和内在逻辑确定，而不应对本申请实施例的实施过程构成任何限定。上述本申请实施例序号仅仅为了描述，不代表实施例的优劣。

需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法或者装置不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法或者装置所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括该要素的过程、方法、物品或者装置中还存在另外的相同要素。在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的设备和方法，可以通过其它的方式实现。以上所描述的设备实施例仅仅是示意性的，例如，所述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，如：多个单元或组件可以结合，或可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。

以上所述，仅为本申请的实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种电子设备，所述电子设备包括：

金属壳体；所述金属壳体的外表面包括至少两个区域；所述至少两个区域构图构成所述外表面的图案，

所述至少两个区域包括的第一区域与所述至少两个区域包括的第二区域在光线照射时形成对光的反射角度和/或折射角度不同，以使得所述图案形成三维视觉效果。

2.根据权利要求1所述的电子设备，所述第一区域的表面微结构与所述第二区域的表面微结构不同。

3.根据权利要求1所述的电子设备，所述第一区域的表面微结构的结构单元与所述第二区域的表面微结构的结构单元相同，所述第一区域的表面微结构的结构单元与所述第二区域的表面微结构的结构单元角度不同。

4.根据权利要求1所述的电子设备，所述第一区域的表面微结构的结构单元与所述第二区域的表面微结构的结构单元包括如下至少一种：点、线条、几何图形。

5.根据权利要求4所述的电子设备，所述线条的宽度为30至80μm，所述线条与相邻线条之间的距离为60至90μm；所述点的直径为5至15μm；所述点与相邻点之间的间距为20至40μm；

所述几何图形包括如下至少一种：三角形、矩形、梯形、五角形、六边形。

6.根据权利要求3所述的电子设备，所述第一区域的表面微结构的结构单元的角度对光反射或/和折射呈现出所述金属壳体的金属质感的色阶与所述第二区域的表面微结构的结构单元的角度对光反射或/和折射呈现出所述金属壳体的金属质感的色阶不同。

7.根据权利要求6所述的电子设备，所述第一区域与所述第二区域相邻且呈现视觉上的渐变效果，所述第一区域的表面微结构的结构单元的角度与所述第二区域的表面微结构的结构单元的角度的差值满足渐变范围。

8.一种金属工件的制备方法，所述方法包括：

获得金属工件，所述金属工件的外表面上附着有图案化的光刻胶；

基于所述图案化的光刻胶，通过微蚀刻工艺在所述金属工件的外表面形成图案；

其中，所述图案由至少两个区域构图构成，所述至少两个区域包括的第一区域与所述至少两个区域包括的第二区域在光线照射时形成对光的反射角度和/或折射角度不同，以使得所述图案形成三维视觉效果。

9.根据权利要求8所述方法，还包括：去除所述图案化的光刻胶；

其中，所述图案化的光刻胶的形成方法包括：

在所述金属工件的外表面上形成光刻胶；

采用激光直写技术对所述光刻胶进行曝光；

对曝光后的所述光刻胶进行显影，以形成所述图案化的光刻胶；

在所述金属工件的外表面上形成光刻胶之前，还包括：

在所述金属工件的外表面上形成处理层，所述处理层的厚度为0.1至1μm。

10.根据权利要求8所述的方法，所述微蚀刻工艺中所采用的微蚀刻液包括如下至少一种：磷酸、硫酸、盐酸、缓蚀剂、微蚀促进剂；蚀刻深度为5至15μm；

其中，所述方法还包括：对形成图案的金属工件的表面进行阳极氧化处理，形成氧化膜；

所述阳极氧化处理包括如下至少一种：普通阳极氧化、硬质阳极氧化、草酸阳极氧化；其中，所述普通阳极氧化的工艺参数包括：阳极氧化液为18％的硫酸、电压为13V、时间为15至30min、温度为18至20℃；

其中，所述方法还包括：对所述金属工件的外表面进行预处理，所述预处理至少包括如下至少一种：拉丝处理、抛光处理、喷砂处理、等离子清洗。

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