CN108083854B - 陶瓷表面处理方法及陶瓷件 - Google Patents
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Abstract
本公开是关于一种陶瓷表面处理方法和陶瓷件。其中,通过在陶瓷表面涂覆光学膜,并在光学膜上涂覆与图案对应的遮挡层,以去除暴露在遮挡层外的第一区域。通过上述陶瓷表面处理方法在陶瓷表面形成所述图案,加工工艺简单、效率高且量产性和稳定性较好。
Description
技术领域
本公开涉及电子技术领域,尤其涉及陶瓷表面处理方法及陶瓷件。
背景技术
在相关技术中,陶瓷广泛应用于航天工业、机械工程、电子、汽车、冶金、能源、生物等领域,是尖端技术中不可缺少的关键材料。作为设备外观面的陶瓷表面装饰变得非常重要,因此,陶瓷表面图案的实现方式成为本技术领域的研究热点。
发明内容
为解决相关技术中存在的问题,本公开提供一种陶瓷表面处理方法及陶瓷件。
根据本公开的第一方面提出一种陶瓷表面处理方法,包括:
在陶瓷表面涂覆光学膜,所述光学膜能够折射光线以产生预设颜色;
在所述光学膜上涂覆与所述图案对应的遮挡层,以使所述光学膜形成暴露在所述遮挡层外的第一区域,所述遮挡层能够保护所述光学膜免受侵蚀;
将设置有光学膜以及遮挡层的陶瓷表面浸入退镀液中,并持续浸没预设时间,至去除所述第一区域。
可选的,在陶瓷表面涂覆光学膜,包括:
在陶瓷表面涂覆调色薄膜层,所述调色薄膜层能够折射光线以产生预设颜色的基础颜色;
在所述调色薄膜层上涂覆增透薄膜层,形成所述光学膜;其中,所述增透薄膜层能够增加光的透射率,以使预设颜色的基础颜色透亮。
可选的,在所述光学膜上涂覆与所述图案对应的遮挡层,包括:
使用印刷治具向所述陶瓷表面印刷油墨,所述印刷治具覆盖在陶瓷表面,其上设有与所述图案对应的镂空孔。
可选的,在在陶瓷表面涂覆光学膜之前,还包括:对陶瓷表面进行抛光处理,以使陶瓷表面的表面粗糙度达到0.2微米以下。
可选的,在去除所述第一区域,在陶瓷表面形成所述图案之后,还包括:在陶瓷表面设置透光防指纹膜,所述透光防指纹膜能够透光且能够避免指纹附着。
可选的,所述光学膜通过物理气相沉积技术成型。
根据本公开的第二方面提出一种陶瓷件,应用上述陶瓷表面处理方法对所述陶瓷件进行加工,所述陶瓷件包括陶瓷本体以及设置在所述陶瓷本体上的图案层。
可选的,所述图案层至少包括:涂覆在所述陶瓷本体上的调色薄膜层和涂覆在所述调色薄膜层上的增透薄膜层。
可选的,所述调色薄膜层的材质包括五氧化三钛、铟中至少之一。
可选的,所述增透薄膜层的材质包括二氧化硅。
可选的,所述图案层的厚度范围为100-300纳米。
本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:
本公开通过在陶瓷表面涂覆光学膜,并在光学膜上涂覆与图案对应的遮挡层,以去除暴露在遮挡层外的第一区域。通过上述陶瓷表面处理方法在陶瓷表面形成所述图案,加工工艺简单、效率高且量产性和稳定性较好。
应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本公开。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本公开的实施例,并与说明书一起用于解释本公开的原理。
图1为相关技术中一种陶瓷表面处理方法的流程图;
图2为本公开一示例性实施例中一种陶瓷表面处理方法的流程图;
图3为本公开另一示例性实施例中一种陶瓷表面处理方法的流程图;
图4为本公开一示例性实施例中一种陶瓷手机壳的结构示意图。
具体实施方式
这里将详细地对示例性实施例进行说明,其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时,除非另有表示,不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本公开相一致的所有实施方式。相反,它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本公开的一些方面相一致的装置和方法的例子。
相关技术中,陶瓷件由于其优良的性能被应用在航天工业、机械工程、电子、汽车、冶金、能源、生物等领域。为了在上述领域中获得更好的实际应用效果,往往需要在陶瓷表面加工特定的形状或图案。例如,将陶瓷件应用于手机后壳,考虑手机后壳所需的质感、功能以及外观,通常采用镭雕纹理对陶瓷手机后壳进行装饰。镭雕纹理是一种用光学原理进行表面处理的工艺,如图1所示,首先通过激光束的光能导致表层物质的化学物理变化而刻出痕迹,再清理所述痕迹而显出所需刻蚀的图案。
然而由于镭雕工艺的成型颜色单一,只能通过激光能量调节图案深浅,镭雕时间又需要根据镭雕面积计算,因此造成生产效率较低。此外,镭雕形成的图案容易崩边,图案区域容易藏赃污,影响使用过程中美观。
为解决上述技术问题,本公开对陶瓷表面处理方法进行改进,现描述如下:
图2是本公开一示例性实施例中一种陶瓷表面处理方法的流程图。如图2所示:
在步骤201中,在陶瓷表面涂覆光学膜,所述光学膜能够折射光线以产生预设颜色。
光学膜能够通过反射、减反射和光谱调控等功能而获得不同亮度、颜色的光学效果。例如,反射可以把光束按不同的要求折转到空间各个方位;减反射可以将光束在陶瓷表面的损耗减少到极致,完美的实现现代光学仪器和光学系统的设计功能;光谱调控能够实现光学系统中的色度变换,而获得五彩缤纷的颜色。
需要说明的是,上述预设颜色可以是带有金属光泽的颜色,本公开并不对此进行限制。此外,上述预设时间依据光学膜的厚度确定,例如,当薄膜层的厚度在100-300纳米范围内时,预设时间可以是20-40分钟,以去除未被遮挡层覆盖的光学膜的第一区域。或者也可以利用其它化学方法或电化学方法去除第一区域,可以依据光学膜的化学性质则优选择,本公开并不对此进行限制。
其中,光学膜可以通过物理气相沉积技术(PVD,Physical Vapor Deposition)涂覆在陶瓷手机壳1的表面,PVD工艺形成的光学膜不导电,对手机信号完全没影响,适用于手机表面处理。
在步骤202中,在光学膜上涂覆与图案对应的遮挡层,以使光学膜形成暴露在遮挡层外的第一区域,所述遮挡层能够保护所述光学膜免受侵蚀。
在步骤203中,将设置有光学膜以及遮挡层的陶瓷表面浸入退镀液中,并持续浸没预设时间,至去除所述第一区域。
本公开涉及的陶瓷表面处理方法是在陶瓷表面涂覆光学膜,并去除与图案对应部分以外的光学膜,以通过剩余的光学膜在陶瓷表面形成图案。上述方法避免了直接对陶瓷表面的刻蚀,因此加工工艺简单、效率高且量产性和稳定性较好。
针对在陶瓷表面涂覆光学膜以及涂覆遮挡层的具体方法,本公开进一步提出一种如图3所示的陶瓷表面处理方法:
在步骤301中,在陶瓷表面涂覆调色薄膜层,所述调色薄膜层能够折射光线以产生预设颜色的基础颜色。
调色薄膜层决定了陶瓷表面形成图案的基础颜色。例如,当想要在陶瓷表面形成具有金属色泽的图案,可以将五氧化三钛或铟作为调色薄膜层的材质涂覆在陶瓷表面,以获得金色或灰色的金属光泽的图案。
在步骤302中,在调色薄膜层上涂覆增透薄膜层,形成光学膜;其中,所述增透薄膜层能够增加光的透射率,以使预设颜色的基础颜色透亮。
增透薄膜层利用光的干涉原理,使膜前表面与后表面反射的光发生干涉,能够减少反射光的强度从而增加透射光的强度,进而使调色薄膜层的颜色透亮。需要说明的是,上述增透薄膜层的材质可以是二氧化硅,本公开并不对此进行限制。
在步骤303中,使用印刷治具向所述陶瓷表面印刷油墨,所述印刷治具覆盖在陶瓷表面,其上设有与所述图案对应的镂空孔。
上述治具的镂空孔可以采用电脑排版的方式获得,以使治具的整体图案纹路精细且清晰。需要说明的是,为了保证油墨的遮光效果以及图案的成型效果,可以使油墨的厚度在8-12微米范围内。
在步骤304中,将设置有光学膜以及遮挡层的陶瓷表面浸入退镀液中,并持续浸没预设时间,至去除所述第一区域。
在上述实施例中,可以将设置有光学膜以及遮挡层的陶瓷表面浸入退镀液中,在所述退镀液中持续浸没预设时间,去除所述第一区域。上述预设时间依据光学膜的厚度确定,例如,当薄膜层的厚度在100-300纳米范围内时,预设时间可以是20-40分钟,以去除未被遮挡层覆盖的光学膜的第一区域。或者也可以利用其它化学方法或电化学方法去除第一区域,可以依据光学膜的化学性质则优选择,本公开并不对此进行限制。
需要说明的是,在图2、图3所示的实施例中,在在陶瓷表面涂覆光学膜之前,还可以对陶瓷表面进行抛光处理。抛光处理可以包括打磨并去掉陶瓷表面的刀痕,然后对其进行镜面抛光处理,以使陶瓷表面的表面粗糙度达到0.2微米以下,并且清洗干净。上述方法可以获得平整的陶瓷表面,以便于进行后续光学膜的涂覆工艺。
此外,在图2、图3所示的实施例中,在去除所述第一区域,在陶瓷表面形成所述图案之后,还可以在陶瓷表面设置透光防指纹膜。上述透光防指纹膜可以是AF膜,AF膜既能有效防指纹防油防灰尘,又具有非常高的透光率,可以提升陶瓷表面的用户体验。
利用上述陶瓷表面处理方法对陶瓷表面进行处理可以获得一种陶瓷件,上述陶瓷件可以是手机壳、电脑壳等,本公开并不对此进行限制。下面以陶瓷手机壳为例进行描述和说明:
图4是本公开一示例性实施例中一种陶瓷手机壳的结构示意图。如图4所示,上述陶瓷手机壳1包括陶瓷本体11以及设置在陶瓷本体11上的图案层12。其中,上述图案层12至少包括:涂覆在所述陶瓷本体11上的调色薄膜层121和涂覆在所述调色薄膜层121上的增透薄膜层122。
通过上述陶瓷表面处理方法加工的陶瓷手机壳1,加工工艺简单、效率高且量产性和稳定性较好。
在上述实施例中,调色薄膜层121和增透薄膜层122可以通过物理气相沉积技术(PVD,Physical Vapor Deposition)涂覆在陶瓷手机壳1的表面,PVD工艺形成的调色薄膜层121和增透薄膜层122不导电,对手机信号完全没影响,适用于手机表面处理。调色薄膜层121决定了陶瓷表面形成图案的基础颜色。例如,当想要在陶瓷表面形成具有金属色泽的图案,可以将五氧化三钛或铟作为调色薄膜层121的材质涂覆在陶瓷表面,以获得金色或灰色的金属光泽的图案。增透薄膜层122利用光的干涉原理,使膜前表面与后表面反射的光发生干涉,能够减少反射光的强度从而增加透射光的强度,进而使调色薄膜层121的颜色透亮。
上述调色薄膜层121和增透薄膜层122的厚度改变可以带来图案层12颜色效果的改变,因此,可以根据颜色的需求调整调色薄膜层121和增透薄膜层122的厚度。例如,可以控制图案层12总厚度在100-300纳米范围内,以得到金属颜色效果的图案层12。需要说明的是,上述图案层12也可以包括其他用于改善图案层12颜色效果的涂层,本公开并不对此进行限制。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的技术方案后,将容易想到本公开的其它实施方案。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化,这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的,本公开的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
应当理解的是,本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构,并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。
Claims (9)
1.一种陶瓷表面处理方法,用于在陶瓷表面加工图案,其特征在于,包括:
对陶瓷表面进行抛光处理,以使陶瓷表面的表面粗糙度达到0.2微米以下;
在陶瓷表面涂覆光学膜,所述光学膜能够折射光线以产生预设颜色;在陶瓷表面涂覆光学膜,包括:
在陶瓷表面涂覆调色薄膜层,所述调色薄膜层能够折射光线以产生预设颜色的基础颜色;
在所述调色薄膜层上涂覆增透薄膜层,形成所述光学膜;其中,所述增透薄膜层能够增加光的透射率,以使预设颜色的基础颜色透亮;
在所述光学膜上涂覆与所述图案对应的遮挡层,以使所述光学膜形成暴露在所述遮挡层外的第一区域,所述遮挡层能够保护所述光学膜免受侵蚀;
将设置有光学膜以及遮挡层的陶瓷表面浸入退镀液中,并持续浸没预设时间,至去除所述第一区域。
2.根据权利要求1所述的陶瓷表面处理方法,其特征在于,在所述光学膜上涂覆与所述图案对应的遮挡层,包括:
使用印刷治具向所述陶瓷表面印刷油墨,所述印刷治具覆盖在陶瓷表面,其上设有与所述图案对应的镂空孔。
3.根据权利要求1所述的陶瓷表面处理方法,其特征在于,在去除所述第一区域,在陶瓷表面形成所述图案之后,还包括:在陶瓷表面设置透光防指纹膜,所述透光防指纹膜能够透光且能够避免指纹附着。
4.根据权利要求1所述的陶瓷表面处理方法,其特征在于,所述光学膜通过物理气相沉积技术成型。
5.一种陶瓷件,其特征在于,应用如权利要求1-4任一项所述的陶瓷表面处理方法对所述陶瓷件进行加工,包括陶瓷本体以及设置在所述陶瓷本体上的图案层。
6.根据权利要求5所述的陶瓷件,其特征在于,所述图案层至少包括:涂覆在所述陶瓷本体上的调色薄膜层和涂覆在所述调色薄膜层上的增透薄膜层。
7.根据权利要求6所述的陶瓷件,其特征在于,所述调色薄膜层的材质包括五氧化三钛、铟中至少之一。
8.根据权利要求6所述的陶瓷件,其特征在于,所述增透薄膜层的材质包括二氧化硅。
9.根据权利要求5所述的陶瓷件,其特征在于,所述图案层的厚度范围为100-300纳米。
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