CN114536226B - 一种旋转靶材喷砂清洗系统装置、喷砂清洗方法及用途 - Google Patents

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CN114536226B CN202210320382.0A CN202210320382A CN114536226B CN 114536226 B CN114536226 B CN 114536226B CN 202210320382 A CN202210320382 A CN 202210320382A CN 114536226 B CN114536226 B CN 114536226B
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Abstract

本发明提供了一种旋转靶材喷砂清洗系统装置、喷砂清洗方法及用途,所述的系统装置包括预处理单元与工作台,所述的预处理单元用于对工作台上的旋转靶材依次进行喷砂、清洗与干燥处理;所述的预处理单元包括支架,所述的支架由上至下依次设置有第一横杆与第二横杆,所述第一横杆上设置有干燥组件,所述第二横杆上设置有喷砂组件与清洗组件,所述的工作台包括驱动装置,所述的驱动装置包括分别设置于旋转靶材两侧的传动组件,以及设置于旋转靶材一端的护具。本发明能够防止旋转靶材脱落,确保旋转靶材表面的均匀性,提高靶材的加工的便利性与效率。

Description

一种旋转靶材喷砂清洗系统装置、喷砂清洗方法及用途
技术领域
本发明属于溅射技术领域,涉及旋转靶材,尤其涉及一种旋转靶材喷砂清洗系统装置、喷砂清洗方法及用途。
背景技术
镀膜设备主要使用平面阴极,要求平面靶材与之配套。虽然人们通过设计移动磁场等方式来提高平面靶材的利用率,但目前,平面靶材的利用率高也只能达到40%左右。为了进一步提高靶材利用率,人们设计了使用效率更高的旋转阴极,用管状的靶材进行溅射镀膜。溅射设备的改进要求靶材从平面形状改变为管状,管状旋转靶材的利用率可以高达80%以上。
旋转靶材通常是依次经过原材料机加工、焊接、抛光、喷砂、清洗、干燥和包装进行制备,在整个制备过程中,由于使用设备的局限性,通常会出现靶材表面均匀性低,清洁度不高的问题,同时在旋转过程中无法避免靶材脱落,降低了靶材质量,降低工作效率。
CN206937104U公开了一种靶材除膜用自动喷砂机,包括主机架、输送装置和喷枪组,所述主机架包括依次连接的前段机架、喷砂室和后段机架,该前段机架、喷砂室和后段机架均具有相同水平高度的作业平台,所述输送装置用于驱动靶材工件于所述作业平台上移动,所述喷枪组设置于所述喷砂室内,所述喷砂室的入口处和出口处均设有能将靶材工件夹住的定位机构。
CN105929862A公开了一种高纯度旋转靶材杂质控制方法,包括以下步骤:S1、原料控制:采用粉体原料,且每批体原料需取样经ICP检测纯度并符合要求后再入库;S2、生产控制:在喷涂房内采用密封式混粉机混粉,混粉机使用前用的惰性气体喷洗混粉机的混粉腔及周边区域;S3、清洗控制:靶材表面抛光精磨加工后,对靶材进行清洗;S4、包装控制和运输控制:靶材清洗过后,进行真空包装,靶材密封好后装入运输箱中,同时在运输箱中采缓冲块加以固定。
CN215142618U公开了一种靶材专用清洗装置,包括清洗箱,清洗箱的一侧设有箱门,清洗箱内壁两侧均设有滑槽,两侧滑槽顶端设有液压伸缩杆,清洗箱的内部设有圆环形喷淋头,圆环形喷淋头的外侧壁的两侧均设有支撑杆,支撑杆末端设有滑块,滑块嵌于滑槽内部,并与液压伸缩杆相连,圆环形喷淋头连接着输送软管,输送软管连接着清洗液存储箱,清洗箱内部设有夹持组件。
因此,设计一款新的旋转靶材清洗时适用的装置,解决现有清洗过程中旋转靶材容易脱落,表面不均匀的问题是非常必要的。
发明内容
针对现有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种旋转靶材喷砂清洗系统装置、喷砂清洗方法及用途,能够防止旋转靶材脱落,确保旋转靶材表面的均匀性,提高靶材的加工的便利性与效率。
为达此目的,本发明采用以下技术方案:
第一方面,本发明提供了一种旋转靶材喷砂清洗系统装置,所述的系统装置包括预处理单元与工作台,所述的预处理单元用于对工作台上的旋转靶材依次进行喷砂、清洗与干燥处理;
所述的预处理单元包括支架,所述的支架由上至下依次设置有第一横杆与第二横杆,所述第一横杆上设置有干燥组件,所述第二横杆上设置有喷砂组件与清洗组件,所述的工作台包括驱动装置,所述的驱动装置包括分别设置于旋转靶材两侧的传动组件,以及设置于旋转靶材一端的护具。
本发明提供的旋转靶材喷砂清洗系统装置,利用防具能够防止旋转靶材脱落,造成旋转靶材报废;采用预处理单元实现移动式的喷砂、清洗与干燥过程,确保旋转靶材表面的均匀性,提高靶材的加工的便利性与效率。
作为本发明一个优选技术方案,所述的工作台包括支撑平台,所述的支撑平台用于支撑所述两端的传动组件。
优选地,所述的传动组件包括并排设置的两个滚动轮,将旋转靶材置于所述的两个滚动轮之间,所述滚动轮的转动带动旋转靶材进行转动。
优选地,所述的支撑平台内设置有第一电机,所述的第一电机传动连接所述的滚动轮;
优选地,所述的工作台还包括集尘斗,所述的集尘斗设置于旋转靶材的下方。
需要说明的是,本发明中的集尘斗用于收集喷砂过程中掉落的砂粒,或清洗擦拭过程中产生的飘尘,保持工作环境的洁净,避免旋转靶材的污染。
作为本发明一个优选技术方案,所述的护具包括本体,所述的本体为敞口式的圆盘结构。
优选地,所述本体的半径比旋转靶材的半径大0.8~1.2cm,例如可以是0.8cm、0.85cm、0.9cm、0.95cm、1.0cm、1.1cm或1.2cm,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地,所述本体的宽度为0.6~1.5cm,例如可以是0.6cm、0.65cm、0.7cm、0.75cm、0.8cm、0.9cm、1.0cm、1.1cm、1.2cm、1.3cm、1.4cm或1.5cm,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地,所述本体的表面开设定位孔,将螺栓由所述定位孔插入并与旋转靶材进行可拆卸连接。
需要说明的是,本发明中的旋转靶材为一端设置有法兰的法兰端,另一端为光滑平整结构的帽端,所述本体盖合在旋转靶材的光滑平整结构,以支撑护具,防止掉落。
作为本发明一个优选技术方案,所述第一横杆的两端分别设置有第一滑块,所述第二横杆的两端分别设置有第二滑块,所述的第一滑块与第二滑块分别在所述的支架上滑动。
优选地,所述的支架表面设置有滑槽,所述的第一滑块与第二滑块分别部分伸入所述滑槽内进行滑动。
优选地,所述支架的底部还设置有基底。
作为本发明一个优选技术方案,所述干燥组件的底部设置有第一移动块,所述的第一移动块沿所述第一横杆的表面滑动。
优选地,所述的第一横杆上设置有第二电机,所述的第二电机用于驱动第一移动块进行滑动。
优选地,所述喷砂组件的底部设置有第二移动块,所述清洗组件的底部设置有第三移动块,所述的第二移动块与第三移动块依次沿所述第二横杆的表面滑动。
优选地,所述的第二横杆上设置有第三电机,所述的第三电机用于驱动第二移动块与第三移动进行滑动。
作为本发明一个优选技术方案,所述喷砂组件靠近旋转靶材的一侧并排设置有至少两个喷嘴。
优选地,所述清洗组件靠近工作台的一侧设置有至少两个连接杆,所述连接杆靠近旋转靶材的一端分别设置有清洁海绵。
需要说明的是,本发明中的清洁海绵可采用擦擦克林,其尺寸规格为40×90×140mm,具有较高的清洁能力。
优选地,所述干燥组件靠近工作台的一侧设置有气枪。
第二方面,本发明提供了一种旋转靶材喷砂清洗方法,所述的方法采用第一方面所述的系统装置,所述的方法包括:
将旋转靶材置于工作台,并采用驱动装置使旋转靶材进行转动,随后利用预处理单元对工作台上的旋转靶材依次进行喷砂、清洗与干燥处理。
作为本发明一个优选技术方案,所述的方法具体包括以下步骤:
(Ⅰ)将旋转靶材置于支撑平台上,将护具的本体盖合在旋转靶材的一端,利用螺栓由所述本体表面的定位孔插入进行可拆卸连接,开启第一电机驱动滚动轮进行转动,以带动旋转靶材转动;
(Ⅱ)利用第二滑块将第二横杆移动至旋转靶材的上方,开启第三电机驱动第二移动块在第二横杆表面滑动,以带动喷砂组件进行移动,砂粒由喷嘴均匀喷射至旋转靶材的表面;
(Ⅲ)停止喷砂,所述的第三电机驱动第三移动块沿所述第二横杆的表面滑动,以带动清洗组件进行移动,清洁海绵在旋转靶材表面擦拭;
(Ⅳ)停止擦拭,利用第一滑块将第一横杆移动至旋转靶材的上方,开启第二电机驱动第一移动块沿第一横杆的表面滑动,以带动干燥组件进行移动,气枪对旋转靶材表面进行吹扫干燥,结束干燥,卸下旋转靶材。
作为本发明一个优选技术方案,步骤(Ⅰ)中,旋转靶材的转速为12~23r/min,例如可以是12r/min、13r/min、14r/min、15r/min、16r/min、17r/min、18r/min、19r/min、20r/min、21r/min、22r/min或23r/min,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地,步骤(Ⅱ)中,所述第二移动块沿所述第二横杆往复移动2~3次。
优选地,步骤(Ⅲ)中,所述第三移动块沿所述第二横杆往复移动2~3次。
优选地,所述清洁海绵浸渍有异丙醇。
优选地,所述第二移动块与第三移动块的移动速度独立地为0.12~0.23m/min,例如可以是0.12r/min、0.13r/min、0.14r/min、0.15r/min、0.16r/min、0.17r/min、0.18r/min、0.19r/min、0.20r/min、0.21r/min、0.22r/min或0.23r/min,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地,步骤(Ⅳ)中,所述第一移动块的移动速度为0.06~0.15m/min,例如可以是0.12r/min、0.13r/min、0.14r/min、0.15r/min、0.16r/min、0.17r/min、0.18r/min、0.19r/min、0.20r/min、0.21r/min、0.22r/min或0.23r/min,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地,所述干燥的时间为25~45min,例如可以是25min、26min、28min、30min、32min、35min、40min、43min或45min,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
第三方面,本发明提供给了一种第一方面所述的系统装置的用途,所述的系统装置用于微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材或导电膜靶材。
所述系统是指设备系统、装置系统或生产装置。
与现有技术相比,本发明的有益效果为:
本发明提供的一种旋转靶材喷砂清洗系统装置、喷砂清洗方法及用途,利用防具能够防止旋转靶材脱落,造成旋转靶材报废;采用预处理单元实现移动式的喷砂、清洗与干燥过程,确保旋转靶材表面的均匀性,提高靶材的加工的便利性与效率。
附图说明
图1为本发明一个具体实施方式提供的预处理单元的结构示意图;
图2为本发明一个具体实施方式提供的工作台的结构示意图;
图3为本发明一个具体实施方式提供的护具的结构示意图。
其中,1-支架;2-工作台;3-旋转靶材;4-第一横杆;5-第二横杆;6-第一移动块;7-第二移动块;8-第三移动块;9-第一滑块;10-第二滑块;11-干燥组件;12-喷砂组件;13-清洗组件;14-基底;15-护具;16-滚动轮;17-集尘斗;18-支撑平台。
具体实施方式
需要理解的是,在本发明的描述中,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
需要说明的是,在本发明的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以通过具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
在一个具体实施方式中,本发明提供了一种旋转靶材喷砂清洗系统装置,所述的系统装置包括预处理单元与工作台2,所述的预处理单元用于对工作台2上的旋转靶材3依次进行喷砂、清洗与干燥处理。
如图1所示,所述的预处理单元包括支架1,所述的支架1由上至下依次设置有第一横杆4与第二横杆5,所述第一横杆4上设置有干燥组件11,所述第二横杆5上设置有喷砂组件12与清洗组件13,所述的工作台2包括驱动装置,所述的驱动装置包括分别设置于旋转靶材3两侧的传动组件,以及设置于旋转靶材3一端的护具15。
进一步地,如图2所示,所述的工作台2包括支撑平台18,所述的支撑平台18用于支撑所述两端的传动组件。所述的传动组件包括并排设置的两个滚动轮16,将旋转靶材3置于所述的两个滚动轮16之间,所述滚动轮16的转动带动旋转靶材3进行转动。所述的支撑平台18内设置有第一电机,所述的第一电机传动连接所述的滚动轮16;所述的工作台2还包括集尘斗17,所述的集尘斗17设置于旋转靶材3的下方。本发明中的集尘斗17用于收集喷砂过程中掉落的砂粒,或清洗擦拭过程中产生的飘尘,保持工作环境的洁净,避免旋转靶材3的污染。
进一步地,如图3所示,所述的护具15包括本体,所述的本体为敞口式的圆盘结构。所述本体的半径比旋转靶材3的半径大0.8~1.2cm,所述本体的宽度为0.6~1.5cm,所述本体的表面开设定位孔,将螺栓由所述定位孔插入并与旋转靶材3进行可拆卸连接。
进一步地,所述第一横杆4的两端分别设置有第一滑块9,所述第二横杆5的两端分别设置有第二滑块10,所述的第一滑块9与第二滑块10分别在所述的支架1上滑动。所述的支架1表面设置有滑槽,所述的第一滑块9与第二滑块10分别部分伸入所述滑槽内进行滑动。所述支架1的底部还设置有基底14。
进一步地,所述干燥组件11的底部设置有第一移动块6,所述的第一移动块6沿所述第一横杆4的表面滑动。所述的第一横杆4上设置有第二电机,所述的第二电机用于驱动第一移动块6进行滑动。所述喷砂组件12的底部设置有第二移动块7,所述清洗组件13的底部设置有第三移动块8,所述的第二移动块7与第三移动块8依次沿所述第二横杆5的表面滑动。所述的第二横杆5上设置有第三电机,所述的第三电机用于驱动第二移动块7与第三移动进行滑动。
进一步地,所述喷砂组件12靠近旋转靶材3的一侧并排设置有至少两个喷嘴。所述清洗组件13靠近工作台2的一侧设置有至少两个连接杆,所述连接杆靠近旋转靶材3的一端分别设置清洁海绵。所述干燥组件11靠近工作台2的一侧设置有气枪。
在另一个具体实施方式中,本发明提供了一种旋转靶材喷砂清洗方法,所述的方法具体包括以下步骤:
(1)将旋转靶材3置于支撑平台18上,将护具15的本体盖合在旋转靶材3的一端,利用螺栓由所述本体表面的定位孔插入进行可拆卸连接,开启第一电机驱动滚动轮16进行转动,并带动旋转靶材3以12~23r/min的转速进行转动;
(2)利用第二滑块10将第二横杆5移动至旋转靶材3的上方,开启第三电机驱动第二移动块7在第二横杆5表面往复移动2~3次,以带动喷砂组件12进行移动,砂粒由喷嘴均匀喷射至旋转靶材3的表面,第二移动块7的移动速度为0.12~0.23m/min;
(3)停止喷砂,所述的第三电机驱动第三移动块8沿所述第二横杆5的表面往复移动2~3次,以带动清洗组件13进行移动,清洁海绵在旋转靶材3表面擦拭,第三移动块8的移动速度为0.12~0.23m/min,清洁海绵浸渍有异丙醇;
(4)停止擦拭,利用第一滑块9将第一横杆4移动至旋转靶材3的上方,开启第二电机驱动第一移动块6沿第一横杆4的表面滑动,以带动干燥组件11进行移动,气枪对旋转靶材3表面进行25~45min的吹扫干燥,第一移动块6的移动速度为0.06~0.15m/min,结束干燥,卸下旋转靶材3。
实施例1
本实施例提供了一种旋转靶材喷砂清洗系统装置,包括预处理单元与工作台2,预处理单元用于对工作台2上的旋转靶材3依次进行喷砂、清洗与干燥处理。
预处理单元包括支架1,支架1由上至下依次设置有第一横杆4与第二横杆5,第一横杆4上设置有干燥组件11,第二横杆5上设置有喷砂组件12与清洗组件13,支架1底部还设置有基底14。第一横杆4的两端分别设置有第一滑块9,第二横杆5的两端分别设置有第二滑块10,支架1表面设置有滑槽,第一滑块9与第二滑块10分别部分伸入滑槽内进行滑动。
干燥组件11的底部设置有第一移动块6,沿第一横杆4的表面滑动。第一横杆4上设置有第二电机,用于驱动第一移动块6进行滑动,干燥组件11靠近工作台2的一侧设置有气枪。
喷砂组件12的底部设置有第二移动块7,喷砂组件12靠近旋转靶材3的一侧并排设置有三个喷嘴。清洗组件13的底部设置有第三移动块8,清洗组件13靠近工作台2的一侧设置有两个连接杆,连接杆靠近旋转靶材3的一端分别设置清洁海绵,清洁海绵采用擦擦克林。第二横杆5上设置有第三电机,用于驱动第二移动块7与第三移动沿第二横杆5的表面滑动。
工作台2包括支撑平台18与驱动装置,驱动装置包括分别设置于旋转靶材3两侧的传动组件,以及设置于旋转靶材3一端的护具15,支撑平台18用于支撑两端的传动组件。传动组件包括并排设置的两个滚动轮16,将旋转靶材3置于所述的两个滚动轮16之间,滚动轮16的转动带动旋转靶材3进行转动。护具15包括本体,本体为敞口式的圆盘结构,本体的半径比旋转靶材3的半径大1cm,本体的宽度为1cm,本体的表面开设定位孔,将螺栓由定位孔插入并与旋转靶材3进行可拆卸连接。支撑平台18内设置有第一电机,第一电机传动连接滚动轮16;旋转靶材3的下方还设置有集尘斗17。
实施例2
本实施例提供了一种旋转靶材喷砂清洗方法,采用实施例1提供的旋转靶材喷砂清洗系统装置,具体包括以下步骤:
(1)将旋转靶材3置于支撑平台18上,将护具15的本体盖合在旋转靶材3的一端,利用螺栓由所述本体表面的定位孔插入进行可拆卸连接,开启第一电机驱动滚动轮16进行转动,并带动旋转靶材3以18r/min的转速进行转动;
(2)利用第二滑块10将第二横杆5移动至旋转靶材3的上方,开启第三电机驱动第二移动块7在第二横杆5表面往复移动2次,以带动喷砂组件12进行移动,砂粒由喷嘴均匀喷射至旋转靶材3的表面,第二移动块7的移动速度为0.2m/min;
(3)停止喷砂,所述的第三电机驱动第三移动块8沿所述第二横杆5的表面往复移动2次,以带动清洗组件13进行移动,清洁海绵在旋转靶材3表面擦拭,第三移动块8的移动速度为0.18m/min,清洁海绵浸渍有异丙醇;
(4)停止擦拭,利用第一滑块9将第一横杆4移动至旋转靶材3的上方,开启第二电机驱动第一移动块6沿第一横杆4的表面滑动,以带动干燥组件11进行移动,气枪对旋转靶材3表面进行40min的吹扫干燥,第一移动块6的移动速度为0.1m/min,结束干燥,卸下旋转靶材3。
本实施例的旋转靶材3在整个喷砂、清洁与干燥过程中均为发生脱落的现象。
实施例3
本实施例提供了一种旋转靶材喷砂清洗方法,采用实施例1提供的旋转靶材喷砂清洗系统装置,具体包括以下步骤:
(1)将旋转靶材3置于支撑平台18上,将护具15的本体盖合在旋转靶材3的一端,利用螺栓由所述本体表面的定位孔插入进行可拆卸连接,开启第一电机驱动滚动轮16进行转动,并带动旋转靶材3以12r/min的转速进行转动;
(2)利用第二滑块10将第二横杆5移动至旋转靶材3的上方,开启第三电机驱动第二移动块7在第二横杆5表面往复移动2次,以带动喷砂组件12进行移动,砂粒由喷嘴均匀喷射至旋转靶材3的表面,第二移动块7的移动速度为0.12m/min;
(3)停止喷砂,所述的第三电机驱动第三移动块8沿所述第二横杆5的表面往复移动2次,以带动清洗组件13进行移动,清洁海绵在旋转靶材3表面擦拭,第三移动块8的移动速度为0.12m/min,清洁海绵浸渍有异丙醇;
(4)停止擦拭,利用第一滑块9将第一横杆4移动至旋转靶材3的上方,开启第二电机驱动第一移动块6沿第一横杆4的表面滑动,以带动干燥组件11进行移动,气枪对旋转靶材3表面进行25min的吹扫干燥,第一移动块6的移动速度为0.06m/min,结束干燥,卸下旋转靶材3。
本实施例的旋转靶材3在整个喷砂、清洁与干燥过程中均为发生脱落的现象。
实施例4
本实施例提供了一种旋转靶材喷砂清洗方法,采用实施例1提供的旋转靶材喷砂清洗系统装置,具体包括以下步骤:
(1)将旋转靶材3置于支撑平台18上,将护具15的本体盖合在旋转靶材3的一端,利用螺栓由所述本体表面的定位孔插入进行可拆卸连接,开启第一电机驱动滚动轮16进行转动,并带动旋转靶材3以15r/min的转速进行转动;
(2)利用第二滑块10将第二横杆5移动至旋转靶材3的上方,开启第三电机驱动第二移动块7在第二横杆5表面往复移动3次,以带动喷砂组件12进行移动,砂粒由喷嘴均匀喷射至旋转靶材3的表面,第二移动块7的移动速度为0.15m/min;
(3)停止喷砂,所述的第三电机驱动第三移动块8沿所述第二横杆5的表面往复移动2次,以带动清洗组件13进行移动,清洁海绵在旋转靶材3表面擦拭,第三移动块8的移动速度为0.15m/min,清洁海绵浸渍有异丙醇;
(4)停止擦拭,利用第一滑块9将第一横杆4移动至旋转靶材3的上方,开启第二电机驱动第一移动块6沿第一横杆4的表面滑动,以带动干燥组件11进行移动,气枪对旋转靶材3表面进行30min的吹扫干燥,第一移动块6的移动速度为0.1m/min,结束干燥,卸下旋转靶材3。
本实施例的旋转靶材3在整个喷砂、清洁与干燥过程中均为发生脱落的现象。
实施例5
本实施例提供了一种旋转靶材喷砂清洗方法,采用实施例1提供的旋转靶材喷砂清洗系统装置,具体包括以下步骤:
(1)将旋转靶材3置于支撑平台18上,将护具15的本体盖合在旋转靶材3的一端,利用螺栓由所述本体表面的定位孔插入进行可拆卸连接,开启第一电机驱动滚动轮16进行转动,并带动旋转靶材3以20r/min的转速进行转动;
(2)利用第二滑块10将第二横杆5移动至旋转靶材3的上方,开启第三电机驱动第二移动块7在第二横杆5表面往复移动2次,以带动喷砂组件12进行移动,砂粒由喷嘴均匀喷射至旋转靶材3的表面,第二移动块7的移动速度为0.18m/min;
(3)停止喷砂,所述的第三电机驱动第三移动块8沿所述第二横杆5的表面往复移动3次,以带动清洗组件13进行移动,清洁海绵在旋转靶材3表面擦拭,第三移动块8的移动速度为0.2m/min,清洁海绵浸渍有异丙醇;
(4)停止擦拭,利用第一滑块9将第一横杆4移动至旋转靶材3的上方,开启第二电机驱动第一移动块6沿第一横杆4的表面滑动,以带动干燥组件11进行移动,气枪对旋转靶材3表面进行35min的吹扫干燥,第一移动块6的移动速度为0.12m/min,结束干燥,卸下旋转靶材3。
本实施例的旋转靶材3在整个喷砂、清洁与干燥过程中均为发生脱落的现象。
实施例6
本实施例提供了一种旋转靶材喷砂清洗方法,采用实施例1提供的旋转靶材喷砂清洗系统装置,具体包括以下步骤:
(1)将旋转靶材3置于支撑平台18上,将护具15的本体盖合在旋转靶材3的一端,利用螺栓由所述本体表面的定位孔插入进行可拆卸连接,开启第一电机驱动滚动轮16进行转动,并带动旋转靶材3以23r/min的转速进行转动;
(2)利用第二滑块10将第二横杆5移动至旋转靶材3的上方,开启第三电机驱动第二移动块7在第二横杆5表面往复移动3次,以带动喷砂组件12进行移动,砂粒由喷嘴均匀喷射至旋转靶材3的表面,第二移动块7的移动速度为0.23m/min;
(3)停止喷砂,所述的第三电机驱动第三移动块8沿所述第二横杆5的表面往复移动3次,以带动清洗组件13进行移动,清洁海绵在旋转靶材3表面擦拭,第三移动块8的移动速度为0.23m/min,清洁海绵浸渍有异丙醇;
(4)停止擦拭,利用第一滑块9将第一横杆4移动至旋转靶材3的上方,开启第二电机驱动第一移动块6沿第一横杆4的表面滑动,以带动干燥组件11进行移动,气枪对旋转靶材3表面进行45min的吹扫干燥,第一移动块6的移动速度为0.15m/min,结束干燥,卸下旋转靶材3。
本实施例的旋转靶材3在整个喷砂、清洁与干燥过程中均为发生脱落的现象。
对比例1
本对比例提供了一种旋转靶材喷砂清洗方法,与实施例2的区别在于:步骤(3)中,其采用的清洁海绵没有浸渍异丙醇,其余操作条件及工艺参数与实施例2完全相同。
本对比例的旋转靶材3在整个喷砂、清洁与干燥过程中均为发生脱落的现象。
对比例2
本对比例提供了一种旋转靶材喷砂清洗方法,与实施例2的区别在于:步骤(1)中,没有采用护具15,其余操作条件及工艺参数与实施例2完全相同。
本对比例的旋转靶材3在整个喷砂与清洁过程中分别发生一次脱落的现象。
1.测试本发明实施例2~6,以及对比例1和2中旋转靶材3表面的粗糙度,测试方法采用GB/T1013-2009,测试结果如表1所示。
2.将实施例2~6,以及对比例1和2中的旋转靶材3进行包装,再应用于磁控溅射中,并测量使用最大功率,结果如表1所示。
表1
Figure BDA0003570298890000161
由表1内容可知,实施例2~6得到的旋转靶材3表面的均匀性较高,崩边崩角数量少,在合理范围内,使用手柄均≥2089kWh,提升了旋转靶材3的洁净度,延长使用寿命。由表1可知,对比例1中的旋转靶材3的应用最大功率均低于实施例2~6中的旋转靶材3,这主要是由于对比例1中使用的清洗组件13中清洁海绵为浸渍异丙醇,导致清洁度不够,降低了旋转靶材3的使用寿命。对比例2中的旋转靶材在喷砂和清洗过程中均发生了脱落,主要是由于未使用防具,旋转靶材3在滚动轮16的转动下容易脱落,进而降低工作效率,不利于旋转靶材3表面的均匀性。
本发明提供的旋转靶材喷砂清洗系统装置,利用防具能够防止旋转靶材3脱落,造成旋转靶材3报废;采用预处理单元实现移动式的喷砂、清洗与干燥过程,确保旋转靶材3表面的均匀性,提高靶材的加工的便利性与效率。
申请人声明,以上所述仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,所属技术领域的技术人员应该明了,任何属于本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,均落在本发明的保护范围和公开范围之内。

Claims (18)

1.一种旋转靶材喷砂清洗系统装置,其特征在于,所述的系统装置包括预处理单元与工作台,所述的预处理单元用于对工作台上的旋转靶材依次进行喷砂、清洗与干燥处理;
所述的预处理单元包括支架,所述的支架由上至下依次设置有第一横杆与第二横杆,所述第一横杆的两端分别设置有第一滑块,所述第二横杆的两端分别设置有第二滑块,所述的第一滑块与第二滑块分别在所述的支架上滑动;
所述第一横杆上设置有干燥组件,所述干燥组件的底部设置有第一移动块,所述的第一移动块沿所述第一横杆的表面滑动,所述干燥组件靠近工作台的一侧设置有气枪;
所述第二横杆上设置有喷砂组件与清洗组件,所述喷砂组件的底部设置有第二移动块,所述清洗组件的底部设置有第三移动块,所述的第二移动块与第三移动块依次沿所述第二横杆的表面滑动,所述喷砂组件靠近旋转靶材的一侧并排设置有至少两个喷嘴,所述清洗组件靠近工作台的一侧设置有至少两个连接杆,所述连接杆靠近旋转靶材的一端分别设置有清洁海绵;
所述的工作台包括驱动装置,所述的驱动装置包括分别设置于旋转靶材两侧的传动组件,以及设置于旋转靶材一端的护具;所述的工作台还包括支撑平台,所述的支撑平台用于支撑所述两端的传动组件,所述的传动组件包括并排设置的两个滚动轮,将旋转靶材置于所述的两个滚动轮之间,所述滚动轮的转动带动旋转靶材进行转动;
所述的护具包括本体,所述的本体为敞口式的圆盘结构,所述本体的半径比旋转靶材的半径大0.8~1.2cm,所述本体的表面开设定位孔,将螺栓由所述定位孔插入并与旋转靶材进行可拆卸连接。
2.根据权利要求1所述的系统装置,其特征在于,所述的支撑平台内设置有第一电机,所述的第一电机传动连接所述的滚动轮。
3.根据权利要求1所述的系统装置,其特征在于,所述的工作台还包括集尘斗,所述的集尘斗设置于旋转靶材的下方。
4.根据权利要求1所述的系统装置,其特征在于,所述本体的宽度为0.6~1.5cm。
5.根据权利要求1所述的系统装置,其特征在于,所述的支架表面设置有滑槽,所述的第一滑块与第二滑块分别部分伸入所述滑槽内进行滑动。
6.根据权利要求1所述的系统装置,其特征在于,所述支架的底部还设置有基底。
7.根据权利要求1所述的系统装置,其特征在于,所述的第一横杆上设置有第二电机,所述的第二电机用于驱动第一移动块进行滑动。
8.根据权利要求1所述的系统装置,其特征在于,所述的第二横杆上设置有第三电机,所述的第三电机用于驱动第二移动块与第三移动进行滑动。
9.一种旋转靶材喷砂清洗方法,其特征在于,所述的方法采用权利要求1-8任一项所述的系统装置,所述的方法包括:
将旋转靶材置于工作台,并采用驱动装置使旋转靶材进行转动,随后利用预处理单元对工作台上的旋转靶材依次进行喷砂、清洗与干燥处理。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述的方法具体包括以下步骤:
(Ⅰ)将旋转靶材置于支撑平台上,将护具的本体盖合在旋转靶材的一端,利用螺栓由所述本体表面的定位孔插入进行可拆卸连接,开启第一电机驱动滚动轮进行转动,以带动旋转靶材转动;
(Ⅱ)利用第二滑块将第二横杆移动至旋转靶材的上方,开启第三电机驱动第二移动块在第二横杆表面滑动,以带动喷砂组件进行移动,砂粒由喷嘴均匀喷射至旋转靶材的表面;
(Ⅲ)停止喷砂,所述的第三电机驱动第三移动块沿所述第二横杆的表面滑动,以带动清洗组件进行移动,清洁海绵在旋转靶材表面擦拭;
(Ⅳ)停止擦拭,利用第一滑块将第一横杆移动至旋转靶材的上方,开启第二电机驱动第一移动块沿第一横杆的表面滑动,以带动干燥组件进行移动,气枪对旋转靶材表面进行吹扫干燥,结束干燥,卸下旋转靶材。
11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,步骤(Ⅰ)中,旋转靶材的转速为12~23r/min。
12.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,步骤(Ⅱ)中,所述第二移动块沿所述第二横杆往复移动2~3次。
13.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,步骤(Ⅲ)中,所述第三移动块沿所述第二横杆往复移动2~3次。
14.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,所述清洁海绵浸渍有异丙醇。
15.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,所述第二移动块与第三移动块的移动速度独立地为0.12~0.23m/min。
16.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,步骤(Ⅳ)中,所述第一移动块的移动速度为0.06~0.15m/min。
17.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,所述干燥的时间为25~45min。
18.一种权利要求1-8任一项所述的系统装置的用途,其特征在于,所述的系统装置用于微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材或导电膜靶材。
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