CN114429924A - 衬底处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明的衬底处理装置对衬底供给流体而进行处理，所述装置包含以下要素：第1处理壳体；处理部，设置在所述第1处理壳体的内部，用于利用流体对载置于载置部的衬底进行处理；第1供给部，从所述第1处理壳体的供进行维护的正侧面观察时，配置在所述处理部的一侧方，对所述处理部供给第1流体；及第2供给部，从所述正侧面观察时，配置在所述处理部的另一侧方，对所述处理部供给第2流体。

Description

衬底处理装置

技术领域

本发明涉及一种衬底处理装置，通过对半导体晶圆、液晶显示器或有机EL(Electroluminescence，电致发光)显示装置用衬底、光掩模用玻璃衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、陶瓷衬底、太阳电池用衬底等衬底(以下，简称为衬底)供给处理液或处理气体等流体来进行处理。

背景技术

以往，这种装置中，有些具备壳体、处理部及供给部。例如，参照日本专利特开2017-163103号公报(图1)。壳体具备处理部及供给部。处理部利用各种处理液对衬底进行处理。供给部向处理部供给各种处理液。供给部在从作业人员对装置进行维护时所进出的正侧面观察时，只与处理部的左右方向的一侧邻接而配置。该一侧例如为右侧。供给部例如对处理部供给两种处理液(例如，酸、碱)。

壳体在装置的与正侧面相反一侧的背侧面，设置有用于在与处理部之间交接衬底的搬入搬出口。处理部于俯视时在中央具备载置衬底的载置部。供给部具备供给处理液的喷嘴。喷嘴的前端部在位于载置部上方的供给位置与离开载置部的待机位置之间回转。回转是以喷嘴的基端部为轴来进行。这种构成中，配备两根喷嘴的情况下，要使各喷嘴互不干涉地分散配置在处理部中。

各喷嘴的基端部分散地配置在处理部内的载置部的周围。具体来说，一喷嘴的基端部在从处理部的正侧面观察时配置在右侧。一喷嘴在俯视时沿着处理部的从正侧面向背侧面的一边配置。一喷嘴从供给部起沿着正侧面配置配管，并通过该配管被供给处理液。另一喷嘴的基端部在从处理部的正侧面观察时配置在左侧。另一喷嘴在俯视时沿着处理部的从正侧面向背侧面的一边配置。也就是说，另一喷嘴与一喷嘴相比配置在远离供给部的位置。换句话说，另一喷嘴隔着处理部的载置部配置在供给部的相反侧。

然而，具有这种构成的以往的例子存在如下问题。

即，在以往的装置中，另一喷嘴为了避开沿着正侧面配置的一喷嘴的配管，需要从供给部起沿着背侧面连接配管。因此，另一喷嘴配置在距供进行维护的正侧面最远的位置，所以难以进出该配管。结果为，存在维护性差的问题。另外，如果沿着背侧面连接配管，则配管长度会变长。像这样配管长度变长时，还会产生处理液的滞留量增加，或者未经调温的处理液增加这样的问题。

发明内容

本发明是鉴于这种情况而完成，目的在于提供一种通过对配置进行设计，而能提高维护性且能缩短配管长度的衬底处理装置。

本发明为了达成这种目的而采用如下构成。

本发明是一种衬底处理装置，对衬底供给流体而进行处理，所述装置包含以下要素：第1处理壳体；处理部，设置在所述第1处理壳体的内部，用于利用流体对载置于载置部的衬底进行处理；第1供给部，从所述第1处理壳体的供进行维护的正侧面观察时，配置在所述处理部的一侧方，对所述处理部供给第1流体；及第2供给部，从所述正侧面观察时配置在所述处理部的另一侧方，对所述处理部供给第2流体。

根据本发明，衬底处理装置于第1处理壳体中具备处理部，且具备对处理部供给第1流体的第1供给部、及对处理部供给第2流体的第2供给部。第1供给部在从第1处理壳体的正侧面观察时，配置在处理部的一侧方，第2供给部在从第1处理壳体的正侧面观察时配置在处理部的另一侧方。因此，并没有在位于正侧面的相反侧且难以进出的背侧面配置第1供给部或第2供给部。结果为，第1供给部及第2供给部均可容易地从正侧面进出，所以能提高维护性。另外，第1供给部及第2供给部可缩短配管长度。

另外，在本发明中，优选为，所述第1供给部具备：第1喷嘴，对载置于所述载置部的衬底供给所述第1流体；及第1流体供给部，对所述第1喷嘴供给所述第1流体；所述第2供给部具备：第2喷嘴，对载置于所述载置部的衬底供给所述第2流体；及第2流体供给部，对所述第2喷嘴供给所述第2流体。

第1喷嘴及第1流体供给部在从第1处理壳体的正侧面观察时配置在处理部的一侧方。第2喷嘴及第2流体供给部在从第1处理壳体的正侧面观察时配置在处理部的另一侧方。因此，第1喷嘴及第1流体供给部、与第2喷嘴及第2流体供给部均可容易地从正侧面进出，所以能提高维护性。

另外，在本发明中，优选为，所述第1喷嘴具备：基端部，从所述第1流体供给部被供给所述第1流体；喷出部，与所述基端部连通连接；及臂，将所述基端部与所述喷出部连结；且所述基端部配置在比所述载置部更靠所述第1流体供给部侧，所述喷出部以所述基端部为中心在位于所述载置部上方的供给位置与离开所述载置部的待机位置之间摆动，所述第2喷嘴具备：基端部，从所述第2流体供给部被供给所述第2流体；喷出部，与所述基端部连通连接；及臂，将所述基端部与所述喷出部连结；且所述基端部配置在比所述载置部更靠所述第2流体供给部侧，所述喷出部以所述基端部为中心在位于所述载置部上方的供给位置与离开所述载置部的待机位置之间摆动。

第1喷嘴的基端部配置在比载置部更靠第1流体供给部侧。第2喷嘴的基端部配置在比载置部更靠第2流体供给部侧。因此，可将第1流体供给部与第1喷嘴的基端部在正侧面侧连通连接。另外，可将第2流体供给部与第2喷嘴的基端部在正侧面侧连通连接。结果为，能缩短连通连接的距离，因此能提高维护性。

另外，在本发明中，优选为，所述第1流体与所述第2流体为不同的流体。

第1流体例如为有机溶剂、酸性溶液、碱性溶液及惰性气体中的任一种。第2流体为与第1流体不同的流体。由于可对处理部供给不同的流体，所以能进行各种处理。

另外，在本发明中，优选为，所述第1流体及所述第2流体为液体。

第1流体及第2流体例如为有机溶剂、酸性溶液或碱性溶液。

另外，在本发明中，优选为，所述第1流体供给部具备：第1流体贮存部，贮存所述第1流体，且具备输出所述第1流体的输送部及供所述第1流体回流的回流部；供给管，与所述第1流体贮存部的所述输送部连通连接；回收管，与所述第1流体贮存部的所述回流部连通连接；回收部，设置在所述待机位置，回收从所述第1喷嘴供给的所述第1流体；排出管，与所述回收部连通连接，将由所述回收部回收的所述第1流体排出；供给分支管，一端部与所述供给管连通连接，另一端部与所述基端部连通连接；流量计，测量所述供给分支管中的所述第1流体的流量；流量调整阀，设置在比所述流量计更靠所述供给分支管的所述基端部侧，操控所述供给分支管中的所述第1流体的流量；及供给控制阀，用于从所述喷嘴供给及停止供给经所述流量调整阀调整的所述第1流体。

第1流体供给部具备第1流体贮存部、与该输送部连通连接的供给管、从供给管分支且与基端部连通连接的供给分支管、流量计、流量调整阀及供给控制阀。因此，可一边利用流量调整阀操控流量并利用流量计监视流量，一边利用供给控制阀操控第1流体从喷嘴的供给及停止。

另外，在本发明中，优选为，所述流量调整阀配置在所述第1处理壳体的靠近所述正侧面的位置。

流量调整阀配置在第1处理壳体的靠近正侧面的位置。因此，可容易地进行流量调整阀的维护。

另外，在本发明中，优选为，所述第1流体供给部还具备：回流配管，一端侧连通连接在所述供给分支管中的所述供给控制阀与所述流量调整阀之间，另一端侧与所述回收管连通连接；及回流开关阀，设置在所述回流配管，容许及阻断所述回流配管中的所述第1流体的流通；且当所述第1喷嘴位于待机位置时，关闭所述供给控制阀，打开所述回流开关阀，使所述第1流体经由所述回流配管回流到所述第1流体贮存部，而使所述第1流体循环。

如果第1流体长时间滞留在配管路径中，则有污物积存在第1流体中或配管的成分溶出而使品质下降的情况。当第1喷嘴位于待机位置时，关闭供给控制阀，打开回流开关阀，使第1流体经由回流配管回流到第1流体贮存部，而使第1流体循环。因此，第1流体不会长时间滞留在配管路径中。结果为，能抑制第1流体的品质下降，所以能高清洁度地对衬底进行处理。

另外，在本发明中，优选为具备：第1手动开关阀，设置在所述供给分支管，以手动的方式容许及阻断所述供给分支管中的所述第1流体的流通；及第2手动开关阀，设置在所述回流配管，以手动的方式容许及阻断所述回流配管中的所述第1流体的流通。

通过手动操控第1手动开关阀及第2手动开关阀来进行阻断，可将第1喷嘴从供给管分离。因此，可在不停止从第1流体贮存部的供给的情况下，进行第1喷嘴的维护。

另外，在本发明中，优选为，所述第1流体为有机溶剂，所述流量计及所述流量调整阀收容在气体氛围相对于周围被遮蔽的遮蔽容器中，所述遮蔽容器的内部被排气。

设置在供给分支管的流量计及流量调整阀可能成为有机溶剂挥发而成的气体的点火源。因此，将流量计及流量调整阀收容在遮蔽容器中，并将内部排气，所以能防止有机溶剂挥发而成的气体滞留在遮蔽容器中。因此，能构成防爆结构，从而能安全地进行处理。

另外，在本发明中，优选为，所述第1手动开关阀及所述第2手动开关阀配置在所述第1处理壳体的靠近所述正侧面的位置。

第1手动开关阀及第2手动开关阀是为了进行维护而对供给分支管及回流配管的流通进行操控。因此，将第1手动开关阀及第2手动开关阀配置在第1处理壳体的靠近正侧面的位置，所以能在维护时容易地进行操控。

另外，在本发明中，优选为，所述第1喷嘴及所述第2喷嘴的所述基端部配置在所述第1处理壳体的靠近所述正侧面的位置。

基端部被供给第1流体或第2流体。因此，由于将基端部配置在第1处理壳体的靠近正侧面的位置，所以能使与第1流体或第2流体的供给相关的维护变得容易。

另外，在本发明中，优选为，与所述第1供给部邻接地配置有将来自所述处理部的气体排出的排气箱。

与第1供给部邻接地具备排气箱。因此，能提高第1处理壳体中第1供给部侧的空间的使用效率。

另外，在本发明中，优选为还具备配置在所述第1处理壳体下方的第2处理壳体，所述第2处理壳体具备：处理部，设置在所述第2处理壳体的内部，用于利用流体对载置于载置部的衬底进行处理；第1流体供给部，从所述第2处理壳体的供进行维护的正侧面观察时，配置在所述处理部的一侧方，对所述处理部供给第1流体；及第2流体供给部，从所述正侧面观察时，配置在所述处理部的另一侧方，对所述处理部供给第2流体。

即使是在第1处理壳体的下方配置有第2处理壳体的多层构成的衬底处理装置，也没有在位于正侧面的相反侧且难以进出的背侧面配置第1供给部或第2供给部。结果为，第1供给部及第2供给部均可容易地从正侧面进出，所以能提高维护性。

附图说明

图1是表示实施例的衬底处理装置的横剖视图。

图2是衬底处理装置的前后方向的纵剖视图。

图3是图1的箭头E-E的纵剖视图。

图4是表示衬底处理装置的右部的构成的右侧视图。

图5是表示衬底处理装置的左部的构成的左侧视图。

图6是表示处理单元的横剖视图。

图7是表示第1供给部的供给系统的示意图。

图8是表示第1供给部处于待机状态的情况的示意图。

图9是表示从第1供给部供给第1流体的情况的示意图。

图10是表示维护第1供给部的供给系统的情况的示意图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施例进行说明。图1是表示实施例的衬底处理装置的横剖视图。图2是衬底处理装置的前后方向X的纵剖视图。

＜衬底处理装置的构成＞

衬底处理装置1对衬底W进行处理。衬底W例如为半导体晶圆。衬底W是大致圆形的薄平板。

衬底处理装置1具备移载传送部3及处理块5。处理块5连接于移载传送部3。移载传送部3与处理块5沿水平方向排列。移载传送部3在与处理块5之间交接衬底W。处理块5利用流体对衬底W进行处理。流体例如为处理液或处理气体等。

在本说明书中，为方便起见，将移载传送部3与处理块5排列的水平方向称为“前后方向X”。将前后方向X上的从处理块5朝向移载传送部3的方向称为“前方”。将与前方相反的方向称为“后方”。将与前后方向X正交的水平方向称为“宽度方向Y”。将“宽度方向Y”的一方向适当地称为“右方”。将与右方相反的方向称为“左方”。将相对于水平方向垂直的方向称为“铅直方向Z”。在各图中，作为参考，适当地示出前、后、右、左、上、下。当无须特别区分“前方”、“后方”、“右方”及“左方”时，称为“侧方”。

＜移载传送部3的构成＞

移载传送部3具备多个载具载置部7。在本实施例中，移载传送部3具备4个载具载置部7。载具载置部7沿宽度方向Y排列。各载具载置部7分别载置1个载具C。载具C收容多片衬底W。载具C例如为FOUP(front opening unified pod，前开式晶圆传送盒)。

移载传送部3具备搬送空间9。搬送空间9配置在载具载置部7的后方。搬送空间9是沿着4个载具载置部7在宽度方向Y上延伸的空间。

移载传送部3具备1个搬送机构11。搬送机构11设置在搬送空间9中。搬送机构11配置在载具载置部7的后方。搬送机构11搬送衬底W。搬送机构11能够进出载置于载具载置部4的载具C。

搬送机构11具备2个手13a、13b及手驱动部15。手13a、13b分别以水平姿势支撑1片衬底W。手驱动部15具备多关节臂，使2个手13a、13b移动。手驱动部15使2个手13a、13b沿前后方向X、宽度方向Y及铅直方向Z移动。手驱动部15使2个手13a、13b绕铅直方向Z之轴旋转。搬送机构11能够进出4个载具载置部4上的各载具C。搬送机构11本身被固定，不会沿宽度方向Y移动。只有2个手13a、13b可沿宽度方向Y移动。

＜处理块5的构成＞

参照图1及图2。处理块5具备例如2个搬送机构17A、17B及例如24个(多个)处理单元19。24个处理单元19分别利用指定的处理液或处理气体对由2个搬送机构17A、17B中的一个所搬送的衬底W进行指定的处理。24个处理单元19沿着2个搬送机构17A、17B的搬送路径排列而配置。24个处理单元19隔着搬送路径在宽度方向Y上对向配置，进而沿上下方向积层地配置。对处理块5的详细构成进行说明。

处理块5具备搬送空间21A。搬送空间21A配置在宽度方向Y上的处理块11的中央部。搬送空间21A沿前后方向X延伸。搬送空间21A的前部与移载传送部3的搬送空间9相连。

处理块5具备衬底载置部23A。衬底载置部23A设置在搬送空间12A中。衬底载置部23A配置在搬送空间12A的前部。移载传送部3的搬送机构11也能够进出衬底载置部23A。衬底载置部23A载置1片或多片衬底W。

处理块5具备搬送机构17A。搬送机构17A设置在搬送空间12A中。搬送机构17A搬送衬底W。搬送机构17A能够进出衬底载置部23A。

如图1所示，处理块5具备4个处理单元19A、19B、19C、19D。处理单元19A、19B配置在搬送空间21A的右方。处理单元19A、19B沿着搬送空间21A在前后方向X上排列。处理单元19B配置在处理单元19A的后方。处理单元19C、19D配置在搬送空间21A的左方。处理单元19C、19D沿着搬送空间21A在前后方向X上排列。处理单元19D配置在处理单元19C的后方。2个处理单元19A、19B与2个处理单元19C、19D隔着搬送空间21A对向地配置。

此外，当无须区分处理单元19A、19B、19C、19D时，简称为处理单元19。处理单元19对衬底W进行处理。

参照图2。处理块5除了具备搬送空间21A以外，还具备搬送空间21B。搬送空间21B配置在搬送空间21A的下方。搬送空间21B在俯视时与搬送空间21A重叠。搬送空间21B具有与搬送空间21A大致相同的形状。搬送空间21B也与移载传送部3的搬送空间9相连。当无须区分搬送空间21A、21B时，简称为搬送空间21。

处理块5具备1个间隔壁25。间隔壁25配置在搬送空间21A的下方，且配置在搬送空间21B的上方。间隔壁25具有水平的板形状。间隔壁25将搬送空间21A与搬送空间21B隔开。

处理块5除了具备衬底载置部23A以外，还具备衬底载置部23B。衬底载置部23B设置在搬送空间21B中。衬底载置部23B配置在衬底载置部23A的下方。衬底载置部23B在俯视时与衬底载置部23A重叠。衬底载置部23B在俯视时配置在与衬底载置部23A相同的位置。衬底载置部23B配置在搬送空间21B的前部。移载传送部3的搬送机构11也能够进出衬底载置部23B。衬底载置部23B载置1片或多片衬底W。

处理块5除了具备搬送机构17A以外，还具备搬送机构17B。搬送机构17B设置在搬送空间21B中。搬送机构17B搬送衬底W。搬送机构17B能够进出衬底载置部23B。

搬送机构17B具有与搬送机构17A相同的结构。当无须区分搬送机构17A、17B时，简称为搬送机构17。

参照图1及图2。各搬送机构17具备手27及手驱动部29。手27以水平姿势支撑1片衬底W。手驱动部29与手27连结。手驱动部29使手27沿前后方向X、宽度方向Y及铅直方向Z移动。手驱动部29使手27绕铅直方向Z的轴旋转。

参照图1～图5。图3是图1的箭头E-E的纵剖视图。图4是表示衬底处理装置的右部的构成的右侧视图。图5是表示衬底处理装置的左部的构成的左侧视图。

处理块5具备6个处理单元19A。6个处理单元19A沿上下方向积层地配置。即，6个处理单元19A沿着铅直方向Z排成一排。同样，处理块5具备6个处理单元19B、6个处理单元19C及6个处理单元19D。6个处理单元19B、6个处理单元19C及6个处理单元19D分别沿上下方向积层地配置。

图2所示的上层的搬送机构17A在与上侧的12个(4个×上3层)处理单元19之间交接衬底W。另外，下层的搬送机构17B在与下侧的12个(4个×下3层)处理单元19之间交接衬底W。此外，搬送机构17能够进出处理单元19的载置部31。

＜处理单元19的构成＞

图6是表示处理单元的横剖视图。24个各处理单元19具备处理部33、第1空间35及第2空间37。此外，在以下说明中，以各处理单元19中配置在图1中的前方及左方的处理单元19(19C)为例进行说明。

处理部33具备供载置衬底W的载置部31。载置部31在保持着衬底W的状态下旋转。处理部33对由载置部31保持并旋转的衬底W进行处理。第1空间35具备对处理部33供给第1流体的第1供给部41。第1流体例如为有机溶剂。另外，第1空间35具备切换多种排气的排气箱43。排气箱43为了将处理部33内排气而经由排气口45与处理部33连通。另外，排气箱43与在上下方向上延伸的3根排气管44连通。排气箱43通过切换动作而仅对3根排气管44中的任一根进行排气。排气箱43在第1空间35中与第1供给部41在宽度方向Y上邻接而配置。排气箱43配置在宽度方向Y上的第1供给部41的右方。

第2空间37具备对处理部33供给第2流体的第2供给部45。第2流体例如为碱性处理液。碱性处理液例如包含氨水过氧化氢水混合液(SC1)、氨水、氟化铵溶液、及氢氧化四甲基铵(TMAH)中的至少1种。第2空间37具备对处理部33供给第3流体的第3供给部46。第3流体例如为酸性处理液。酸性处理液例如包含氢氟酸(hydrofluoric acid)、盐酸过氧化氢水混合液、硫酸、硫酸过氧化氢水混合液、硝氟酸(氢氟酸与硝酸的混合液)及盐酸中的至少1种。

处理单元19将第1空间35及第2空间37分开配置在处理部33的前后方向X上的前后。因此，可以根据用途或种类，分开使用第1空间35与第2空间37。结果为，可提高第1空间35及第2空间37中的处理液或排气的配管的配置效率。

此外，所述各处理单元19相当于本发明中的“第1处理壳体”，位于处理单元19下方的处理单元19相当于本发明中的“第2处理壳体”。所述第1供给部41相当于本发明中的“第1流体供给部”，第2供给部45相当于本发明中的“第2流体供给部”。所述第1供给部41及喷嘴51相当于本发明中的“第1供给部”，第2供给部45及喷嘴53相当于本发明中的“第2供给部”。

＜处理部33的构成＞

首先，对处理部33的构成进行说明。处理部33具有大致箱形状。处理部33在俯视、前视及侧视时具有大致矩形形状。

参照图3～图5。6个处理单元19A的6个处理部33相互积层。同样，6个处理单元19B的6个处理部33相互积层。6个处理单元19C的6个处理部33相互积层。6个处理单元19D的6个处理部33相互积层。各处理部33与搬送空间21邻接。

参照图6。图6是表示处理单元的横剖视图。

各处理部33具备4个侧壁47a、47b、47c、47d及底板47f。侧壁47a～47d分别为大致垂直的板形状。底板47f具有大致水平的板形状。由侧壁47a～47d及底板47f划分出处理部33。侧壁47a、47c沿前后方向X延伸。侧壁47c设置在侧壁47a的相反侧。侧壁47b、47d沿宽度方向Y延伸。侧壁47b、47d分别从侧壁47a延伸到侧壁47c。侧壁47d设置在侧壁47b的相反侧。

所述构成的处理单元19是从侧壁47c侧进行装置的维护。也就是说，侧壁47c的面相当于本发明中的“正侧面”。在以下说明中，利用符号MS记载正侧面。

处理部33具有衬底搬送口39。衬底搬送口39形成在侧壁47a。衬底W能够通过衬底搬送口39。衬底W通过衬底搬送口37在处理部33的外部与处理部33的内部之间移动。各处理单元19具备未图示的挡板。挡板安装在侧壁47a。挡板将衬底搬送口39开启及关闭。

处理部33具备载置部31。载置部31设置在处理部33的内部。载置部31以水平姿势保持1片衬底W。载置部31用上表面来载置衬底W。载置部31例如可通过真空吸附来保持衬底W的下表面。另外，载置部31也可具备旋转基座、及竖立在旋转基座上的3个以上的保持销。在此情况下，3个以上的保持销使旋转基座与衬底W之间具有间隙，并且为了保持衬底W而夹住衬底W的侧面。此外，图1中，用虚线表示载置于载置部31上的衬底W。载置部31通过未图示的电动马达等旋转驱动构件，而绕铅直方向Z的旋转轴进行旋转驱动。载置部31的周围被防护罩49包围。防护罩49防止处理液从载置于载置部31上的衬底W向周围飞散。

如图6所示，处理部33例如具备3根喷嘴51、53、55。喷嘴51具备基端部51a、喷出部51b及臂51c。基端部51a从第1供给部41被供给第1流体。基端部51a与第1供给部41的侧方邻接而配置。喷出部51b与基端部51a连通连接。臂51c将基端部51a与喷出部51b连结。基端部51a保持臂51c使其能够摆动。基端部51a通过未图示的驱动构件而绕铅直方向Z的轴芯摆动。喷嘴51在待机状态下，以臂51c沿着侧壁47b的方式定位。喷嘴51在待机状态下，位于喷出部51b向侧方离开载置部31的待机位置。喷嘴51在供给状态下，位于喷出部51b处于载置部31上方的供给位置。

喷嘴53具备基端部53a、喷出部53b及臂53c。基端部53a从第2供给部45被供给第2流体。基端部53a与第2供给部45的侧方邻接而配置。喷出部53b与基端部53a连通连接。臂53c将基端部53a与喷出部53b连结。基端部53a保持臂53c使其能够摆动。基端部53a通过未图示的驱动构件而绕铅直方向Z的轴芯旋转。喷嘴53在待机状态下，如图6所示以臂53c沿着侧壁47c的方式定位。喷嘴53在待机状态下，如图6所示位于喷出部53b向侧方离开载置部31的待机位置。喷嘴53在供给状态下，位于喷出部53b处于载置部31上方的供给位置。

喷嘴55具备基端部55a、喷出部55b及臂55c。基端部55a从第3供给部46被供给第3流体。基端部55a与第2供给部45及第3供给部46的侧方邻接而配置。喷出部55b与基端部55a连通连接。臂55c将基端部55a与喷出部55b连结。基端部55a保持臂55c使其能够摆动。基端部55a通过未图示的驱动构件而绕铅直方向Z的轴芯旋转。喷嘴55在待机状态下，以臂55c沿着侧壁47d的方式定位。喷嘴55在待机状态下，位于喷出部55b向侧方离开载置部31的待机位置。喷嘴55在供给状态下，位于喷出部55b处于载置部31上方的供给位置。

基端部51a、53a、55a配置在与载置部31相比在宽度方向Y上更靠近侧壁47c的位置。也就是说，基端部51a、53a、55a配置在与载置部31相比更靠近正侧面MS的位置。另外，从正侧面MS观察时，各基端部51a、53a、55a配置在虽然局部重叠但不完全重叠的位置。换句话说，各基端部51a、53a、55a中供配管等插通的中心部在从正侧面MS观察时不重叠。因此，下述各基端部51a、53a、55a的配管等不会配置于在从正侧面MS观察时在前后方向X上重叠的位置。因此，各基端部51a、53a、55a的配管等不会在维护时变得难以视认。

处理部33中，在各喷嘴51、53、55处于待机位置的状态下，在各喷出部51b、53b、55b的下方具备待机盒57。待机盒57回收从各喷嘴51、53、55的喷出部51b、53b、55b空喷出的流体等。

在本实施例中，使基端部51a、53a、55a为所述配置，所以可缩短从所对应的第1供给部41、第2供给部45、第3供给部46起的配管。由此，如下所述的循环配管(供给管67、回流配管79)也可缩短配管长度。结果为，在将这些配管设为温度调节对象的情况下，能稳定地进行调温。另外，能减少在向产品供给之前所进行的向待机盒57预分配的量，所以能抑制处理液的消耗。

此外，所述喷嘴51相当于本发明中的“第1喷嘴”，喷嘴53相当于本发明中的“第2喷嘴”。

＜第1供给部41＞

参照图6及图7。图7是表示第1供给部的供给系统的示意图。此外，图7中，为了便于图示，以包含3个处理单元19的处理部33的构成来表示。如图4等所示，包含6个处理单元19的处理部33的构成也为相同的构成。

第1供给部41具备遮蔽容器59。遮蔽容器59将内部的气体氛围相对于周围遮蔽。遮蔽容器59内部的气体由惰性气体进行冲洗。惰性气体例如为氮气。第1供给部41从贮存部61被供给第1流体。贮存部61具备罐63及泵65。罐63贮存第1流体。泵65输出罐63内的第1流体。在罐63的输送部63a连通连接着供给管67的一端侧。泵65配置在供给管67。泵65将罐63的第1流体输出到供给管67。供给管67的另一端侧与罐63的回流部63b连通连接。

在供给管67连通连接着3根供给分支管69的一端侧。供给分支管69的另一端侧与基端部51a连通连接。供给分支管69的另一端侧通过基端部51a与喷出部51b连通连接。供给分支管69从靠近供给管67的位置朝向喷出部51b具备手动开关阀71、流量计73、流量调整阀75及供给控制阀77。

手动开关阀71以手动的方式容许及阻断供给分支管69中的第1流体的流通。流量计73检测供给分支管69中的第1流体的流量。流量调整阀75调整供给分支管69中的第1流体的流量。流量计73及流量调整阀75收容在遮蔽容器59中。遮蔽容器59由于将内部的气体排出，所以能防止第1流体挥发而成的气体滞留在遮蔽容器59中。因此，能构成防爆结构，从而能安全地进行处理。供给控制阀77操控以利用流量调整阀75设定的流量所进行的第1流体的供给。供给控制阀77操控第1流体从喷出部51b的供给及停止。

供给分支管69中，在供给控制阀77与流量调整阀75之间连通连接着回流配管79的一端侧。回流配管79的另一端侧经由供给管67的下游侧与罐63的回流部63b连通连接。回流配管79具备回流开关阀81及手动开关阀83。回流开关阀81配置在回流配管79中靠近供给控制阀77的一侧。手动开关阀71、83及流量调整阀75配置在从处理单元19的正侧面MS(侧壁47c侧)进行维护时作业人员能够进出的位置，即靠近正侧面MS的位置。供给分支管69从供给管67向基端部51a的配置优选设定为靠近正侧面MS。此处所说的靠近正侧面MS的位置是指作业人员能够将手从侧壁47c侧伸向衬底搬送口39侧来操控的距离。

在待机盒57连通连接着排出管85的一端侧。排出管85的另一端侧与未图示的排液处理部连通连接。待机盒57在喷嘴51位于待机位置时，回收从喷出部51b排出的第1流体。由待机盒57回收的第1流体通过排出管85排出。

所述流量调整阀75、供给控制阀77及回流开关阀81是由控制部87利用电信号来电操控开启及关闭。控制部87包含CPU(Central Processing Unit，中央处理器)或存储器等。控制部87也进行所述载置部31的旋转、或来自第2供给部45及第3供给部46的第2流体及第3流体的供给。控制部87也进行所述搬送机构11、17等的控制。

此外，所述罐63相当于本发明中的“第1流体贮存部”，回流配管79相当于本发明中的“回收管”。另外，手动开关阀71相当于本发明中的“第1手动开关阀”，手动开关阀83相当于本发明中的“第2手动开关阀”。所述待机盒57相当于本发明中的“回收部”。

＜第2供给部45及第3供给部46＞

第2供给部45及第3供给部46是将所述第1供给部41省略回流配管79的构成而成。因此，省略关于第2供给部45及第3供给部46的详细说明。此外，第2供给部45及第3供给部46同样也可采用与第1供给部41相同的构成。第2供给部45及第3供给部46个别地利用间隔壁进行分隔。但，也可省略这些间隔壁，而将第2供给部45与第3供给部46配置在同一空间。

＜第1供给部41的动作例＞

参照图8～图10。图8是表示第1供给部处于待机状态的情况的示意图。图9是表示从第1供给部供给第1流体的情况的示意图。图10是表示维护第1供给部的供给系统的情况的示意图。此外，在这些图中，关闭的阀用黑色来描绘，打开的阀用白色来描绘。

＜待机状态＞

如图8所示，在第1供给部41为待机状态的情况下，供给控制阀77关闭。手动开关阀71,83、流量调整阀75及回流开关阀81打开。因此，从供给管67供给的第1流体会从供给分支管69通过回流配管79回流到罐63中。因此，第1流体不会滞留在供给管67及供给分支管69中。另外，在需要对第1流体进行调温的情况下，只要预先在该循环路径中配置调温机构，一边使第1流体循环，一边向目标温度进行调温即可。

在第1流体例如为异丙醇(IPA)的情况下，如果长时间滞留在供给管67及供给分支管69中，则有污物积存在异丙醇中或配管的成分溶出而使异丙醇的品质下降的情况。因此，在喷嘴51位于待机位置时，优选如上所述那样使异丙醇循环。由此，异丙醇不会长时间滞留在供给管67及供给分支管69中。结果为，能抑制异丙醇的品质下降，所以能高清洁度地对衬底W进行处理。

＜供给状态＞

如图9所示，在从第1供给部41供给第1流体的情况下，回流开关阀81关闭。手动开关阀71,83、流量调整阀75及供给控制阀77打开。因此，从供给管67供给的第1流体通过供给分支管69以经流量调整阀75调整的流量从喷出部51b向衬底W喷出。

＜维护状态＞

如图10所示，在进行第1供给部41的供给系统的维护的情况下，从衬底处理装置1的未图示的操控盘来指示维护。详细来说，指示对24个处理单元19中的哪一个进行维护。在此情况下，指示数可为一个，也可为多个。这样一来，控制部87将成为维护对象的处理单元19中的供给控制阀77及回流控制阀81关闭。然后，作业人员从衬底处理装置1的正侧面MS进行作业，以手动的方式关闭手动开关阀71、83。在此状态下进行第1供给部41的供给系统的维护。在此状态下，成为维护对象的第1供给部41中，比手动开关阀71更靠喷出部51b的方向上的第1流体的流通被阻断。因此，可对比手动开关阀71更靠喷出部51b侧的供给分支管69、至手动开关阀83为止的回流配管79等配管、以及流量计73、流量调整阀75、喷嘴51进行维护作业。

另外，在此维护状态下，成为维护对象的处理单元19中的第1流体的流通被阻断。因此，未成为维护对象的其它处理单元19可继续进行对衬底W的处理。结果为，尽管进行与处理单元19中的第1供给部41相关的维护，但能抑制衬底处理装置1的产能下降。

在所述衬底处理装置1中，如图6所示，对载置于处理单元19的衬底W例如从第3供给部46供给酸系处理液作为第3流体来进行处理。在此情况下，例如，使排气箱43进行切换动作，而将排气输送到3个排气管44中最靠近衬底搬送口39的排气管44。另外，从第2供给部45供给碱系处理液作为第2流体来进行处理。在此情况下，例如，使排气箱43进行切换作动，而将排气输送到3个排气管44中位于左右方向的中央的排气管44。进而，从第1供给部41供给有机溶剂作为第1流体来进行处理。在此情况下，例如，使排气箱43进行切换动作，而将排气输送到3个排气管44中最靠近正侧面MS的排气管44。像这样，根据处理液的种类来切换3个排气管44。因此，能抑制包含不同处理液的雾的排气彼此混合。

根据本实施例，衬底处理装置1在处理单元19中具备处理部33，且具备对处理部33供给第1流体的第1供给部41、对处理部33供给第2流体的第2供给部45、及对处理部33供给第3流体的第3供给部46。第1供给部41在从处理单元19的正侧面观察时配置在处理部33的一侧方，第2供给部45及第3供给部46在从处理单元19的正侧面观察时配置在处理部33的另一侧方。因此，并没有将第1供给部41、第2供给部45及第3供给部46配置在位于正侧面MS的相反侧且在维护时作业人员难以进出的背侧面。结果为，第1供给部41、第2供给部45及第3供给部46均可容易地从正侧面MS进出，所以能提高维护性。另外，第1供给部41、第2供给部45及第3供给部46可缩短配管长度。

本发明并不限定于所述实施方式，可如下所述变化实施。

(1)在所述实施例中，以具备第1供给部41、第2供给部45及第3供给部46这3个供给部的衬底处理装置1为例进行了说明。但，本发明并不限定于这种构成。也就是说，本发明只要将像第1供给部41与第2供给部45、或第1供给部41与第3供给部46这样的至少2个供给部中的一方从正侧面MS观察时配置在一侧方，将另一方从正侧面MS观察时配置在另一侧方即可。

(2)在所述实施例中，第1流体为有机系处理液，第2流体为碱系处理液，第3流体为酸系处理液。但，本发明并不限定于这种处理液。另外，也无须使各流体不同，也可为相同的流体。进而，流体并不限定于液体，也可为气体。

(3)在所述实施例中，流量调整阀75配置在靠近正侧面MS的位置，但本发明并非必须设为这种配置。

(4)在所述实施例中，设为具备回流配管79而可使第1流体循环的构成。但，本发明并非必须设为该构成。由此，可省略循环路径，所以能抑制成本。

(5)在所述实施例中，具备手动开关阀71、83，但本发明并非必须具备这些开关阀71、83。

(6)在所述实施例中，利用遮蔽容器59而采用防爆结构。但，根据流体的种类，有时无须利用遮蔽容器59设为防爆结构。

(7)在所述实施例中，手动开关阀71、83及流量调整阀75配置在靠近正侧面MS的位置。但，本发明并非必须设为这种配置。

(8)在所述实施例中，将排气箱43配置在与第1供给部41邻接的位置。但，本发明并非必须设为这种配置。

(9)在所述实施例中，处理单元19沿铅直方向Z呈多层地积层配置。但，本发明并非必须设为这种积层配置。

(10)在所述实施例中，搬送机构11在宽度方向Y上的位置固定。但，本发明并不限定于这种构成。也就是说，也可设为搬送机构11沿宽度方向Y移动的构成。

(11)在所述实施例中，关于第1供给部41，例示了供给有机溶剂作为第1流体的构成。本发明也可代替所述构成而设为例如喷出部51b具备筒状外周面、第1喷射口、第2喷射口及供给喷嘴的构成。第1喷射口是在外周面开口的环状喷射口。第2喷射口是在比第1喷射口更靠近衬底面的位置，在外周面开口的环状喷射口。供给喷嘴在筒状的喷出部51b的下表面以面向衬底W的方式开口。供给喷嘴喷出有机溶剂。第1喷射口及第2喷射口也可设为以扩展到衬底的周缘部的方式分别呈放射状地喷射气体的构成。由此，来自第1喷射口及第2喷射口的气体可保护衬底免受进行洗净处理时等到达衬底的微粒等异物、或有机溶剂的飞沫或雾的影响，而抑制衬底的污染。因此，可高清洁度地处理衬底W。

Claims (20)

1.一种衬底处理装置，对衬底供给流体而进行处理，所述装置包含以下要素：

第1处理壳体；

处理部，设置在所述第1处理壳体的内部，用于利用流体对载置于载置部的衬底进行处理；

第1供给部，从所述第1处理壳体的供进行维护的正侧面观察时，配置在所述处理部的一侧方，对所述处理部供给第1流体；及

第2供给部，从所述正侧面观察时配置在所述处理部的另一侧方，对所述处理部供给第2流体。

2.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中

所述第1供给部具备：

第1喷嘴，对载置于所述载置部的衬底供给所述第1流体；及

第1流体供给部，对所述第1喷嘴供给所述第1流体；

所述第2供给部具备：

第2喷嘴，对载置于所述载置部的衬底供给所述第2流体；及

第2流体供给部，对所述第2喷嘴供给所述第2流体。

3.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其中

所述第1喷嘴具备：基端部，从所述第1流体供给部被供给所述第1流体；喷出部，与所述基端部连通连接；及臂，将所述基端部与所述喷出部连结；且所述基端部配置在比所述载置部更靠所述第1流体供给部侧，所述喷出部以所述基端部为中心在位于所述载置部上方的供给位置与离开所述载置部的待机位置之间摆动，

所述第2喷嘴具备：基端部，从所述第2流体供给部被供给所述第2流体；喷出部，与所述基端部连通连接；及臂，将所述基端部与所述喷出部连结；且所述基端部配置在比所述载置部更靠所述第2流体供给部侧，所述喷出部以所述基端部为中心在位于所述载置部上方的供给位置与离开所述载置部的待机位置之间摆动。

4.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体与所述第2流体为不同的流体。

5.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体与所述第2流体为不同的流体。

6.根据权利要求3所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体与所述第2流体为不同的流体。

7.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体及所述第2流体为液体。

8.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体及所述第2流体为液体。

9.根据权利要求3所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体及所述第2流体为液体。

10.根据权利要求4所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体及所述第2流体为液体。

11.根据权利要求3所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体供给部具备：

第1流体贮存部，贮存所述第1流体，且具备输出所述第1流体的输送部及供所述第1流体回流的回流部；

供给管，与所述第1流体贮存部的所述输送部连通连接；

回收管，与所述第1流体贮存部的所述回流部连通连接；

回收部，设置在所述待机位置，回收从所述第1喷嘴供给的所述第1流体；

排出管，与所述回收部连通连接，将由所述回收部回收的所述第1流体排出；

供给分支管，一端部与所述供给管连通连接，另一端部与所述基端部连通连接；

流量计，测量所述供给分支管中的所述第1流体的流量；

流量调整阀，设置在比所述流量计更靠所述供给分支管的所述基端部侧，操控所述供给分支管中的所述第1流体的流量；及

供给控制阀，用于从所述喷嘴供给及停止供给经所述流量调整阀调整的所述第1流体。

12.根据权利要求11所述的衬底处理装置，其中

所述流量调整阀配置在所述第1处理壳体的靠近所述正侧面的位置。

13.根据权利要求11所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体供给部还具备：

回流配管，一端侧连通连接在所述供给分支管中的所述供给控制阀与所述流量调整阀之间，另一端侧与所述回收管连通连接；及

回流开关阀，设置在所述回流配管，容许及阻断所述回流配管中的所述第1流体的流通；且

当所述第1喷嘴位于待机位置时，关闭所述供给控制阀，打开所述回流开关阀，使所述第1流体经由所述回流配管回流到所述第1流体贮存部，而使所述第1流体循环。

14.根据权利要求12所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体供给部还具备：

回流配管，一端侧连通连接在所述供给分支管中的所述供给控制阀与所述流量调整阀之间，另一端侧与所述回收管连通连接；及

回流开关阀，设置在所述回流配管，容许及阻断所述回流配管中的所述第1流体的流通；且

当所述第1喷嘴位于待机位置时，关闭所述供给控制阀，打开所述回流开关阀，使所述第1流体经由所述回流配管回流到所述第1流体贮存部，而使所述第1流体循环。

15.根据权利要求13所述的衬底处理装置，其具备：

第1手动开关阀，设置在所述供给分支管，以手动的方式容许及阻断所述供给分支管中的所述第1流体的流通；及

第2手动开关阀，设置在所述回流配管，以手动的方式容许及阻断所述回流配管中的所述第1流体的流通。

16.根据权利要求11所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体为有机溶剂，

所述流量计及所述流量调整阀收容在气体氛围相对于周围被遮蔽的遮蔽容器中，且

所述遮蔽容器的内部被排气。

17.根据权利要求15所述的衬底处理装置，其中

所述第1手动开关阀及所述第2手动开关阀配置在所述第1处理壳体的靠近所述正侧面的位置。

18.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中

所述第1喷嘴及所述第2喷嘴的所述基端部配置在所述第1处理壳体的靠近所述正侧面的位置。

19.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中

与所述第1供给部邻接地配置有将来自所述处理部的气体排出的排气箱。

20.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其

还具备配置在所述第1处理壳体下方的第2处理壳体，

所述第2处理壳体具备：

处理部，设置在所述第2处理壳体的内部，用于利用流体对载置于载置部的衬底进行处理；

第1流体供给部，从所述第2处理壳体的供进行维护的正侧面观察时，配置在所述处理部的一侧方，对所述处理部供给第1流体；及

第2流体供给部，从所述正侧面观察时，配置在所述处理部的另一侧方，对所述处理部供给第2流体。

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