JPH10247678A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理前の基板と処理済の基板の搬送経路が隔
離された基板処理装置を提供する。 【解決手段】 基板の搬送室３０を中心に３つの基板処
理ユニットと基板の搬入室および搬出室とを近接配置す
る。基板の搬入室と搬出室とは互いに独立に形成され、
処理前の基板を開口部を通して搬送室３０に搬入し、処
理済の基板を開口部を通して受け取り、外部へ搬出す
る。搬送室３０の内部には、互いに隔離された基板収納
室４０ａ，４０ｂが配置され、基板収納室４０ａが処理
前の基板を収納して処理室１１に搬入し、基板収納室４
０ｂが処理済の基板を処理室１１から受け取り、搬出室
に引き渡す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の基板処理ユ
ニットおよび基板搬送ユニットを備えた基板処理装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板等の基板に種々の処理を
行うために複数の処理室を備えた基板処理装置が用いら
れている。基板処理装置の各処理室で処理される基板は
周囲の雰囲気に大きな影響を受けるので、処理室内は清
浄な状態に保たれる。

【０００３】処理室内で処理された基板を直ちに大気中
に搬出すると、処理された基板が大気の影響を受けるこ
とになる。また、処理室内に基板を搬入する際には、処
理室内に基板とともに大気が侵入し、処理室の内部が汚
染される。そこで、処理室の基板の出入口に密閉空間で
ある搬送室を接続し、搬送室内に窒素等の不活性ガスを
充填し、あるいは真空に保持しておくことにより、処理
室への基板の搬入および搬出時ならびに搬送工程におけ
る基板の汚染を防止している。

【０００４】図１１は複数の処理室および搬送室を備え
た従来の基板処理装置の一例を示す平面図である。

【０００５】図１１の基板処理装置では、基板搬送ユニ
ット１１０の周囲に３つの基板処理ユニット１０１およ
び２つの受け渡し室（ロードロック）１２０が放射状に
接続されている。各基板処理ユニット１０１は、本体部
１０２およびその本体部１０２上に設けられた処理室１
０３により構成される。処理室１０３内で基板に対する
所定の処理が行われる。本体部１０２には、駆動機構、
処理液供給用配管および排気用配管が内蔵される。

【０００６】基板搬送ユニット１１０は搬送室１１１を
有する。搬送室１１１内には、２つの基板保持部１１３
を有する搬送機構１１２が設けられている。搬送機構１
１２は、受け渡し室１２０と処理室１０３との間および
処理室１０３間で基板を搬送する。

【０００７】搬送室１１１と各処理室１０３との間に
は、ガスの流通を遮断可能なゲートバルブ１４０が設け
られ、搬送室１１１と受け渡し室１２０との間にも、同
様にガスの流通を遮断可能なゲートバルブ１５０が設け
られている。また、受け渡し室１２０には、外部との間
で基板を搬入および搬出するためのゲートバルブ１６０
が設けられている。

【０００８】各処理室１０３、搬送室１１１および受け
渡し室１２０内は、予め減圧下に保たれ、あるいはＮ₂
等の不活性ガスにより大気圧または準大気圧下でパージ
され、清浄な雰囲気に保たれている。

【０００９】処理前の基板は一方の受け渡し室１２０内
に搬入される。基板の搬送時には、搬送室１１１と受け
渡し室１２０との間のゲートバルブ１５０が開かれる。
搬送室１１１内の搬送機構１１２は、基板保持部１１３
を伸張して受け渡し室１２０内の基板を受け取った後、
１つの処理室１０３に搬送する。処理室１０３内で処理
された基板は、搬送機構１１２により他の処理室１０３
または他方の受け渡し室１２０に搬送される。あるい
は、同様の処理が並行して行われる。処理が終了した基
板は、受け渡し室１２０から外部に搬出される。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上記の従来の基板処理
装置においては、処理前の基板は一方の受け渡し室１２
０から搬送室１１１内に搬入された後、所定の基板処理
ユニット１０１に搬入される。また、基板処理ユニット
１０１により処理された基板は搬送室１１１を通り他方
の受け渡し室１２０から外部へ搬出される。このため、
搬送室１１１では処理前の基板と処理済の基板とが同一
雰囲気内に保持される。このため、処理前の基板によっ
て搬送室１１１が汚染され、それによって処理済の基板
が再汚染されるおそれがある。特に、基板処理ユニット
１０１が基板洗浄ユニットの場合には、洗浄された清浄
な基板が搬送室１１１内で再汚染されることは好ましく
ない。このため、処理前の基板の搬送経路と処理済の基
板の搬送経路とを分離し、特に処理済の基板の搬送経路
を清浄な環境に保持することが望まれている。

【００１１】本発明の目的は、処置前の基板と処理済の
基板の搬送経路が隔離された基板処理装置を提供するこ
とである。

【００１２】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板処理装置は、基板を搬送する基板搬送ユ
ニットと、基板搬送ユニットの周囲に配置された処理室
を有する複数の基板処理ユニットと、外部との間で基板
の受渡しを行う受け渡し部とを備え、基板搬送ユニット
は、受け渡し部から受け取った基板を保持して搬送し、
複数の基板処理ユニットの処理室のいずれかに搬入する
第１の基板保持部と、第１の基板保持部を取り囲む第１
の基板収納室と、複数の基板処理ユニットの処理室のい
ずれかから搬出した基板を保持して搬送し、受け渡し部
に渡す第２の基板保持部と、第２の基板保持部を取り囲
む第２の基板収納室とを備えたものである。

【００１３】第１の発明に係る基板処理装置において
は、外部から受け渡し部を介して搬入される処理前の基
板は第１の基板収納室に保持されて搬送され、処理室に
引き渡される。また、処理済の基板は処理室から第２の
基板処理室内に保持されて搬送され、受け渡し部に搬送
される。これにより、処理前の基板の搬送経路と処理済
の基板の搬送経路とが分離される。それゆえ、特に処理
済の基板を清浄な雰囲気に保持し、搬送経路における再
汚染を防止することができる。

【００１４】第２の発明に係る基板処理装置は、第１の
発明に係る基板処理装置の構成において、第１の基板収
納室と第２の基板収納室とが鉛直方向に積層されたもの
である。これにより、基板搬送ユニットの平面占有面積
を低減することができる。

【００１５】第３の発明に係る基板処理装置は、第１ま
たは第２の発明に係る基板処理装置の構成において、受
け渡し部は、処理室での処理前の基板を第１の基板保持
部が受け取るための第１の受け渡し部と、処理室での処
理済の基板を第２の基板保持部から渡される第２の受け
渡し部とを備えたものである。これにより、処理前の基
板には第１の受け渡し部が使用され、処理済の基板には
第２の受け渡し部が使用されるので、基板処理装置の外
部から内部に渡って、処理前の基板の搬送経路と処理済
の基板の搬送経路とが完全に分離される。それゆえ、処
理済の基板をさらに洗浄な雰囲気に保持し、搬送経路に
おける再汚染をさらに防止することができる。

【００１６】第４の発明に係る基板処理装置は、第１〜
第３のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成におい
て、基板搬送ユニットが、第１および第２の基板保持部
を鉛直方向および垂直方向に移動可能かつ鉛直方向の軸
の周りで回動可能に支持する支持機構と、第１および第
２の基板処理室を取り囲み、第１の基板保持部または第
２の基板保持部が通過可能な開口部を有する搬送室とを
さらに備え、基板搬送ユニットの第１の基板収納室は、
第１の基板保持部が通過可能な通過出入口を有し、基板
搬送ユニットの第２の基板収納室は、第２の基板保持部
が通過可能な基板出入口を有するものである。

【００１７】この場合、基板を保持する第１および第２
の基板保持部が鉛直方向および水平方向に移動するとと
もに鉛直方向の軸の周りで回動し、さらに第１および第
２の基板保持部が搬送室の開口部を通して基板処理ユニ
ットの処理室内に前進および後退することにより、各基
板処理ユニットの処理室に対して基板を搬入および搬出
することができる。

【００１８】第５の発明に係る基板処理装置は、第１〜
第４のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成におい
て、基板処理ユニットが処理室内での処理動作を駆動す
る駆動機構を内蔵する本体部をさらに備え、基板処理ユ
ニットの処理室は、本体部上面の少なくとも外周部側の
一部領域上に空間が形成されるように本体部上に設けら
れ、複数の基板処理ユニットが、一部領域上に形成され
た空間が合体するように配置され、基板搬送ユニット
が、複数の基板処理ユニットの本体部上の合体した空間
に配設されたものである。

【００１９】この場合、基板搬送ユニットは複数の基板
処理ユニットの本体部上に合体するように形成された空
間に配置されているので、基板搬送ユニットの設置面積
が複数の基板処理ユニットの設置面積の一部と重複する
ことになる。したがって、基板処理装置の全体の設置面
積が低減される。

【００２０】第６の発明に係る基板処理装置は、第５の
発明に係る基板処理装置の構成において、基板搬送ユニ
ットの搬送室は鉛直方向の軸を中心とする円筒上の外周
面を有し、円筒状の外周面には第１の基板保持部または
第２の基板保持部が通過可能な開口部が設けられ、各基
板処理ユニットの処理室は搬送室の円筒状の外周面に接
する部分円筒状の側面を有し、部分円筒状の部分側面に
は第１の基板保持部または第２の基板保持部が通過可能
な開口部が設けられ、搬送室は鉛直方向の軸の周りで回
動可能に設けられたものである。

【００２１】この場合、基板搬送ユニットの搬送室を鉛
直方向の軸の周りで回動させることにより各基板処理ユ
ニットの処理室の開口部を開閉することができる。それ
により、基板処理ユニットの処理室の開口部および基板
搬送ユニットの搬送室の開口部を簡単な構造で開閉する
ことが可能となる。

【００２２】

【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例における
基板処理装置の平面図、図２は図１の基板処理装置の横
断面図、図３は図１の基板処理装置の部分縦断面図であ
る。また、図４は図１の基板処理装置における１つの基
板処理ユニットの斜視図、図５は図１の基板処理装置に
おける基板搬送ユニットの主要部の斜視図である。

【００２３】図１の基板処理装置は、３つの基板処理ユ
ニット１、搬入室２ａ、搬出室２ｂ、基板搬送ユニット
３、２つの制御系ユニット４、および２つの薬液供給系
ユニット５を備える。３つの基板処理ユニット１、搬入
室２ａおよび搬出室２ｂは鉛直方向の中心軸Ｓの周りに
放射状に配置され、これらの基板処理ユニット１の外側
に制御系ユニット４および薬液供給系ユニット５が配置
されている。

【００２４】図３に示すように、基板処理ユニット１
は、本体部１０およびその本体部１０上に設けられた処
理室１１からなる。本体部１０は、モータ等の駆動機
構、処理液供給用配管および排気用配管を内蔵する。処
理室１１内には、薬液、洗浄液等の処理液の飛散を防止
するためのカップ１３が上下動自在に設けられている。

【００２５】処理室１１のカップ１３の内部には、基板
Ｗを水平姿勢で保持して回転させる回転保持部１２が配
設されている。この回転保持部１２は、本体部１０内の
モータにより回転駆動される。また、処理室１内には、
カップ１３内の基板Ｗに薬液を供給するためのノズル
（図示せず）、基板Ｗに純水を供給するためのノズル
（図示せず）、基板Ｗの表面を洗浄するためのブラシ
（図示せず）等が設けられている。本実施例では、基板
処理ユニット１は、基板に薬液洗浄処理、水洗処理およ
び乾燥処理を行う。

【００２６】図４に示すように、処理室１１の１つの角
部には円弧状凹部１４が形成され、本体部１０上面の外
周部側の一部領域である隅部の１／４円形領域１８上に
１／４円柱状空間１９が形成されている。したがって、
３つの基板処理ユニット１を１／４円形領域１８が近接
するように中心軸Ｓの周りに配置することにより、中央
部に円弧状凹部１４で囲まれる円柱状空間２０が形成さ
れる（図２および図３参照）。

【００２７】また、１／４円柱状空間１９の下方におけ
る本体部１０の１つの角部に鉛直方向の面取り部１５が
形成されている。これにより、図３に示すように、３つ
の基板処理ユニット１の本体部１０の中央部に、面取り
部１５で囲まれる排気用通路８０が形成される。排気通
路８０は、工場内の排気ラインに接続される。

【００２８】図５に示すように、基板搬送ユニット３は
円筒状の搬送室３０を有する。この搬送室３０は、水平
方向に配置された搬送室支持アーム３１により上部から
吊り下げられている。搬送室３０の上面には複数の給気
口３４が形成され、下面中央部には排気口３５が形成さ
れている。

【００２９】搬送室３０内には、第１の円筒状支持部材
５０、第２の円筒状支持部材５１および２つの基板収納
室４０ａ，４０ｂが配設されている。第１の円筒状支持
部材５０は、搬送室支持アーム３１の下面に鉛直軸の周
りで矢印θの方向に回転可能に取り付けられている。搬
送室３０は第１の円筒状支持部材５０に固定され、第１
の円筒状支持部材５０とともに矢印θの方向に回転可能
となっている。また、第２の円筒状支持部材５１は、第
１の円筒状支持部材５０の下部に矢印Ｚの方向（鉛直方
向）に移動可能に取り付けられている。

【００３０】第２の円筒状支持部材５１の下部に基板収
納室４０ａが固定され、基板収納室４０ａの下部に基板
収納室４０ｂが固定されている。これにより、２段に配
置された基板収納室４０ａ，４０ｂが搬送室３０の内部
で鉛直軸の周りで回転し、かつ上下方向に移動すること
ができる。

【００３１】この搬送室３０は、図２および図３に示す
ように、３つの処理室１１の円弧状凹部１４で囲まれる
円柱状空間２０内に挿入される。

【００３２】図３に示すように、搬送室支持アーム３１
は鉛直方向に延びるアーム支持部３３を介して図１のア
ーム駆動部３２に取り付けられている。アーム駆動部３
２は薬液供給系ユニット５上に設けられている。このア
ーム駆動部３２は、アーム支持部３３を上下方向に駆動
させるとともに搬送室支持アーム３１を鉛直軸Ｐの周り
で回動させる。それにより、搬送室支持アーム３１の下
部に取り付けられた搬送室３０を上方に移動させるとと
もに、上方に移動した搬送室３０を鉛直軸Ｐの周りで回
動させて基板処理装置の外方に移動させることができ
る。

【００３３】図２および図３に示すように、各処理室１
１の円弧状凹部１４には、処理室１１に対して、基板の
搬入および搬出を行うための開口部１６が形成されてい
る。また、搬送室３０には、基板の搬入および搬出を行
うための１つの開口部３６が形成されている。

【００３４】図２に示すように、搬入室２ａ内には基板
受け渡し台２１ａが設けられ、搬出室２ｂには同様に基
板受け渡し台２１ｂが設けられている。搬送室３０に接
する搬入室２ａの側面には、搬入室２ａから搬送室３０
内へ基板を搬入するための開口部２２ａが形成されてい
る。搬送室３０に接する搬出室２ｂの側面には、搬送室
３０から搬出室２ｂへ基板を搬出するための開口部２２
ｂが形成されている。なお、これらの搬入室２ａおよび
搬出室２ｂには、それぞれ基板を搬入および搬出するた
めのゲートバルブ（図示せず）が設けられている。

【００３５】各処理室１１の開口部１６、搬入室２ａの
開口部２２ａ、搬出室２ｂの開口部２２ｂおよび搬送室
３０の開口部３６は同じ高さに配置されている。本実施
例では、搬送室３０を鉛直軸の周りで回動させることに
より各処理室１１の開口部１６、搬入室２ａの開口部２
２ａおよび搬出室２ｂの開口部２２ｂを開閉することが
できる。

【００３６】図６は基板搬送ユニット１の搬送室３０の
縦断面図、図７は基板搬送ユニット１の搬送室３０の横
断面図である。

【００３７】図６に示すように、基板収納室４０ａ内に
水平移動機構部６０ａが設けられ、基板収納室４０ｂ内
に水平移動機構部６０ｂが設けられている。水平移動機
構部６０ａ，６０ｂは、水平移動機構を内蔵する収納ボ
ックス６１および基板Ｗを保持する基板保持部６２を備
える。

【００３８】図７に示すように、収納ボックス６１の上
面には、矢印Ｘの方向に延びる２本の案内溝６５が設け
られている。基板保持部６２は、案内溝６５に沿って水
平方向（矢印Ｘ方向）に前進および後退可能に収納ボッ
クス６１上に取り付けられている。

【００３９】基板収納室４０ａの前面には、水平移動機
構部６０ａの基板保持部６２が通過可能な基板出入口４
１ａが形成されている。同様に、基板収納室４０ｂの前
面には、水平移動機構部６０ｂの基板保持部６２が通過
可能な基板出入口４１ｂが形成されている。搬送室３０
の開口部３６は、これらの基板収納室４０ａ，４０ｂの
開口部４１ａ，４１ｂに対応する位置に配置されてい
る。

【００４０】基板収納室４０ａの上面には雰囲気ガス供
給口４２ａが設けられ、下面には排気口４３ａが設けら
れている。同様に、基板収納室４０ｂの上面には雰囲気
ガス供給口４２ｂが設けられ、下面には排気口４３ｂが
設けられている。雰囲気ガスとしては、例えばＮ₂ 等の
不活性ガスが用いられる。後述するように、排気口４３
ａ，４３ｂは、それぞれ水平移動機構部６０ａ，６０ｂ
の収納ボックス６１の内部に連通している。

【００４１】雰囲気ガス供給口４２ａから基板収納室４
０ａ内に雰囲気ガスが供給され、排気口４３ａから収納
ボックス６１の内部を通して基板収納室４０ａ内の排気
が行われる。また、雰囲気ガス供給口４２ｂから基板収
納室４０ｂ内に雰囲気ガスが供給され、排気口４３ｂか
ら収納ボックス６１の内部を通して基板収納室４０ｂ内
の排気が行われる。

【００４２】また、搬送室３０内の上部には、空気清浄
用のフィルタ３７が設けられている。上部から供給され
る清浄な空気の下方流（ダウンフロー）５００は、搬送
室３０の上面の給気口３４およびフィルタ３７を通過し
て搬送室３０内に取り込まれ、搬送室３０の下面の排気
口３５から下方に排出され、図３の排気通路８０を通っ
て工場内の排気ラインに導かれる。一方、処理室１１お
よび基板収納室４０ａ，４０ｂ内には所定の雰囲気ガス
が供給される。このとき、処理室１１内の圧力および基
板収納室４０ａ，４０ｂ内の圧力は搬送室３０内の圧力
よりも高く保たれる。それにより、搬送室３０内の基板
収納室４０ａ，４０ｂの周囲に中間低圧部Ａが形成され
る。

【００４３】したがって、処理室１１内から開口部１
６，３６を通して搬送室３０内へ向かう気流の流れが形
成されるとともに、基板収納室４０ａ，４０ｂ内から基
板出入口４１ａ，４１ｂを通して搬送室３０内へ向かう
気流の流れが形成されるので、処理室１１内および基板
収納室４０ａ，４０ｂ内が清浄な雰囲気ガスの状態に保
たれる。

【００４４】このように、中間低圧部Ａを設けることに
より、搬送室３０内を密閉空間とすることなく基板の搬
入および搬出時に処理室１１内を清浄な雰囲気に保つこ
とができ、かつ基板収納室４０ａ，４０ｂの基板出入口
４１ａ，４１ｂに開閉自在なシャッタを設けることなく
基板収納室４０ａ，４０ｂ内を清浄な雰囲気に保つこと
が可能となる。その結果、基板搬送ユニット３の構成が
簡単になる。

【００４５】図８は基板収納室４０ａ内に設けられる水
平移動機構部６０ａの平面図、図９は図８の水平移動機
構部６０ａの縦断面図である。

【００４６】収納ボックス６１の上面に形成された２本
の案内溝６５内には、支持部材６６が矢印Ｘの方向に移
動可能に設けられている。基板保持部６２は、支持部材
６６の上端に水平に固定されている。基板保持部６２上
に基板支持部６３，６４が設けられている。基板保持部
６２上に載置された基板Ｗは、これらの基板支持部６
３，６４間に支持される。

【００４７】収納ボックス６１内には、軸受け７０およ
びモータ７１が所定の間隔を隔てて配置されている。軸
受け７０およびモータ７１に取り付けられたプーリ６
８，６９間にベルト７２が架け渡されている。このベル
ト７２に支持部材６６の一部が取り付けられている。こ
れにより、モータ７１が回転すると、基板保持部６２が
矢印Ｘの方向に前進および後退する。

【００４８】収納ボックス６１の下面には、図６に示し
た排気口４３ａに嵌合する排気孔７３が設けられてい
る。したがって、雰囲気ガス供給口４２ａから基板収納
室４０ａ内に供給される雰囲気ガスは、案内溝６５から
収納ボックス６１の内部に導入され、排気孔７３を通し
て排気口４３ａから排出される。これにより、収納ボッ
クス６１内の摺動部分から発生するパーティクル（塵
埃）が収納ボックス６１から基板収納室４０ａ内に排出
されずに雰囲気ガスとともに排気口４３ａから排気さ
れ、基板Ｗへのパーティクルの付着が防止される。

【００４９】なお、基板収納室４０ｂ内に設けられる水
平移動機構部６０ｂの構成も図８および図９に示される
構成と同様である。

【００５０】図１０は基板搬送ユニット３の主要部の縦
断面図である。なお、図１０には、搬送室３０および搬
送室４０ａ，４０ｂ内の水平移動機構部６０ａ，６０ｂ
は図示されていない。

【００５１】搬送室支持アーム３１は、固定フレーム３
０１および固定カバー３０２により構成される。固定フ
レーム３０１に、フランジ３０３および軸受け３０４を
介して回転部材５０１が鉛直軸の周りで回転可能に取り
付けられている。回転部材５０１の下部には第１の円筒
状支持部材５０が固定されている。搬送室３０は第１の
円筒支持部材５０に固定される。

【００５２】固定フレーム３０１上に回動用モータ３０
５が取り付けられている。また、回転部材５０１の外周
部にギア３０８が設けられている。回動用モータ３０５
の回転軸に取り付けられたプーリ３０６とギア３０８と
の間にベルト３０７が架け渡されている。回動用モータ
３０５が回転すると、プーリ３０６、ベルト３０７およ
びギア３０８を介して回転部材５０１が第１の円筒状支
持部材５０とともに鉛直軸の周りで矢印θの方向に回転
駆動される。

【００５３】回転部材５０１の上部には、上下移動用モ
ータ３０９が取り付けられている。上下移動用モータ３
０９の回転軸３１０には、カップリング３１１によりボ
ールねじ３１２が連結されている。ボールねじ３１２
は、軸受け３１３により回転自在に鉛直方向に沿って案
内されている。軸受け３１３はナット３１４により固定
されている。

【００５４】また、回転部材５０１の下面には、板状部
材５０２が鉛直方向に固定されている。板状部材５０２
には、鉛直方向に延びる２本のリニアガイド５０３が取
り付けられている。一方、第２の円筒状支持部材５１内
には、移動部材５１１が固定されている。移動部材５１
１はリニアガイド５０３に嵌合する案内溝５１２を有
し、リニアガイド５０３に沿って鉛直方向に摺動自在に
案内されている。移動部材５１１の上端にはナット５１
３が固定されている。このナット５１３にはボールねじ
３１２が螺合する。これにより、上下移動用モータ３０
９の回転軸３１０が回転すると、ボールねじ３１２も回
転し、移動部材５１１が第２の円筒状支持部材５１とと
もに矢印Ｚの方向に移動する。

【００５５】このようにして、基板収納室４０ａ，４０
ｂが、鉛直軸の周りで回動可能かつ鉛直方向に移動可能
に第１および第２の円筒状支持部材５０，５１により搬
送室支持アーム３１の下部に支持されている。

【００５６】基板収納室４０ａ内の雰囲気ガス供給口４
２ａは、配管４４ａ、第１および第２の円筒状支持部材
５０，５１内の雰囲気ガス供給チューブ５２ａおよび搬
送室支持アーム３１内の雰囲気ガス供給管３８ａを介し
て外部の雰囲気ガス供給源に接続される。また、基板収
納室４０ａ内の排気口４３ａは、配管４５ａ、第１およ
び第２の円筒状支持部材５０，５１内の排気チューブ５
３ａおよび搬送室支持アーム３１内の排気管３９ａを介
して外部の排気装置に接続される。

【００５７】同様に、基板収納室４０ｂ内の雰囲気ガス
供給口４２ｂは、配管４４ｂ、第１および第２の円筒状
支持部材５０，５１内の雰囲気ガス供給チューブ５２ｂ
および搬送室支持アーム３１内の雰囲気ガス供給管３８
ｂを介して外部の雰囲気ガス供給源に接続される。ま
た、基板収納室４０ｂ内の排気口４３ｂは、配管４５
ｂ、第１および第２の円筒状支持部材５０，５１内の排
気チューブ５３ｂおよび搬送室支持アーム３１内の排気
管３９ｂを介して外部の排気装置に接続される。

【００５８】なお、回動用モータ３０５、上下移動用モ
ータ３０９および水平移動機構部６０ａ，６０ｂのモー
タ７１（図８参照）への給電も搬送室支持アーム３１内
を通して行われる。

【００５９】本実施例では、第１の円筒状支持部材５
０、第２の円筒状支持部材５１および水平移動機構部６
０ａ，６０ｂが支持機構を構成する。

【００６０】次に、本実施例の基板処理装置の動作を説
明する。未処理の基板は図２の搬入室２ａ内の基板受け
渡し台２１ａ上に搬入される。そして、搬送室３０内の
第１の円筒状支持部材５０が搬送室３０とともに鉛直軸
の周りで回動するとともに第２の円筒状支持部材５１が
鉛直方向に移動することにより、搬送室３０の開口部３
６および基板収納室４０ａの基板出入口４１ａが搬入室
２ａの開口部２２ａの前方に位置する。この状態で、基
板収納室４０ａ内の水平移動機構部６０ａの基板保持部
６２が基板出入口４１ａ、搬送室３０の開口部３６およ
び搬入室２ａの開口部２２ａを通して前進し、基板受け
渡し台２１ａ上の基板を受け取った後、基板収納室４０
ａ内に後退する。

【００６１】その後、搬送室３０内の第１の円筒状支持
部材５０が搬送室３０とともに鉛直軸の周りで回動する
ことにより、搬送室３０の開口部３６および基板収納室
４０ａの基板出入口４１ａが所定の処理室１１の開口部
１６の前方に位置する。そして、基板収納室４０ａ内の
水平移動機構部６０ａの基板保持部６２が基板出入口４
１ａ、搬送室３０の開口部３６および処理室１１の開口
部１６を通して前進し、処理室１１内に進入する。この
とき、処理室１１内のカップ１３が下降する。基板保持
部６２は、基板を回転保持部１２上に載置した後、後退
して基板収納室４０ａ内に戻る。

【００６２】一方、処理室１１内で基板の処理が終了す
ると、搬送室３０内の第１の円筒状支持部材５０が搬送
室３０とともに鉛直軸の周りで回動するとともに第２の
円筒状支持部材５１が上方向に移動することにより、搬
送室３０の開口部３６および基板収納室４０ｂの基板出
入口４１ｂがその処理室１１の開口部１６の前方に位置
する。そして、基板収納室４０ｂ内の水平移動機構部６
０ｂの基板保持部６２が基板出入口４１ｂ、搬送室３０
の開口部３６および処理室１１の開口部１６を通して前
進し、処理室１１内に進入する。このとき、処理室１１
内のカップ１３が下降する。基板保持部６２は、回転保
持部１２上の基板を受け取った後、後退して基板収納室
４０ｂ内に戻る。

【００６３】その後、搬送室３０内の第１の円筒状支持
部材５０が搬送室３０とともに鉛直軸の周りで回動する
ことにより、搬送室３０の開口部３６および基板収納室
４０ｂの基板出入口４１ｂが搬出室２ｂの開口部２２ｂ
の前方に位置する。そして、基板収納室４０ｂ内の水平
移動機構部６０ｂの基板保持部６２が、基板出入口４１
ｂ、搬送室３０の開口部３６および搬出室２ｂの開口部
２２ｂを通して前進し、基板受け渡し台２１ｂ上に基板
を載置した後、基板収納室４０ｂ内に後退する。

【００６４】搬出室２ｂ内の基板受け渡し台２１ｂ上に
載置された基板は、外部に搬出される。複数の基板に対
して上記の処理が順次的または並列的に行われる。

【００６５】本実施例の基板処理装置においては、基板
搬送ユニット３の搬送室３０が複数の基板処理ユニット
１の本体部１０上に形成された円柱状空間２０に設けら
れているので、基板搬送ユニット３の投影面積が基板処
理ユニット１の投影面積と重複し、基板搬送ユニット３
の設置面積が不要となる。それにより、基板処理装置の
全体の設置面積が低減される。

【００６６】また、基板搬送ユニット３への電力、雰囲
気ガス、排気等の用力の供給が搬送室支持アーム３１を
通して搬送室３０の上方から行われるので、基板処理ユ
ニット１との間で用力供給経路の干渉を回避することが
できる。その結果、床面における構造が煩雑になること
を防止することができる。

【００６７】さらに、処理室１１と搬送室３内の基板収
納室４０ａ，４０ｂとの間に中間低圧部Ａ（図６および
図７参照）が形成されるので、基板収納室４０ａ，４０
ｂの基板出入口４１ａ，４１ｂにシャッタを設ける必要
がなくなる。また、搬送室３が回動することにより各処
理室１１の開口部１６を開閉することができるので、各
処理室１１と搬送室３０との間にゲートバルブを設ける
必要がなくなる。それにより、処理室１１および搬送室
３０の構成が簡単になる。

【００６８】また、未処理の基板が搬入室２ａから搬送
室３０内の一方の基板収納室４０ａにより所定の処理室
１１に搬送され、処理済みの基板が処理室１１から搬送
室３０内の他方の基板収納室４０ｂにより搬出室２ｂに
搬送される。このように、処理前の基板と処理済みの基
板とが常に別個の経路で搬送されるので、処理前の基板
と処理済みの基板とがそれぞれ常に同一の搬送雰囲気に
保たれ、互いに影響を及ぼさない。これにより、処理前
の基板に伴って混入した異物等によって処理済の基板表
面が汚染されたり、逆に処理済の基板からのパーティク
ル等により処理前の基板が汚染されたりすることが防止
される。

【００６９】なお、上記実施例では、搬送室３０を回動
させることにより各処理室１１の開口部１６を開閉自在
に構成しているが、搬送室３０が回動しない構成の場合
には、複数の処理室１１の開口部１６に対応して搬送室
３０に複数の開口部３６を設け、各開口部３６に開閉自
在なシャッタを設ければよい。また、基板収納室４０
ａ，４０ｂの基板出入口４１ａ，４１ｂに開閉自在なシ
ャッタを設けてもよい。

【００７０】また、基板処理ユニット１としては、上記
実施例に限らず、処理液の塗布処理、現像処理、加熱処
理、冷却処理等の種々の基板処理を行う基板処理ユニッ
トを用いることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における基板処理装置の平面
図である。

【図２】図１の基板処理装置の横断面図である。

【図３】図１の基板処理装置の部分縦断面図である。

【図４】図１の基板処理装置における１つの基板処理ユ
ニットの斜視図である。

【図５】図１の基板処理装置における基板搬送ユニット
の搬送室の斜視図である。

【図６】基板搬送ユニットの搬送室の縦断面図である。

【図７】基板搬送ユニットの搬送室の横断面図である。

【図８】水平移動機構部の平面図である。

【図９】水平移動機構部の縦断面図である。

【図１０】基板搬送ユニットの主要部の縦断面図であ
る。

【図１１】従来の基板処理装置の一例を示す平面図であ
る。

【符号の説明】

１ 基板処理ユニット ２ａ 搬入室 ２ｂ 搬出室 ３ 基板搬送ユニット １０ 本体部 １１ 処理室 １６，２２ａ，２２ｂ，３６ 開口部 １９ １／４円柱状空間 ２０ 円柱状空間 ３０ 搬送室 ３１ 搬送室支持アーム ３２ アーム駆動部 ３３ アーム支持部 ３４ 給気口 ３５ 排気口 ４０ａ，４０ｂ 基板収納室 ４１ａ，４１ｂ 基板出入口 ４２ａ，４２ｂ 雰囲気ガス供給口 ４３ａ，４３ｂ 排気口 ５０ 第１の円筒状支持部材 ５１ 第２の円筒状支持部材 ６０ａ，６０ｂ 水平移動機構部 ６１ 収納ボックス ６２ 基板保持部

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を搬送する基板搬送ユニットと、 前記基板搬送ユニットの周囲に配置された処理室を有す
   る複数の基板処理ユニットと、 外部との間で基板の受渡しを行う受け渡し部とを備え、 前記基板搬送ユニットは、 前記受け渡し部から受け取った基板を保持して搬送し、
   前記複数の基板処理ユニットの処理室のいずれかに搬入
   する第１の基板保持部と、 前記第１の基板保持部を取り囲む第１の基板収納室と、 前記複数の基板処理ユニットの処理室のいずれかから搬
   出した基板を保持して搬送し、前記受け渡し部に渡す第
   ２の基板保持部と、 前記第２の基板保持部を取り囲む第２の基板収納室とを
   備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 前記第１の基板収納室と前記第２の基板
   収納室とは鉛直方向に積層されたことを特徴とする請求
   項１記載の基板処理装置。
3. 【請求項３】 前記受け渡し部は、前記処理室での処理
   前の基板を前記第１の基板保持部が受け取るための第１
   の受け渡し部と、前記処理室での処理済の基板を前記第
   ２の基板保持部から渡される第２の受け渡し部とを備え
   たことを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装
   置。
4. 【請求項４】 前記基板搬送ユニットは、 前記第１および第２の基板保持部を鉛直方向および水平
   方向に移動可能かつ鉛直方向の軸の周りで回動可能に支
   持する支持機構と、 前記第１および第２の基板収納室を取り囲み、前記第１
   の基板保持部または前記第２の基板保持部が通過可能な
   開口部を有する搬送室とをさらに備え、 前記基板搬送ユニットの前記第１の基板収納室は、前記
   第１の基板保持部が通過可能な基板出入口を有し、 前記基板搬送ユニットの前記第２の基板収納室は、前記
   第２の基板保持部が通過可能な基板出入口を有すること
   を特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の基板処理
   装置。
5. 【請求項５】 前記基板処理ユニットは、前記処理室内
   での処理動作を駆動する駆動機構を内蔵する本体部をさ
   らに備え、 前記基板処理ユニットの前記処理室は、前記本体部上面
   の少なくとも外周部側の一部領域上に空間が形成される
   ように前記本体部上に設けられ、 前記複数の基板処理ユニットは、前記一部領域上に形成
   された空間が合体するように配置され、 前記基板搬送ユニットは、前記複数の基板処理ユニット
   の前記本体部上の前記合体した空間に配設されたことを
   特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の基板処理装
   置。
6. 【請求項６】 前記基板搬送ユニットの前記搬送室は鉛
   直方向の軸を中心とする円筒状の外周面を有し、前記円
   筒状の外周面には前記第１の基板保持部または前記第２
   の基板保持部が通過可能な開口部が設けられ、各基板処
   理ユニットの前記処理室は前記搬送室の前記円筒状の外
   周面に接する部分円筒状の側面を有し、前記部分円筒状
   の部分側面には前記第１の基板保持部または前記第２の
   基板保持部が通過可能な開口部が設けられ、前記搬送室
   は鉛直方向の軸の周りで回動可能に設けられたことを特
   徴とする請求項５記載の基板処理装置。