CN114428064B - 一种铜蚀刻液中硝酸根离子含量的检测方法 - Google Patents
一种铜蚀刻液中硝酸根离子含量的检测方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114428064B CN114428064B CN202111654023.0A CN202111654023A CN114428064B CN 114428064 B CN114428064 B CN 114428064B CN 202111654023 A CN202111654023 A CN 202111654023A CN 114428064 B CN114428064 B CN 114428064B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- stock solution
- standard stock
- concentration
- standard
- nitrate ions
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 78
- -1 nitrate ions Chemical class 0.000 title claims abstract description 76
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 63
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 54
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 54
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims abstract description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 claims abstract description 109
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims abstract description 71
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims abstract description 50
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims abstract description 28
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 238000007865 diluting Methods 0.000 claims abstract description 23
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 9
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N p-toluic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical group [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 16
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 claims description 11
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims description 9
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000012895 dilution Substances 0.000 claims description 8
- 238000010790 dilution Methods 0.000 claims description 8
- HNNQYHFROJDYHQ-UHFFFAOYSA-N 3-(4-ethylcyclohexyl)propanoic acid 3-(3-ethylcyclopentyl)propanoic acid Chemical compound CCC1CCC(CCC(O)=O)C1.CCC1CCC(CCC(O)=O)CC1 HNNQYHFROJDYHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 claims description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 claims 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 abstract description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 7
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 4
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUSDEZXZIZRFGC-UHFFFAOYSA-N 1-O-galloyl-3,6-(R)-HHDP-beta-D-glucose Natural products OC1C(O2)COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC1C(O)C2OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 TUSDEZXZIZRFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZNCMPXSFJLTCI-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-methoxyphenyl)methylamino]-1-[3-(trifluoromethyl)phenyl]ethanol Chemical compound COC1=CC=CC=C1CNCC(O)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 QZNCMPXSFJLTCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJZYHAIUNVAGQP-UHFFFAOYSA-N 3-nitrobicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1C2C=CC1C(C(=O)O)C2(C(O)=O)[N+]([O-])=O QJZYHAIUNVAGQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCFQXKYHWFWGSB-UHFFFAOYSA-N 5,6,7,8-tetrahydronaphthalene-1-carboxylic acid Chemical compound C1CCCC2=C1C=CC=C2C(=O)O GCFQXKYHWFWGSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001263 FEMA 3042 Substances 0.000 description 1
- LRBQNJMCXXYXIU-PPKXGCFTSA-N Penta-digallate-beta-D-glucose Natural products OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)OC=2C(=C(O)C=C(C=2)C(=O)OC[C@@H]2[C@H]([C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)O2)OC(=O)C=2C=C(OC(=O)C=3C=C(O)C(O)=C(O)C=3)C(O)=C(O)C=2)O)=C1 LRBQNJMCXXYXIU-PPKXGCFTSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000003927 aminopyridines Chemical class 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- LRBQNJMCXXYXIU-QWKBTXIPSA-N gallotannic acid Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)OC=2C(=C(O)C=C(C=2)C(=O)OC[C@H]2[C@@H]([C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)O2)OC(=O)C=2C=C(OC(=O)C=3C=C(O)C(O)=C(O)C=3)C(O)=C(O)C=2)O)=C1 LRBQNJMCXXYXIU-QWKBTXIPSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004021 humic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N o-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(O)=O ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229940033123 tannic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000015523 tannic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920002258 tannic acid Polymers 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/33—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using ultraviolet light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
Abstract
本发明提供一种铜蚀刻液中硝酸根离子含量的检测方法，包含如下步骤：S1：配制标准原液及对标准原液稀释得到成浓度梯度的原液稀释液，标准原液的配制原料中包含至少一种有机碱、硝酸、至少一种羧酸类化合物、以及至少一种酚类化合物；S2：利用紫外分光光度计在一定波长范围下对步骤S1配制得到的标准原液及原液稀释液进行硝酸根离子的检测，绘制浓度‑吸光度的标准曲线；S3：将待测铜蚀刻液用水和标准原液稀释液稀释处理后获得待测样品，采用紫外分光光度计测试待测样品的吸光度，计算待测样品的硝酸根离子浓度，计算待测铜蚀刻液中硝酸根离子的浓度。本发明的检测方法精度高、易操作且废液量较少，能够实现铜蚀刻液中硝酸根离子的快速检测。
Description
技术领域
本发明涉及化学检测领域，具体涉及一种铜蚀刻液中硝酸根离子含量的检测方法。
背景技术
蚀刻技术可以分为湿法蚀刻与干法蚀刻两种方式，其中湿法蚀刻因操作简单、成本低廉、用时短且具有高可靠性和高选择性等优势而广泛应用。湿法蚀刻是将待蚀刻材料浸泡在蚀刻液内进行腐蚀的技术，利用合适的化学试剂将所需去除部分分解，然后转成可溶的化合物达到去除的目的。湿法蚀刻广泛应用于PCB（Printed circuit boards，板印制）、电子元器件电路制程、玻璃雕花和金属装饰灯方面，一般用于蚀刻铜、钢、硅、不锈钢、铁、锌及铝等金属。近年来，蚀刻液也逐渐朝着可再生、安全环保的方向发展。
蚀刻液通常根据溶液pH值的不同而分为酸性蚀刻液和碱性蚀刻液。酸性蚀刻液一般适用于多层PCB的内层电路图形的制作及纯锡PCB板路的蚀刻，主要成分为盐酸、草酸、硝酸、醋酸、氢氟酸等组成，具有蚀刻速率快、侧蚀小、溶铜能力强、蚀刻角度和蚀刻方向易于控制、蚀刻液可连续循环再生和成本低等优点。碱性蚀刻液一般用于多层PCB外层电路图形或微波PCB阴板法直接蚀刻图形的制作，主要成分为氯化铜、氯化铵、盐酸、氯化钠等组成，具有蚀刻速率易控制、蚀刻质量高、溶铜量大、蚀刻液易回收等优点。在含有硝酸的酸性蚀刻液中，硝酸根离子的含量决定着蚀刻液的使用寿命和蚀刻效果，所以在蚀刻过程中，需对硝酸根离子的含量进行在线实时检测，以确保硝酸根离子的含量在正常区间范围内。
中国专利CN109406433A中公开了一种检测铝蚀刻液中硝酸含量的检测方法，该专利中需使用浓硝酸配制不同浓度的中间液，中间液需稀释10-200倍，待测样品也需稀释10-30倍，且需要滴定法标定中间液中硝酸根离子的浓度，检测过程中产生了大量的废液且增加了滴定仪产生的机差，不符合绿色环保、高检测准确度的要求。如何获得一种高精度、操作简单、快捷且废液产出量少的检测方法是本领域亟待解决的问题。
发明内容
发明目的：为解决现有技术中存在的问题，本发明提供一种高精度、易操作、废液量少的铜蚀刻液中硝酸根离子的检测方法。
技术方案：为了实现以上发明目的，本发明提供一种铜蚀刻液中硝酸根离子的检测方法，包含如下步骤：
S1：配制标准原液及对标准原液稀释得到成浓度梯度的原液稀释液，标准原液的配制原料中包含至少一种有机碱、硝酸、至少一种羧酸类化合物、以及至少一种酚类化合物；
S2：利用紫外分光光度计在一定波长范围下对步骤S1配制得到的标准原液及原液稀释液进行硝酸根离子的检测，绘制浓度-吸光度的标准曲线；
S3：将待测铜蚀刻液用所述标准原液稀释液稀释处理后获得待测样品，再与所述硝酸标准溶液相同的检测条件下，采用紫外分光光度计测试所述待测样品的吸光度，将测得的吸光度值代入步骤S2制得的浓度-吸光度的标准曲线中，计算所述待测样品的硝酸根离子浓度，将换算得到的浓度减去稀释液中原有的硝酸根离子的浓度，根据待测样品的稀释倍数，计算所述待测铜蚀刻液中硝酸根离子的浓度。
在本发明的一些实施方案中，本发明的检测方法包括如下步骤：
S1：配制标准原液及对标准原液稀释得到成浓度梯度的原液稀释液，标准原液的配制原料中包含至少一种有机碱、硝酸、至少一种羧酸类化合物、以及至少一种酚类化合物；
S2：利用紫外分光光度计在一定波长范围下对步骤S1配制得到的标准原液及原液稀释液进行硝酸根离子的检测，绘制浓度-吸光度的标准曲线；
S3：将待测铜蚀刻液用所述稀释20倍的标准原液稀释液稀释处理后获得待测样品，再与所述硝酸标准溶液相同的检测条件下，采用紫外分光光度计测试所述待测样品的吸光度，将测得的吸光度值代入步骤S2制得的浓度-吸光度的标准曲线中，计算所述待测样品的硝酸根离子浓度，将换算得到的浓度减去稀释液中原有的硝酸根离子的浓度，根据待测样品的稀释倍数，计算所述待测铜蚀刻液中硝酸根离子的浓度。
在本发明的一些实施方案中，在步骤S1中，有机碱选自四甲基氢氧化铵、三乙胺、氨基吡啶、乙醇胺、异丙胺中的一种或至少两种的组合；优选为四甲基氢氧化铵、三乙胺或乙醇胺。
在本发明中，有机碱可以维持标准液的pH值稳定，确保检测的准确性。
在本发明的一些实施方案中，在步骤S1中，在配制100 g标准原液时，有机碱在标准原液的配制原料中的加入量为1 g-30 g（包含其间的所有数值），例如1 g、2 g、3 g、4 g、5 g、6 g、7 g、8 g、9 g、10 g、11 g、12 g、13 g、14 g、15 g、16 g、17 g、18 g、19 g、20 g、21g、22 g、23 g、24 g、25 g、26 g、27 g、28 g、29 g、30 g或者其中任意两者之间的范围，优选为15 g-27 g。
在本发明的一些实施方案中，在步骤S1中，硝酸为30%~50%的硝酸，优选为30%的硝酸。
在本发明的一些实施方案中，在步骤S1中，在配制100 g标准原液时，硝酸在标准原液的配制原料中的加入量为10 g-50 g（包含其间的所有数值），例如10 g、11 g、12 g、13g、14 g、15 g、16 g、17 g、18 g、19 g、20 g、21 g、22 g、23 g、24 g、25 g、26 g、27 g、28 g、29 g、30 g、31 g、32 g、33 g、34 g、35 g、36 g、37 g、38 g、39 g、40 g、41 g、42 g、43 g、44g、45 g、46 g、47 g、48 g、49 g、50 g或者其中任意两者之间的范围，优选为30 g-45 g。
在本发明的一些实施方案中，在步骤S1中，羧酸类化合物选自草酸、柠檬酸、腐殖酸、单宁酸、邻甲基苯甲酸、对甲基苯甲酸、环烷酸、5,6,7,8-四氢-1-萘甲酸、对苄基三氟甲磺酸中的一种或至少两种的组合；优选为草酸、柠檬酸、对甲基苯甲酸或环烷酸。
在本发明中，羧酸类化合物可提高紫外分光光度计对硝酸根离子的识别能力。
在本发明的一些实施方案中，在步骤S1中，在配制100 g标准原液时，羧酸类化合物在标准原液的配制原料中的加入量为12 g-40 g（包含其间的所有数值），例如12 g、13g、14 g、15 g、16 g、17 g、18 g、19 g、20 g、21 g、22 g、23 g、24 g、25 g、26 g、27 g、28 g、29 g、30 g、31 g、32 g、33 g、34 g、35 g、36 g、37 g、38 g、39 g、40 g或者其中任意两者之间的范围，优选为18 g-35 g。
在本发明的一些实施方案中，在步骤S1中，酚类化合物选自对甲苯酚、对苯二酚、连苯三酚、甲萘酚中的一种或至少两种的组合；优选为对甲苯酚或对苯二酚。
在本发明的一些实施方案中，酚类化合物可消除背景因素对测试结果的影响，提高检测结果的准确性。
在本发明的一些实施方案中，在步骤S1中，在配制100 g标准原液时，酚类化合物在标准原液的配制原料中的加入量为1 g-5 g（包含其间的所有数值），例如1 g、2 g、3 g、4g、5 g或者其中任意两者之间的范围，优选为2 g-3 g。
在本发明的一些实施方案中，在步骤S2中，测定波长为170 nm-300 nm；优选为210nm-230 nm。
在本发明的一些实施方案中，在步骤S3中，水为电阻率≥18 MΩ的超纯水。
有益效果：与现有技术相比，本发明的检测方法精度高、易操作、废液量少，能够实现铜蚀刻液中硝酸根离子的快速检测。
附图说明
图1为实施例1制得的硝酸根离子标准工作曲线。
图2为实施例2制得的硝酸根离子标准工作曲线。
图3为实施例3制得的硝酸根离子标准工作曲线。
图4为实施例4制得的硝酸根离子标准工作曲线。
图5为实施例5制得的硝酸根离子标准工作曲线。
图6为对比例1制得的硝酸根离子标准工作曲线。
图7为对比例2制得的硝酸根离子标准工作曲线。
具体实施方式
以下将结合具体实施方案来说明本发明。需要说明的是，下面的实施例为本发明的示例，仅用来说明本发明，而不用来限制本发明。在不偏离本发明主旨或范围的情况下，可进行本发明构思内的其他组合和各种改良。
实施例1
S1-1标准溶液的配制：
取100 mL的洁净烧杯，加入43 g 30%的硝酸、20 g草酸、3 g对甲基苯甲酸、18 g四甲基氢氧化铵、3 g对苯二酚和13 g超纯水，充分溶解，配制成100 g的标准原液。
配制7份浓度梯度的标准原液稀释液，每份稀释液含有10 g标准原液，依次用超纯水稀释2倍、4倍、6倍、8倍、10倍、20倍以及50倍，得到标准原液稀释液。
S2-1 ：将步骤S1-1配制得到的标准原液及对标准原液稀释不同倍数后得到的原液稀释液分别置于佑科UV1800型紫外分光光度计中，调整扫描波长为220 nm，对每个浓度的检测样品测试三遍，通过测得的吸光度的值绘制得到浓度-吸光度的标准曲线，如图1所示。
S3-1：将待测铜蚀刻液用步骤S1-1制得的稀释20倍的标准原液稀释液配制成理论值为15.01%的待测液1 g（该理论值为待测铜蚀刻液中硝酸根离子总浓度减去标准原液稀释液中硝酸根离子浓度后得到的待测铜蚀刻液中硝酸根离子的浓度），置于佑科UV1800型紫外分光光度计中，调整扫描波长为220 nm，对该样品检测3次，将其代入S2-1绘制的标准曲线中，经过换算得到待测样品的硝酸根离子浓度为15.01%。
上述紫外分光光度计参数如下：波长准确度±2nm，夹缝0.1 mm氢弧灯，光谱带宽4nm，波长重复性1nm，光度准确性±0.5%T，稳定性±0.004A/h，100 mm石英石比色皿。
实施例2
S1-2标准溶液的配制：
取100 mL的洁净烧杯，加入50 g 30%的硝酸、16 g柠檬酸、3 g对甲基苯甲酸、2 g环烷酸、4 g乙醇胺、12 g三乙胺、2 g对苯二酚和11 g超纯水，充分溶解，配制成100 g的标准原液。
配制7份浓度梯度的标准原液稀释液，每份稀释液含有10 g标准原液，依次用超纯水稀释2倍、4倍、6倍、8倍、10倍、20倍以及50倍，得到标准原液稀释液。
S2-2 ：将步骤S2-1配制得到的标准原液及对标准原液稀释不同倍数后得到的原液稀释液分别置于佑科UV1800型紫外分光光度计中，调整扫描波长为220 nm，对每个浓度的检测样品测试三遍，通过测得的吸光度的值绘制得到浓度-吸光度的标准曲线，如图2所示。
S3-2：将待测铜蚀刻液用步骤S1-2制得的稀释20倍的标准原液稀释液配制成理论值为15.01%的待测液1 g（该理论值为待测铜蚀刻液中硝酸根离子总浓度减去标准原液稀释液中硝酸根离子浓度后得到的待测铜蚀刻液中硝酸根离子的浓度），置于佑科UV1800型紫外分光光度计中，调整扫描波长为220 nm，对该样品检测3次，将其代入S2-2绘制的标准曲线中，经过换算得到待测样品的硝酸根离子浓度为14.98%。
上述紫外分光光度计参数如下：波长准确度±2nm，夹缝0.1 mm氢弧灯，光谱带宽4nm，波长重复性1nm，光度准确性±0.5%T，稳定性±0.004A/h，100 mm石英石比色皿。
实施例3
S1-3标准溶液的配制：
取100 mL的洁净烧杯，加入23 g 30%的硝酸、15 g草酸、2 g对甲基苯甲酸、5 g环烷酸、2 g乙醇胺、11 g四甲基氢氧化铵、6 g三乙胺和36 g超纯水，充分溶解，配制成100 g的标准原液。
配制7份浓度梯度的标准原液稀释液，每份稀释液含有10 g标准原液，依次用超纯水稀释2倍、4倍、6倍、8倍、10倍、20倍以及50倍，得到标准原液稀释液。
S2-3 ：将步骤S1-3配制得到的标准原液及对标准原液稀释不同倍数后得到的原液稀释液分别置于佑科UV1800型紫外分光光度计中，调整扫描波长为220 nm，对每个浓度的检测样品测试三遍，通过测得的吸光度的值绘制得到浓度-吸光度的标准曲线，如图3所示。
S3-3：将待测铜蚀刻液用步骤S1-3制得的稀释20倍的标准原液稀释液配制成理论值为15.01%的待测液1 g（该理论值为待测铜蚀刻液中硝酸根离子总浓度减去标准原液稀释液中硝酸根离子浓度后得到的待测铜蚀刻液中硝酸根离子的浓度），置于佑科UV1800型紫外分光光度计中，调整扫描波长为220 nm，对该样品检测3次，将其代入S2-3绘制的标准曲线中，经过换算得到待测样品的硝酸根离子浓度为15.03%。
上述紫外分光光度计参数如下：波长准确度±2nm，夹缝0.1 mm氢弧灯，光谱带宽4nm，波长重复性1nm，光度准确性±0.5%T，稳定性±0.004A/h，100 mm石英石比色皿。
实施例4
S1-4标准溶液的配制：
取100 mL的洁净烧杯，加入12 g 30%的硝酸、30 g草酸、5 g对甲基苯甲酸、27 g四甲基氢氧化铵、3 g对苯二酚、1 g对甲苯酚和22 g超纯水，充分溶解，配制成100 g的标准原液。
配制7份浓度梯度的标准原液稀释液，每份稀释液含有10 g标准原液，依次用超纯水稀释2倍、4倍、6倍、8倍、10倍、20倍以及50倍，得到标准原液稀释液。
S2-4 ：将步骤S1-4配制得到的标准原液及对标准原液稀释不同倍数后得到的原液稀释液分别置于佑科UV1800型紫外分光光度计中，调整扫描波长为220 nm，对每个浓度的检测样品测试三遍，通过测得的吸光度的值绘制得到浓度-吸光度的标准曲线，如图4所示。
S3-4：将待测铜蚀刻液用步骤S1-4制得的稀释20倍的标准原液稀释液配制成理论值为15.01%的待测液1 g（该理论值为待测铜蚀刻液中硝酸根离子总浓度减去标准原液稀释液中硝酸根离子浓度后得到的待测铜蚀刻液中硝酸根离子的浓度），置于佑科UV1800型紫外分光光度计中，调整扫描波长为220 nm，对该样品检测3次，将其代入S2-4绘制的标准曲线中，经过换算得到待测样品的硝酸根离子浓度为15.02%。
上述紫外分光光度计参数如下：波长准确度±2nm，夹缝0.1 mm氢弧灯，光谱带宽4nm，波长重复性1nm，光度准确性±0.5%T，稳定性±0.004A/h，100 mm石英石比色皿。
实施例5
S1-5标准溶液的配制：
取100 mL的洁净烧杯，加入25 g 30%的硝酸、20 g草酸、2 g对甲基苯甲酸、4 g 环烷酸、15 g四甲基氢氧化铵、1 g三乙胺、3 g对苯二酚、2 g对甲苯酚和28 g超纯水，充分溶解，配制成100 g的标准原液。
配制7份浓度梯度的标准原液稀释液，每份稀释液含有10 g标准原液，依次用超纯水稀释2倍、4倍、6倍、8倍、10倍、20倍以及50倍，得到标准原液稀释液。
S2-5 ：将步骤S1-5配制得到的标准原液及对标准原液稀释不同倍数后得到的原液稀释液分别置于佑科UV1800型紫外分光光度计中，调整扫描波长为220 nm，对每个浓度的检测样品测试三遍，通过测得的吸光度的值绘制得到浓度-吸光度的标准曲线，如图5所示。
S3-5：将待测铜蚀刻液用步骤S1-5制得的稀释20倍的标准原液稀释液配制成理论值为15.01%的待测液1 g（该理论值为待测铜蚀刻液中硝酸根离子总浓度减去标准原液稀释液中硝酸根离子浓度后得到的待测铜蚀刻液中硝酸根离子的浓度），置于佑科UV1800型紫外分光光度计中，调整扫描波长为220 nm，对该样品检测3次，将其代入S2-1绘制的标准曲线中，经过换算得到待测样品的硝酸根离子浓度为15.04%。
上述紫外分光光度计参数如下：波长准确度±2nm，夹缝0.1 mm氢弧灯，光谱带宽4nm，波长重复性1nm，光度准确性±0.5%T，稳定性±0.004A/h，100 mm石英石比色皿。
实施例6
S1和S2的操作方法同实施例1。
S3：取10 g商品名为CTK5000A的铜蚀刻液，将其用90 g S1-1中制得的稀释了20倍的原液稀释液进行稀释，稀释后待测液的硝酸根离子的理论含量为11.35%（该理论值为待测铜蚀刻液中硝酸根离子总浓度减去标准原液稀释液中硝酸根离子浓度后得到的待测铜蚀刻液中硝酸根离子的浓度），置于佑科UV1800型紫外分光光度计中，调整扫描波长为220nm，对该样品检测3次，将其代入S2-1绘制的标准曲线中，经过换算得到待测样品的硝酸根离子浓度为11.36%。
对比例1
D1-1标准溶液的配制：
取100 mL的洁净烧杯，加入43 g 30%的硝酸、18 g四甲基氢氧化铵、3 g对苯二酚和36 g超纯水，充分溶解，配制成100 g的标准原液。
配制7份浓度梯度的标准原液稀释液，每份稀释液含有10 g标准原液，依次用超纯水稀释2倍、4倍、6倍、8倍、10倍、20倍以及50倍，得到标准原液稀释液。
D2-1 ：将步骤S1-1配制得到的标准原液及对标准原液稀释不同倍数后得到的原液稀释液分别置于佑科UV1800型紫外分光光度计中，调整扫描波长为220 nm，对每个浓度的检测样品测试三遍，通过测得的吸光度的值绘制得到浓度-吸光度的标准曲线，如图6所示。
D3-1：将待测铜蚀刻液用步骤D1-1制得的稀释20倍的标准原液稀释液配制成理论值为15.01%的待测液1 g（该理论值为待测铜蚀刻液中硝酸根离子总浓度减去标准原液稀释液中硝酸根离子浓度后得到的待测铜蚀刻液中硝酸根离子的浓度），置于佑科UV1800型紫外分光光度计中，调整扫描波长为220 nm，对该样品检测3次，将其代入D2-1绘制的标准曲线中，经过换算得到待测样品的硝酸根离子浓度为15.19%。
上述紫外分光光度计参数如下：波长准确度±2nm，夹缝0.1 mm氢弧灯，光谱带宽4nm，波长重复性1nm，光度准确性±0.5%T，稳定性±0.004A/h，100 mm石英石比色皿。
对比例2
D1-2标准溶液的配制：
取100 mL的洁净烧杯，加入43 g 30%的硝酸、20 g草酸、3 g对甲基苯甲酸、3 g对苯二酚和31 g超纯水，充分溶解，配制成100 g的标准原液。
配制7份浓度梯度的标准原液稀释液，每份稀释液含有10 g标准原液，依次用超纯水稀释2倍、4倍、6倍、8倍、10倍、20倍以及50倍，得到标准原液稀释液。
D2-1 ：将步骤S1-1配制得到的标准原液及对标准原液稀释不同倍数后得到的原液稀释液分别置于佑科UV1800型紫外分光光度计中，调整扫描波长为220 nm，对每个浓度的检测样品测试三遍，通过测得的吸光度的值绘制得到浓度-吸光度的标准曲线，如图7所示。
D3-1：将待测铜蚀刻液用步骤S1-1制得的稀释20倍的标准原液稀释液配制成理论值为15.01%的待测液1 g（该理论值为待测铜蚀刻液中硝酸根离子总浓度减去标准原液稀释液中硝酸根离子浓度后得到的待测铜蚀刻液中硝酸根离子的浓度），置于佑科UV1800型紫外分光光度计中，调整扫描波长为220 nm，对该样品检测3次，将其代入D2-1绘制的标准曲线中，经过换算得到待测样品的硝酸根离子浓度为15.15%。
上述紫外分光光度计参数如下：波长准确度±2nm，夹缝0.1 mm氢弧灯，光谱带宽4nm，波长重复性1nm，光度准确性±0.5%T，稳定性±0.004A/h，100 mm石英石比色皿。
综上，本发明的检测方法精度高、易操作且废液量较少，能够实现铜蚀刻液中硝酸根离子的快速检测。
以上实施方式只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人了解本发明内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围，凡根据本发明精神实质所做的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。
Claims (7)
1.一种铜蚀刻液中硝酸根离子的检测方法，其特征在于，所述检测方法包含如下步骤：
S1：配制标准原液及对标准原液稀释得到成浓度梯度的原液稀释液，所述标准原液的配制原料中包含至少一种有机碱、硝酸、至少一种羧酸类化合物、以及至少一种酚类化合物；
S2：利用紫外分光光度计在一定波长范围下对步骤S1配制得到的所述标准原液及所述原液稀释液进行硝酸根离子的检测，绘制浓度-吸光度的标准曲线；
S3：将待测铜蚀刻液用所述标准原液稀释液稀释处理后获得待测样品，再与所述硝酸标准溶液相同的检测条件下，采用紫外可见光分光光度计测试所述待测样品的吸光度，将测得的吸光度值代入步骤S2制得的浓度-吸光度的标准曲线中，计算所述待测样品的硝酸根离子浓度，将换算得到的浓度减去稀释液中原有的硝酸根离子的浓度，根据待测样品的稀释倍数，计算所述待测铜蚀刻液中硝酸根离子的浓度；
在步骤S1中，所述有机碱为四甲基氢氧化铵、三乙胺或乙醇胺；
所述羧酸类化合物为草酸、柠檬酸、对甲基苯甲酸或环烷酸；以及
所述酚类化合物为对甲苯酚或对苯二酚。
2.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，在所述步骤S1中，在配制100g标准原液时，所述有机碱在标准原液的配制原料中的加入量为1g-30g。
3.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，在所述步骤S1中，所述硝酸为30％～50％的硝酸。
4.根据权利要求3所述的检测方法，其特征在于，在所述步骤S1中，在配制100g标准原液时，所述硝酸在标准原液的配制原料中的加入量为10g-50g。
5.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，在所述步骤S1中，在配制100g标准原液时，所述羧酸类化合物在标准原液的配制原料中的加入量为12g-40g。
6.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，在所述步骤S1中，在配制100g标准原液时，所述酚类化合物在标准原液的配制原料中的加入量为1g-5g。
7.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，在所述步骤S2中，所述波长范围为170nm-300nm。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111654023.0A CN114428064B (zh) | 2021-12-31 | 2021-12-31 | 一种铜蚀刻液中硝酸根离子含量的检测方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111654023.0A CN114428064B (zh) | 2021-12-31 | 2021-12-31 | 一种铜蚀刻液中硝酸根离子含量的检测方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114428064A CN114428064A (zh) | 2022-05-03 |
| CN114428064B true CN114428064B (zh) | 2023-09-19 |
Family
ID=81311091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202111654023.0A Active CN114428064B (zh) | 2021-12-31 | 2021-12-31 | 一种铜蚀刻液中硝酸根离子含量的检测方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114428064B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115728257B (zh) * | 2022-12-09 | 2024-09-27 | 广东宝泊新材有限公司 | 蚀刻液的检测方法 |
Citations (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5236848A (en) * | 1990-03-07 | 1993-08-17 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Procedure and agent for the determination of nitrate ions |
| JPH10160668A (ja) * | 1996-11-30 | 1998-06-19 | Mitsubishi Materials Corp | 連続流れ分析法による硝酸濃度の測定方法とその装置 |
| JP2002228629A (ja) * | 2001-01-31 | 2002-08-14 | Horiba Ltd | 硝酸イオン濃度測定方法 |
| JP2008275537A (ja) * | 2007-05-02 | 2008-11-13 | Dia Instr:Kk | 混酸液中の硝酸の分析方法 |
| CN101567309A (zh) * | 2008-04-22 | 2009-10-28 | 株式会社平间理化研究所 | 蚀刻液调合装置及蚀刻液浓度测定装置 |
| JP2011257341A (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Kurabo Ind Ltd | 亜硝酸濃度の測定装置及び測定方法 |
| JP2012112783A (ja) * | 2010-11-24 | 2012-06-14 | Miura Co Ltd | 亜硝酸イオンの定量方法 |
| CN102791830A (zh) * | 2010-02-12 | 2012-11-21 | 睿纳有限责任公司 | 测定硝酸浓度的方法 |
| CN102967686A (zh) * | 2012-11-14 | 2013-03-13 | 杭州格林达化学有限公司 | 在线测定和控制ito蚀刻液中各酸浓度的方法 |
| CN103335966A (zh) * | 2013-06-20 | 2013-10-02 | 工信华鑫科技有限公司 | 一种溶液中微量(痕量)铜的检测方法 |
| JP2014130917A (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Panasonic Corp | エッチング溶液の成分濃度測定方法およびエッチング溶液の管理方法 |
| JP2014146715A (ja) * | 2013-01-30 | 2014-08-14 | Panasonic Corp | エッチング溶液の成分濃度測定装置およびエッチング溶液管理装置 |
| CN106093272A (zh) * | 2016-06-01 | 2016-11-09 | 西安交通大学 | 一种二氧化锰纳米片模拟氧化物酶检测还原性生物分子的方法 |
| CN108699706A (zh) * | 2016-04-27 | 2018-10-23 | 三洋化成工业株式会社 | 蚀刻液和电子基板的制造方法 |
| CN108896504A (zh) * | 2018-06-12 | 2018-11-27 | 昆明理工大学 | 一种同时测定对硝基苯酚及其降解产物硝酸根含量的方法 |
| CN109406433A (zh) * | 2019-01-10 | 2019-03-01 | 惠科股份有限公司 | 一种检测铝蚀刻液中硝酸含量的方法 |
| CN109738577A (zh) * | 2019-01-10 | 2019-05-10 | 惠科股份有限公司 | 一种检测铝蚀刻液中混酸含量的方法 |
| CN111855650A (zh) * | 2020-07-30 | 2020-10-30 | 青岛科技大学 | 一种刻蚀酸中氟硅酸、氢氟酸和硝酸含量的测定方法 |
| CN113237841A (zh) * | 2021-05-25 | 2021-08-10 | 江苏和达电子科技有限公司 | 一种蚀刻液中过氧化氢含量的检测方法 |
-
2021
- 2021-12-31 CN CN202111654023.0A patent/CN114428064B/zh active Active
Patent Citations (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5236848A (en) * | 1990-03-07 | 1993-08-17 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Procedure and agent for the determination of nitrate ions |
| JPH10160668A (ja) * | 1996-11-30 | 1998-06-19 | Mitsubishi Materials Corp | 連続流れ分析法による硝酸濃度の測定方法とその装置 |
| JP2002228629A (ja) * | 2001-01-31 | 2002-08-14 | Horiba Ltd | 硝酸イオン濃度測定方法 |
| JP2008275537A (ja) * | 2007-05-02 | 2008-11-13 | Dia Instr:Kk | 混酸液中の硝酸の分析方法 |
| CN101567309A (zh) * | 2008-04-22 | 2009-10-28 | 株式会社平间理化研究所 | 蚀刻液调合装置及蚀刻液浓度测定装置 |
| CN102791830A (zh) * | 2010-02-12 | 2012-11-21 | 睿纳有限责任公司 | 测定硝酸浓度的方法 |
| JP2011257341A (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Kurabo Ind Ltd | 亜硝酸濃度の測定装置及び測定方法 |
| JP2012112783A (ja) * | 2010-11-24 | 2012-06-14 | Miura Co Ltd | 亜硝酸イオンの定量方法 |
| CN102967686A (zh) * | 2012-11-14 | 2013-03-13 | 杭州格林达化学有限公司 | 在线测定和控制ito蚀刻液中各酸浓度的方法 |
| JP2014130917A (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Panasonic Corp | エッチング溶液の成分濃度測定方法およびエッチング溶液の管理方法 |
| JP2014146715A (ja) * | 2013-01-30 | 2014-08-14 | Panasonic Corp | エッチング溶液の成分濃度測定装置およびエッチング溶液管理装置 |
| CN103335966A (zh) * | 2013-06-20 | 2013-10-02 | 工信华鑫科技有限公司 | 一种溶液中微量(痕量)铜的检测方法 |
| CN108699706A (zh) * | 2016-04-27 | 2018-10-23 | 三洋化成工业株式会社 | 蚀刻液和电子基板的制造方法 |
| CN106093272A (zh) * | 2016-06-01 | 2016-11-09 | 西安交通大学 | 一种二氧化锰纳米片模拟氧化物酶检测还原性生物分子的方法 |
| CN108896504A (zh) * | 2018-06-12 | 2018-11-27 | 昆明理工大学 | 一种同时测定对硝基苯酚及其降解产物硝酸根含量的方法 |
| CN109406433A (zh) * | 2019-01-10 | 2019-03-01 | 惠科股份有限公司 | 一种检测铝蚀刻液中硝酸含量的方法 |
| CN109738577A (zh) * | 2019-01-10 | 2019-05-10 | 惠科股份有限公司 | 一种检测铝蚀刻液中混酸含量的方法 |
| CN111855650A (zh) * | 2020-07-30 | 2020-10-30 | 青岛科技大学 | 一种刻蚀酸中氟硅酸、氢氟酸和硝酸含量的测定方法 |
| CN113237841A (zh) * | 2021-05-25 | 2021-08-10 | 江苏和达电子科技有限公司 | 一种蚀刻液中过氧化氢含量的检测方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN114428064A (zh) | 2022-05-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN114428064B (zh) | 一种铜蚀刻液中硝酸根离子含量的检测方法 | |
| EP3812746B1 (en) | Fluorescent test paper for measuring mercury ions and measurement method | |
| CN104893728B (zh) | 一种用于ITO/Ag/ITO薄膜的低张力的蚀刻液 | |
| CN109097776A (zh) | 一种微蚀减铜添加液及工艺 | |
| CN106990158A (zh) | 一种沾污检测系统及检测方法 | |
| CN102981523A (zh) | 在线测定和控制铝蚀刻液中各种酸浓度的方法 | |
| CN102967686A (zh) | 在线测定和控制ito蚀刻液中各酸浓度的方法 | |
| CN110243775A (zh) | 一种铜箔电解液中聚乙二醇含量的分析检测方法及其制备方法 | |
| CN106852033A (zh) | 高精密度局部超高电流印制电路板加工方法 | |
| CN110346353B (zh) | 一种铝电解电容器电极箔中氧化铝含量的测试方法 | |
| CN112713103B (zh) | 硅片中金属含量的测量方法 | |
| CN102866042A (zh) | 一种ak糖的前处理方法及使用其的钾元素的检测方法 | |
| CN107478540A (zh) | 浓硫酸中水分及灰分含量的快速检测方法 | |
| CN116223146A (zh) | 一种用以检测金属杂质的含大分子聚合物有机溶液的预处理方法 | |
| KR20110041434A (ko) | 도전성 고분자의 패턴 형성 방법 | |
| CN113933376B (zh) | 基于多重稀释法的半导体溶剂icp-ms测定方法 | |
| CN110557897A (zh) | 一种环保印刷线路板生产工艺 | |
| CN113237841B (zh) | 一种蚀刻液中过氧化氢含量的检测方法 | |
| CN114764085B (zh) | 一种超纯树脂材料痕量金属杂质的分析方法及其应用 | |
| JP2014130917A (ja) | エッチング溶液の成分濃度測定方法およびエッチング溶液の管理方法 | |
| CN117269161B (zh) | 一种根据表面积快速判定铝壳氯离子含量是否合格的方法 | |
| CN110567943A (zh) | 一种氧化钇洁净间空气中痕量元素的检测方法 | |
| CN113534612B (zh) | 一种检测蚀刻用高精度引线框架材料平整度的快速方法 | |
| TWI461687B (zh) | 電路板檢測裝置及電路板檢測方法 | |
| CN114371165B (zh) | 一种高色度及还原性废水中二氧化硅含量的检测方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |