CN114222779A - 含有环氧基的聚有机硅氧烷、包含含有环氧基的聚有机硅氧烷的固化性树脂组合物及其固化物 - Google Patents
含有环氧基的聚有机硅氧烷、包含含有环氧基的聚有机硅氧烷的固化性树脂组合物及其固化物 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114222779A CN114222779A CN202080056737.9A CN202080056737A CN114222779A CN 114222779 A CN114222779 A CN 114222779A CN 202080056737 A CN202080056737 A CN 202080056737A CN 114222779 A CN114222779 A CN 114222779A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- group
- epoxy
- epoxy group
- containing polyorganosiloxane
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 title claims abstract description 199
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 38
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 24
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 21
- 229910020388 SiO1/2 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 19
- 229910020487 SiO3/2 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 61
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 59
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 31
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 26
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 claims description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims description 8
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 8
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910020485 SiO4/2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 abstract description 5
- 210000004128 D cell Anatomy 0.000 abstract description 4
- -1 acrylic compound Chemical class 0.000 description 73
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 49
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 49
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 40
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 39
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 33
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 26
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 239000000047 product Substances 0.000 description 22
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 17
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 15
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 13
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 10
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 9
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 9
- 239000005056 polyisocyanate Chemical class 0.000 description 9
- 229920001228 polyisocyanate Chemical class 0.000 description 9
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 229920002430 Fibre-reinforced plastic Polymers 0.000 description 7
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 7
- 239000011151 fibre-reinforced plastic Substances 0.000 description 7
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 7
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 3-Vinyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1C(C=C)CCC2OC21 SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N (dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)C KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- RCNRJBWHLARWRP-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane;platinum Chemical compound [Pt].C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C RCNRJBWHLARWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 239000005548 dental material Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000002305 electric material Substances 0.000 description 3
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- MEBONNVPKOBPEA-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trimethylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1(C)C MEBONNVPKOBPEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Chemical group 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 210000001744 T-lymphocyte Anatomy 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000413 hydrolysate Substances 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 2
- 238000001840 matrix-assisted laser desorption--ionisation time-of-flight mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Chemical group 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 2
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- AWOATHYNVXCSGP-UHFFFAOYSA-M (4-methylphenyl)-diphenylsulfanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC(C)=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AWOATHYNVXCSGP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-Bis(4-hydroxyphenyl)ethane Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)C1=CC=C(O)C=C1 HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrahydrotriazine Chemical compound C1NNNC=C1 FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 1,5-diazabicyclo[4.3.0]-non-5-ene Chemical compound C1CCN=C2CCCN21 SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYQQFWWMZYBCIB-UHFFFAOYSA-N 1-[diazo-(4-methylphenyl)sulfonylmethyl]sulfonyl-4-methylbenzene Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 GYQQFWWMZYBCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-2-methylimidazole Chemical compound CC1=NC=CN1CC1=CC=CC=C1 FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQMXOIAIYXXXEE-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidin-3-ol Chemical compound C1C(O)CCN1CC1=CC=CC=C1 YQMXOIAIYXXXEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUDWZVVOQUIIOV-UHFFFAOYSA-N 2,3,5,6-tetratert-butyl-4-[2-(2,3,5,6-tetratert-butyl-4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound CC(C)(C)c1c(O)c(c(c(c1C(C)(C)C)C(C)(C)c1c(c(c(O)c(c1C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C WUDWZVVOQUIIOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUZAETTVAMCNTO-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibutylbenzene-1,4-diol Chemical compound CCCCC1=C(O)C=CC(O)=C1CCCC ZUZAETTVAMCNTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCMHZGRRCCQFMZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris[(4-hydroxyphenyl)methyl]benzene-1,3-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC(CC=2C=CC(O)=CC=2)=C(O)C(CC=2C=CC(O)=CC=2)=C1O MCMHZGRRCCQFMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPIALDYHMPPRDJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl]-4-methylphenol Chemical compound OC=1C(CC=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=CC(C)=CC=1CC1=CC(C)=C(O)C(C)=C1 CPIALDYHMPPRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLDLRWQLBOJPEB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyphenyl)sulfanylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1SC1=CC=CC=C1O BLDLRWQLBOJPEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C)COCC1CO1 HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRTKZSGXECRYOS-UHFFFAOYSA-N 2-[10-(oxiran-2-ylmethoxy)decoxymethyl]oxirane Chemical class C1OC1COCCCCCCCCCCOCC1CO1 SRTKZSGXECRYOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAYJDIDYXCENIR-UHFFFAOYSA-N 2-[5-(oxiran-2-ylmethoxy)pentoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCOCC1CO1 CAYJDIDYXCENIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSVJSOQIMZXASI-UHFFFAOYSA-N 2-[7-(oxiran-2-ylmethoxy)heptoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCCOCC1CO1 LSVJSOQIMZXASI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCKFVXHJSVKKBD-UHFFFAOYSA-N 2-[8-(oxiran-2-ylmethoxy)octoxymethyl]oxirane Chemical class C1OC1COCCCCCCCCOCC1CO1 BCKFVXHJSVKKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical class C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDRVVFCTZBBUMB-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-[2,3,4,5-tetramethyl-6-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]phenoxy]methyl]oxirane Chemical compound CC=1C(C)=C(C)C(C)=C(C=2C(=CC=CC=2)OCC2OC2)C=1OCC1CO1 LDRVVFCTZBBUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGIBUEPJJRWWNM-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]phenoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1OCC1CO1 GGIBUEPJJRWWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRNDMHCFDIURAV-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-methyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)phenoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1=CC=C(OCC2OC2)C(C)=C1OCC1CO1 SRNDMHCFDIURAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRVJEADXJYKWPQ-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-methyl-4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenoxy]methyl]oxirane Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C(C)=CC=1OCC1CO1 LRVJEADXJYKWPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSYPIGPPWAJCJG-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 FSYPIGPPWAJCJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAFWZKVQMVOANB-UHFFFAOYSA-N 2-[tert-butylsulfonyl(diazo)methyl]sulfonyl-2-methylpropane Chemical compound CC(C)(C)S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C(C)(C)C SAFWZKVQMVOANB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUODQIKUTGWMPT-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-(trifluoromethyl)pyridine Chemical compound FC1=CC=C(C(F)(F)F)C=N1 UUODQIKUTGWMPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNDOBZLRZOCGAS-JTQLQIEISA-N 2-isocyanatoethyl (2s)-2,6-diisocyanatohexanoate Chemical compound O=C=NCCCC[C@H](N=C=O)C(=O)OCCN=C=O GNDOBZLRZOCGAS-JTQLQIEISA-N 0.000 description 1
- SVNWKKJQEFIURY-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropyl)imidazole Chemical compound CC(C)CN1C=CN=C1C SVNWKKJQEFIURY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005133 29Si NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010146 3D printing Methods 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTITJMSUGCZDH-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxy-2,6-dimethylphenyl)-3,5-dimethylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=CC(C)=C1C1=C(C)C=C(O)C=C1C XSTITJMSUGCZDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRPSWMCDEYMRPE-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C)C1=CC=C(O)C=C1 BRPSWMCDEYMRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VESRBMGDECAMNH-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]-2,3,5,6-tetramethylphenol Chemical compound CC1=C(C(=C(C(=C1O)C)C)C(C)(C)C1=CC=C(C=C1)O)C VESRBMGDECAMNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQTDWDATSAVLOR-UHFFFAOYSA-N 4-[3,5-bis(4-hydroxyphenyl)phenyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC(C=2C=CC(O)=CC=2)=CC(C=2C=CC(O)=CC=2)=C1 RQTDWDATSAVLOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQDVZSOCBOWISR-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)methyl]benzene-1,2-diol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C=C(C)C(O)=CC=2)C=2C=C(O)C(O)=CC=2)=C1 WQDVZSOCBOWISR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJWRVYWLRMVCIR-UHFFFAOYSA-N 4-benzylbenzene-1,2,3-triol Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1CC1=CC=CC=C1 UJWRVYWLRMVCIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDOZKJGKXYMEW-UHFFFAOYSA-N 4-ethylphenol Chemical compound CCC1=CC=C(O)C=C1 HXDOZKJGKXYMEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C=C1 RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017048 AsF6 Inorganic materials 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTVITOHKHWFJKO-UHFFFAOYSA-N Bisphenol B Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(CC)C1=CC=C(O)C=C1 HTVITOHKHWFJKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- KEELGCCSXPPIAY-UHFFFAOYSA-N C(C1CO1)OC=1C(=C(C(=CC1)C)C)C=1C(=CC=CC1)OCC1CO1 Chemical compound C(C1CO1)OC=1C(=C(C(=CC1)C)C)C=1C(=CC=CC1)OCC1CO1 KEELGCCSXPPIAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical class O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- SQSPRWMERUQXNE-UHFFFAOYSA-N Guanylurea Chemical compound NC(=N)NC(N)=O SQSPRWMERUQXNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- MGJKQDOBUOMPEZ-UHFFFAOYSA-N N,N'-dimethylurea Chemical compound CNC(=O)NC MGJKQDOBUOMPEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDONYZHVZVCMLR-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CC1CCCCC1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.CC1CCCCC1 HDONYZHVZVCMLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100271175 Oryza sativa subsp. japonica AT10 gene Proteins 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910020447 SiO2/2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 241000656145 Thyrsites atun Species 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N [2-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1CN GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N [cyclohexyl(diisocyanato)methyl]cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C(N=C=O)(N=C=O)C1CCCCC1 KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLGXSTXZLFQYKJ-UHFFFAOYSA-N [cyclohexylsulfonyl(diazo)methyl]sulfonylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C1CCCCC1 GLGXSTXZLFQYKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 1
- XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N bisphenol F diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1CC(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229910001914 chlorine tetroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- JWORPXLMBPOPPU-LNTINUHCSA-K chromium(3+);(z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Cr+3].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O JWORPXLMBPOPPU-LNTINUHCSA-K 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 150000001896 cresols Chemical class 0.000 description 1
- MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N crotonaldehyde Chemical compound C\C=C\C=O MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N crotonaldehyde Natural products CC=CC=O MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical group C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- CZSCUCRXCBAAGX-UHFFFAOYSA-M diphenyl-(2,4,6-trimethylphenyl)sulfanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.CC1=CC(C)=CC(C)=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 CZSCUCRXCBAAGX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SBQIJPBUMNWUKN-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 SBQIJPBUMNWUKN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphine Chemical compound C=1C=CC=CC=1PC1=CC=CC=C1 GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000019256 formaldehyde Nutrition 0.000 description 1
- 239000000295 fuel oil Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- UJNZOIKQAUQOCN-UHFFFAOYSA-N methyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C)C1=CC=CC=C1 UJNZOIKQAUQOCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001225 nuclear magnetic resonance method Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPGWZZNNEUHDAQ-UHFFFAOYSA-N phenylphosphine Chemical compound PC1=CC=CC=C1 RPGWZZNNEUHDAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005464 sample preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZJNLOGMYQURDL-UHFFFAOYSA-M trifluoromethanesulfonate;tris(4-methylphenyl)sulfanium Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC(C)=CC=C1[S+](C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 ZZJNLOGMYQURDL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfonium triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 238000004260 weight control Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
- C08L83/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/02—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/20—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/70—Siloxanes defined by use of the MDTQ nomenclature
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
提供与引发剂及其他树脂的相容性高、粘度低、固化速度快、并且粘接性和耐冲击性优异的含有环氧基的聚有机硅氧烷、固化性树脂组合物以及固化物。一种含有环氧基的聚有机硅氧烷,其具有M单元(R1R2R3SiO1/2)、D单元(R4R5O2/2)和Q单元(SiO4/2),T单元(R6SiO3/2)相对于全部硅的含量为80mоl%以下。环氧基包含下述式(2)所表示的基团和下述式(3)所表示的基团。式(2)中,R8为具有或不具有取代基的碳原子数1~20的二价有机基团。g=0或1。式(3)中,R9为具有或不具有取代基的碳原子数1~20的二价有机基团。h=0或1、0≤i≤8、0≤j≤8。
Description
技术领域
本发明涉及固化性优异的含有环氧基的聚有机硅氧烷。另外,本发明涉及使用该含有环氧基的聚有机硅氧烷得到的固化性树脂组合物和固化物。
背景技术
已知环氧树脂在固化时的收缩少、内部应力的蓄积少,由于这一点而具有高成型精度。环氧树脂可适当地用作光阳离子固化树脂。作为光阳离子固化树脂的环氧树脂中,固化性的提高成为课题。非专利文献1中记载了一种具有硅氧烷骨架的脂环式环氧树脂。
非专利文献1:Journal of Polymer Science:PartA:Polymer Chemistry,Vol.28,479-503(1990)
非专利文献1所记载的脂环式环氧树脂的固化涂膜的表面性、粘接性、耐冲击性不充分。另外,尽管该脂环式环氧树脂的光固化速度在一定程度上较快,但在利用光制成固化物时与所混配的光聚合引发剂及其他树脂的相容性差,因此固化耗费时间。
发明内容
本发明是鉴于上述现有技术的问题而完成的。
本发明的课题在于提供与引发剂及其他树脂的相容性高、粘度低、固化速度快、并且粘接性和耐冲击性优异的含有环氧基的聚有机硅氧烷、固化性树脂组合物以及固化物。
本发明人发现,包含M单元(R1R2R3SiO1/2)、D单元(R4R5O2/2)和Q单元(SiO4/2)、T单元(R6SiO3/2)相对于全部硅的含量为80mol%以下、具有特定环氧基的含有环氧基的聚有机硅氧烷可解决上述课题。
本发明的要点在于下述[1]~[18]。
[1]一种含有环氧基的聚有机硅氧烷,其具有M单元(R1R2R3SiO1/2)、D单元(R4R5O2/2)和Q单元(SiO4/2),T单元(R6SiO3/2)相对于全部硅的含量为80mol%以下,其中,环氧基包含下述式(2)所表示的基团和下述式(3)所表示的基团。
[化1]
式(2)中,R8为具有或不具有取代基的碳原子数1~20的二价有机基团。g=0或1。
[化2]
式(3)中,R9为具有或不具有取代基的碳原子数1~20的二价有机基团。h=0或1、0≤i≤8、0≤j≤8。
[2]如[1]中所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷,其中,上述式(2)所表示的基团和上述式(3)所表示的基团的比例以摩尔比计为5∶95~95∶5。
[3]如[1]或[2]中所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷,其中,上述式(2)为下述式(4)所表示的基团和/或下述式(5)所表示的基团。
[化3]
[4]如[1]~[3]中任一项所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷,其中,上述式(3)为选自由下述式(6)所表示的基团、下述式(7)所表示的基团和下述式(8)所表示的基团组成的组中的1种以上的基团。
[化4]
[5]如[1]~[4]中任一项所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷,其中,在压力0.15torr的减压下,在110℃加热2小时时的重量减少率为5重量%以下。
[6]如[1]~[5]中任一项所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷,其中,M单元(R1R2R3SiO1/2)相对于全部硅的含量为10mol%以上、75mol%以下。
[7]如[1]~[6]中任一项所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷,其中,Q单元(SiO4/2)相对于全部硅的含量为3mol%以上。
[8]如[1]~[7]中任一项所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷,其中,在红外吸收光谱分析中,在波数1030~1060cm-1的区域具有Si-O伸缩振动的极大吸收波数。
[9]如[1]~[8]中任一项所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷,其中,D单元(R4R5O2/2)相对于全部硅的含量为10mol%以下。
[10]如[1]~[9]中任一项所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷,其中,环氧当量为100g/当量~5000g/当量。
[11]一种固化性树脂组合物,其包含[1]~[10]中任一项所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)和固化剂(B)。
[12]如[11]中所述的固化性树脂组合物,其中,固化剂(B)为阳离子聚合引发剂。
[13]如[11]或[12]中所述的固化性树脂组合物,其进一步包含与含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)不同的环氧化合物(C)。
[14]如[13]中所述的固化性树脂组合物,其包含芳香族环氧化合物作为环氧化合物(C)。
[15]如[13]中所述的固化性树脂组合物,其包含脂肪族环氧化合物作为环氧化合物(C)。
[16]如[13]中所述的固化性树脂组合物,其包含氢化双酚型二缩水甘油醚类作为环氧化合物(C)。
[17]如[13]~[16]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)在含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)和环氧化合物(C)的合计中所占的比例为0.1重量%以上、98重量%以下。
[18]一种固化物,其将[11]~[17]中任一项所述的固化性树脂组合物固化而成。
发明的效果
根据本发明,可提供与引发剂及其他树脂的相容性高、粘度低、固化速度快、并且粘接性和耐冲击性优异的含有环氧基的聚有机硅氧烷、固化性树脂组合物和固化物。
由于具有这样的特长,因此本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷、固化性树脂组合物和固化物能够在电气/电子材料、FRP(纤维增强塑料)、接合剂及涂料、齿科材料、2D/3D打印机等中在以用途为代表的油墨等领域中展开应用。特别是从环氧树脂的固化收缩少、固化时所产生的内部应力少的方面、以及包含本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷的固化物的涂膜表面性优异的方面出发,能够在厚度大的产品、例如厚壁的FRP、齿科材料、由3D印刷机制造的造型物等中适当地应用。
具体实施方式
以下对本发明的实施方式进行详细说明。本发明并不限于以下的说明,可以在不脱离本发明要点的范围内任意地变形来实施。本说明书中,在使用“~”并用数值或物性值插入其前后来表达范围的情况下,是指包含其前后的值的范围。
[含有环氧基的聚有机硅氧烷]
含有环氧基的聚有机硅氧烷是以硅氧烷键作为主链并含有环氧基的聚合物,例如由以下所示的组成通式(1)来表示。
[化5]
(R1R2R3SiO1/2)a(R4R5SiO2/2)b(R6SiO3/2)c(SiO4/2)d(O1/2R7)e(O1/2H)f
…(1)
式(1)中,R1至R6各自独立地为氢原子、或者具有或不具有取代基的碳原子数1~20的一价有机基团、或者下述式(2)所表示的基团、或者下述式(3)所表示的基团。本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷中,下述式(2)所表示的基团和下述式(3)所表示的基团一起存在于组成式中。a+b+c+d=1、0≤e+f<4。R7是碳原子数1~7的一价有机基团。
[化6]
式(2)中,R8为具有或不具有取代基的碳原子数1~20的二价有机基团。g=0或1。
[化7]
式(3)中,R9为具有或不具有取代基的碳原子数1~20的二价有机基团。h=0或1、0≤i≤8、0≤j≤8。
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷是具有M单元(R1R2R3SiO1/2)、D单元(R45O2/2)和Q单元(SiO4/2)、T单元(R6SiO3/2)相对于全部硅的含量为80mol%以下的含有环氧基的聚有机硅氧烷。
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷优选满足下述(I)~(III)。
(I)M单元(R1R2R3SiO1/2)相对于全部硅的含量为10mol%以上、75mol%以下。
(II)Q单元(SiO4/2)相对于全部硅的含量为3mol%以上。
(III)D单元(R4R5O2/2)相对于全部硅的含量为10mol%以下。
如后述实施例项中所述,本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷的各单元的含量可以通过29Si-NMR测定进行分析。
<M单元>
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷中,M单元(R1R2R3SiO1/2)的存在是必须的,表示M单元(R1R2R3SiO1/2)相对于全部硅的比例的上述式(1)中的a优选为0.1以上(即M单元(R1R2R3SiO1/2)相对于全部硅的含量为10mol%以上。以下括号内的mol%同样)、更优选为0.2以上(20mol%以上)、进一步优选为0.5以上(50mol%以上)、特别优选为0.55以上(55mol%以上)。通过使a为0.1以上、即、使M单元的含量为适当的下限值以上,含有环氧基的聚有机硅氧烷的分子量控制变得容易。a小于1(小于100mol%)、优选为0.9以下(90mol%以下)、更优选为0.75以下(75mol%以下)、进一步优选为0.7以下(70mol%以下)、特别优选为0.65以下(65mol%以下)。通过使a为上述范围、即、使M单元的含量为适当的上限值以下,容易成为分子量不会过小的适当范围,能够抑制低沸点成分的增加、防止闪点降低,是优选的。
<T单元>
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷中,表示T单元(R6SiO3/2)的比例的上述式(1)中的c为0.8以下(即,T单元(R6SiO3/2)相对于全部硅的含量为80mol%以下。以下括号内的mol%同样)、优选为0.65以下(65mol%以下)。表示T单元(R6SiO3/2)的比例的c通常为0以上。式(1)中,通过使c为上述范围,使含有环氧基的聚有机硅氧烷固化的情况下,固化物能够具有适度的刚性,是优选的。特别是通过使c的值为0.8以下,容易使含有环氧基的聚有机硅氧烷的粘度保持在容易处理的范围,并且可改善固化物的脆性,因而优选。另外,上述M单元中包含环氧基的情况下,在以进一步增加环氧基的含量为目的时,优选c为0。
在以适当的范围包含后述的Q单元的情况下,即使T单元不处于上述的优选范围,在使含有环氧基的聚有机硅氧烷固化的情况下,也能够使其具有适度的刚性。
<Q单元>
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷包含由(SiO4/2)所表示的Q单元,即式(1)中d大于0、优选为0.03以上(即Q单元(SiO4/2)相对于全部硅的含量为3mol%以上。以下括弧内的mol%也同样)、更优选为0.2以上(20mol%以上)、进一步优选为0.3以上(30mol%以上)。表示Q单元(SiO4/2)的比例的d优选为0.7以下(70mol%以下)、更优选为0.5以下(50mol%以下)、进一步优选为0.4以下(40mol%以下)。通过包含Q单元,耐热性提高。式(1)中,通过使d为上述范围,能够防止含有环氧基的聚有机硅氧烷的粘度变得过高,并且在将含有环氧基的聚有机硅氧烷固化的情况下,能够使固化物具有适度的刚性,是优选的。式(1)中d大于0.7的情况下,通过与其他环氧化合物或丙烯酸类化合物混合并使其固化,能够提高固化物的断裂强度等韧性。
在以适当的范围包含上述的T单元的情况下,即使Q单元不处于上述的优选范围,在使含有环氧基的聚有机硅氧烷固化的情况下,也能够使其具有适度的刚性。
<D单元>
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷包含由(R4R5O2/2)所表示的D单元,即式(1)中b大于0、优选为0.01以上(即D单元(R4R5O2/2)相对于全部硅的含量为1mol%以上。以下括号内的mol%也同样)。b的上限没有特别限定,优选为0.3以下(30mol%以下)、更优选为0.1以下(10mol%以下)。通过以这样的范围包含D单元(R4R5O2/2),容易较高地保持固化物的弹性模量。通过使D单元(R4R5O2/2)的含量为适当的下限值以上,含有环氧基的聚有机硅氧烷不容易形成笼型结构,因此能够防止粘度变得过高、并且能够防止含有环氧基的有机硅氧烷的固化物变得过硬,因而优选。
<末端基团>
表示本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷的末端基团的上述式(1)中的(O1/2R7)和(O1/2H)的量没有特别限定,通常为0≤e+f<4、优选为0≤e+f<2、更优选为0≤e+f<1、进一步优选为0≤e+f<0.5。这些末端基团通常具有反应性,因此在e+f的值小的情况下,保存稳定性趋于良好,因而优选。
表示羟基以外的末端基团的(O1/2R7)的R7没有特别限定,优选为碳原子数1至7的烃基,更优选为甲基、乙基、异丙基。通过使R7为碳原子数较少的这些基团,具有不容易对环氧基的导入反应、所生成的具有环氧基的聚有机硅氧烷的固化反应产生空间阻碍的倾向。
<环氧基的种类>
关于本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷所具有的环氧基的种类,只要包含上述式(2)和式(3)所表示的基团就没有特别限定。作为上述式(2)所表示的基团,例如可以举出以缩水甘油基为代表的在末端具有氧化乙烯基的基团。作为上述式(3)所表示的基团,例如可以举出在末端不具有氧化乙烯基但具有环氧环己烷基等脂环式环氧基的基团。可以根据所期望的性能适当地选择这些基团的比例,这种情况下,优选鉴于后述的每种环氧基的特性,根据所要求的特性控制其比例。
也可以进一步组合使用式(2)和式(3)所表示的基团以外的环氧基。
例如,出于提高与基材的粘接性、提高与引发剂及其他树脂的相容性、或者降低粘度的目的,本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷优选具有多个下述式(2)所表示的基团、更优选具有多个下述式(4)或下述式(5)所表示的基团、进一步优选具有多个下述式(4)所表示的基团。
作为式(2)中的R8的具有或不具有取代基的碳原子数1~20的二价有机基团,可以举出作为R1至R6的具有或不具有取代基的碳原子数1~20的一价有机基团而例示出的基团所对应(即去掉一个氢原子)的二价有机基团。
[化8]
式(2)中,R8为具有或不具有取代基的碳原子数1~20的二价有机基团。g=0或1。
[化9]
例如,为了提高固化性,优选具有多个下述式(3)所表示的基团、更优选具有多个下述式(6)或下述式(7)或下述式(8)所表示的基团、进一步优选具有多个下述式(6)所表示的基团。
作为式(3)中的R9的具有或不具有取代基的碳原子数1~20的二价有机基团,可以举出作为R1至R6的具有或不具有取代基的碳原子数1~20的一价有机基团而例示出的基团所对应(即去掉一个氢原子)的二价有机基团。
[化10]
式(3)中,R9为具有或不具有取代基的碳原子数1~20的二价有机基团。h=0或1、0≤i≤8、0≤j≤8。
[化11]
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷中,上述式(2)所表示的基团与上述式(3)所表示的基团的含有比例以摩尔比计优选为5∶95~95∶5。该比例更优选为10∶90~80∶20、进而更优选为20∶80~70∶30、特别优选为30∶70~60∶40。
<R1至R6中的不含有环氧基的基团>
上述式(1)中的R1至R6中的不含有环氧基的基团的结构没有特别限定,R1至R6各自独立地为氢原子、或者具有或不具有取代基的碳原子数1~20的一价有机基团。具体地说,可以举出氢原子、碳原子数1~20的直链烷基、碳原子数1~20的支链烷基、碳原子数1~20的包含环状结构的烷基、碳原子数1~20的芳香族烃基、碳原子数1~20的杂环基等。这些之中,更优选氢原子、甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、仲丁基、叔丁基、辛基、环己基等烷基、苯基、萘基、咔唑基、苯乙基等芳香性官能团、呋喃基、聚乙二醇基等醚基,进一步优选氢原子、甲基、苯基。
作为上述式(1)中的M单元(R1R2R3SiO1/2)的一例,可以举出三甲基硅氧基(Me3SiO1/2)、二甲基硅氧基(Me2HSiO1/2)、甲基硅氧基(MeH2SiO1/2)、三氢硅氧基(H3SiO1/2)、二甲基乙烯基硅氧基(Me2ViSiO1/2)、二甲基甲基丙烯酰氧基丙基(Me2(MaOPr)SiO1/2)、三苯基硅氧基(Ph3SiO1/2)、二苯基硅氧基(Ph2HSiO1/2)、苯基硅氧基(PhH2SiO1/2)、甲基苯基硅氧基(MePhHSiO1/2)、二甲基苯基硅氧基(Me2PhSiO1/2)、甲基二苯基硅氧基(MePh2SiO1/2)等。本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷中,这些M单元可以仅含有一种、也可以含有两种以上,还可以与含有环氧基的M单元同时含有。即,本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷例如可含有三甲基硅氧基和三苯基硅氧基,也可以含有三甲基硅氧基和环氧丙氧基丙基二甲基硅氧基。
也可以根据需要仅使用含有环氧基的M单元。即,本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷中,例如作为M单元可以含有环氧丙氧基丙基二甲基硅氧基和(3,4-环氧环己基)乙基二甲基硅氧基、不含有其他种类M单元。
上述式(1)中的D单元(R4R5O2/2)中,与上述M单元同样地,R4R5可以为相同的官能团、也可以为不同的官能团的组合。本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷中,D单元可以仅含有一种、也可以含有两种以上。
上述式(1)中的T单元(R6SiO3/2)的种类与上述M单元同样地可以仅为一种、也可以为两种以上。根据需要,作为T单元的种类可以仅使用含有环氧基的T单元。
但是,作为上述式(1)中的R1至R6,包含至少一种以上的含有环氧基的基团。
含有环氧基的基团可以与M单元、D单元、T单元的任一硅原子单元结合,可以包含含有环氧基的M单元、含有环氧基的D单元、含有环氧基的T单元的全部,也可以包含它们中的两种、以及一种。从反应性高的方面出发,含有环氧基的基团优选与M单元结合。
<Si-O伸缩振动的极大吸收波数>
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷优选为具有由(SiO4/2)所表示的Q单元,在红外吸收光谱分析中,在波数1030~1060cm-1的区域具有Si-O伸缩振动的极大吸收波数的含有环氧基的聚有机硅氧烷。
通过在红外吸收光谱分析中在上述波数区域具有Si-O伸缩振动的极大吸收波数,能够避免笼型倍半硅氧烷这样的变得极硬的结构,并且成为容易以液态进行处理的含有环氧基的聚有机硅氧烷。极大吸收波数是指在特定波数区域中提供最大吸光度的波数。本实施方式中,将在波数1000~1200cm-1的区域内提供最大吸光度的波数作为极大吸收波数。
基于红外吸收光谱分析的极大吸收波数可以使用傅利叶变换红外分光装置通过ATR法(全反射测定法)进行测定。
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷优选在红外吸收光谱分析中在波数1070~1150cm-1的区域不具有源自笼型倍半硅氧烷的Si-O伸缩振动的吸收峰。通过在上述波数区域不具有Si-O伸缩振动的吸收峰,能够避免笼型倍半硅氧烷这样的变得极硬的结构,并且会成为容易以液态进行处理的含有环氧基的聚有机硅氧烷,因而优选。
在波数1070~1150cm-1的区域可以存在源自Si-O以外的有机分子的特性吸收带。作为源自有机分子的特性吸收带的示例,可以举出源自羟基的C-O、源自酯的C-O-C、源自酸酐的C-O-C、源自醚的C-O-C、源自胺的C-N、源自磺酸或亚砜的C-S、源自氟化合物的C-F、源自磷化合物的P=O或P-O、源自无机盐SO4 2-或ClO4 -的特性吸收带。必须注意不要使它们与Si-O伸缩振动的归属混淆。
作为确认不存在这些有机基团或其无机盐的方法,例如可以使用核磁共振法或元素分析等。
在通过上述方法等确认到上述有机基团或无机盐的存在的情况下,可以通过基质辅助激光解析电离飞行时间质谱(MALDI-TOFMS)等质谱分析来确认不存在源自笼型结构的质量数的分子。源自笼型结构的分子的质量数可以根据所使用的原料和笼型结构的尺寸进行计算。若举出一例,则在以3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷作为原料通过水解缩合来制造正六面体型的笼型结构的聚有机硅氧烷的情况下,质量数为约1336。若源自笼型结构的分子的质量数所对应的峰强度为整体的1%以下,则可以说“不存在源自笼型结构的质量数的分子”,即使在波数1070~1150cm-1的区域具有极大吸收波数,也可以表示相应的峰并非为源自笼型倍半硅氧烷的Si-O伸缩振动的吸收峰。
<环氧当量>
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷的环氧当量优选为100g/当量以上、更优选为150g/当量以上、进一步优选为200g/当量以上。通过使环氧当量为上述下限以上,能够使固化涂膜的表面性良好,并且能够提高交联密度,因此能够提高涂膜强度、耐热性,特别能够提高涂膜的密合性。
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷的环氧当量优选为5000g/当量以下、更优选为2000g/当量以下、进一步优选为1000g/当量以下。环氧当量为上述上限以下时,可维持良好的固化性、粘接性,并且可减少固化时的收缩,因此能够提高涂膜的表面性,由于形成适当的交联密度,因此能够提高耐冲击性,因而优选。
本发明中的“环氧当量”被定义为“包含1当量环氧基的环氧树脂(本发明中为含有环氧基的聚有机硅氧烷)的质量”,可以依据JIS K7236进行测定。
<重均分子量(Mw)>
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷的重均分子量(Mw)没有特别限定,优选为300以上、更优选为500以上,从使固化涂膜的表面性良好的方面出发,特别优选为700以上。
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷的重均分子量(Mw)优选为10000以下、更优选为7500以下,从处理性的方面出发,特别优选为5000以下。
<数均分子量(Mn)>
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷的数均分子量(Mn)没有特别限定,优选为150以上、更优选为250以上,从固化涂膜的表面性的方面出发,特别优选为600以上。
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷的数均分子量(Mn)优选为9000以下、更优选为6500以下,从处理性的方面出发,特别优选为4000以下。
重均分子量(Mw)与数均分子量(Mn)之比(Mw/Mn)被用作表示分子量分布的分散度的值。本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)的分散度(Mw/Mn)没有特别限定,下限为1.00以上、优选为1.01以上、更优选为1.05以上,从使固化涂膜的表面性良好的方面出发,特别优选为1.07以上。上限通常为4.0以下、优选为3.5以下、更优选为3.2以下、进一步优选为2.0以下,从使固化涂膜的表面性良好的方面出发,特别优选为1.8以下。
含有环氧基的聚有机硅氧烷的重均分子量和数均分子量可以通过凝胶渗透色谱法(GPC法)进行测定。关于更详细的方法的示例,在后述实施例项中进行说明。
<低沸点成分量>
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷中包含的低沸点成分的量没有特别限定,在低沸点成分的量少的情况下,闪点增高,因此容易保持运输、储藏时的安全性,还能够抑制热固化时或固化物使用时的厚度变薄或由其所致的脆化。
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷中包含的低沸点成分的量例如可以被表示为在压力0.15torr的减压下在110℃加热2小时后的重量减少率。该重量减少率优选为10重量%以下、更优选为8重量%以下、进一步优选为5重量%以下。
低沸点成分的量具体地说可以通过以下过程进行测定。
(1)测定1H-NMR,计算出有机溶剂等除聚有机硅氧烷以外的成分的重量。
(2)向1L茄形烧瓶中加入16×3.5mm椭圆形PTFE转子,测定它们的重量。其后将聚有机硅氧烷加入到该茄形烧瓶中,测定重量。此时,聚有机硅氧烷的投料量优选为200g。
(3)利用油浴将茄形烧瓶加热,利用磁力搅拌器使转子旋转,搅拌至液面发生流动的程度,利用油式真空泵进行减压。此时的压力优选为0.2~0.1torr,通过压力计进行确认,优选按照压力达到0.15torr的方式进行减压。
(4)2小时后,冷却至室温,利用氮气恢复至大气压,充分擦去附着于茄形烧瓶的油,测定加入到茄形烧瓶中的状态的聚有机硅氧烷的重量,减去先前测定的茄形烧瓶和转子的重量,计算出因该操作而挥发的重量。
(5)测定该操作后的聚有机硅氧烷的1H-NMR,计算出有机溶剂等除聚有机硅氧烷以外的成分的重量。由挥发重量减去除聚有机硅氧烷以外的成分的量,计算出聚有机硅氧烷的挥发量。关于聚有机硅氧烷的重量减少,在设投料量为200g时,该重量减少优选小于10g。
在聚有机硅氧烷以外的成分包含10重量%以上的情况下,由于聚有机硅氧烷以外的成分的挥发,内温降低,聚有机硅氧烷难以挥发。因此,在含有10重量%以上的除聚有机硅氧烷以外的成分的情况下,优选加热至温度60℃、减压至压力10torr,将聚有机硅氧烷以外的成分除去至小于1重量%,之后进行实施。
<含有环氧基的聚有机硅氧烷的制造方法>
本发明的聚有机硅氧烷的制造方法只要能够得到上述式(1)所表示的聚有机硅氧烷就没有特别限定。
例如可以为:
使一种或两种以上的二硅氧烷化合物或二硅氮烷化合物和它们的水解物、烷氧基硅烷化合物或其水解物、部分水解缩合物同时进行缩合的方法;
使氯硅烷化合物或其水解物、部分水解缩合物进行缩合的方法;
使环状硅氧烷化合物进行开环聚合的方法;
以阴离子聚合为代表的连锁聚合;
等中的任一种制造方法,也可以将多种制造方法组合使用。
关于环氧基的导入方法也没有特别限定,可以为:
使一种或两种以上的具有环氧基的烷氧基硅烷化合物、二硅氧烷化合物、二硅氮烷化合物或它们的水解物、部分水解缩合物同时进行缩合的方法;
通过化学方法将导入至聚有机硅氧烷中的除环氧基以外的基团转换成环氧基的方法;
等中的任一种方法,也可将这些方法组合使用。
作为通过化学方法将除环氧基以外的基团转换成环氧基的方法,可以举出:
使具有氢原子与硅原子直接键合的结构的聚有机硅氧烷与具有带有环氧基的烯基的化合物发生反应的方法;
使具有烯基的聚有机硅氧烷与具有环氧基的硫醇化合物发生反应的方法;
使用氧化剂将具有烯基的聚有机硅氧烷的烯基进行氧化的方法;等等。
在反应后,可以通过柱色谱、GPC、基于溶剂的萃取、不需要的成分的蒸馏除去等,将所得到的聚有机硅氧烷分级分离成具有所期望的环氧当量或分子量的聚有机硅氧烷来进行使用。另外,也可以通过减压、加热等处理除去低沸点成分。
<含有环氧基的聚有机硅氧烷制造时的溶剂>
在制造含有环氧基的聚有机硅氧烷时,可以使用、也可以不使用溶剂。在使用溶剂的情况下,可以使用水和/或有机溶剂,特别优选有机溶剂。作为溶剂,更优选四氢呋喃、甲苯、己烷、庚烷、丙酮、乙酸乙酯、甲醇、乙醇、异丙醇、氯仿、二氯甲烷。从溶解性、除去的容易性、低环境有害性的方面出发,进一步优选四氢呋喃、甲苯、甲醇。这些溶剂也可将两种以上组合使用,根据反应工序的不同,溶剂种类可以不同。在通过使烷氧基硅烷化合物、氯硅烷化合物等进行水解缩合来形成聚有机硅氧烷骨架的情况下,可以适量地添加水来促进水解。
<制造含有环氧基的聚有机硅氧烷时的温度/压力条件>
制造含有环氧基的聚有机硅氧烷时的反应温度没有特别限定,通常为-40℃至200℃,更优选为-20℃至150℃,进一步优选为0℃至130℃。在低于该温度范围的温度下,可能会难以进行形成目标聚有机硅氧烷骨架的反应、或者导入环氧基的反应。在高于该温度范围的温度下,可能会进行不期望的环氧基的聚合或者与其他取代基的反应。
实施反应时的压力没有特别限定,通常在0.6气压至1.4气压实施,优选在0.8气压至1.2气压实施,更优选在0.9气压至1.1气压实施。在低于该范围的压力下,使用溶剂时溶剂的沸点降低,可能无法将反应体系内提高至适当的反应温度。在高于该范围的压力下,溶剂的沸点上升,具有可升高反应体系的温度而使反应加速的优点,但由于成为加压条件下的反应,因此伴有装置破损、爆炸的风险。
[固化性树脂组合物]
本发明的固化性树脂组合物包含上述本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷(以下有时称为“含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)”)和固化剂(B)。
<固化剂(B)>
本发明的固化性树脂组合物中使用的固化剂(B)是有助于本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)的环氧基间的交联反应和/或链延长反应的物质。
本发明中,即使是通常被称为“固化促进剂”的成分,只要是有助于含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)的环氧基间的交联反应和/或链延长反应的物质,也可被视作固化剂。
本发明的固化性树脂组合物中的固化剂(B)的含量相对于本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)100重量份优选为0.1~1000重量份、更优选为100重量份以下、进一步优选为80重量份以下、特别优选为60重量份以下。固化剂(B)的更优选的含量根据固化剂的种类分别如下文所述。
本发明中,“固体成分”是指除溶剂以外的成分。
“全部环氧成分”是指本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)与后述其他环氧化合物(C)的合计。
本发明的固化性树脂组合物中,作为固化剂(B),优选使用多官能酚类、多异氰酸酯系化合物、胺系化合物、酸酐系化合物、咪唑系化合物、酰胺系化合物、阳离子聚合引发剂和有机膦类组成的组中之中的至少一种。关于各固化剂的具体例、固化性树脂组合物中的优选含量在下文进行说明。
本发明的固化性树脂组合物中,从固化性的方面出发,特别优选包含下述固化剂中的至少阳离子聚合引发剂作为固化剂(B)。
作为多官能酚类的示例,可以举出:双酚A、双酚F、双酚S、双酚B、双酚AD、双酚Z、四溴双酚A等双酚类、4,4’-联苯酚、3,3’,5,5’-四甲基-4,4'-联苯酚等联苯酚类;邻苯二酚、间苯二酚、对苯二酚、二羟基萘类;以及这些化合物的芳香环上所键合的氢原子被卤基、烷基、芳基、醚基、酯基、包含硫、磷、硅等杂元素的有机取代基等非干扰性取代基进行取代而成的物质等。
作为多官能酚类的示例,还可以举出这些酚类或苯酚、甲酚、烷基苯酚等单官能酚类与醛类的缩聚物即酚醛清漆类、甲阶酚醛树脂类等。
以上举出的多官能酚类可以仅使用一种,也可以以任意组合和比例混合使用两种以上。
作为多异氰酸酯系化合物的示例,可以举出甲苯二异氰酸酯、甲基环己烷二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、二环己基甲烷二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、氢化苯二亚甲基二异氰酸酯、二聚酸二异氰酸酯、三甲基六亚甲基二异氰酸酯、赖氨酸三异氰酸酯等多异氰酸酯化合物。进而可以举出通过这些多异氰酸酯化合物与氨基、羟基、羧基、水等具有至少2个活性氢原子的化合物的反应而得到的多异氰酸酯化合物、或者上述多异氰酸酯化合物的3~5聚体等。
以上举出的多异氰酸酯系化合物可以仅使用一种,也可以以任意组合和比例混合使用两种以上。
作为胺系化合物的示例,有脂肪族的伯胺、仲胺、叔胺、芳香族的伯胺、仲胺、叔胺、环状胺、胍类、脲衍生物等。具体地说,可以举出三亚乙基四胺、二氨基二苯基甲烷、二氨基二苯醚、间苯二甲胺、双氰胺、1,8-二氮杂双环(5,4,0)-7-十一碳烯、1,5-二氮杂双环(4,3,0)-5-壬烯、二甲基脲、脒基脲等。
以上举出的胺系化合物可以仅使用一种,也可以以任意的组合和比例混合使用两种以上。
作为酸酐系化合物的示例,可以举出邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、偏苯三酸酐、马来酸酐与不饱和化合物的缩合物等。
这些酸酐系化合物可以仅使用一种,也可以以任意的组合和比例混合使用两种以上。
作为咪唑系化合物的示例,可以举出1-异丁基-2-甲基咪唑、2-甲基咪唑、1-苄基-2-甲基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-苯基咪唑、苯并咪唑等。咪唑系化合物也可起到作为后述固化促进剂的功能,但在本发明中将其分类于固化剂(B)中。
这些咪唑系化合物可以仅使用一种,也可以以任意的组合和比例混合使用两种以上。
作为酰胺系化合物的示例,可以举出双氰胺及其衍生物、聚酰胺树脂等。
酰胺系化合物可以仅使用一种,也可以以任意的组合和比例混合使用两种以上。
阳离子聚合引发剂是通过热或活性能量射线照射而产生阳离子的成分,可以举出芳香族鎓盐等。具体地说,可以举出由SbF6 -、BF4 -、AsF6 -、PF6 -、(Rf)nPF(6-n) -(Rf=CF3(CF2)m)、CF3SO3 2-、B(C6F5)4 -等阴离子成分与包含碘、硫、氮、磷等原子的芳香族阳离子成分构成的化合物等。特别优选二芳基碘鎓盐、三芳基锍盐。
作为阳离子聚合引发剂的示例,可以举出二苯基碘鎓六氟砷酸盐、二苯基碘鎓六氟磷酸盐、二苯基碘鎓三氟甲磺酸盐、三苯基锍四氟硼酸盐、三对甲苯基硫鎓六氟磷酸盐、三对甲苯基锍三氟甲磺酸盐、双(环己基磺酰基)重氮甲烷、双(叔丁基磺酰基)重氮甲烷、双(对甲苯磺酰基)重氮甲烷、三苯基锍三氟甲磺酸盐、二苯基-4-甲基苯基锍三氟甲磺酸盐、二苯基-2,4,6-三甲基苯基锍-对甲苯磺酸盐、二苯基-对苯基噻吩基硫鎓六氟磷酸盐等。
作为具体的产品名,例如可以举出UVACURE1590(Daicel SciTech公司制造)、CPI-110P、CPI-100P、CPI-200K(San-Apro公司制造)、IRGACURE290(BASF公司制造)等锍盐、IRGACURE250、IRGACURE290(BASF公司制造)、WPI-113、WPI-124(和光纯药公司制造)、Rp-2074(Rhodia Japan公司制造)等碘鎓盐、重氮盐型AMERICURE系列(Americal Can公司制造)、ULTRASET系列(ADEKA公司制造)、WPAG系列(和光纯药公司制造)等碘鎓盐型:UVE系列(General Electric公司制造)、FC系列(3M公司制造)、UV9310C(GE Toshiba Silicone公司制造)、WPI系列(和光纯药公司制造)等锍盐型:CYRACURE系列(Union Carbide公司制)、UVI系列(General Electric公司制造)、FC系列(3M公司制造)、CD系列(Sartomer公司制造)、Optomer SP系列、Optomer CP系列(ADEKA公司制造)、San-Aid SI系列(三新化学工业公司制造)、CI系列(日本曹达公司制造)、WPAG系列(和光纯药公司制造)、CPI系列(San-Apro公司制造)等,但并不限于这些。
以上举出的阳离子聚合引发剂可以仅使用一种,也可以以任意的组合和比例混合使用两种以上。
作为有机膦类,可例示出三丁基膦、甲基二苯基膦、三苯基膦、二苯基膦、苯基膦等。
这些有机膦类可以仅使用一种,也可以以任意的组合和比例混合使用两种以上。
作为固化剂(B)使用多官能酚类、胺系化合物、酸酐系化合物的情况下,优选按照使固化剂(B)中的官能团(多官能酚类的羟基、胺系化合物的氨基或酸酐系化合物的酸酐基)相对于本发明的固化性树脂组合物中的全部环氧基的当量比为0.8~1.5的范围的方式进行使用。
在使用多异氰酸酯系化合物的情况下,优选以使多异氰酸酯系化合物中的异氰酸酯基数相对于本发明的固化性树脂组合物中的羟基数以当量比计为1∶0.01~1∶1.5的范围进行使用。
在使用咪唑系化合物的情况下,优选以相对于本发明的固化性树脂组合物中的作为固体成分的全部环氧成分100重量份为0.5~10重量份的范围进行使用。
在使用酰胺系化合物的情况下,优选以相对于本发明的固化性树脂组合物中的作为固体成分的全部环氧成分和酰胺系化合物的总量为0.1~20重量%的范围进行使用。
在使用阳离子聚合引发剂的情况下,优选以相对于本发明的固化性树脂组合物中的作为固体成分的全部环氧成分100重量份为0.01~15重量份的范围进行使用。
在使用有机膦类的情况下,优选以相对于本发明的固化性树脂组合物中的作为固体成分的全部环氧成分和有机膦类的总量为0.1~20重量%的范围进行使用。
作为固化剂(B),除了上述例示物以外,还可以使用四苯基磷鎓-四苯基硼酸盐、四苯基磷鎓-乙基三苯基硼酸盐、四丁基磷鎓-四丁基硼酸盐等鏻盐、2-乙基-4-甲基咪唑-四苯基硼酸盐、N-甲基吗啉-四苯基硼酸盐等四苯基硼盐、硫醇系化合物、有机酸二酰肼、卤化硼胺络合物等。
这些固化剂(B)可以仅使用一种,也可以组合使用两种以上。
[其他环氧化合物(C)]
本发明的固化性树脂组合物中可以使用本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)以外的环氧化合物(C)(下文中有时称为“其他环氧化合物(C)”)。
作为其他环氧化合物(C),可以举出具有2个以上环氧基的2官能环氧化合物(C),可以举出以下例示的包含芳香环的环氧化合物、脂肪族环氧化合物。需要说明的是,在以下的例示中,“......型环氧树脂”是指羟基被缩水甘油醚基取代而成的物质。例如,“4,4’,4”-三羟基三苯甲烷型环氧树脂”是指“4,4’,4”-三羟基三苯甲烷”的羟基被缩水甘油醚基取代而成的物质。
作为包含芳香环的环氧化合物,例如可以举出:双酚A二缩水甘油醚、双酚F二缩水甘油醚、双酚E二缩水甘油醚、双酚Z二缩水甘油醚、双酚S二缩水甘油醚、双酚AD二缩水甘油醚、双酚苯乙酮二缩水甘油醚、双酚三甲基环己烷二缩水甘油醚、双酚芴二缩水甘油醚、四甲基双酚A二缩水甘油醚、四甲基双酚F二缩水甘油醚、四叔丁基双酚A二缩水甘油醚、四甲基双酚S二缩水甘油醚等双酚系二缩水甘油醚类;联苯酚二缩水甘油醚、四甲基联苯酚二缩水甘油醚、二甲基联苯酚二缩水甘油醚、四叔丁基联苯酚二缩水甘油醚等联苯酚系二缩水甘油醚类;氢醌二缩水甘油醚、二氢蒽二缩水甘油醚、甲基氢醌二缩水甘油醚、二丁基氢醌二缩水甘油醚、间苯二酚二缩水甘油醚、甲基间苯二酚二缩水甘油醚等苯二醇系二缩水甘油醚类;二氢蒽氢醌二缩水甘油醚、二羟基二苯醚二缩水甘油醚、硫代联苯酚二缩水甘油醚、二羟基萘二缩水甘油醚等芳香族系二缩水甘油醚类、α,α-双(4-羟苯基)-4-(4-羟基-α,α-二甲基苄基)-乙苯型环氧树脂、4,4’,4”-三羟基三苯甲烷型环氧树脂、4,4’,4”-次乙基三(2-甲基苯酚)型环氧树脂、4,4’-(2-羟基亚苄基)双(2,3,6-三甲基苯酚)型环氧树脂、2,3,4-三羟基二苯基甲烷型环氧树脂、2,4,6-三(4-羟基苯基)-1,3,5-三嗪型环氧树脂、1,3,5-三(4-羟苯基)苯型环氧树脂、1,1,1-三(4-羟苯基)乙烷型环氧树脂、4,4’-[1-[4-[1-(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双(2-甲基苯酚)型环氧树脂、2,6-双(4-羟基-3,5-二甲基苄基)-4-甲基苯酚型环氧树脂等3官能环氧树脂类;2,2’-亚甲基双[6-(2-羟基-5-甲基苄基)-对甲酚型环氧树脂、4-[双(4-羟基-3-甲基苯基)甲基]苯-1,2-二醇型环氧树脂、1,1,2,2-四(对羟苯基)乙烷型环氧树脂、α,α,α’,α’,-四(4-羟苯基)-对二甲苯型环氧树脂等4官能环氧树脂类;2,4,6-三[(4-羟苯基)甲基]-1,3-苯二醇型环氧树脂等5官能环氧树脂类;由二氨基二苯基甲烷、氨基苯酚、二甲苯二胺等各种胺化合物与环氧卤丙烷制造的环氧化合物;线型酚醛型环氧树脂、甲酚-线型酚醛环氧树脂、双酚A酚醛清漆型环氧树脂、萘酚酚醛清漆型环氧树脂、苯酚芳烷基型环氧树脂、联苯芳烷基型环氧树脂、苯酚改性二甲苯型环氧树脂或通过这些各种酚类与羟基苯甲醛、巴豆醛、乙二醛等各种醛类的缩合反应得到的多元酚树脂类、重质油或沥青类与酚类和甲醛类的共缩合树脂等使用了各种酚系化合物等的环氧树脂等多官能环氧树脂类。
作为脂肪族环氧化合物,可以举出在选自上述双酚系二缩水甘油醚类、联苯酚系二缩水甘油醚类、苯二醇系二缩水甘油醚类和芳香族系二缩水甘油醚类中的二缩水甘油醚类的芳香环上加氢而成的环氧化合物;乙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、丙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚、1,4-丁二醇二缩水甘油醚、聚四亚甲基二醇二缩水甘油醚、1,5-戊二醇二缩水甘油醚、聚五亚甲基二醇二缩水甘油醚、1,6-己二醇二缩水甘油醚、聚六亚甲基二醇二缩水甘油醚、1,7-庚二醇二缩水甘油醚、聚七亚甲基二醇二缩水甘油醚、1,8-辛二醇二缩水甘油醚、1,10-癸二醇二缩水甘油醚、2,2-二甲基-1,3-丙二醇二缩水甘油醚等仅由链状结构构成的(聚)亚烷基二醇二缩水甘油醚类;1,4-环己烷二甲醇二缩水甘油醚等具有环状结构的亚烷基二醇二缩水甘油醚类、脂环式环氧树脂、杂环式环氧树脂等环氧化合物。
作为其他环氧化合物(C),其中从固化性、涂膜的表面性、粘接性、耐冲击性的方面出发,优选脂肪族环氧化合物,特别优选氢化双酚型二缩水甘油醚类。
以上例示的其他环氧化合物(C)可以仅使用一种,也可以组合使用两种以上。
本发明的固化性树脂组合物含有本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)和其他环氧化合物(C)的情况下,在本发明的固化性树脂组合物中的作为固体成分的全部环氧成分中,含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)的比例优选为0.1重量%以上、更优选为1重量%以上、进一步优选为2%重量以上,优选为98重量%以下、更优选为95重量%以下、进一步优选为90重量%以下。通过使含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)的比例为上述下限值以上,可充分得到由含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)带来的固化性提高效果。通过使含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)的比例为上述上限值以下,可充分得到由混配其他环氧化合物(C)带来的物性提高效果。
<其他成分>
本发明的固化性树脂组合物中,除了上述举出的成分以外,还可以含有其他成分。作为其他成分,例如可以举出固化促进剂(其中不包括符合上述固化剂的成分)、偶联剂、阻燃剂、抗氧化剂、光稳定剂、增塑剂、反应性稀释剂、颜料、无机填充材料、有机填充材料等。以上举出的其他成分可以根据固化性树脂组合物的所期望的物性适宜地组合使用。
[固化物]
通过将本发明的固化性树脂组合物固化,可以得到固化物。
此处所说的“固化”是指通过热和/或光等而特意使环氧树脂固化,其固化的程度根据所期望的物性、用途进行控制即可。
[用途]
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷的固化性优异,可提供表面性、粘接性、耐冲击性优异的固化物。因此,本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷、以及混配有该成分的本发明的固化性树脂组合物在涂料、光造型、电气/电子材料、接合剂、纤维增强树脂(FRP)等领域中能够适当地使用。
实施例
以下基于实施例更具体地说明本发明,但本发明并不受以下实施例的任何限定。
以下的实施例中的各种制造条件、评价结果的值具有作为本发明的实施方式中的上限或下限的优选值的含义。优选范围可以为由上述的上限或下限的值与下述实施例的值或实施例相互的值的组合所规定的范围。
[原料等]
以下的实施例和比较例中使用的原料、催化剂、溶剂等如下所述。
[含有环氧基的聚有机硅氧烷的合成中使用的原料、催化剂、溶剂]
六甲基二硅氧烷(NuSil Technology公司制造、产品名:S-7205)
1,1,3,3-四甲基二硅氧烷(NuSil Technology公司制造)硅酸甲酯MS51(三菱化学株式会社制造)
1,2-环氧-4-乙烯基环己烷(东京化成工业株式会社制造)
烯丙基缩水甘油醚(东京化成工业株式会社制造)
四氢呋喃(Kishida Chemical株式会社制造)
甲苯(Kishida Chemical株式会社制造)
甲醇(Kishida Chemical株式会社制造)
庚烷(Kishida Chemical株式会社制造)
1N盐酸(Kishida Chemical株式会社制造)
铂(0)-1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物二甲苯溶液(Aldrich公司制造铂浓度2重量%)
HS432(Umicore公司制造铂催化剂)
活性炭(OSAKA GAS CHEMICALS株式会社制造精制SHIRASAGI)
硅胶(关东化学株式会社制造硅胶60N(球状、中性)63-210μm)
[固化性树脂组合物中使用的固化剂]
CPI-100P、CPI-200K(San-Apro公司制造)
[固化性树脂组合物中使用的其他环氧化合物]
YX8000(三菱化学株式会社制造:氢化双酚A型环氧树脂)
jER828US(三菱化学株式会社制造:双酚A型环氧树脂)
KR-470(信越化学工业公司制造:含脂环式环氧基的硅酮低聚物)
[评价方法]
以下的合成例、实施例和比较例中的评价方法如下所述。
[环氧当量]
对于合成例中得到的含有环氧基的聚有机硅氧烷,基于JIS K 7236测定环氧当量。
[含有环氧基的聚有机硅氧烷的数均分子量(Mn)和重均分子量(Mw)]
对于合成例中得到的含有环氧基的聚有机硅氧烷,通过凝胶渗透色谱法(GPC)测定重均分子量和数均分子量。GPC的测定中使用的装置和测定条件如下所述。
装置:GPC
机种:HLC-8220GPC(东曹制)
柱:KF-G、KF-401HQ、KF-402HQ、KF-402.5HQ(昭和电工株式会社制)
检测器:UV-8020(东曹制)、254nm
洗脱液:THF(0.3mL/分钟、40℃)
样品:1%四氢呋喃溶液(10μ注射)
校正曲线:标准聚苯乙烯(东曹制)
[含有环氧基的聚有机硅氧烷的红外光谱吸收分析]
对于合成例中得到的含有环氧基的聚有机硅氧烷,利用下述装置和测定条件通过ATR法(Attenuated Total Reflection、全反射测定法)进行测定。
装置:Nicolet iN10+iZ10(Thermo Fisher Scientific株式会社制造)和GladiATR(PIKE TECHNOLOGIES公司制造)
分辨率:4cm-1
积分次数:64次
[29Si-NMR的测定方法]
利用下述装置、测定条件、试样的制备方法进行测定。
装置:日本电子株式会社制造JNM-ECS400、TUNABLE(10)、无Si、AT10探针
测定条件:弛缓延迟(Relaxation Delay)/15秒、扫描次数/1024次、测定模式/非门控去耦脉冲法(NNE)、旋转/无、测定温度/25℃
试样的制备:向氘代氯仿中以达到0.5重量%的方式添加三(2,4-戊二酮酸)铬(III),得到29Si-NMR测定用溶剂。称量作为测定对象的含有环氧基的聚有机硅氧烷1.5g,加入上述29Si-NMR测定用溶剂2.5ml使其溶解,加入到特氟龙(注册商标)制NMR试样管中。
[减压加热时的重量减少率测定]
按下述顺序进行测定。
(1)测定1H-NMR,计算出有机溶剂等除含有环氧基的聚有机硅氧烷以外的成分的重量。
(2)向茄形烧瓶中加入转子,测定它们的重量,之后将含有环氧基的聚有机硅氧烷加入到该茄形烧瓶中,测定含有环氧基的聚有机硅氧烷的重量。
(3)利用油浴将该茄形烧瓶加热,利用磁力搅拌器使转子旋转,搅拌至液面发生流动的程度,升温至内温达到110℃,利用油式真空泵减压。油式真空泵使用具有能够实现0.15torr的减压度的能力的装置。
(4)2小时后,冷却到室温,恢复常压,充分擦去附着于茄形烧瓶的油,测定加入到茄形烧瓶中的状态的含有环氧基的聚有机硅氧烷的重量,减去先前测定的茄形烧瓶和转子的重量,计算出因该操作而挥发的重量。
(5)测定该操作后的含有环氧基的聚有机硅氧烷的1H-NMR,计算出有机溶剂等除含有环氧基的聚有机硅氧烷以外的成分的重量。
由挥发重量减去含有环氧基的聚有机硅氧烷以外的成分的量,计算出含有环氧基的聚有机硅氧烷的重量减少率。
[UV固化性]
相对于实施例和比较例的环氧树脂成分100重量份,分别加入以固体成分计为2重量份的CPI-200K,将充分混合后得到的固化性树脂组合物使用膜涂布器按照厚度达到50μm的方式涂布在PET膜上,进行UV照射,利用直到涂膜的粘性消失为止的UV照射量,通过下述基准评价UV固化性。
○:100mJ/cm2以下,UV固化性优异。
×:大于100mJ/cm2,UV固化性差。
[相容性]
相对于实施例和比较例的环氧树脂成分1(0重量份,分别混配下述特定量的下述固化剂或环氧化合物,根据有无白浊判断相容性。
固化剂:CPI-100P(2重量份)
环氧化合物:jER828US(100重量份)
○:无白浊(相容性优异。)
×:有白浊(相容性差。)
[粘度]
对于实施例和比较例的环氧树脂成分,分别利用E型粘度计测定25℃的粘度。
[含有环氧基的聚有机硅氧烷的合成和评价]
<合成例1:含有环氧基的聚有机硅氧烷1的合成>
作为含有环氧基的聚有机硅氧烷原料使用1,1,3,3-四甲基二硅氧烷625重量份、六甲基二硅氧烷504重量份、422重量份硅酸甲酯MS51,作为溶剂使用四氢呋喃987重量份,作为催化剂和水使用1N盐酸115重量份和甲醇115重量份的混合物,在30℃进行水解缩合。加入庚烷938重量份,通过利用去离子水的清洗除去盐酸后,使用旋转蒸发器在76℃、压力15torr的减压下蒸馏除去溶剂直至目视观察不到溶剂的馏出为止。接着在120℃、压力0.15torr的减压下加热2小时,得到727重量份的含有环氧基的聚有机硅氧烷前体1。
将所得到的含有环氧基的聚有机硅氧烷前体1中的75重量份溶解在庚烷132重量份中。向其中加入含催化剂的溶液(该含催化剂的溶液是将HS432按照铂浓度达到0.2重量%的方式溶解在庚烷中而成的)1.4重量份,进行搅拌。加热至75℃后,用时1小时滴加1,2-环氧-4-乙烯基环己烷91重量份与烯丙基缩水甘油醚32重量份的混合物,进一步在75℃加热2.5小时。自然冷却至室温附近后,加入活性炭15重量份,搅拌2小时后进行过滤。使用旋转蒸发器在60℃、压力15torr的减压下从所得到的溶液蒸馏除去溶剂,直至目视观察不到溶剂的馏出为止。接着在85℃、压力0.15torr的减压下加热3小时,得到305重量份的含有环氧基的聚有机硅氧烷1。
所得到的含有环氧基的聚有机硅氧烷1的环氧当量为221g/当量,数均分子量为1400,重均分子量为1600,分散度(Mw/Mn)为1.1,式(2)所表示的基团与式(3)所表示的基团的摩尔比例(下文中记载为“式(2)/式(3)比例”)为22/78,M单元、D单元、T单元、Q单元相对于全部硅分别为63mol%、5mol%、0mol%、32mol%。红外光谱吸收分析中的Si-O伸缩振动的极大吸收波数为1045cm-1,在波数1070~1150cm-1的区域中不具有Si-O伸缩振动的吸收峰。另外,减压加热时的重量减少率为2.6重量%。
<合成例2:含有环氧基的聚有机硅氧烷2的合成>
将利用与合成例1中记载的方法相同的方法得到的含有环氧基的聚有机硅氧烷前体1中的75重量份溶解在庚烷132重量份中之后,加入含催化剂的溶液(该含催化剂的溶液是将HS432按照铂浓度达到0.2重量%的方式溶解在庚烷中而成的)1.4重量份,进行搅拌。加热至75℃后,用时1小时滴加1,2-环氧-4-乙烯基环己烷63重量份与烯丙基缩水甘油醚58重量份的混合物,进一步在75℃加热10小时。自然冷却至室温附近后,加入活性炭15重量份,搅拌2小时后进行过滤。使用旋转蒸发器在60℃、压力15torr的减压下由所得到的溶液蒸馏除去溶剂,直至目视观察不到溶剂的馏出为止。接着在85℃、压力0.15torr的减压下加热3小时,得到305重量份的含有环氧基的聚有机硅氧烷2。
所得到的含有环氧基的聚有机硅氧烷2的环氧当量为219g/当量,数均分子量为1400,重均分子量为1600,分散度(Mw/Mn)为1.1,式(2)/式(3)比例为45/55,M单元、D单元、T单元、Q单元相对于全部硅分别为60mol%、4mol%、0mol%、35mol%。红外光谱吸收分析中的Si-O伸缩振动的极大吸收波数为1045cm-1,在波数1070~1150cm-1的区域中不具有Si-O伸缩振动的吸收峰。另外,减压加热时的重量减少率为2.2重量%。
<合成例3:含有环氧基的聚有机硅氧烷3的合成>
作为含有环氧基的聚有机硅氧烷原料使用1,1,3,3-四甲基二硅氧烷625重量份、六甲基二硅氧烷504重量份、422重量份硅酸甲酯MS51,作为溶剂使用四氢呋喃987重量份,作为催化剂和水使用1N盐酸115重量份和甲醇115重量份的混合物,在30℃进行水解缩合。加入庚烷938重量份,通过利用去离子水的清洗除去盐酸后,使用旋转蒸发器在76℃、压力15torr的减压下蒸馏除去溶剂直至目视观察不到溶剂的馏出为止。接着在120℃、压力0.15torr的减压下加热2小时,得到768重量份的含有环氧基的聚有机硅氧烷前体3。
将所得到的含有环氧基的聚有机硅氧烷前体3中的200重量份溶解在甲苯257重量份中。向其中加入铂浓度2重量%的铂(0)-1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物二甲苯溶液0.5重量份,进行搅拌。加热至80℃后,用时4小时滴加1,2-环氧-4-乙烯基环己烷234重量份,进一步在80℃加热5小时。自然冷却至室温附近后,加入活性炭69重量份,搅拌2小时后进行过滤,将该工序重复二次。使用旋转蒸发器在60℃、压力15torr的减压下从所得到的溶液蒸馏除去溶剂,直至目视观察不到溶剂的馏出为止。接着在85℃、压力0.15torr的减压下加热5小时,得到305重量份的含有环氧基的聚有机硅氧烷3。
所得到的含有环氧基的聚有机硅氧烷3的环氧当量为323g/当量,数均分子量为1300,重均分子量为2300,分散度(Mw/Mn)为1.8,式(2)/式(3)比例为0/100,M单元、D单元、T单元、Q单元相对于全部硅分别为67mol%、2mol%、0mol%、31mol%。红外光谱吸收分析中的Si-O伸缩振动的极大吸收波数为1045cm-1,在波数1070~1150cm-1的区域中不具有Si-O伸缩振动的吸收峰。另外,减压加热时的重量减少率为1.2重量%。
<合成例4:含有环氧基的聚有机硅氧烷4的合成>
作为含有环氧基的聚有机硅氧烷原料使用1,1,3,3-四甲基二硅氧烷833重量份、六甲基二硅氧烷252重量份、422重量份硅酸甲酯MS51,作为溶剂使用四氢呋喃965重量份,作为催化剂和水使用1N盐酸115重量份和甲醇115重量份的混合物,在30℃进行水解缩合。加入庚烷938重量份,通过利用去离子水的清洗除去盐酸后,使用旋转蒸发器在76℃、压力15torr的减压下蒸馏除去溶剂直至目视观察不到溶剂的馏出为止。接着在120℃、压力0.15torr的减压下加热2小时,得到744重量份的含有环氧基的聚有机硅氧烷前体4。
将所得到的含有环氧基的聚有机硅氧烷前体4中的200重量份溶解在甲苯345重量份中。向其中加入铂浓度2重量%的铂(0)-1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物二甲苯溶液0.6重量份,进行搅拌。加热至80℃后,用时5小时滴加1,2-环氧-4-乙烯基环己烷234重量份,进一步在80℃下加热13小时。自然冷却至室温附近后,加入活性炭79重量份,搅拌2小时后进行过滤。使用旋转蒸发器在60℃、压力15torr的减压下从所得到的溶液蒸馏除去溶剂直至目视观察不到溶剂的馏出为止。接着在80℃、压力0.15torr的减压下加热5小时,得到373重量份的含有环氧基的聚有机硅氧烷4。
所得到的含有环氧基的聚有机硅氧烷4的环氧当量为221g/当量,数均分子量为1500,重均分子量为3400,分散度(Mw/Mn)为2.3,式(2)/式(3)比例为0/100,M单元、D单元、T单元、Q单元相对于全部硅分别为68mol%、2mol%、0mol%、30mol%。红外光谱吸收分析中的Si-O伸缩振动的极大吸收波数为1043cm-1,在波数1070~1150cm-1的区域中不具有Si-O伸缩振动的吸收峰。
<合成例5:含有环氧基的聚有机硅氧烷5的合成>
将利用与合成例1中记载的方法相同的方法得到的含有环氧基的聚有机硅氧烷1中的150重量份溶解在甲苯331重量份中。向其中加入铂浓度2重量%的铂(0)-1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物二甲苯溶液0.2重量份,进行搅拌。加热至80℃后,用时1小时滴加烯丙基缩水甘油醚208重量份,进一步升温至120℃,加热1小时。自然冷却至室温附近后,加入硅胶150重量份,搅拌30分钟后进行过滤。使用旋转蒸发器在60℃、压力15torr的减压下从所得到的溶液蒸馏除去溶剂直至目视观察不到溶剂的馏出为止。接着在80℃、压力0.15torr的减压下加热2小时,得到287重量份的含有环氧基的聚有机硅氧烷5。
所得到的含有环氧基的聚有机硅氧烷5的环氧当量为247g/当量,数均分子量为1500,重均分子量为1600,分散度(Mw/Mn)为1.1,式(2)/式(3)比例为100/0,M单元、D单元、T单元、Q单元相对于全部硅分别为65mol%、4mol%、0mol%、32mol%。红外光谱吸收分析中的Si-O伸缩振动的极大吸收波数为1045cm-1,在波数1070~1150cm-1的区域中不具有Si-O伸缩振动的吸收峰。另外,减压加热时的重量减少率为1.2重量%。
<合成例6:含有环氧基的聚有机硅氧烷6的合成>
作为含有环氧基的聚有机硅氧烷原料使用1,1,3,3-四甲基二硅氧烷520重量份、六甲基二硅氧烷0重量份、422重量份硅酸甲酯MS51,作为溶剂使用四氢呋喃943重量份,作为催化剂和水使用1N盐酸115重量份与甲醇115重量份的混合物,在30℃进行水解缩合。加入庚烷938重量份,通过利用去离子水的清洗除去盐酸后,使用旋转蒸发器在76℃、压力15torr的减压下蒸馏除去溶剂直至目视观察不到溶剂的馏出为止。接着在120℃、压力0.15torr的减压下加热2小时,得到729重量份的含有环氧基的聚有机硅氧烷前体6。
将所得到的含有环氧基的聚有机硅氧烷前体6中的200重量份溶解在甲苯451重量份。向其中加入含催化剂的溶液(该含催化剂的溶液是将HS432按照铂浓度达到0.2重量%的方式溶解在甲苯中而成的)3.8重量份,进行搅拌。加热至75℃后,用时1小时滴加1,2-环氧-4-乙烯基环己烷19重量份和烯丙基缩水甘油醚124重量份,进一步在75℃加热2.5小时。自然冷却至室温附近后,加入活性炭15重量份,搅拌2小时后进行过滤。使用旋转蒸发器在76℃、压力15torr的减压下从所得到的溶液蒸馏除去溶剂直至目视观察不到溶剂的馏出为止。接着在76℃、压力0.15torr的减压下加热3小时,得到307重量份的含有环氧基的聚有机硅氧烷6。
所得到的含有环氧基的聚有机硅氧烷6的环氧当量为233g/当量,数均分子量为1600,重均分子量为2000,分散度(Mw/Mn)为1.3,式(2)所表示的基团与式(3)所表示的基团的摩尔比例(下文中记载为“式(2)/式(3)比例”)为77/23,M单元、D单元、T单元、Q单元相对于全部硅分别为61mol%、6mol%、0mol%、33mol%。
将上述含有环氧基的聚有机硅氧烷1~6的评价结果汇总示于表1中。
[表1]
[实施例1~5、比较例1~5]
将各成分如表2所示进行混配,制备环氧树脂成分,进行如上所述的各种评价,将结果示于表2。
[考察]
由表2可知,包含本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷的实施例1~5的环氧树脂成分作为固化性树脂组合物具有良好的UV固化性、相容性、粘度。
另一方面,比较例1、2、4的环氧树脂成分中,相容性不充分。比较例3的环氧树脂成分中,UV固化性不充分。比较例5的环氧树脂成分中,相容性和UV固化性不充分。
尽管使用特定的方式详细地说明了本发明,但对本领域技术人员来说,显然可在不脱离本发明的意图和范围的前提下进行各种变形。
本申请基于2019年8月27日提交的日本专利申请2019-154804,以引用的方式援用其全部内容。
工业实用性
本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷的固化性优异,可提供表面性、粘接性、耐冲击性优异的固化物。因此,本发明的含有环氧基的聚有机硅氧烷、包含该含有环氧基的聚有机硅氧烷的固化性树脂组合物及其固化物能够适当地用于涂料、2D/3D印刷机用油墨、电气/电子材料、接合剂、纤维增强塑料(FRP)、齿科材料等领域中。
Claims (18)
2.如权利要求1所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷,其中,所述式(2)所表示的基团与所述式(3)所表示的基团的比例以摩尔比计为5:95~95:5。
5.如权利要求1~4中任一项所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷,其中,在压力0.15torr的减压下,在110℃加热2小时时的重量减少率为5重量%以下。
6.如权利要求1~5中任一项所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷,其中,M单元R1R2R3SiO1/2相对于全部硅的含量为10mоl%以上、75mol%以下。
7.如权利要求1~6中任一项所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷,其中,Q单元SiO4/2相对于全部硅的含量为3mol%以上。
8.如权利要求1~7中任一项所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷,其中,在红外吸收光谱分析中,在波数1030cm-1~1060cm-1的区域具有Si-O伸缩振动的极大吸收波数。
9.如权利要求1~8中任一项所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷,其中,D单元R4R5O2/2相对于全部硅的含量为10mol%以下。
10.如权利要求1~9中任一项所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷,其中,环氧当量为100g/当量~5000g/当量。
11.一种固化性树脂组合物,其包含权利要求1~10中任一项所述的含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)和固化剂(B)。
12.如权利要求11所述的固化性树脂组合物,其中,固化剂(B)为阳离子聚合引发剂。
13.如权利要求11或12所述的固化性树脂组合物,其进一步包含:与含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)不同的环氧化合物(C)。
14.如权利要求13所述的固化性树脂组合物,其包含芳香族环氧化合物作为环氧化合物(C)。
15.如权利要求13所述的固化性树脂组合物,其包含脂肪族环氧化合物作为环氧化合物(C)。
16.如权利要求13所述的固化性树脂组合物,其包含氢化双酚型二缩水甘油醚类作为环氧化合物(C)。
17.如权利要求13~16中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)在含有环氧基的聚有机硅氧烷(A)和环氧化合物(C)的合计中所占的比例为0.1重量%以上、98重量%以下。
18.一种固化物,其是将权利要求11~17中任一项所述的固化性树脂组合物进行固化而成的。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019154804 | 2019-08-27 | ||
JP2019-154804 | 2019-08-27 | ||
PCT/JP2020/031779 WO2021039694A1 (ja) | 2019-08-27 | 2020-08-24 | エポキシ基含有ポリオルガノシロキサン、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを含む硬化性樹脂組成物及びその硬化物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN114222779A true CN114222779A (zh) | 2022-03-22 |
CN114222779B CN114222779B (zh) | 2024-06-18 |
Family
ID=74685875
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202080056737.9A Active CN114222779B (zh) | 2019-08-27 | 2020-08-24 | 含有环氧基的聚有机硅氧烷、包含该聚有机硅氧烷的固化性树脂组合物及其固化物 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220153933A1 (zh) |
EP (1) | EP4023694B1 (zh) |
JP (1) | JPWO2021039694A1 (zh) |
KR (1) | KR20220055461A (zh) |
CN (1) | CN114222779B (zh) |
TW (1) | TW202115161A (zh) |
WO (1) | WO2021039694A1 (zh) |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69412528D1 (de) * | 1993-04-15 | 1998-09-24 | Dow Corning Toray Silicone | Epoxygruppen enthaltendes Siliconharz und Massen auf seiner Basis |
JPH10298290A (ja) * | 1997-04-30 | 1998-11-10 | Kansai Paint Co Ltd | 親水化ポリマー及びこのポリマーを配合した塗料組成物 |
JP2005272492A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-10-06 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性シリコーン組成物 |
JP2006213763A (ja) * | 2005-02-01 | 2006-08-17 | Asahi Kasei Corp | 発光素子封止用の樹脂組成物、発光部品及び該発光部品を用いた表示機器 |
JP2008274004A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-13 | Kaneka Corp | 硬化性樹脂組成物およびその硬化物 |
CN101410432A (zh) * | 2006-03-10 | 2009-04-15 | 株式会社Adeka | 光学材料用固化性组合物和光波导 |
WO2010026714A1 (ja) * | 2008-09-03 | 2010-03-11 | 日本化薬株式会社 | シロキサン化合物、硬化性樹脂組成物、その硬化物及び光半導体素子 |
JP2011111585A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-06-09 | Nippon Kayaku Co Ltd | エポキシ樹脂組成物、硬化性樹脂組成物 |
CN102702534A (zh) * | 2012-05-21 | 2012-10-03 | 北京化工大学 | 一种可阳离子光固化的高折射率环氧有机硅氧烷及其制备方法 |
WO2013140601A1 (ja) * | 2012-03-23 | 2013-09-26 | 株式会社Adeka | ケイ素含有硬化性樹脂組成物 |
CN103781814A (zh) * | 2011-10-25 | 2014-05-07 | 株式会社艾迪科 | 光固化性树脂组合物以及新型硅氧烷化合物 |
JP2014167082A (ja) * | 2013-02-01 | 2014-09-11 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | カチオン重合性オキシランエポキシ化合物 |
CN105793325A (zh) * | 2013-12-23 | 2016-07-20 | 道康宁公司 | 硅酸酯树脂及其制备方法 |
CN105814156A (zh) * | 2013-12-23 | 2016-07-27 | 道康宁公司 | Uv可固化有机硅组合物和含有这种组合物的防尘涂层组合物 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0774326B2 (ja) * | 1987-04-07 | 1995-08-09 | 日東電工株式会社 | 紫外線硬化型シリコーン系剥離剤 |
US4977198A (en) * | 1988-03-21 | 1990-12-11 | General Electric Company | UV curable epoxy functional silicones |
JP3339702B2 (ja) * | 1992-04-28 | 2002-10-28 | 三菱化学株式会社 | シリケートオリゴマーの製造方法 |
US5292787A (en) * | 1992-07-30 | 1994-03-08 | General Electric Company | Epoxysilicone controlled release composition |
US5292827A (en) * | 1993-02-25 | 1994-03-08 | General Electric Company | Epoxy-capped branched silicones and copolymers thereof |
US5814703A (en) * | 1995-08-17 | 1998-09-29 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Coating composition |
JP4198091B2 (ja) * | 2004-06-02 | 2008-12-17 | 旭化成株式会社 | 発光素子封止用樹脂組成物 |
JP2009227849A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Sanyo Chem Ind Ltd | 光半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物 |
US20150221527A1 (en) * | 2014-01-31 | 2015-08-06 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Encapsulant composition |
JP7218604B2 (ja) * | 2018-02-26 | 2023-02-07 | 三菱ケミカル株式会社 | エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを含む硬化性樹脂組成物及びその硬化物 |
JP7101944B2 (ja) | 2018-03-13 | 2022-07-19 | 島根県 | 肌状態測定装置 |
-
2020
- 2020-08-24 EP EP20856017.7A patent/EP4023694B1/en active Active
- 2020-08-24 CN CN202080056737.9A patent/CN114222779B/zh active Active
- 2020-08-24 KR KR1020227003528A patent/KR20220055461A/ko unknown
- 2020-08-24 WO PCT/JP2020/031779 patent/WO2021039694A1/ja unknown
- 2020-08-24 JP JP2021542873A patent/JPWO2021039694A1/ja active Pending
- 2020-08-26 TW TW109129029A patent/TW202115161A/zh unknown
-
2022
- 2022-02-01 US US17/590,176 patent/US20220153933A1/en active Pending
Patent Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69412528D1 (de) * | 1993-04-15 | 1998-09-24 | Dow Corning Toray Silicone | Epoxygruppen enthaltendes Siliconharz und Massen auf seiner Basis |
JPH10298290A (ja) * | 1997-04-30 | 1998-11-10 | Kansai Paint Co Ltd | 親水化ポリマー及びこのポリマーを配合した塗料組成物 |
JP2005272492A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-10-06 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性シリコーン組成物 |
JP2006213763A (ja) * | 2005-02-01 | 2006-08-17 | Asahi Kasei Corp | 発光素子封止用の樹脂組成物、発光部品及び該発光部品を用いた表示機器 |
CN101410432A (zh) * | 2006-03-10 | 2009-04-15 | 株式会社Adeka | 光学材料用固化性组合物和光波导 |
JP2008274004A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-13 | Kaneka Corp | 硬化性樹脂組成物およびその硬化物 |
CN102143986A (zh) * | 2008-09-03 | 2011-08-03 | 日本化药株式会社 | 硅氧烷化合物、固化性树脂组合物、其固化物及光半导体元件 |
WO2010026714A1 (ja) * | 2008-09-03 | 2010-03-11 | 日本化薬株式会社 | シロキサン化合物、硬化性樹脂組成物、その硬化物及び光半導体素子 |
JP2011111585A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-06-09 | Nippon Kayaku Co Ltd | エポキシ樹脂組成物、硬化性樹脂組成物 |
CN103781814A (zh) * | 2011-10-25 | 2014-05-07 | 株式会社艾迪科 | 光固化性树脂组合物以及新型硅氧烷化合物 |
WO2013140601A1 (ja) * | 2012-03-23 | 2013-09-26 | 株式会社Adeka | ケイ素含有硬化性樹脂組成物 |
CN103906783A (zh) * | 2012-03-23 | 2014-07-02 | 株式会社艾迪科 | 含硅固化性树脂组合物 |
CN102702534A (zh) * | 2012-05-21 | 2012-10-03 | 北京化工大学 | 一种可阳离子光固化的高折射率环氧有机硅氧烷及其制备方法 |
JP2014167082A (ja) * | 2013-02-01 | 2014-09-11 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | カチオン重合性オキシランエポキシ化合物 |
CN105793325A (zh) * | 2013-12-23 | 2016-07-20 | 道康宁公司 | 硅酸酯树脂及其制备方法 |
CN105814156A (zh) * | 2013-12-23 | 2016-07-27 | 道康宁公司 | Uv可固化有机硅组合物和含有这种组合物的防尘涂层组合物 |
US20160289388A1 (en) * | 2013-12-23 | 2016-10-06 | Dow Corning Corporation | Silicate Resins And Methods Of Preparing Same |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
章基凯: "《有机硅材料》", 中国物资出版社, pages: 278 - 283 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP4023694A1 (en) | 2022-07-06 |
WO2021039694A1 (ja) | 2021-03-04 |
KR20220055461A (ko) | 2022-05-03 |
EP4023694A4 (en) | 2022-11-02 |
CN114222779B (zh) | 2024-06-18 |
EP4023694B1 (en) | 2024-02-14 |
JPWO2021039694A1 (zh) | 2021-03-04 |
TW202115161A (zh) | 2021-04-16 |
US20220153933A1 (en) | 2022-05-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Dai et al. | Synthesis of biobased benzoxazines suitable for vacuum-assisted resin transfer molding process via introduction of soft silicon segment | |
US8318885B2 (en) | Curable resin composition, cured product thereof, and various articles derived from those | |
US8143363B2 (en) | Polymerizable composition | |
US20200377662A1 (en) | Epoxy group-containing polyorganosiloxane, curable resin composition containing epoxy group-containing polyorganosiloxane, and cured product thereof | |
TWI637020B (zh) | 熱硬化性樹脂組成物,其製造方法,樹脂硬化物之製造方法,及使環氧化合物之自身聚合發生的方法 | |
CN102471561A (zh) | 用于电工用层压板组合物的核/壳橡胶 | |
CN101910238A (zh) | 用于复合材料应用的高Tg环氧体系 | |
US20110237761A1 (en) | Siloxane Mixtures Containing Epoxide Resins and Method for the Preparation Thereof and Use Thereof | |
US20140179828A1 (en) | Epoxy resin compositions, methods of making same, and articles thereof | |
EP3112389B1 (en) | Curable composition, cured product thereof, and wafer level lens | |
CN109983051B (zh) | 含有环氧基的有机聚硅氧烷、紫外线固化型硅酮组合物及固化覆膜形成方法 | |
KR20160006198A (ko) | 경화성 에폭시 수지 조성물 및 그의 경화물, 디올레핀 화합물 및 그의 제조 방법, 및 디에폭시 화합물의 제조 방법 | |
JP2006169368A (ja) | 樹脂組成物、硬化物、およびその製造方法 | |
US20120136092A1 (en) | Thermosettable resin compositions | |
CN114222779B (zh) | 含有环氧基的聚有机硅氧烷、包含该聚有机硅氧烷的固化性树脂组合物及其固化物 | |
TW201141901A (en) | Phosphazene blocked imidazole as latent catalyst for epoxy resins | |
JP2021017597A (ja) | エポキシ基含有ポリオルガノシロキサン組成物及びその硬化物 | |
KR20150079627A (ko) | 1,3-디옥시라닐시클로펜탄 에폭시드 화합물을 포함하는 경화성 조성물 및 그로부터 제조된 열경화성 물질 | |
TWI642699B (zh) | Method for producing phenol resin, phenol resin, epoxy resin and epoxy resin composition | |
JP2017186453A (ja) | エポキシ化合物、エポキシ化合物含有組成物及びその硬化物 | |
JP2023101259A (ja) | エポキシ樹脂の製造方法、エポキシ樹脂組成物の製造方法、及び硬化物の製造方法 | |
JP2006249400A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JP6113454B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物及び硬化物 | |
JP2022100721A (ja) | 硬化性樹脂組成物及び硬化物 | |
WO2023234340A1 (ja) | 易解体性熱硬化性樹脂組成物および解体方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |